DE1621146A1 - Galvanisches Vernickelungsbad - Google Patents
Galvanisches VernickelungsbadInfo
- Publication number
- DE1621146A1 DE1621146A1 DE19671621146 DE1621146A DE1621146A1 DE 1621146 A1 DE1621146 A1 DE 1621146A1 DE 19671621146 DE19671621146 DE 19671621146 DE 1621146 A DE1621146 A DE 1621146A DE 1621146 A1 DE1621146 A1 DE 1621146A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- bath according
- hydrochloride
- amount
- bath
- solution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
- C25D3/14—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt from baths containing acetylenic or heterocyclic compounds
- C25D3/16—Acetylenic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
Patentanwälte Dipl.-Ing. F. We ic km an ν, Dr. Ing. A.Weickmann
Dipl.-Ing. H.Weickmann, Dipl^Phys. Dr. K. Fincke
HTJMI Dipl.-Ing. F. A.Weickmann, Dipl.-Chem. B. Huber
1621U6
8 MÜNCHEN 27, DEN
MÖHLSTRASSE 22, RUFNUMMER 483921/22
JOHN PRESTON AND COMPANY (CHEMICALS) LIMITED, Greenford,
Middlesex / England
Galvanisehes Vernickelungs"bad
Die Erfindung "betrifft glänzende Vernickelungen,
vor allem ein Verfahren zur Herstellung zuverlässig korrosionsfester,
stumpfer Nickeluberzüge. Ein anderes Ziel der Erfindung ist die Herstellung qualitativ hochwertiger,
glänzender Nickeluberzüge. Schließlich ist auch ein Ziel die Erzielung eines Nickelub.erzugs mit maximaler
Duktilität sowie die Erzielung einer "Nivellierung", wenn
das Srundmetall uneben-ist. .-.-;■ ,
10 9 8 18/158
1621 U6
Es wurde überraschend gefunden, daß ein großer Bereich von N-disubstituierten Iminoalkylacetylenhydrochloriden
bei Zusatz zu einem Glanz-Verniekelungsbad eine unerwartet gute Duktilität des aufgebrachten Überzugs
mit laminarer Struktur ergibt zusammen mit einem bemerkenswert glänzenden Niederschlag. Weiter wurde gefunden,
daß diese Hydrochloride zur Herstellung eines Kickelniederschlags vom Säulentyp verwendet werden können,
welcher als guter, korrosionsbeständiger Grundüberzug dient, auf den ein weiterer Überzug von glänzendem
Wickel vom Laminarstrukturtyp aufgebracht werden kann.
Erfindungsgemäß wird einem gljavanischen Hickelbad
eine Menge eines Hydrochlorids einer Aminoverbindung der Formel (1) oder (2)
R1 R3
(1) Έ - C - C■ = CH
■/ t
H2 :
R1
(2) -K- (CH2)n - G Ξ GH
R2
1 Ο 9 8 1 8 / 1 5 6 2 BAD ORfGiNAL
worin. R1 eine Alkyl-, A"ßlnyl-, Alkenyl-, Hydroxyalkyl-,
Alkoxy-, Alkoxyalkyl-, Aryl-, Aralkyl-, Alkaryl-, Cycloalkyl-, Cycloalkenyl- oder heterocyclische Gruppe, R2
eine Äthyl-, Propyl-, Butyl-, Alkenyl-, AMnyl-, Hydroxyalkyl-,
Alkoxy-, Alkoxyalkyl-, Aryl-, Aralkyl-, Alkaryl-, Cycloalkyl-, Cycloalkenyl- oder heterocyclische Gruppe,
oder worin R1 und R2 miteinander verbunden sind, so daß der Stickstoff 3eil eines heterocyclischen Ringes "bildet,
R3 ein Wasserstoffatom oder eine Methyl- oder Äthylgruppe und R4 ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit bis
zu 6 Kohlenstoffatomen bedeuten, vorausgesetzt, daß, wenn R4 mehr als 2 Kohlenstoffatome enthält, R3 ein Wasserstoff
atom ist, zugesetzt; η bedeutet 1, 2 oder 3.
