DE1571890A1

DE1571890A1 - Trockene lithographische Platte

Info

Publication number: DE1571890A1
Application number: DE19661571890
Authority: DE
Inventors: Gipe Harry Frank
Original assignee: Scott Paper Co
Current assignee: Kimberly Clark Tissue Co
Priority date: 1965-10-11
Filing date: 1966-05-12
Publication date: 1971-10-07
Also published as: US3677178A; DE1571890B2; GB1146618A

Description

Patentanwälte Dipl.-Ing. F.Weickmann, Dr. Ing. A.Weickmann

Dipl.-Ing. ELWeickmann, Dipl.-Phys. Dr. K.Fincke

Dipl.-Ing. F. A.Weickmann, Dipl.-Chem. B. Huber

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ρ 15 71 890.8-45 « München 27, den * '

MÖHLSTRASSE 22, RUFNUMMER 48 3921/22

Harry Prank G-ipe

Trockene lithographische Platte

Die Erfindung "betrifft eine trockene lithographische Platte, ihre Herstellung und Verwendung.

Offsetdruck wurde bisher in üblicher Weise mit fettiger !Einte und wäßrigem Abweiser durchgeführt. Das auf der lithographischen Platte entwickelte Bild bestand aus einem blanken, metallischen Hintergrund und mit Pigment versehenen Druckstellen.

In der Druckpresse wird die Platte sowohl einer Wasser- als auch einer Tintenzufuhr ausgesetzt, wodurch der gewünschte Effekt erreicht wird, so daß der nasse, metallische Hintergrund die Tinte abstößt, während die pigmentierte Fläche sie anzieht.

Diese Praxis ist solange zufriedenstellend als sorgfältig das Gleichgewicht zwischen Tinte und Wasser eingehalten wird und solange keine Unterbrechungen auftreten, während denen die Platte trocknen kann und oxydiert.

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Neue UlHüflaycii lArt. / <j ι Αλά,,. *r i»r. I Satz J des Andoruno«wo*. v. -«.

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Ein Ziel der Erfindung ist die Schaffung einer lithographischen Platte, die nach Belichtung und Entwicklung in trockenem Zustand einen Farbe abstoßenden Bildhintergrund aufweist, insbesondere die Schaffung einer photo-lithographischen Platte, die für eine größere Anzahl von Kopien einen schärferen Druck ergibt und die Korrosionseffekten der Atmosphäre sowohl beim Druck als auch bei der Aufbewahrung widersteht.

Ein anderes Ziel dieser Erfindung ist die Schaffung neuer Materialien und Verfahren für die Lithographie, wobei keine Wasserzufuhr erforderlich ist.

Die photοlithographische Platte gemäß der Erfindung ist gekennzeichnet durch eine farbabstoßende Hintergrundfläche aus Siliconkunststoff und eine farbaufnehmende Druckfläche„

Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigenϊ

Pig. 1,2, 3 und 4 sehr vergrößerte Querschnitte einer photolithographischen Platte in der Reihenfolge der Herstellung einer repräsentativen erfindungsgemäßen Platte;

Pig. 5 das Brennen oder die Bildung des Bildes auf einer photographischen Platte, beispielsweise derjenigen der 4;

Fig. 6 und 7 sehr vergrößerte Querschnitte von belich teten Platten zur Veranschaulichung der aufeinanderfolgenden Schritte der Entwicklung bzw, Ätzung, und

Pig» 8 eine schematisierte Darstellung einer Druckpressenanordnung, die die Platten gemäß der Erfindung verwendet .

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Es wird nun auf die Einzelheiten der Erfindung näher eingegangen. Zuerst ist eine Basis 10 für eine lithographische Platte vorgesehen. Diese Basis 10 kann aus beliebigem Material, beispielsweise Metall, Plastik oder Papier, bestehen, das gerollt und auf einer üblichen offset-lithographischen Presse befestigt werden kann.

Die Basis 10 wird dann auf der einen Seite, wie in Pig. 2 gezeigt, mit einer Schicht aus Offsetfarbe, abstoßendem Siliconkunststoff wie Siliconkautschuk versehen. Das bevorzugte Beschichtungsverfahren besteht darin, daß die Basis zuerst gereinigt oder geätzt wird und daß dann eine nachstehend Formel X genannte Lösung, bestehend aus Siliconkunststoff, in Pastenform, gelöst in 2 G-ew.'Heilen eines sich verflüchtigenden Filmreiniger-Lösungsmittel,aufgewalzt oder aufgezogen wird. Die vorgenannte Siliconzusammensetzung wird von der Dow Corning Corporation und auch von der General Electric Company hergestellt. Das Lösungsmittel wird von der P. & J. Corporation geliefert.

