DE1667195C3 - Verfahren zur Herstellung von Halogenwasserstoffsäuren und von Metalloxiden - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Halogenwasserstoffsäuren und von Metalloxiden

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DE1667195C3 DE1667195A DEM0077101A DE1667195C3 DE 1667195 C3 DE1667195 C3 DE 1667195C3 DE 1667195 A DE1667195 A DE 1667195A DE M0077101 A DEM0077101 A DE M0077101A DE 1667195 C3 DE1667195 C3 DE 1667195C3
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Description

Verfahren zur Herstellung von reinen, d, h. metallfreien Halogenwasserstoffsäuren und von Metalloxiden aus Lösungen von thermisch zersetzbaren Metallhalogeniden bereitzustellen, das die vorstehend genannten Nachteile vermeidet
Die Aufgabe wird gelöst, indem das Verfahren der eingangs genannten Art entsprechend der Erfindung derart ausgestaltet wird, daß man die Lösung der zu zersetzenden Halogenide in der Zeiteinheit einem 4- bis 20-fachen Mengenstrom einer Kreislauflösung zusetzt, die vereinigten Lösungen durch direkten Wärmeaustausch mit den heißen Zersetzungsgasen aufwärmt und anschließend durch Vakuumverdampfung abkühlt, die bei der Vakuumverdampfung entstehenden Kristalle abtrennt und thermisch zersetzt die Lösung anschließend von neuem in direkten Wärmeaustausch mit den heißen Zersetzungsgasen bringt und die durch Wärmeaustausch abgekühlten Zersetzungsgase in einen Absorber leitet
Grundsätzlich sind zur Durchführung des Verfahrens Schachtrostöfen, Drehrohrofen und Turbulator^n geeignet Vorzugsweise erfolgt jedoch die tht-mische Spaltung in Wirbelschichtreaktoren, insbesondere um grobkörniges Metalloxid zu erhalten.
Nach der vorliegenden Erfindung wird die Lösung der zu zersetzenden Halogenide, im allgemeinen eine halogenwasserstoffsaure wäßrige Halogenidlösung, in der Zeiteinheit einem 4- bis 20-fachen Mengenstrom einer Kreislauflösung zugesetzt Dann wird die Kreislauflösung zusammen mit der zugesetzten Frischlösung in direkten Wärmeaustausch mit den heißen, zweckmäßigerweise vorher entstaubten Zersetzungsgasen gebracht Bei diesem Wärmeaustausch werden die bei Verwendung eines Wirbelschichtzersetzungsreaktors etwa 800° C heißen Zersetzungsgase auf etwa 80° C abgekühlt Die Kreislauflösung erwärmt sich bei diesem Wärmeaustausch um etwa 10 bis 50° C. Die Temperatur der aufgewärmten Kreislauflösung bleibt unterhalb des Siedepunktes der Lösung. Dadurch wird verhindert, daß aus der Umlauflösung Wasser verdampft wird, das die abgekühlten, in den Absorber gelangenden Zersetzungsgase verdünnen würde. Da die Löslichkeit der Halogenide bei steigender Temperatur zunimmt, besteht keine Gefahr, daß bei dem direkten Kontakt der heißen Zersetzungsgase mit der Umlauflösung Kristalle ausfallen. Gegebenenfalls kann die erwärmte Lösung vor ihrem Eintritt in die Vakuumverdampfung einer weiteren Aufwärmung mit beispielsweise indirektem Dampf oder einem anderen Wärmeträger unterzogen werden. Die der Umlaufltiiung durch den direkten und gegebenenfalls zusätzlichen indirekten Wärmeaustausch zugeiührten Wärme wird ihr in dem Vakuumverdampfer durch Verdampfen von Wasser wieder entzogen. Die Halogenide, die in die Umlauflösung in Form der zugeführten Lösung eingebracht wurden, fallen im Vakuumverdampfer als Kristalle aus. Es ist zweckmäßig, dafür zu sorgen, daß mit den Kristallen möglichst wenig Wasser in den Reaktor gelangt, daher sollte der Umlauflösung vor Eintritt in den Vakuumkristallisator im indirekten Wärmeaustausch die zur erforderlichen Wasserverdampfung noch fehlende Wärmeenergie mittels Frischdampf zugeführt werden, sofern die aus den Zcrsetzungsgasen stammende Wärmemenge nicht ausreicht.
