DE1545100A1 - Duennschicht-Widerstaende - Google Patents
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Description
23. Dezember 1963
UNION CARBIDE CORPORATION, 270 Park Avenue, New York, N.Y.
Dünnschicht-Widerstände.
Die Erfindung betrifft Dünnschicht-Widerstände und insbesondere
ein elektrisches Widerstandselement in dünnen Filmen mit einem aufgedampften Metall und einem Poly(p-xylylene)*
Bisher waren in elektrischen Schaltungen verwendete Widerstände
auf bestimmte stromleitende Elemente, Verbindungen, Zusammensetzungen
und Legierungen mit hohem Widerstand beschränkt. Für derartige Zwecke wurde weitestgehend Kohlenstoff verwendet,
doch wurden auch Legierungen bestimmter Metalle sowie andere Verbindungen und Zusammensetzungen bei elektrischen
Schaltungen benutzt. Mit dem Aufkommen elektrischer Miniatur- und Mikrominiaturschaltungen besteht jedoch das Bedürfnis, die
Größe bestimmter Elemente, insbesondere von Widerständen, Kondensatoren
und anderen sperrigen Elementen von Verstärker-t
Gleichricht- und Dämpfungsschaltungen herabzusetzen. Die z.Z. verfügbaren Baustoffe eignen sich nicht zur Ausbildung von
Mikrominiaturwiderständen. Tatsächlich haben sich in zahlreichen
Verstärker-, Dämpfungs- und Gleichrichterschaltungen die
Widerstände und Kondensatoren als die Komponenten mit höchstem
009835/1467
BAD ORIGiMM.
Platzbedarf erwiesen} ihre Größe beträgt ein Vielfaches der
verwendeten Transistoren und Dioden.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wurde gefunden, daß Dünn«·
schicht-Widerstände durch Bildung einer innigen Dispersion von aufgedampftem leitfähigem Metall und einem normalerweise festen
Poly(p-xyly.lens) hergestellt werden können· Diese Zusammensetzungen
liefern, wie im folgenden eingehend beschrieben, hervorragende Widerstände mit einem Widerstandstemperaturkoeffizienten,
der demjenigen von Kohlenstoff-Widerständen
mindestens gleichwertig ist, die jedoch in Stärken von 50 A auf anderen nicht leitenden Trägern zu selbsttragenden Filmen
mit jeder gewünschten Dicke ausgebildet werden können· Als
solche ist die Dicke des Widerstandes nicht kritisch· Mit derartigen dünnen Filmen werden in Mikrominiaturschaltungen praktische
Vorteile erzielt, die bisher nicht erreicht werden konnten·
Mit der Erfindung wird ferner ein Verfahren zur Bildung von
Widerständselementen mit gewünschtem Widerstandswert geschaffen, bei dem unter vermindertem Druck ein Gemisch aus verdampftem,
normalerweise leitendem Metall und einem dampfförmigen.
P-xylylen diradikal in derartigem Verhältnis abgeschieden
wird, daß das feste abgeschiedene Gefüge zwischen 25 und 75 Gew«-% Metall und als Rest lineares festes Polyip-xylyles*©)
00^833/1467 "A
aufweist* Das im Einzelfall verwendete dampfförmige Diradikal
ist nicht kritisch und kann in sämtlichen freien Valenzen mit beliebigen inerten Subeti tuen ten substituiert «rein« wie dies
im folgenden im einzelnen beschrieben ist. Das dampfförmige
Gemisch aus Metall und reaktionsfähigen ßiradikalen kondensiert leicht auf Jeder Oberfläche, die unter dee Höchstwert
der Kondensationstemper«tür des Diradikals gehalten wird und
ergibt ein inniges Gemisch aus Metall und festem linearen
Poly(p-xylylene)· Die Kondensation und augenblickliche Polymerisation der Diradikal© schließt das Metall in atomarer oder nahezu atomarer Dispersion ein und ergibt einen Film ait einem
Diapersionsgefüge, das eine» elekttischen Stromfluß einen Widerstand entgegensetzt« der in erster Linie von der in der
Dispersion vorhandenen Meiallraesage sowie außerdem von der Dicke
und Größe des Films abhängt·
Allgemein sollt· das Metall in der Dispersion in Mengen von
mindestens 25 Sew.-)4 vorhanden sein« da andernfalls der Widerstand des Elementes so groß ist, daß es nahezu als Nichtleiter
wirkt · Außerdem sollte die Dispersion mindestens 25 Gew.-Ji
Poly(p-xylylene) enthalten, um das Metall in zufriedenstellender Weise zu binden und einzuschließen und dem Widerstand eine
ausreichende mechanische Festigkeit zu vermitteln, so daß er
gegen Abrieb widerstandsfähig ist* Falls die Widerstandsdieper-
009833/1467
■ BAD
eion auf einem Zwischenträger abgeschieden werden soll, von
der der Widerstandsfilia schließlich zur Bildung eines selbsttragenden Filmes abgenommen werden kann, sollte die Polymerkonzentration ungefähr 40 Gew.-% oder mehr betragen«
Die besten Ergebnisse wurden bei Materialien mit ungefähr 30
bis 60 Gew.-S Metall, Rest Polymer, erhalten·
Erfindungsgemäß ist es nicht kritisch, welches spezielle Metall verwendet wird, es muß nur ein elektrisch leitendes Metall
sein und sollte vorzugsweise unter Verwendung von Vakuumverfahren einfach zu verdampfen Und leicht abzuscheiden sein. Die
am einfachsten durch Vakuumverdampfung abzuscheidenden Metalle ergeben eine Dampfabscheidungsmenge von ungefähr 5 x 10~ Gramm
je Sekunde je cm Oberfläche bei 1 Mikron Druck (absolut) und sind infolgedessen für die Zwsske der vorliegenden Erfindung
am besten geeignet. Beispiele solcher Metall, die sich besonders für die Herstellung von Widerständen eignen, sind Aluminium, Gold, Silber, Kupfer, Magnesium, Zink, Zinn, Blei, Chrom,
Kobalt, Titan, Vanadium, Mangan, Eisen, Nickel, Platin, Wolfram, Tantal und andere ähnliche Metalle· Alle diese Metall·
sind elektrisch leitend für die Verwendung als Widerstände gemäß der vorliegenden Erfindung. .