Eine dünne Deckbahn 14, die aus Metall bestehen kann, wird auf die noch klebrige Oberfläche der Siliconkautschukschicht 12 aufgebracht und flach gewalzt, so daß sie gut haftet und, wie Fig. 3 zeigt, vollkommen glatt ist»

Nach dem Trocknen dieser Anordnung wird sie mit einer Beschichtung 16 aus der üblichen photoempfindlichen Ammonium-Dichromatlösung versehen, wie dies Fig. 4 zeigt, wodurch sich eine empfindliche photolithographische Platte 18 ergibt.

Die Platte 18 wird mit einem Photo-Diapositiv T in Kontakt gebracht und einem starken, von der Bogenlampe L kommenden Licht, wie in Fig. 5 gezeigt, ausgesetzt» Dies bewirkt ein Härten der Beschichtung 16 an den belichteten Stellen. Bei der Aufstreich-Entwicklung (rub-developed) mit den gewöhn-

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lichen Bntwicklungslöeungen wird der weiche Hintergrund der Beschichtung 16, wie in Mg. 6 gezeigt, weggewaschen bis zu der Deckbahn 14, während die Bildflächen erhalten "bleiben·

Wie in Fig. 7 gezeigt, erfolgt nun ein Ätzen mit einer Säure oder einer für das Material der Bahn 14 geeigneten Lösung, wodurch die Bahn 14 nur an den belichteten Hintergrundflächen entfernt wird. Hierdurch kommt die Siliconkautschukschicht 12 als Hintergrundbild zum Vorschein und dieser Teil ist im Gegensatz zu blankem Metall auch dann für Offsetfarbe abstoßend, wenn er trocken ist, während die übrigen hervorstehenden Druckflächen für die Offsetfarbe aufnahmefähig sind.

Deshalb kann die so zubereitete, belichtete und entwickelte lithographische Platte 20, wie in Pig. 8 gezeigt, ohne Verwendung einer Wasserzuführung in eine Offsetpresse P eingesetzt werden.

Die einzigartige Beschaffenheit der Schicht 12, die Farbe, Wasser und ähnliches abstößt, kann bei verschiedenen anderen Offset-, Gravur- und Buchdruckplatten, die sich von der vorstehend beschriebenen, aus Schichten aufgebauten Platte mit trockener Oberfläche unterscheiden, verwendet werden. Typische Verfahren (nicht veranschaulicht) sollen nun diskutiert werden.

Zur Herstellung und Zubereitung von positiven lithographischen oder Offsetplatten wird eine zuvor empfindlich gemachte Platte mit der Formel X bewalzt oder aufgetragen oder -gezogen, um eine Gesamtschicht aus Siliconkautschuk aufzutragen. Nach halbstündiger Trocknung wird sie in üblioher Weise mit einem Bild ungefähr 1 1/2 Minuten belichtet und mit einer aus Xylol-Äthylenglykol und P.& J.-FilmreinigerlÖBung in Mingenanteilen von 14,2, 3,5 bfcw. 14,2 g entwickelt.

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Die Platte wird dann in Gegenwart von Wärme für 3 Minuten mit Iiicht überflutet» Sie ist dann fertig für den Druck oder sie kann zuerst geätzt, gekupfert oder mit einem Füllstoff gefüllt werden, falls dies gewünscht wird.

Zur Zubereitung oder Herstellung von negativen lithographischen oder Offsetplatten wird eine zuvor empfindlich gemachte Platte belichtet, lackiert, gewaschen und getrocknet in einer Weise, wie dies üblich ist, jedoch nicht aufgummierte

Als nächstes wird die Platte mit einem empfindlichen Material nochmals beschichtet und Formel X wird aufgebracht und für eine halbe Stunde trocknen gelassen, damit der Siliconkautschuk eine Gesamtbeschichtung bildet. Die Platte wird dann für drei Minuten in Gegenwart von Wärme mit licht überflutet.

Schließlich wird die Platte unter Verwendung von Xylol, Äthylenglykol und P.& J.-Filmreinigerlösung, wie oben erwähnt, entwickelt.

Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung weiter.