Die durch Vakuumverdampfung erzeugten Kristalle werden von der Umlauflösung, beispielsweise in einer Zentrifuge, abgetrennt ■>..·(I in einem Zersetziingsofen unter Zusatz von Sauerstoff oder Luft und in Gegenwart des mechanisch und chemisch gebundenen Wassers zu Halogenwasserstoff und Metalloxid thermisch zersetzt, Zweckmäßigerweise wird die thermische Zersetzung in einem Wirbelschichtreaktor durchgeführt Als Bettmaterial wird vorteilhaft ein Teil des erzeugten Metalloxids verwendet
Die von den Kristallen befreite Umlauflösung kehrt im Kreislauf von neuem in das Verfahren zurück.
Die bei der Vakuumverdampfung entstehenden Brüden werden kondensiert und in den Absorber geleitet, in den auch die abgekühlten Zersetzungsgase eintreten. Zur Kondensation der Brüden wird normalerweise ein Oberflächenkondensators wird in den Absorber vorgenommen, um sicherzustellen, daß eventuell in der Abluft vorhandene Halogenwasserstoffspuren nicht in die Atmosphäre gelangen.
Die Zusammensetzung der Umlauflösung ergibt sich nach einiger Laufzeit von selbst, wenn man beim Anfahren der Anlage zunächst Wasser oder Halogenidlösung als Kreislauflösung verwende». Die Umlauflösung stellt im Betriebszustand dann eine Lösung dar, die praktisch an Halogenwasserstoff und dem zu zersetzenden Metallhalogenid oder dem zu zersetzenden Metallhalogenidgemisch gesättigt ist
Enthält die der Umlauflösung zuzufügende Frischlösung des zu spaltenden Halogenids noch Verunreinigungen, beispielsweise noch andere Metallhalogenide in vergleichweise geringer Konzentration, dann wird eine kleine Menge der Umlauflösung nach der Abtrennung der Kristalle abgestoßen, wobei ebenso viele Massenanteile an Verunreinigungen aus dem Kreislauf entfernt wie mit der Frischlösung eingebracht werden. Dadurch wird verhindert, daß sich die Umlauflösung mit einer Verunreinigung sättigt und dadurch die Verunreinigung auskristallisiert Zur Verminderung der den abgetrennten Kristallen anhaftenden Verunreinigungen können die Verunreinigungen durch Waschen der Kristalle verdrängt werden. Es ist zweckmäßig für das Waschen oder Vorwaschen der Kristalle die der Kreislauflösung zuzusetzende Frischlösung zu verwenden, da hierdurch kein zusätzliches Eintragen von Wasser in den Kreislauf oder Austragen von Halogenid aus dem Kreislauf erfolgt Durch die Abstoßung eines kleinen Teils der Kreislauflösung wird ein Oxid erzeugt, das nur sehr wenig von der Verunreinigung enthält
Die aus dem Kreislauf abgestoßene Lösung kann ebenfalls auf Halogenwasserstofflösung unter Gewinnung von Mischoxiden aufgearbeitet werden. Diese Aufarbeitung kann entweder von Zeit zu Zeit in der gleichen Anlage geschehen oder in einer parallelen Kleinanlage, die zweckmäßigerweise ebenfalls nach dem erfindungsgemäßen Verfahren arbeitet.
Erfindungsgemäß wird die Lösung mit dem zu zersetzenden Halogenid einem 4- bis 20-fachen Mengenstrom an Kreislauflösung zugesetzt Die aus dem Kteislauf abgestoßene Flüssigkeitsmenge beträgt im allgemeinen das 0- bis 03-fache der dem Kreislauf frisch zugefügten Lösung, je nach dem Gehalt an Verunreinigungen. Falls keine Verunreinigungen in der Frischlösung enthalten sind, braucht auch keine Flüssigkeit, aus dem Kreislauf abgestoßen zu werden. In den meisten Fällen verhalten sich die Menp.en der in der Zeiteinheit zugefügten Frischlösung A, der in der Zeiteinheit umgewälzten Umlauflösung Sund der in der Zeiteinheit aus dem Kreislauf abgestoßenen Lösung C wie/t :ß: C= 1 : 10:0,1.
Die Wirtschaftlichkeit des Verfahrens kann noch weiter dadurch verbessert werden, daß Brüden aus den
heißen Stufen des Vakuumkristallisators zur Aufwärmiing eines Teils der kalten Umlauflösung durch indirekten Wärmeaustausch verwendet werden, sofern eine genügend hoho TemperaUirdifferenz eine Ausnutzung der Hriiden gestattet.