-A 009833/1467
1545109
Während jedes derartige Material verwendet werden kann, ist im
allgemeinen ein Metall vorzuziehen, das im festen Zustand ein ausgezeichneter natürlicher Leiter ist, d.h. einen spezifischen
Widerstand von weniger als 100 Mikro-Ohm cm und vorzugsweise weniger als 10 Mikro-Ohm cm hat, wie dies beispielsweise
bei Silber, Gold, Kupfer, Aluminium und Blei der Fall ist, da
in solchen Fällen weniger Metall erforderlich ist, um einen
Widerstand gewünschter Leitfähigkeit zu erhalten. In den meisten Fällen ist jedoch die erforderliche Metallmenge von geringerer
Wichtigkeit, solange die Gefügedispersion in den erforderlichen Grad an Widerstand und andere für den beabsichtigten
Endzweck erforderliche physikalischen Eigenschaften aufweist.
Das Aussehen der Gefügedispersion aus Metall und Polymer
schwankt beträchtlich und unterscheidet sich oft von dem für
das Metall zu erwartenden Aussehen. Beispielsweise, sind Aluminium-,
Zink-β Blei-. Cadmium- und Lithiumgefüge schwarz und
rauchig. Kupfer- und Germaniumgefüge sind andererseits klar
und tiefgelb, während Selen- und Silbergefüge klar und rot,
blau oder braun sind. Diese Farben ändern sich selbstverständlich erheblich mit der Menge des vorhandenen Metalls, wobei
die intensiveren und dunkleren Farben auftreten, wenn die Metallmenge
im Polymer steigt. Bei Metallgehalten von ungefähr 5O Gew.-% sind die meisten Gefüge schwarz und rauchig*
009833/1487 ~ --,
SAD ORiOJNAL
Das Widerstandsverhalten ist, so wird angenommen, teilweis· auf das in dem Polymer innig dispergierte atomare oder nahezu
atomare Metall zurückzuführen· Nur durch das vorliegend beschriebene Verfahren lassen sich derart innige Dispersionen
sicherstellen. Versuche, fein gemahlene Metalle und andere leitende Zusammensetzungen zur Herstellung dünner Widerstände vergleichbar den vorliegend beschriebenen zu verwenden, haben
völlig fehl geschlagene Grundsätzlich ist dies auf die besondere Herstellungsweise der Widerstände und die durch die Polymerphase vermittelten besonderen Eigenschaften zurückzuführen.
Bei einer bevorzugten Art zur Durchführung des Verfahrens nach der Erfindung und zur Herstellung erfindungsgemäß ausgebildeter Widerstände wird eine Hochvakuumanlage benutzt, und zwar
im allgemeinen eine Anlage, die einen Druck von ungefähr 1 Mikron Hg absolut aufrechthaiten kann. Der Kammer werden dampfförmige Diradikale zugeführt und innerhalb der Kammer befindet
sich ein Hochtemperatur-Schmelzbad zum Schmelzen und Verdampfen des Metalls. Das Schmelzbad sollte so angeordnet werden, daß
eine ungehinderte Metalldampfströmung von der Metalldampfquelle zu dem zu beschichtenden Träger vorhanden ist. Die Metalldämpfe
schlagen sich auf jeder kühlen Oberfläche nieder, die in direk-'
ter Linie mit der Metalldampfquelle angeordnet ist. Die P-xylylen-Diradikale füllen andererseits die Kammer vollständig aus
003833/1481
und lagern sieh auf jeder kühlen Oberfläch· in der Kammer ab,
und zwar unabhängig von der Lag· der Quelle oder der ursprünglichen Richtung der Diradikaldämpf«· Ia wesentlichen scheiden
sie sich sehr ähnlich von Feuchtigkeit in einer feuchten At-Biosphäre ab, haben jedoch abweichend von Feuchtigkeit nicht
das Bestreben in größeren Massen zu den niedrigsten Stellen des Trägers xu fließen oder sich dort zu saumein. Auf diese
Veise ergibt die Polymerabscheidung einen glatten gleichmäßigen Überzug auf sämtlichen freiliegenden Trägeroberflächen·
Vie im folgenden ausgeführt, sollte der Träger kühl ader mindestens unterhalb der höchsten Kondensationstemperatur des
betreffenden reaktionsfähigen Diradikals gehalten sein»
Bei der hohen Temperatur der Metalldampfquelle wird das Metall
verdampft und kondensiert beim Auftreffen auf die kühle Oberfläch· des Trägers, während gleichzeitig doe P-xylvlen-Biradikale kondensieren, so daß eine Gefügediapersion des Metalle
im Polymer ausgebildet wird.
Das Verfahren nach der Erfindung kann chargenweiseausgeführt
werden, obwohl es für viele Anwendung*zwecke besonders günstig
ist, kontinuierlich oder halbkontinuierlich zu arbeiten· Je
nach den beabsichtigten Ergebnissen kann der zu beschichtende
Träger in der Kammer fest angebracht sein oder sich innerhalb
009833/14GT ./ ,,/bad
der Vakuumkammer kontinuierlich bewegen. Falls erwünscht, kann
der bewegte Träger eine Papierbahn oder ein thermoplastischer Film sein, der als nicht leitender Träger dient Jx es kann auch
ein glattes und poliertes Metallband benutzt werden, von dem der Widerstandsfilm nach Abschluß der Abscheidung abgenommen
wird.