Beispiel 1

Eine Papierplatte wird hergestellt aus einem Grundpapier, welches aus etwa gleichen Mengen langer Fasern und kurzer Fasern zusammengesetzt ist und 6 bis 8$ mineralische Füllstoffe enthält. Das Papier ist mit Boxin und Alaun geleimt und wiegt etwa 23,6 kg/Ries (500 Blatt 25 χ 38 Zoll). Eine Seite des Papiers erhält einen Grundüberzug mit 4»5 kg/Ries Trockengewicht einer Zusammensetzung von 100 Seilen Ion, 20 Seilen Casein und 2 Teilen Dimethylolharnstoff, welcher dann geetrocknet und kalandert wird* Die Papierplatte wird dann mittels Umkehrwalzenbeschichter mit 0,9 kg Trockengewicht/Ries einer Dispersion einer Diorganopolysiloxan-Zusam-

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mensetzung "bestehend aus Dime thy lpolysiloxan, Methylhydrogensiloxan und Zinkoctoat in Xylol überzogen und die erhaltene Diorganopolysiloxan-Schicht wird getrocknet und 40 Sekunden bei 26O⁰C gehärtet. Die mit dem Siliconkautschuk überzogene Platte wird dann durch eine xerographische Kopiermaschine (Xerox 914) laufengelassen. Hierbei wird ein Pulverbild, welches vorher elektrostatisch aus einer selenplattierten Trommel gebildet wurde, auf die Platte übertragen. Das Bild wird erhitzt, um die Pulverteilchen miteinander und mit der Plattenoberfläche verschmelzen zu lassen. Die so hergestellte Platte wird dann auf einem Offsetrotationsvervielfältiger (Addressograph-Multigraph Corporation, Multilith Nr. .1250) angebracht, aus welchem die Molleton-Walzen (Wasserzufuhrwalzen) entfernt wurden. Die Platte wird lediglich am Plattenzylinder festgeklammert und in trockenem Zustand mit normaler Lithographenfarbe (Addressograph-Multigraph-Farbe Nr. MI 36) durch die Farbwalzen gefärbt und das Bild wird auf das Offsetdrucktuch gedruckt und von diesem auf einen Papierbogen übertragen. Von dieser Platte wurden 50 Kopien angefertigt, die saubere, ungefärbte Hintergrundstellen aufwiesen.

Beispiel 2

Ein wie in Beispiel 1 beschrieben vorbereitetes Papiersubstrat wird mittels Luftrakel mit 1,36 kg/Ries Trockengewicht einer Diorganopolysiloxan-Masse beschichtet, welche aus Dimethylpolysiloxan mit an Silicium gebundenen Hydroxylgruppen, Methylhydrogenpolysiloxanen und Dibutylzinnlaurat besteht. Die Diorganopolysiloxan-Zusammensetzung ist in soviel Toluol dispergiert, daß die Dispersion etwa 10 Gew.^ Feststoffe enthält. Die iiberzugsschicht wird etwa 5 Minuten bei 150⁰C gehärtet. Dann wird die Platte sensibilisiert, indem die Siliconkautschukoberfläche mit einem Baumwollbausch,der mit gepulvertem Zinkchloriddoppelsalz des para-Formaldehydkondensats

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von (iiazotierteni para-Aminodiphenylamin gefüllt ist, abgerie_T ben. Überschüssiges Diazopulver wird dann sorgfältig abgewischt. Die so hergestellte sensibilisierte Platte wird dann durch ein Negativ mit einem 35 A Doppelkohlenlichtbogen aus einer Entfernung von 91,5 cm 1 Minute lang belichtet. Diese partiell belichtete Platte wird dann mit Wasser gewaschen oder entwickelt, um die Diazoverbindung von den nicht belichteten Stellen zu entfernen. Die so vorbereitete Platte wird vollständig getrocknet und am Plattenzylinder eines Offestrotationsvervielfältigers, wie in Beispiel 1 beschrieben, festgeklammert und die Platte gefärbt und zur Herstellung von mehr als 50 Kopien verwendet. Die erhaltenen Kopien waren sauber, ohne Tönung oder Färbung in den Hintergrundstellen.