Es wurde gefunden, daß die Verwendung von Hydrochloridderivaten der M-disubstituierten -^-minoalkylacetylene,
wenn sie einem Nickelbad in Gegenwart von SuIfo-Sauerstoffverbindungen,wie
in Beispiel 1 angegeben, teea?- zugesetzt werden, hervorragend glänzende Überzüge mit
unerwarteter Duktilität liefert. Die Sulfo-SaueTStoffverbindungen
können in Mengen von 0,1 g/l bis zur Sättigung
vorhanden sein. Der weitere Zusatz von Acetanilid
109818/1582
ergibt Niederschläge mit "bis zu 60$ Nivellierung ohne Abfall
in Brilliant oder Duktilität. ■
Vorzugsweise werden das Acetanilid in einer Menge von 0,005 bis 2,0 g/l und das N-disubstituierte Aminoalkylacetylen-hydrοChlorid
in einer Menge von 0,005 bis g/l verwendet. -■ _
Unter den N-disubstituierten AminoalkylacetylenhydroChloriden
ergaben die folgenden besonders gute Ergebnisse:
i-Diäthylamino-2-propin-hydrochlorid
4-Diäthylamino-2-butin-1-ol-hydrochlorid
4-Dime thylamino-2-butin-1-ol-hydrο Chlorid
3-Dipropylamino-1-propin-hydrochlorid.
Die Hydrochloride können durch Neutralisation des Acetylenalkohols mit konzentrierter Salzsäure bei niedrigen
Temperaturen hergestellt werden, beispielsweise werden mindestens 4 1 Diäthylaminopropen mit 1 1 Wasser gemischt,
auf 50C gekühlt, mit etwa 3,5 bis 4 1 konzentrierter Salzsäure
bis zu einem pH-Wert von 2,8 bis 3,2 versetzt.
1098 18/1562
Die in lamelle I angegebenen SuIf ©-
verbindungen sind besonders in den angegebenen bevorzug
ten Mengen geeignet.
. , ■ ■ ;!EabeXl© I
1, Ungesättigte alipiiatiscJie SnIfonsäutren und ihre
AUcali-, Ammonium-, Magnesium- und ¥iekelsalze«
ITatriumvinylsulf onat
H9O * CHSGÄ 2 und 4 g/l
Katriumallylsulfanat
- 2 und 4 g/l
2. linlcernige aromatiseiie Sulfonsäuren und iiire Alkali-,
Ammonium- % Magnesium'- und Hiekelsalze«
2 und 4 g/l 2 und 4 g/l
2 und 4 g/l $ g/l
para-Clilorlaeiizalsiilfonsäure . . ■. .-.
H 2 und 4 g/l
Hatrium^para—chlorbenzolsulfonat
2 und 4 g/l
Fatrium^para-brombenzolsulfonat:
a„SO,Ka 2 und 4
1 κ 2-Biolilorl)enzolsulf onsäure
Gl2CgH5SO5H 2 und 4 g/l
t,2-oddr 2r5-Bichlorbenzolsulfonat
ITatriumsalz
2g33 2 und 4 g/l
Fatrlumpiienylathylensulf onat
GgH5GH = GHSO5Ka 1 g/1-
meta-Benzoldisulfonsäure
C6H4(SO5H)2 - 2 Ms 40 g/1
Eiatrlum-nieta-laenzoldisulfonat
G6H4(SO5Ua)2 .. 2 feis 40 g/l
Nickel-mesta-iaenzoldisulf onat
C6H4(S05>2lii 2 bis 40 g/1
ortiio-Sulfobenzoesäure-monoammo-
HOGOC6H4SO5KH4 .2 g/l
1 -Aaiino^ 15-benzoldisulf onsäure
H2KC6H5CSO5H)2 2 und 4 g/l
or tkQ-Aminobenz Q iBulf ons^uTö
H4SQ5H ......... 2 und 4 g/l
^: Λ· 16^1146
3. Einkernige aromatische Sulfinsäuren und ihre Alkali-, Ammonium—, Magnesium- und Nickelsalze.
Natriumbenzolsulfinat
C6H5SO2Ua 0,4 g/l
Natrium-para-toluolsulfinat
0,4 g/l
4. Einkernige aromatische Sulfonamide und Sulfon imide.
Benzoisulfonamid
C6H5SO2NH2 | 2 g/l |
para-Toluolsulfonamid | |
CH3C6H4SO2NH2 | 2 g/1 |
ortho-berizoesulfimid | |
C6H4CONHSO2 | 2 g/l |
Benzylsulfonamid | |
C6H5CH2SO2NH2 | 2 g/l |
Benzolsulfhydrdamsäure | |
C6H5SO2NHOH | 2 g/l |
N, N-Dime thyl-para-t olaolsulf onamid
CH5C6H4SO2N(CH5) 2 2 g/l
N ,N-Dicarboxyäthyrbenzolsulf onamid
C6H5SO2N(C2H4COOH)2 2 g/l
109 818/1562
BAD ORIOlNAL.
5. Zweikernige aromatische Sulfonsäuren und illre
Alkali-, Ammonium-, Magnesium- und Nickelsalze. " '
2-Naphthalinmonosulfonsäure
G10H7SO5H 1,5 g/l
1,5- oder 2,7-Haplrthalindisulfonsäure
O10H6(SO3H)2 1,5 und 4 g/l
1,5- oder 2,7-Naphthalindisulfonsäure-nickelsalz
1063 1,5 und 3 g/l
Uapnthalintrisulfonsäure
C10H5(SO3H)3 . 1 bis 40 g/l
Naphthalintrisulfonsäuretrinatriumsalz
C10H5(SO3Ua)3 . 1 bis 40 g/l
1 Diphenyl-pp -disulfonsäure
HrSOxC^-H. - GcE.SO^H bis zur Sättigung
6564645 (weniger.als 2 g?l)
2-Naphthol-3,6-disulfonsäure
HOC10H5(SO3H)2 4 g/l
2-Naphthol-3,6-disulfonsäurenatriumsalz
HOC10H5(SO3Na)2 4 g/l
1 -iiaphthylamin-3,6,8-trisulf onsäure
H2N-C10H4(SO3H)3 4 g/l
10 9 8 18/1562 O/?/G//v4
ο «Μ 16*1146
6« , IIeter ο cyclische Sulfonsäuren und ihre Alkali—,
Ammonium—» Magnesium—.und. Hickelsalze*. , . :
Thiophensulfonsäure
'C4H5S-SO5H --
'C4H5S-SO5H --
Hatriumthiophensulfonat
C4H5S-SO5H -- ■ · ' :- 1 g/l'
455 ·.■---■- . ■-. 1- g/l ■■'-
. , .2-(4-Pyridyl)-äthylsulfonsäure ' .
O5H4Ii-CH2GH2SO5H 2 g/l
Die in der vorstehenden Tabelle I angegebenen
Konzentrationen liefern brilliante Nickelabaoheidungen,
geben jedoch nicht notwendigerweiae die optimale oder
maximale Konzentration an.
Im folgenden werden Beispieie für Elektrolyten
angegeben,"· die sich als "besonders erfolgreich zur Herstellung
von glänzenden Ifickeiüberzügeiigemäß der· Erfindung
erwiesen haben» :■ '' " '" '■
1 ■ 0 β % :1 8 / λ 5B§\\: BAD ORIGiiMAL
1Ü21U6
In diesen Lösungen kann das Saccharin teilweise oder vollständig durch die SuIfo-Sauerstoffverbindungen
ersetzt werden, oder diese können zusätzlich zum Saccharin zugegeben werden. Das Hydrochlorid kann durch jedes
der anderen oben erwähnten Hydrochloride ersetzt werden.
Die in '-tabelle II angegebenen Mengen stellen g/l wässriger Lösung dar.
Für die Niederschläge vom Säulentyp können die gleichen Zusammensetzungen verwendet werden unter Weglassung von Nickelsulfamat, Acetanilid und Saccharin.