An dem fertigen Widerstandefile können dann, unabhängig davon,
ob dieser auf einen Träger aufgenommen ist oder als selbsttragender Film ausgebildet ist, Kontakte oder Leistungen zur Verwendung in elektrischen Schaltungen angebracht werden. Grundsätzlich können die verschiedensten Verfahren zur Befestigung
von Kontakten oder Leitungen verwendet werden, beispielsweise können Metallfolie-Ansätze mit Hilfe leitender Bindemittel
oder Farben befestigt werden, doch werden zweckmäßigerweise metallische Kontaktstreifen oder Ansätze auf dem Träger durch
entsprechende Abdeckung in der BeSchichtungskammer aufgedampft
oder wird ein Träger in Form eines thermoplastischen Films mit metallischen Kontaktranderη verwendet, die beispielsweise
durch Kaschieren mit Folie oder durch Metallaufdampfung hergestellt sind. Beide dieser Möglichkeiten lassen sich ausnutzen,
da die Polymerbeschichtung in der Bedampfungekammer auch die
Kontakte oder Leitungen gegen nachfolgende Abnutzung schützt und umgibt.
009833/1467
154 51.0 α
Die bei den Widerstandselementen nach der Erfindung verwendeten Polymere zeichnen dich dadurch aus, daß sie nicht nur ausgezeichnete Dielektrika sind, sondern auch Schmelzpunkte haben,
die im allgemeinen über 200 bis 300 C liegen. Außerdem sind sie in sämtlichen üblichen organischen Lösungsmitteln bei Zimmertemperatur
unlöslich. Tatsächlich haben nur Lösungsmittel, wie Alphachloronaphylen und chlorinierte Biphenyle selbst beim
Siedepunkt des Lösungsmittels nur eine gewisse Lösungswirkung
gezeigt. In ähnlicher Weise werden die Polymere durch Wasser, starke Basen, starke Alkalien und andere derartige Chemikalien
nicht angegriffen. Dabei lassen sich diese Polymere in Form
extrem dünner porenfreier Filme abscheiden.
Die erfindungsgemäß verwendeten Poly(p-xylylene) werden durch
die Kondensation von dampfförmigen Diradikalen mit der u.a.
Formel I gewonnen. Derartige Diradikale sind in der Dampfphase bei Temperaturen oberhalb 200 - 250°C recht stabil. Bei Abkühlen kondensieren die Diradikale und polymerisieren sofort zu
dem linearen Polymer der Formel II. Jedes der verschiedenen Diradikale hat im allgemeinen seine besondere Kondensationstemperatur, die gewöhnlich zwischen ungefähr 25 und 100 C
oder leicht darüber liegt, was in gewissem Umfang von dem Druck
der Anlage abhängt.
009833/U87 -«
BAD ORiGINAL
Derartige Diradikale lassen sich auf verschiedene Weise herstellen· Als besonders zweckmäßig erwies sich die Herstellung
durch Pyrolyse bei Temperaturen zwischen 450 und 700°C von
mindestens einem zyklischen Dimer, das allgemein durch die Struktur
dargestellt werden kann, wobei Y ein inerter Substituents
vorzugsweise Wasserstoff, Halogen oder eine organische Gruppe, vorzugsweise eine Kohlenwasserstoffgruppe ist. Bei Pyrolyse
wird das Dimer in zwei getrennte reaktionsfähige dampfförmige
Diradikale aufgespalten, die beide die Struktur
Formel I
haben·
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15451OQ
-Ii-
Werden sämtliche Y-Gruppen durch Waseerstoff gebildet oder
sind die nuklearen Substituenten bei jedem Diradikal die gleichem, werden 2 Mole des gleichen P-xylylen-Diradikals gebildet
und ergibt sich nach Kondensation als substituiertes oder nicht
substituiertes P-xylylen-Homopolymer. Sind die aromatischen
Kuklearaubstltuenten verschieden, werden zwei verschiedene
Diradikale gebildet, und die Kondensation derartiger Diradika-Ie ergibt, wie la folgenden beschrieben, Copolymere.
Y Y Y
SO2-R
erhalten, wobei R eine niedrigere Kohlenwasserstoffgruppe und
Y ein nicht polarer Substituent ist· Diese Sulfone pyrolysieren
bei Erhitzen auf Temperaturen von ungefähr 600 bis 10000C zu
Sehwefeldloxyd und de« reaktionsfähigen Oiradikal
\ l—l
(I)
009833/1467
BAD ORIGiNAi
Dieses Verfahren eignet sich in besonderer Weise zur Einführung
von Alpha-Halo-Subetituentgruppen in das Polymer, unter denen
sich besonders das hoch thermisch beständige Poly Alpha, Alpha, Alpha1, Alpha* Tetrafluoro-p-xylylen auszeichnet·
Reaktionsfähige Diradikale werden auch durch die Pyrolyse eines
Diaryl-Sulfons der Struktur
ϊ ι
ϊ ι i U
H —C ^(/ \\_ CH2 - SO2 - CH2 -^/ y— CH
YY
erhalten, wobei Y ein nicht polarer Substituent ist· Diese
Sulfone pyrolisieren bei Erhitzen auf Temperaturen von unge fähr 400 bis oOO°C zu Schwefeldioxyd und 2 Molen eines Mono
radikale der Formel ,
,YY Y Y
H. C —S/
das zu einem P-xylen und einem Diradikal der Struktur
009833/1487 _
154510Q
(I)
disproportioniert.