Die Erfindung wird anhand der beiden beispielsweise schemalischen Figuren und eines Beispiels weiter erläutert.
Die ['ig. I zeigt das Fließschema einer Anlage zur Durchführung des crftndungsgcmäßcn Verfahrens in Verbindung mit der thermischen Zersetzung in einem WirbclschielHieaklor.
Die Anlage besteht im wesentlichen aus dem Vakiiiimkristallisator !,dem Wirbelschichtreaktor 2 mit dem Zyklon 3, einem Wärmeaustauscher 4, der mechanischen Trennvorrichtung 5 und dem Absorber 6. Zwischen dem Wärmeaustauscher 4 und dem Vakuum-
lci/körper
Halogenwasserstoff durch die Leitung 25 in den Zyklon 3, wo die mitgerissenen Staubteilchen abgeschieden und über die Slaubhickführungslcitiing 26 wieder in den Reaktor 2 pcfördcrt werden, wo sie weiter wachsen können. Das weitgehend entstaubte Zcrset/tingsgas trilt durch die Leitung 27 in den Vcnturi-Wärmcauslauscher 4 ein, wo es mit der Umlauflösung, der zuvor noch über Leitung 16 die Frischlösung beigemischt und über Leitung 28 eine kleine Absloßmenge entzogen wurde, in direkten Wärmeaustausch tritt. Die Umlaufsole wird unter Ausnutzung der fühlbaren Wärme der Zcrset-/ungsgasc erwärmt und die Zcrsctzungsgase gleichzeitig gekühlt. Die entsprechend der Temperatur wassergesättigten abgekühlten Zersetzungsgase gehen zusammen mit dem Halogenwasserstoff durch die Leitung 29 in den Absorber 6.
Die im Vakuumverdampfer 1 anfallenden sauren
Krisiaiiisaiur ι im uci ι ici/hui μει
Umlauflösung wird im Kreislauf durch die Leitungen 8, 9, den Wärmeaustauscher 4, die Leitung 10, den Heizkörper 7, die l-eitung 11, den Vakuumkristallisator 1, die Leitung 12 durch die mechanische Trennvorrichtung 5 und die Leitung 13 geführt. Zur Umwälzung der Kreislauflösung sind in den Leitungen 12 und 13 Pumpen 14 und 15 angeordnet. Die Frischlösung wird durch Leitung 16 in den Kreislauf eingespeist. Der Wärmeaustauscher 4 ist zweckmäßigerweise als Venturi-Wärmeaustauscher ausgebildet, um auch noch feinste Staubteilchen aus den Zersetzungsgasen zu entfernen. In ihm wird die durch die Leitung 9 ankommende Flüssigkeit durch direkten Wärmeaustausch mit den entstaubten Zersetzungsgasen aufgewärmt. Die erwärmte Umlauflösung wird durch die Leitung 10 in den Heizkörper 7 geführt, in dem sie durch indirekte Beheizung weiter erwärmt wird. Die indirekte Beheizung erfolgt mittels Frischdampf, der dem Heizkörper über die Rohrleitung 17 aufgegeben wird. Die Umlauflösung verläßt den Heizkörper mit einer Temperatur, die unterhalb des Siedepunktes der Lösung liegt. Falls eine zusätzliche Erwärmung im Heizkörper 7 nicht erforderlich ist. wird der Heizkörper 7 aus dem Kreislauf herausgenommen. Hierzu wird das Bypaßventil 18 geöffnet und das Ventil 19 geschlossen. Die heiße Umlauflösung gelangt in den Kristallisator 1, wo sie unter Vakuum, vorzugsweise in mehreren Stufen, abgekühlt wird. Dabei kristallisieren die Halogenide gegebenenfalls mit einer der Temperatur entsprechenden Menge Kristallwasser aus und werden über Leitung 12 mit der Umlauflösung ausgetragen und in der mechanischen Trennvorrichtung 5, die vorzugsweise als Zentrifuge ausgestaltet ist, von der Umlauflösung getrennt. Während der klare Überlauf von der Pumpe 15 über die Leitungen 13,8 und 9 zum Venturi-Wärmeaustauscher 4 gefördert wird, gelangen die feuchten Kristalle über die Leitung 20 in den Wirbelschichlreaktor 2, wo sie bei der erforderlichen Temperatur, vorzugsweise 8000C, gespalten werden. Der Reaktor kann mit flüssigem, gasförmigem oder festem Brennstoff beheizt werden, der ihm über die Leitung 21 zugeführt wird. Die Verbrennung findet ebenfalls, wie die Spaltung, vorzugsweise in einer Wirbelschicht statt: die erforderliche Wirbel- und Verbrennungsluft wird dem Reaktor mittels eines Gebläses 22 durch die Leitung 23 aufgegeben. Über die Leitung 24 wird aus dem Reaktor kontinuierlich oder diskontinuierlich eine der erzeugten Metalloxidmenge entsprechende Menge Bettmaterial abgezogen. Die Zersetzungsgase gelangen aus dem Reaktor 2 zusammen mit dem erzeugten chcnkondcnsator3l geleitet und in ihm kondensiert. Die
" Kühlung des Oberflächenkondensators erfolgt mittels Kühlwasser, das über die Leitungen 32 und 33 zu- und abgeführt wird. Die Entlüftung des Oberflächenkondensators wird von dem Entlüftungsgebläse 34 vorgenommen, und zwar über die Leitungen 35 und 29 in den Absorber 6, um sicherzustellen, daß eventuell in der Abluft vorhandene Halogenwasserstoffspuren nicht in die Atm Sphäre gelangen.