10 9 8 18/1562
- ίο -
Bad 1 2 3-4 5 67
330 330 330 - - 240
- 0-37,5 0-37,5 -' 30 _ _ _ _ 45
- 210 ' -
- - 225
29,5 - - -
51,5 -
Borsäure
S3BO3 30-37,5 37,5 0,37-5 0,37-5 30 30 37,5
Diäthylaminopropin-
iydrochlorid 0,005- 0,005-0,005-0,005- 0,005- 0,005- 0,005-
0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2
Lcetanilid 0,005- 0,005-0,005-0,005- 0,005- 0,005- 0,005-
2,0 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0
Saccharin 0,5- 0,5- 0,5- 0,5- 0,5- 0,5- 0,5-
2,0 ■ 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0 2,0
emperatur 0C 25-60 50 50 50 50 50 80
109818/15 62
COPY
Nickelsulfat NiSO..7H2O |
240-330 |
Nickelchlorid NiCI2.6H2O |
30-45 |
Ni ckelformiat Ni(00CH)2.2H2O |
_ |
Nickelfluoborat JJi (BP4) 2 |
|
Ni c ke1s ulfamat Ni(O3SNH2)2 |
_ |
Natriumchlorid NaCl |
— |
Natriumbromid NaBr |
Claims (11)
1. 2 oder 3 bedeutet.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es Acetanilid enthält.
3. Bad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es Borsäure enthält.
4. Bad nach Anspruch 1, 2 oder 3» dadurch gekennzeichnet,
daß ea Saccharin enthält.
5. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet r daß es das Hydrochlorid in einer
Menge von 0,005 bis 2,0 g/l lösung enthält.
109818/15 62
1621 U6-
6. Bad nach. Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
das Acetanilid in einer Menge von 0,005 "bis 2,0 g/l Lösung
vorhanden ist.
7. Bad nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Borsäure in einer Menge von 30 bis 37,5 g/l Lösung
vorliegt.
8. Bad nach Anspruch 41 dadurch gekennzeichnet, daß
das Saccharin in einer Menge von 0,5 bis 2,0 g/l Lösung vorliegt.
9. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es 1-Diäthylamino-2-propinhydroChlorid,
4-Diäthylamino-2-butin-1-ol-hydroChlorid,
4-Dimethylaminobutin-i-ol-hydrochlorid oder 3-3)ipropylamino-1-propin-hydroChlorid
enthält.
10. Bad nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß es eine SuIfo-Sauerstoffverbindung enthält.
10 9 818/1562 BA® ORiGiNAL
11. Bad nach Anspruch. 10, dadurch gekennzeichnet,
daß es die SuIfo-Sauerstoffverbindung in einer Menge
zwischen 0,5 g/l und der Sättigungsmenge enthält.
1G981.8/T562
BAD
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB1606/64A GB1026987A (en) | 1964-01-14 | 1964-01-14 | Nickel plating process |
GB50192/66A GB1143257A (en) | 1964-01-14 | 1966-11-09 | Improvements in or relating to nickel electroplating solutions |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1621146A1 true DE1621146A1 (de) | 1971-04-29 |
Family
ID=26236856
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19651496955 Pending DE1496955B2 (de) | 1964-01-14 | 1965-01-08 | Galvanisches Nickelbad |
DE19671621146 Pending DE1621146A1 (de) | 1964-01-14 | 1967-11-08 | Galvanisches Vernickelungsbad |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19651496955 Pending DE1496955B2 (de) | 1964-01-14 | 1965-01-08 | Galvanisches Nickelbad |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3546081A (de) |
AT (1) | AT277695B (de) |
BE (1) | BE706165A (de) |
DE (2) | DE1496955B2 (de) |
FR (1) | FR1424042A (de) |
GB (2) | GB1026987A (de) |
NL (2) | NL6500351A (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3969198A (en) * | 1975-01-09 | 1976-07-13 | Permalite Chemicals Ltd. | Ni-Fe electro-plating |
GB1485665A (en) * | 1975-03-27 | 1977-09-14 | Permalite Chem Ltd | Nickel electroplating |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB858718A (en) * | 1957-04-12 | 1961-01-11 | Schering Ag | Improvements in and relating to the electro-deposition of nickel coatings |