Selbstverständlich kann auch jedes andere Verfahren zur Herstellung
des dampfförmigen Diradikale benutzt werden. Da bei einigen dieser Verfahren andere gasförmige Nebenprodukte
(beispielsweise SO0) entstehen und da verschiedene der verwendeten
Metalle durch derartige Nebenprodukte angegriffen werden können, sollte bei der Auswahl des abzuscheidenden Metalles
entsprechende Vorsorge getroffen werden, wenn derartige reaktionsfähige
Diradikale neben verschiedenen anderen Mitteln verwendet werden. Da bei der Pyrolyse des zyklischen Dimer Di-pxylylens
keine weiteren Nebenprodukte entstehen und das Dimer quantitativ in 2 Mol des reaktionsfähigen Diradikals zerfällt,,
wird vorzugsweise dieses Verfahren benutzt«
Da die Kopplung und Polymerisation dieser reaktionsfähigen
Diradikale nach der Kondensation der Diradikale zu keinem aromatischen
Ring führt, kann jedes nichtsubstituierte oder substituierte
P-xylylen-Polymer verwendet werden, weil die sub-
-009*33/1497
SAD
154510q
- Ik -
stituenten Gruppen im wesentlichen als eine inerte Gruppe wirken· So kann die Substituentengruppe jede organische oder anorganische Gruppe sein, die normalerweise an aromatischen Kernen
oder an den aliphatischen Alpha-Kohlenstoffatomen substituiert
werden kann·
Der hier verwendete Ausdruck "P-xylylen Diradikal" soll diejenigen
chemischen Verbindungen umfassen, die einen freien Radikalplatz an jeweils zwei Alpha-Atomen haben, die in Para-Stellung
an einem aromatischen Kern hängen, wie dies durch die folgende Struktur angegeben ist
Y Y
ϊ I
. c—^y - X>—C · Formel I
wobei Y jede inerte einwertige Gruppe darstellen kann, wie
dies weiter unten im einzelnen beschrieben ist. Derartige P-xylylen Diradikale sind ie dampfförmigen Zustand stabil,
kondensieren jedoch zu eines dünnen porenfreien Film aus einem festen Polymer, das vorliegend als "Poly(ρ-*yIyIen)" bezeichnet
ist und sich, wie ebenfalls in folgenden näher erläutert, durch die Struktur
r\
YY YY
darstellen läßt. 009833/1487
Formel II
Beispielsweise wurden Polymer· htrgecttllt, bei dentn die Y-Gruppe in For« ron Halogenen, vi· Chlor« Broa, Jod und Fluor
entweder an Ring oder an den Alpha-Kohlenstoffatomen, ale
Kohlenwasserstoff-Gruppe beispieleweise Methyl, Äthyl« Propyl,
Phenyl und dergleichen Gruppe als Cyanos Carboxyl, Carboxy-Gruppe« Aeino-Gruppe oder dergleichen vorlag· Während einige
dieser Gruppen asu bestirnten Vorzügen führen, beispielsweise
Zähigkeit, nämlich Poly 2 Chloro-p-xylylen oder Hochtemperaturbeständigkeit, nämlich Poly-Alpha, Alpha, Alpha', Alpha·-Tetrafluoro-p-xyiylen, beeinflussen offenbar diese Suhstituenten»
gruppen sämtlich nicht wesentlich den spezifischen Widerstand
des Gefügee gegenüber de« Poly(p-xylylen) sselbet. Infolgedessen werden für die aelsten Anwendungsxirecke das Polyip-xylylan)
d.h. wo alleY-Gruppen Wasserstoff sind, und das Poly(chlorop-xylylen), d.h. wo eine T-Gruppa an Ring Chlor ist, während
alle anderen Wasseretoff sind, vorzugsweise benutzt, da ihre
Herstellung «a einfachsten und billigsten ist.
Die substituierten Di-p-azylylen«, aus denen diese reaktionsfähigen Diradikale gewonnen werden, können aus des zyklischen
Dieter, Di-p-xylylen, durch entsprechende Behandlung wie Halogenierung, Alkylierung und/oder Oxydation und Reduktion und
entsprechende Verfahren hergestellt werden, bei denen derartige
Substituentengruppen in die aromatischen Kerne eingeführt werden· Da das zyklische Diaer bis zu Tenperaturen von ungefähr
009833/1467
400°C sehr stabil ist, können für die Gewinnung der verschiedenen substituierten Stoffe auch Reaktionen bei erhöhter Temperatur benutzt werden· Im folgenden soll unter "Di-p-xylylen"
jedes substituierte oder nichtsubstituierte zyklische Di-pxylylen entsprechend der obigen Diskussion und unter "P-xylylen
Diradikal" jede substituierte oder nichtsubstituierte P-xylylen·
Struktur mit zwei freien Radikalen an den Alpha-Kohlenstoffatomen entsprechend den obigen Erläuterungen verstanden werden·
Bei dem Polyaerisationsprozeß kondensieren und polymerisieren
die dampfförmigen Diradikale bei der Kondensationstemperatur der Diradikale nahezu augenblicklich· Bei der Kopplung dieser
Diradikale tritt eine niedrige Aktivierungeenergie auf und die Kettenausdehnung zeigt keine oder nur eine geringe Vorzugsrichtung hinsichtlich des speziellen Diradikale, so daß räumliche und elektronische Effekte keine wesentliche Rolle spielen, wie dies bei der Viny!polymerisation der Fall ist· Die
substituierten und/oder nichtsubstituierten p-xylylen Homopolymer« können durch Abkühlen des dampfförmigen Diradikals
auf eine Temperatur unterhalb der Kondensationstemperatur des Diradikale gewonnen werden. Es wurde beobachtet, daß für jede
Diradikalart eine definierte höchste Kondensationetemperatur gegeben ist, oberhalb deren das Diradikal im wesentlichen nicht
kondensiert und polymerisiert. Alle beobachteten Höchstwerte
009833/U67
für substituierte p-xylylen Diradikale lagen unterhalb etwa 200 C, schwanken jedoch in gewissem Ausmaß mit dem verwendeten
Betriebsdruck. Beispielsweise wurden für einen Druck von 0,5 nim Hg für die untenstehenden Diradikale die folgenden
optimalen Kondansations- und Polymerisationstemperaturen
beobachtet:
p-xylylen - 25 - 30°G
Chloro-p-xylylen - 70 - 80°C
n-butyl-p-xylylen - 130 - l4tO°C
Jod-p-xylylen - l8o - 2000C
Dichloro-p-xylylen - 200 - 25O°C
Tetrad, cL , <£} \ oU fluoro-p-xylylen - 35 - 40°C
Auf diese Weise werden homopolymere Widerstandsfilme erhalten,
indem die Trägeroberfläche auf einer Temperatur unterhalb der Maximalkondensationstemperatur der gerade verwendeten oder in
dem Homopolymer erwünschten Diradikalart gehalten wird. Dies
wird am sinnvollsten durch "Homopolymerisationsbedingungen" bezeichnet.