Beisuiel 5

Eine diazo-sensibilisierte Platte auf Aluminiumbasis wird hergestellt, indem eine Aluminiumplatte mit einer wäßrigen Lösung von Natriumsilikat überzogen und danach die Silikatoberfläche mit einer wäßrigen 1#igen Lösung des Zinkdoppelsalzes des Kondensats von para-Formaldehyd und para-Diazodiphenylamin wie in der USA-Patentschrift 2 714 066 beschrieben beschichtet wird. Nach der Trocknung des Diazoüberzugs wird mittels Mayer-Stabbeschichter eine Schicht einer Diorganopolysiloxan-Zusammensetzung aufgebracht. Die Diorganopolysiloxan-Zusammensetzung enthält Dimethylpolysiloxangummi, Silanoxim und Titandioxyd. Die den Diorganopolysiloxan-Überzug tragende Oberfläche wird mit einem weichen Tuch abgewischt, so daß ein Film mit einer Dicke von 0,00127 mm nach etwa 12stündiger Härtung bei Raumtemperatur zurückbleibt. Die so hergestellte Platte wird durch ein durchsichtiges Positiv 60 Sekunden mit einer 35 A Doppelbogenlampe aus einer Entfernung von 91,5 cm belich-r· tet. Nach der Belichtung wird die Oberfläche der belichteten Platte mit einer wäßrigen Lösung abgespült, welche eine kleine Menge eines Netzmittels (Eastman Kodak Fotoflo) enthält. Das

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Wasser entfernt die Siliconschicht und die lösliche Diazoverbindung aus den nicht belichteten Stellen und legt die Oberfläche des Ursprungssubstrats an diesen Stellen freie Danach wird die Platte getrocknet, wie in Beispiel 1 beschrieben auf eine Rotationspresse montiert, gefärbt und zur Herstellung von 1000 sauberen Kopien verwendet.

Beispiel 4

Eine Aluminiumfolie mit einer Dicke von 0,127 mm, der Oberfläche durch Sandstrahlen aufgerauht wurde, wird mit einer 0,005 mm dicken Schicht eines Diorganopolysiloxans überzogen, welches ein Hydroxylendgruppen aufweisendes Dimethylpolysiloxan und Vinyltriacetoxysilan enthält, wobei die Zusammensetzung beim Härten einen Acetoxyendgruppen aufweisenden, vinylsubstituierten Dimethylpolysiloxan-Siliconkautschuk liefert. Unmittelbar danach wird, während die Diorganopolysiloxan-Schicht noch flüssig ist, eine 0,076 mm starke tfeichkupferfolie in innigen Kontakt mit der oben erwähnten Schicht aufgepreßt. Der so erhaltene Schichtkörper wird 72 Stunden altern gelassene Wach der Alterung wird die freiliegende Oberfläche des Kupfers durch 2minütiges Eintauchen in eine Standardätzlösung folgender Zusammensetzung gereinigt:

100 ml Calciumchloridlösung, 40 bis 41° Be 580 g Zinkchlorid

285 ml Perrichloridlösung von 50 bis 51° Be 14 ml 3'dfoige Salzsäure

Nach dem Ätzen wird die Kupferoberfläche sofort gewaschen und getrocknet. Auf die trockene Kupferoberfläche wird dann eine lichtempfindliche Schicht aus photopolymerisierbarem Material, welches Polyvinylzinnamatpolyraerisate enthält, aufgebracht. Die lichtempfindliche Schicht wird getrocknet und die Ober-

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fläche durch, ein Negativ mit Licht aus einer 35 A Doppelbogenlampe aus einer Entfernung von 91,5 cm 3 Minuten lang belichtet. Nach der Belichtung wird die Plattenoberfläche mit dem Entwickler gespült, der alles nicht belichtete, photopolymerisierbare Material entfernt und das darunterliegende Kupfer bloßlegt, an den Bildstellen jedoch die photopolymerisierte Schicht nicht entfernt. Die Plattenoberfläche wird dann in die oben erwähnte Ätzlösung eingetaucht, in der das Kupfer zuvor gereinigt wurde, und solange darin belassen, bis alles Kupfer außer/lem durch das Photopolymerbild abgedeckten, aufgelöst ist. Die Platte wird dann gewaschen und getrocknete Die so hergestellte Platte wird, wie in Beispiel 1 beschrieben, auf eine Rotationspresse montiert, mit Druckfarbe überzogen und zur Herstellung von 10 000 Kopien verwendet.

Beispiel 5

Eine sandgestrahlte Aluminiumplatte wird mit Natriumsilikat behandelt, gewaschen und getrocknet und danach sensibilisiert, indem eine 2$ige wäßrige Lösung eines Zinksalzes des Kondensats von para-Formaldehyd und para-Diazodiphenylamin mit einem v/attebausch aufgebracht wird. Nach dem Beschichten wird die Platte getrocknet und die getrocknete Platte durch ein Negativ 60 Sekunden lang aus einer Entfernung von 91»5 cm mit einer 35 A Doppelbogenlampe belichtet. Das so erzeugte Bild wird entwickelt, indem die Plattenoberfläche mit einem emulgierten, gefärbten Nitrocelluloselack in einer wäßrigen Gummiarabikumlösung betupft wird. Hierbei wird die Diazoverbindung an den nicht belichteten oder Hintergrundstellen entfernt, das belichtete Bild bleibt jedoch unangegriffen. Außerdem wird hierbei die Emulsion ausreichend gebrochen, um ein Anhaften des Lacks unter Bildung eines Überzugs auf der Bildoberfläche zu ermöglichen,. Die Platte wird dann mit Wasser gewaschen, um alle G-ummiarabikumspuren von der Plattenoberfläche zu entfernen, ohne den Lack von den Bildstellen abzu-