US3006822A (en) * | 1957-05-08 | 1961-10-31 | Langbein Pfanhauser Werke Ag | Electro-deposition of nickel coatings |
US3002904A (en) * | 1958-09-26 | 1961-10-03 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
-
1964
- 1964-01-14 GB GB1606/64A patent/GB1026987A/en not_active Expired
-
1965
- 1965-01-08 DE DE19651496955 patent/DE1496955B2/de active Pending
- 1965-01-12 FR FR1668A patent/FR1424042A/fr not_active Expired
- 1965-01-13 NL NL6500351A patent/NL6500351A/xx unknown
-
1966
- 1966-11-09 GB GB50192/66A patent/GB1143257A/en not_active Expired
-
1967
- 1967-10-25 AT AT966867A patent/AT277695B/de not_active IP Right Cessation
- 1967-10-31 NL NL6714781A patent/NL6714781A/xx unknown
- 1967-11-07 BE BE706165D patent/BE706165A/xx unknown
- 1967-11-08 DE DE19671621146 patent/DE1621146A1/de active Pending
-
1968
- 1968-11-15 US US776240A patent/US3546081A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1424042A (fr) | 1966-01-07 |
GB1026987A (en) | 1966-04-20 |
NL6500351A (de) | 1965-07-15 |
NL6714781A (de) | 1968-05-10 |
GB1143257A (en) | 1969-02-19 |
DE1496955A1 (de) | 1970-10-08 |
DE1496955B2 (de) | 1970-10-08 |
AT277695B (de) | 1970-01-12 |
BE706165A (de) | 1968-03-18 |
US3546081A (en) | 1970-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1053274B (de) | Bad zur Herstellung von galvanischen Metallueberzuegen | |
CH647269A5 (de) | Plattierungsloesung fuer die ablagerung einer palladium/nickel-legierung. | |
DE1771228C3 (de) | Galvanische Kupfer-Pyrophosphatbäder | |
DE69917620T2 (de) | Ductilität verbessernde additive für nickel-wolframlegierungen | |
DE832982C (de) | Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer | |
DE1066068B (de) | Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung spiegelglänzender, eingeebneter, duktiler Nickelniederschläge | |
DE2319197C3 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung eines duktilen, festhaftenden Zinküberzugs | |
DE2506467A1 (de) | Bad zur galvanischen abscheidung von palladium-nickel-legierungen | |
DE2630980C2 (de) | ||
DE1621146A1 (de) | Galvanisches Vernickelungsbad | |
DE1621186B1 (de) | Galvanisches Chrombad mit Sprühnebel verhindernden Zusätzen | |
DE3817722A1 (de) | Verwendung von 2-substituierten ethansulfon-verbindungen als galvanotechnische hilfsstoffe | |
DE1133208B (de) | Saures galvanisches Nickelbad | |
DE2815786C2 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren elektrochemischen Abscheidung von glänzenden Eisen-Nickel-Überzügen | |
DE888191C (de) | Bad und Verfahren zur galvanischen Vernicklung | |
CH626122A5 (en) | Process for producing a deposit by electroplating, and an electroplating bath for implementing the process | |
DE2326300A1 (de) | Waessriges saures zinkgalvanisierungsbad und -verfahren | |
DE1030133B (de) | Verfahren zur Herstellung galvanischer Kupferueberzuege | |
DE3108466C2 (de) | Verwendung eines Acetylenalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung | |
DE1208593B (de) | Saures galvanisches Nickelbad zum Abscheiden halbglaenzender UEberzuege | |
DE3232735C2 (de) | Verwendung einer als Glanzbildnerzusatz zu Nickelbädern bekannten Verbindung als Korrosionsschutzadditiv | |
DE69030176T2 (de) | Schutz von bleienthaltenden anoden während der elektrobeschichtung mit chrom | |
DE1190287B (de) | Waessriges Bad fuer die galvanische Vernickelung | |
DE1496817B1 (de) | Galvanisches Nickelbad | |
DE1496827B1 (de) | Verbunderzeugnis aus einem metallischen Grundkoerper und drei galvanisch abgeschiedenen Nickelschichten |