Wenn mehrere verschiedene in dem pyrolisierten Gemisch vorhandene
Diradikale verschiedenen Dampfdruck und unterschiedliche Kondensationseigenachaften haben, beispielsweise bei
p-xylylen und Chloro-p-xylylen und Dichloro-p-xylylen oder
jeden anderen Gemisch mit anderen substituierten Diradikalen,
009833/1487 * ' 'l~
BAD
tritt eine Homopolymerisation ein, wenn die Kondensationsund Polymerisationstemperatur so gewählt wird, daß sie bei
oder unterhalb der Temperatur liegt, bei der nur eines der Diradikale kondensiert und polymerisiert. So .soll für die
Zwecke der vorliegenden Anmeldung der Ausdruck "Unter-Homopolymerisationsbedingungen" der Fall eingeschlossen werden, daß
nur Homopolymere gebildet werden* Infolgedessen ist es möglich,
Homopolymere aus einem Gemisch zu gewinnen, das eine oder mehrere der substituierten Diradikale enthält, wenn sämtliche
anderen vorhandenen Diradikale andere Kondensations- oder Dampfdruckeigenschaften aufweisen und wenn nur eine Diradikalart auf der Trägeroberfläche kondensiert und polymerisiert
wird. Es versteht sich, daß andere nicht auf der Trägeroberfläche kondensierte Diradikalarten wie im folgenden beschrieben, in Dampfform durch die Vorrichtung hindurchgeführt und
an einer nachfolgenden Kältesenke kondensiert und polymerisiert werden können.
Da beispielsweise nichtsubstituierte p-xylylen Diradikale bei
Temperaturen um 25 - 30 C kondensieren, eine Temperatur die erheblich unter derjenigen für Chloro-p-xylylen Diradikale
(um 70 - 80°C) liegt, ist es möglich, derartige Diradikale im dampfförmigen pyrolisierten Gemisch zusammen mit den chlorsubstituierten Diradikalen vorliegen zu haben· In einem solchen
Falle werden die Homopolymerisationsbedingungen sichergestellt,
009833/U67
lad·« di· Trägeroberfläche auf einer Temperatur unterhalb der
, höchsten Kondensationstemperatur de· substituierten p-xylylens
jedoch oberhalb derjenigen p-xylylens gehalten wird, wodurch die p-xylylen-Dämpfe durch die Vorrichtung hindurchlaufen können, ohne kondensiert und polymerisiert zu werden, und wobei
das Poly-p-xylylen in einer nachgeschalteten Kältesenke gesammelt wird.
Ss ist auch Möglich, substituierte Copolymere durch den oben beschriebenen Pyrolyse-Prozeß zu gewinnen. Copolymere von pxylylen und substituierten p-xylelen Diradikalen sowie Copolymere von verschiedenen substituierten p-xylylen Diradikalen,
bei denen die substituierten Gruppen alle die gleichen sind, aber jedes Diradikal eine verschiedene Anzahl von Substituentengruppen autweist, können sämtlich durch das beschriebene
Pyrolyse-Verfahren erhalten werden·
Die Copolymerisation tritt gleichzeitig mit der Kondensation
bei Abkühlung des dampfförmigen Gemisches der reaktionsfähigen
Diradikale auf eine Temperatur unterhalb 2000C bei Polymerisationebedingungen auf.
Copolymere können dadurch erhalten werden, daß die Trägeroberfläche auf einer Temperatur unterhalb der höchsten Kondensationetemperatur des niedrigst siedenfen Diradikale gehalten wird,
009833/1467
• BAD *
- 20 -beispielsweise auf Zimmertemperatur oder niedriger·
Diese Bedingungen sind als Copolymerisationsbedingungen zu betrachten, da mindestens zwei der Diradikale bei einer derartigen Temperatur zu einem willkürlichen Copolymer kondensieren
und copolymerisieren·
Bei dem Pyrolyse-Verfahren für «in Di-p-xylylen werden die reaktionsfähigen Diradikale gewonnen, indem das substituierte
und/oder nichtsubstituierte Di-p-xylylen bei einer Temperatur
zwischen ungefähr 700 C und vorzugsweise einer Temperatur
zwischen ungefähr 550 und 600 C pyrolisiert wird· Bei derartigen Temperaturen werden erhebliche quantitative Ausbeuten
des reaktionsfähigen Diradikals sichergestellt· Die Pyrolyse des Ausgangs-di-p-xylylens setzt bei ungefähr %50 bis 55O°C
ein, doch erhöhen derartige Temperaturen nur die Reaktionszeit und setzen die Auebeute an Polymer herab» Bei Temperaturen
oberhalb ungefähr 700 C kann eine Abspaltung der Substituentengruppe eintreten, was zu einer Drei- oder PoIyfunktionalart
führt und eine Quervernetzung sowie hochgradig verzweigte Polymere zur Folge hat.