Das im Oberflächenkondensator 31 anfallende saure Kondensat wird von der Kondensatpumpe 36 durch die
* Leitung 37 dem Absorber 6 an eine der Halogenwasserstoffkonzentration entsprechenden Stelle aufgegeben. Das noch fehlende Absorptionswasser wird in den Absorber am Kopf über die Aufgabeleitung 38 eingebracht. Im Absorber 6 wird dadurch der Halogen-
'"■ wasserstoff durch adiabatische Absorption von dem Tauchgas getrennt. Das halogenwasserstofffreie Rauchgas verläßt den Absorber am Kopf und wird von dem Ventilator 39 in die Atmosphäre gefördert. Die weitgehend metallfreie Halogenwasserstoffsäure ver-
"> läßt den Absorber am Fuße über die Rohrleitung 40.
In F i g. 2 ist eine andere ähnliche Anlage zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt. Einander entsprechende Teile sind in den F i g. 1 und 2 mit gleichen Ziffern beziffert. Im Gegensatz zu ■ der Anlage der F i g. 1 werden bei der Anlage der F i g. 2, die Brüden aus der heißen Stufe 41 des Vakuumkristallisators zur Vorwärmung eines Teilstromes der Umlauflösung benutzt. Der Teilstrom der Umlauflösung wird mit der Leitung 42 aus der Leitung 8 abgezweigt und
■■■ gelangt zunächst in den indirekten Wärmeaustauscher 43. der mit den Brüden aus der heißen Stufe 41 des Vakuumkristallisators beheizt wird. Die Brüden werden aus der Stufe 41 durch Ixitung 44 in den Wärmeaustau-• scher 43 geleitet, in dem sie kondensiert werden. Das Kondensat wird durch die Leitung 45 dem Kondensat der kälteren Stufe in Leitung 37 zugefügt. Der im indirekten Wärmeaustauseher 4J aufgewärmte Teilstrom der Umlauflösung wird dann in den weiteren indirekten Wärmeaustauscher 46 geleitet, der mit
<>:i Dampf beheizt wird, der durch Leitung 47 zuströmt. Der bis knapp unterhalb des Siedepunktes der Lösung im Wärmeaustauscher 46 erhitzte Teilstrom der Umlauflösung gelangt durch Leitung 48 in die heiße Stufe 41 des Vakuumkrislallisators. in der ihm ein Teil der Wärme
'■ durch Vakuumverdampfung entzogen wird. Die etwas abgekühlte Lösung wird durch Leitung 49 in die kältere Stufe 50 des Vakuumkristallisators eingeleitet. In diese kältere Stufe 50 gelangt auch durch Leitung 10 der
andere Teilstrom der Umlauflösung, der im Venturi-Wärmeaustauscher 4 von den heißen entstaubten Zersetzungsgasen erwärmt worden ist. Die übrige Arbeitsweise dieser Anlage, die besonders wirtschaftlich arbeitet, erfolgt wie bei F i g. I beschrieben.
Beispiel
In einer Anlage nach Fig. 1 wurde eine wäßrige salzsaure Eisenchloridlösung, die auch noch Magnesiumchlorid als Verunreinigung enthielt, auf Eisenoxid aufgearbeitet.