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spülen. Nach der Entfernung des Gummiarabikums wird die Platte erneut überall mit einer wäßrigen Lösung des 3?ormaldehydkοndensats von para-Diazodiphenylaminsalz betupft und dann trocknen gelassen. Die getrocknete Platte wird dann mittels tfalzenbeschichter mit einer DiorganopolysiloxaÄ-Zusammensetzung überzogen, die aus einem Acetoxyendgruppen tragenden Dimethylpolysiloxan und Dibutylzinndiacetat besteht, und zwar in soleher Menge, daß etwa 35 g Diorganopolysiloxan-Masse/m aufgetragen werden. Die Schicht wird an der Luft 30 Minuten härten gelassen und dann auf ihrer gesamten Oberfläche mit einer 35 A Doppelbogenlampe aus einer Entfernung von 61 cm 3 Minuten lang bestrahlt. Durch diese Behandlung wird die Diazoverbindung unlöslich gemacht und ihre Haftung an der Siliconschicht verbessert und in gleicher Weise wird die Siliconschicht selbst weiter gehärtet. Danach wird die Platte mit einer Mi- , schung von gleichen Teilen 1,1,1-Trichloräthan und Xylol und einem viertel Teil Athylenglykol abgerieben. Diese Flüssigkeit dringt durch die Siliconschicht und löst die Lackschicht, welche das Bild abdeckt, wodurch das Reiben den gelockerten Siliconkautschuk entfernt, und die Bildstellen werden leicht eingetieft zurückgelassen. Die auf diese v'/eise gebildeten Vertiefungen werden mit Polyvinylacetatemulsion gefüllt und trocknen gelassen. Die erhaltene Platte besitzt eine niveaugleiche Oberfläche mit Bildstellen aus oleophilem Polyvinylacetat und farbabstoßenden Hintergrundstellen aus Siliconkautschuk. Die so hergestellte Platte wird, wie in Beispiel 1 beschrieben, auf eine Lithographenpresse montiert und zur Herstellung von 1500 Kopien verwendet.

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Claims

Patentansprüche

1. Photolithographische Platte, gekennzeichnet durch eine farbabstoßende Hintergrundfläche aus Siliconkunststoff und eine farbaufnehmende Druckfläche.

2. Photolithographische Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hintergrundfläche Siliconkautschuk ist.

3. PhotoliüDgraphische Platte nach Anspruch 1 oder 2, gekennzeichnet durch eine Basisplatte, eine Schicht aus farbabstoßendem Siliconkunststoff auf der Basisplatte und Mitteln, die eine farbaufnehmende, druckende Oberfläche besitzen und sich auf einem Seil der Schicht von farbabstoßendem Siliconkunststoff befinden*

4. Photolithographische Platte nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die genannten Mittel aus Metall bestehen«

5. Verfahren zur Herstellung einer photolithographischen Platte mit einer Basisplatte zum Einsetzen in einer Offsetdruckpresse, gekennzeichnet durch die Schritte: Beschichten der genannten Basisplatte mit farbabstoßendem Stoff, Beschichten des genannten farbabstoßenden Stoffs mit farbaufnehmendem Stoff und Entfernen gewählter Teile der resultierenden farbaufnehmenden Schicht zum Offenlegen entsprechender Teile der genannten farbabstoßendem Schicht, die hierdurch einen BiIdhintergrund für die übrigen !'eile der genannten farbaufnehmenden Schicht bildet.

6β Verfahren nach Anspruch 5» dadurch gekennzeichnet, daß das genannte Entfernen durch Beschichtung der genannten farbaufnehmenden Schicht mit einem photosensitiven Medium erzielt

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wird, daß gewählte Teile des genannten photosensitiven Mediums photoempfindlich gemacht werden, und daß die übrigen Teile des genannten photoempfindlichen Mediums und entsprechende Teile der genannten farbaufnehmenden Schicht entfernt werden.

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