Die Pyrolyse-Temperatur ist im wesentlichen unabhängig von dem Betriebsdruck· Es ist jedoch erforderlich, daß herabgesetzte
oder unteratmosphärische Drücke verwendet werden, um in der
009833/U67 _ "'"
Bad
gleichen Kammer oder Anlage eine zufriedenstellende Abscheidung zusammen mit dem Metall zu erhalten· Für die meisten Arbeitsvorgänge
sind Drucke zwischen 0,01 Mikron und lO mm Hg für die
Pyrolyse am geeignetesten. Falls erwünscht, können auch inerte
dampfförmige Verdünnungsmittel, beispielsweise Stickstoff, Argon, Kohlendioxyd, Wasserdampf und dergleichen verwendet
werden, um die optimale Betriebstemperatur oder den gesamten
Effektivdruck in der Anlage zu ändern.
Der Betriebsdruck in der Anlage für zufriedenstellende Abscheidung des Metalldampfes zusammen mit den p-xylylen Diradikalen
innerhalb der gleichen Anlage hängt naturgemäß von den betreffenden
ausgewählten Metallen ab. Wie zu erwarten, lassen sich Metalle, die bei niedrigeren Temperaturen verdampfen, d.h.
Metalle mit einer Verdampfungstemperatur unter 1200 C bei 10
Mikron Druck am einfachsten verwenden. Bei entsprechenden Vorsichtsmaßnahmen
und geeigneten Anlagen ist es jedoch möglich, mit Hilfe dieses Verfahrens jedes Metall zu verdampfen· Erfindungsgemäß
sollen diese Dünnschichtwiderstände für die verschiedensten Anwendungen eingesetzt werden. Beispielsweise ist es
möglich, selbsttragende Widerstandsfilme in einem Winkel oder einer Rolle aufzuwinden, tun die Widerstandslänge verhältnismäßig
groß zu machen* Für derartige Anwendungen ist es zweckmäßig,
einen Träger mit einer nicht leitenden Polymerschicht zu beschichten, bevor der Widerstandsfilm abgeschieden wird.
009833/1467 —- - '("
8ADORJGiNAL
■ - 22 -
Nachdem in diesem Film ein· ausreichende Stärke an Widerstandefilmgefüge
aus Metall und Polymer aufgebaut ist, kann der Film vom Träger abgezogen und aufgewickelt werden und können an den
Enden und gegebenenfalls an jeder Zwischenstelle Leiter angebracht
werden. Dünne Filme von O1OOl bis 0,0025 mm Stärke
können ebenso wie natürlich erheblich dickere Filme auf diese Weise einfach gehandhabt werden. IAn eine ausreichende mechanische
Festigkeit zu erzielen, werden vorzugsweise Filme von 0,025 mm Stärke oder mehr benutzt»
Eine entsprechende Abdeckung vorgedruckter Schaltungen, bei denen die Widerstandsfilme nur auf den bestimmten nicht abgedeckten
Bereich aufzubringen ist, gestattet die Anwendung derartiger
Dünnschichtwiderstände in nicht selbsttragender Weise. So können, falls erwünscht, Filme mit einer Stärke von 100 bis
500 A benutzt werden, obwohl auch in solchen Fällen Filme von 1000 bis 5000 Angström vorzusehen sind. Diese dickeren Filme
haben einen größeren Widerstand gegen Abrieb und mechanische Abnutzung und eignen sich daher besser tür die spätere Handhabung
und Behandlung·
Es ist selbstverständlich auch durch kompliziertere Abdeckverfahren
möglich, Schichten entweder aus dem Poly-p-xylylen oder
dem Metall allein oder aus beiden gleichzeitig aufzubringen,
um kompliziertere gedruckte Dünnschichtschaltungen beliebiger
Art in dem Verfahren nach der Erfindung herzustellen«
• 009-833/1487
Dia Erfindung iat anhand dar folgenden Beispiele näher erläutart· Falle nicht ausdrücklich anders angegeben, verstehen sich
alle Teile und Prozentsätse als Gewichtsteile und Gewichtsprozent sät se.
Baiapiale 1 - 1%
Metall und p-xylylen Diradikale wurden gleichseitig auf eine«
Glasträger in einer Vakuumkammer mit 46 ca Durchmesser gekühlt,
Innerhalb daran die Metalldampfquelle angeordnet war und die
■it einem Diradikal-Gawinnungsofenverbunden war.
Die Diradikalquelle bestand aus einem rohrförmigen Sublimations-Ofen (Modell M-2012 Hevi-Duty), der 30 cm lang und über ein
Pyrolyserohr aus rostsichere» Stahl Kit 38 mm Durchmesser
(Schedule D1 Typ 310) mit einem Trenmeffea (Modell M-202%
Hewy-Duty) verbunden war. Dar Sublimationsofen war auf «ine
Temperatur von ungefähr l8o°C eingestellt, um das Di-p-xylylen
asu sublimieren, während der Trennofaa auf eine Temperatur von
ungefähr 6300C eingestellt war, um das Di-p-acylylen in die
reaktionsfähigen Diradikale aufsuspalten. Värmesenken
waren um alle freiliegenden Teile des aus rostsicherem Stahl
bestehenden Rohres herum angeordnet, um eine Kondensation der reaktionsfähigen Diradikale auf den Rohrwanduiagen zu verhindern. Bin dem Innendurchmesser des Reaktorrohres rerhältnie-
00 9 833 /1467 bad
- 2k -
mäßig genau entsprechender Tonerde-Tiegel war im Bereich des Endes des Sublimationsofens angebracht, um eine Rückströmung
des verdampften Di-p-xylylene zu unterbinden·
Die Metalldampfquelle bestend aus einem entsprechend bearbeiteten Graphitrohr (Güte ATJ) mit 9 »5 mm Innendurchmesser,
12,7 mm Außendurchmesser und 25 »4 mm Länge* Der Tiegel hatte
unter Arbeitsbedingungen einen Widerstand von 0,0125 Ohm, der Leistungsverbrauch betrug l800 Watt· Endstücke waren mit umsponnenen
Kupfer draht en von 12,7 mm Durchmesser verbunden,
die innerhalb der Vakuumkammer an den Durchführungen der elektrischen
Klemmen angebracht waren· Die Klemmen waren wassergekühlt
.