Die in der Zeiteinheit durch die einzelnen Anlagenabschnitte fließenden Materialströme und ihre Zusammensetzung sind aus F i g. 3 zu entnehmen.
Im Venturi-Wärmeaustauscher 4 erfolgt eine Erwärmung der Flüssigkeit um 25°C durch die etwa 800°C heißen Zersetzungsgase, die den Venturi-Wärmeaustau-
15
20°C erwärmt, wozu in der Zeiteinheit 36 I Frischdampf erforderlich waren. Im Vakuumverdampfer bzw. Vakuumkristallisator 1 wurde die Lösung um 45° C abgekühlt. Zur thermischen Zersetzung der abgetrennten Kristalle wurden 5 t Öl und 75 Nm3 Luft benötigt.
Die aus dem Oberflächenkondensator 31 abfließenden 70,7 t verdünnte Salzsäure hatten eine Konzentration von etwa 8%. Aus dem Absorber 6 flössen 851 weitgehend metallfreier Salzsäure mit einer Konzentration von etwa 21% ab.
Die durch die Leitung 8 zurückkehrende Umlauflösung stellte eine wäßrige annähernd konzentrierte Lösung von Salzsäure und Eisenchlorid dar, die als Verunreinigung noch Magnesiumchlorid enthielt. Um den Gehalt an Magnesiumchlorid nicht anwachsen zu lassen, wurden in der Zeiteinheit 13 m3 Lösung durch die Leitung 28 abgestoßen. Bei der Aufarbeitung der
_i *_n ι χ. u
aisg&siirLrcilvil LVSUiig iiii
n niaii viii !,iuliii/aiu
verließen. Im Erhitzer wurde die Lösung um weitere Fe2O3undMgO.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen

Claims (9)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Herstellung von Halogenwasserstoffsäuren und von Metalloxiden durch thermische Zersetzung von Metallhalogeniden unter Zusatz von Sauerstoff oder Luft und/oder Wasserdampf, wobei die Metalloxide abgetrennt werden und der Wärmeinhalt der Zersetzungsgase zur Aufkonzentrierung der die Metallhalogenide enthaltenden Lösung genutzt wird, dadurch gekennzeichnet, daß man die Lösung der zu zersetzenden Halogenide in der Zeiteinheit einem 4- bis 20-fachen Mengenstrom einer Kreislauflösung zusetzt, die vereinigten Lösungen durch direkten Wärmeaustausch mit den heißen Zersetzungsgasen aufwärmt und anschließend durch Vakuumverdampfung abkühlt, die bei der Vakuumverdampfung entstehenden Kristalle abtrennt und thermisch zersetzt, die Lösung anschließend von neuem in direkten Wärmeaustausch mit den heißen Zersetzungsgasen bringt und die durch Wärmeaustausch abgekühlten Zersetzungsgase in einen Absorber leitet
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die bei der Vakuumverdampfung entstehenden Brüden kondensiert und als Absorptionsflüssigkeit in Kontakt nys den abgekühlten Zersetzungsgasen gebracht werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Umlauflösung mit der Lösung der zu zersetzenden Halogenide nach der Aufwärmung i'urch direkten Wärmeaustausch mit den heißen Zersetzungsgasen weiter durch indirekten Wärmeaustausch mit Dampf oder einem anderen Wärmeträger aufgewärmt wird.
4. Verfahren nach einem oaer mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Zersetzung der abgetrennten Kristalle in einer Wirbelschicht erfolgt, die mit erzeugtem Metalloxid als Bettmaterial betrieben wird.
5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Zersetzungsgase vor dem direkten Wärmeaustausch mit der Umlauflösung entstaubt werden und der abgeschiedene Staub in den Reaktor zurückgeführt wird.
6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche I bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein kleiner Teil der Umlauflösung aus dem Kreislauf abgestoßen wird, um den Gehalt an Verunreinigungen in der Umlauflösung klein zu halten.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß als Umlauflösung eine wäßrige Lösung verwendet wird, die praktisch an Halogenwasserstoff und dem zu zersetzenden Halogenid oder Halogenidgemisch gesättigt ist.
8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Vakuumverdampfung mehrstufig erfolgt und die Brüden aus den heißen Stufen zur Aufwärmung eines Teilstromes der Umlauflösung benutzt werden.
9. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche I bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die abgetrennten Kristalle vor der thermischen Zersetzung vorzugsweise mit Frischlösung gewaschen werden.
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Halogenwasserstoffsäuren und von Metalloxiden durch thermische Zersetzung von Metallhalogeniden unter Zusatz von Sauerstoff oder Luft und/oder Wasserdampf, wobei die Metalloxide abgetrennt werden und der Wärmeinhalt der Zersetzungsgase zur Aufkonzentrierung der die Metallhalogenide enthaltenden Lösung genutzt wird.
Es ist eine Reihe von Prozessen bekannt, bei denen eine Halogenwasserstofflösung, vorzugsweise Salzsäure, als Aufschlußmittel verwendet wird, beispielsweise zum Aufschluß von Umenit, Tonerde usw. Dabei fallen als Reaktionsprodukte Halogenide in gelöster Form an, die in verdünnten Säuren gelöst sind, da es normalerweise nicht möglich ist, die eingesetzte Säure restlos umzusetzen. Diese Lösungen enthalten außerdem Verunreinigungen, die aus dem aufgeschlossenen Material stammen. Voraussetzung für die Renlabilität solcher Aufschlußverfahren ist eine wirtschaftliche Rückgewinnung der eingesetzten Säure.
Im Zusammenhang mit der Regenerierung salzsäurehaltiger Beizbäder wurden mehrere Verfahren zur Aufarbeitung eisenchloridhaltiger Beizlösungen entwikkelt (vgl. »Stahl und Eisen« 84 (1964), Seiten 184t bis 1843). Bei Sprühröstverfahren wird bei der Spaltung infolge der kurzen Verweilzeit im Reaktor ein staubförmiges Eisenoxid erhalten. Um zu einem gut transportierbaren, grobkörnigen und auch wesentlich chlorärmeren Eisenoxid zu kommen, ist es bekannt, die Spaltung in einem Wirbelschichtreaktor bei etwa 8000C durchzuführen (vgL GB-PS 10 78 769).
Diese zur Regenerierung salzsäurehaltiger Beizbäder bekannten Verfahren lassen sich nicht allgemein zur Aufarbeitung von Halogenidlösungen verwenden, da wegen der nur einstufigen Wasserverdampfung die Wirtschaftlichkeit des Verfahrens nicht ausreichend ist Die Ausnutzung der Abwärme in einer weiteren Stufe zur Konzentration der Lösung ist nur sinnvoll, wenn die zu verarbeitende Lösung, beispielsweise Beizbad, sehr verdünnt anfällt Man kann die Lösung nur bis zu einem Wert von einigen Prozenten unterhalb der Sättigungskonzentration einengen, da sonst die Gefahr besteht, daß Salzkristalle ausfallen, was bei einem ausgemauerten Apparat unter gleichzeitiger Einwirkung einer hohen Temperatur am Eintritt sehr rasch zu Verkrustungen führen würde. Selbst wenn die Abwärme auf diese Weise voll ausgenutzt werden kann, gelangt noch eine große Wassermenge in den Reaktor, die verdampft werden muß und den Spaltreaktor zusammen mit dem gewonnenen Halogenwasserstoff verläßt Wegen des hohen Wasserdampfgehaltes der Spaltgase lassen sich dain in einem einstufigen, adiabatisch arbeitenden Absorber nur Säuren mit verhältnismäßig niederem Halogenwasserstoffgehalt erzielen. Maßnahmen zur Erreichung höherer Konzentrationen sind mit erheblichen Kosten verbunden.
Aus der US-PS 2155119 ist ein Verfahren zur thermischen Zersetzung von Metallsalzen bekannt, bei dem Mischungen des Salzes mit einer verdampfbaren Flüssigkeit mit Heizgasen innerhalb einer Zersetzungskammer in innigen Kontakt gebracht werden und aus der ausgetragenen Gas/Feststoff-Suspension im Staubabscheider innerhalb des Prozesses gebildetes Metalloxid abgetrennt wird. Dieses Verfahren hat im wesentlichen die vorgenannten Nachteile, insbesondere sind auch hierbei nur Säuren mit relativ geringer Hulogenwasserstoffkon/ciitratioM erhältlich.
Aufgabe der Erfindung ist, ein wirtschaftliches
DE1667195A 1968-01-31 1968-01-31 Verfahren zur Herstellung von Halogenwasserstoffsäuren und von Metalloxiden Expired DE1667195C3 (de)

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