Bei den folgenden Experimenten wurden 25 x 76 mm große Mikroskopgläser
aus Weichglas als Träger benutzt. Sie wurden zunächst mit Aceton und einem Entfettungsmittel in einem Ultraschallbad
gereinigt, mit destilliertem Wasser abgewaschen und in einem
Ofen bei 150 C 10 Minuten lang getrocknet. Elektrisch leitende Goldstege von ungefähr 6,35 mm Breite wurden entlang den
Längskanten der Gläser durch Vakuumaufdampfung von Gold abgeschieden.
Um eine gute Anhaftung an dem Glas zu erreichen, wurde eine Chromgrundschicht aufgebracht und dann eine Goldschicht
von ungefähr 700 A* Stärke abgeschieden. Unmittelbar
8AD 009833/U67
I V/
vor Benutzung wurden die Glaser in der obenbeschriebenen Weise
erneut gereinigt.
Die Gläser wurden innerhalb der Vakuumkammer so angeordnet,
daß sie mit der Metalldampfquelle und der Diradikalquelle unmittelbar
ausgerichtet waren. An die leitenden Stege der Gläser angeschlossene Leiter waren außerhalb der Kammer mit einem
Röhren-Ohm-Meter verbunden, um den Widerstand des abgeschiedenen
Films zu überwachen. Es empfiehlt sich sehr, eine homogene Mischung von Metall und Poly(p-xylylen) in dem abgeschiedenen
Film sicherzustellen und entsprechend zu überwachen· Das Ohm—Meter hatte eine obere Meßgrenze von 1000 Meg
Ohm.
Vor Verschließen der Einheit wurde 1 g des angegebenen Metalls in das die Metalldampfquelle bildende Rohr eingegeben, während
5 g des betreffenden Di-p-xylylens in den Tiegel in der Sublimationszone
gegeben wurden·
Nach Verschließen der Vakuumkammer erfolgte die Evakuierung
mit Hilfe mechanischer Pumpen, die über eine 15 cm-Diffusionspumpe und eine Dampffalle mit flüssigem Stickstoff unmittelbar
außerhalb der Vakuumkammer angeschlossen waren. Die Kammer
wurde auf einen Druck von 5 x 10 Torr evakuiert·
0Q9833/U67 , ■—^
BAD ORIGiNAL
Der Trennofen und die Wärmefallen wurden eingeschaltet und auf
620 bzw. 250oC gebracht. Der Sublimationsofen (l8o°C) und der
Strom zu der Metalldampfquelle wurden eingeschaltet, letzteres
nachdem der Kammerdruck auf 30 Mikron infolge der in der Kammer erzeugten Diradikale angestiegen war.
Nach 3 bis 5 Minuten war eine Widerstandsänderung an dem zu
überwachenden Ohm-Meter festzustellen. Die Temperatur der Metallquelle wurde dann entsprechend reguliert, um die gewünschte Geschwindigkeit der Widerstandsänderung zu erhalten. Die
Geschwindigkeitsänderung erfolgt zunächst sehr schnell und bedarf für den Übergang von 1000 Meg Ohm zu 1 Meg Ohm nur 3 Sek.,
sinkt jedoch später ab, so daß es 10 Minuten dauert, um von 1000 0hm auf 1 0hm zu kommen. Diese Bedingungen wurden aufrechterhalten, bis der überwachte Widerstand auf den gewünschten Wert von ungefähr 5 bis 1000 0hm (d.h. einen Flächenwiderstand von 25 bis 5000 0hm) abgesunken war. Die Ergebnisse dieser Proben sind in der folgenden Tabelle I zusammengestellt.
Um die Stabilität und Dauerhaftigkeit der auf diese Weise abgeschiedenen Widerstandsfilme zu ermitteln, wurden einige der /
Proben in einer inerten Atmosphäre bei Temperaturen zwischen 75 und 2500C zwischen 1 und 2 Stunden wärmebehandelt und wurde
der Temperaturkoeffizient des Widerstands gemessen» Entsprechende Daten sind in der untenstehenden Tabelle II angegeben·
009833/1467 SAD OBtGiNAL
Die Färb· der Widerstandefilme lag zwischen blau-grau, halbr
transparent und opaken perlglänzenden Blau, sowie, grün und
Metallisches Silber bei Zunahne der Dicke. Die angegebene absolut· Dicke der Filme wurde mit Hilfe eines Interferometers
oder «ines Oberflächenprofilmeseers unter Verwendung eines
mechanischen Stichels bestimmt. Durch Abdecken der Trägerglasplatt· siit einer zweiten eng anliegenden dünnen Glasplatte
wird eine hinreichend steile Stufe erzeugt, die eine derartige
Messung möglich macht. Eine qualitative Abschätzung der Dicke aufgrund visueller Prüfung ist für die anderen Filme angegeben.
Der spezifische Widerstand wurde für diejenigen Filme errechnet , deren absolute Dicke bestimmt war. Der spezifische Widerstand im Beispiel 3 wurde aufgrund der chemischen Analyse und
des Filmgewichts abgeschätzt. Der spezifische Widerstand und andere Daten sind in Tabelle I angegeben. Die Beispiele, bei
denen die Zusammensetzungen absichtlich geändert wurden, zeigen, daß ein weiter Bereich des spezifischen Widerstandes möglich ist. In der folgenden Tabelle II ist der Widerstandstemperaturkoeffizient verschiedener dieser Filme angegeben,
von denen einer wärmebehandelt wurde, während dies bei anderen nicht der Fall war.
BAD OBIGiWiL
009833/1467
Beispiel | Diradikal | Metall | Metall | ' | 40 | Tabelle | I | Spez· | optische Abrieb- | sehr gut | ■ | schlecht . | |
Nr. | % | Dicke | Flächen | Widerstand | Dichte widerstand* | & | |||||||
A | widerstand | U.SL cm | schlecht ^ 1 |
||||||||||
1 | Chloro-p-xylylen | Zn | 2000 | -Q. | 8OOO | halbtrans | |||||||
40 | 400 | parent | sehr gut i |
||||||||||
2 | Chloro-p-xylylen | Ge | 55 | It It | sehr gut | ||||||||
3 | Chloro-p-xylylen | Mg | 800 | η it | gut | ||||||||
O | 57 | 900 | |||||||||||
O | k | p-xylylen | Ag | 20 | 2000 | opak | mäßig | ||||||
co | 54 | 10 | |||||||||||
00 | 5 | Chloro-p-xylylen | Ag | halbtrans | mäßig | ||||||||
co | 55 | parent | |||||||||||
co | 6 | p-xylylen | Ag | 8000 | 56OO | opak | |||||||
—X | 7 | p-xylylen | Ag | 5260 | 70 | I3OO | opak | ||||||
tr
ay |
8 | p-xylylen | Ag | 25 | opak | mäßig | |||||||
9 | p-xylylen | Ag | 72,4 | 1030 | 25 | 950 | halbtrans | ||||||
90 | parent | ||||||||||||
10 | p-xylylen | Ag | 89 «o | 2200 | 900 | nahezu | |||||||
40 | opak | ||||||||||||
11 | p-xylylen | Ag | Daumen | halbtrans | |||||||||
40 | parent | ||||||||||||
12 | p-xylylen | Ag | halbtrans | ||||||||||
80 | parent | ||||||||||||
ω | 13 | p-xylylen | Ag | ι4οο | 18O | halbtrans | |||||||
> D |
13 | parent | |||||||||||
1 14 | p-xylylen | Ag | 1000 | 70 | halbtrans | ||||||||
33 | ! | 7,15 | parent | ||||||||||
§ | ι - t * ermittelt durch Reiben |
mit dem | |||||||||||
> | |||||||||||||
Tabelle II
Beispiel Nr. |
Wärmebehandlung | -55°C | -15°C | 65°C | ioo°e |
5 | keine | 880 | 1680 | 65O | 400 |
10 | keine | l46o | 1380 | 67O | -300 |
12 | keine | 240 | 590 | 36O | 150 |
11 | keine | 770 | l46o | 1700 | 1600 |
8 | keine | 720 | 690 | 45O | 570 |
9 | keine | 560 | -220 | 1220 | 1240 |
7 | 75°C-1 Std. | 1180 | Il4o | 1720 | l44o |
009833/1467
Die Werte schwanken geringfügig, sind jedoch im allgemeinen
positiv (metallisch). Die wenigen negativen Werte ergeben sich möglicherweise aus irreversiblen negativen Widerstandsänderungen.
Die besten Proben haben Widerstandstemperaturkoeffizienten, die besser sind als diejenigen von Kohlenstoffwiderständen.
In diesem Falle wurde eine 7*6 χ 45 17 cm große Glasbeschichtungskammer
benutzt, die mit einem Diradikalgenerator und Vakuumpumpen
verbunden war. Der Diradikalgenerator bestand aus einer auf l80 C aufgeheizten Sublimationszone, die über ein
gewöhnliches Vycor-Glasrohr mit 38 mm Innendurchmesser und
63 j 5 cm Länge mit einer bei 65Ο C betriebenen Trenn- oder Pyrolysezone
verbunden war. Die Vakuumpumpeneinheit bestand aus einer mechanischen Pumpe mit einer Leistung con 0,l4 cbm/Sek.,
die über eine 25,4 mm Öldiffusionspumpe und eine Trockeneisfalle
mit der Beschichtungskammer verbunden wat. Kupferdrähte waren vakuumdicht in die Wände der' Beschichtungskammer eingeschmolzen
und innerhalb der Kammer mit einer Wolframwicklung für ein Metallverdampfungsbad verbunden. Das angegebene Me- f
tall wurde in das Wolframspulenbad eingebracht, bevor die Beschichtungskammer
geschlossen wurde.
009833/U67
Di-p-xylylen oder substituiert·« Di-p-xylylen wurde in ein
Glasrohr in dmr Sublimationszon· gegeben; im allgemeinen wurden ungefähr 5,0 g benutzt· Die Außenanschlüsse des Wolframbades wurden «it den Klemmen eines Stromwandlers und einer
variablen Hegeleinrichtung verbunden; die Anlage wurde auf
einen Druck von ungefähr 1 Mikron Hg absolut evakuiert·
Die Beheizung der Pyrolysezone wurde eingeschaltet, bis eine stabile Temperatur von ungefähr 6.5O°C und der gewünschte Betriebsdruck erreicht waren. Die Temperatur in der Sublimationsxone wurde auf l80°C gesteigert. Bei Durchlauf der Dimerdämpfe durch die Pyrolysezone wurden diese quantitativ in die
entsprechenden angegebenen reaktionsfähigen Diradikale aufgespalten und in die Beschichtungskammer geleitet; der Druck in
der Beschiehtungskammer stieg auf ungefähr 30 Mikron Hg.
Die Diradikale wurden auf den Wandungen der Beschichtungskammer
(auf Zimmertemperatur gehalten) kondensiert und polymerlsierten
gleichzeitig unter Bildung eines klaren zähen Trägerfilms auf
sämtlichen kalten Wandungen der Kammer. Um eine Abscheidung auf der Wolframspule und dem darin befindlichen Metall zu verhindern, wurde durch den Spulenkreis ein geringer Strom hindurchgeschickt , der die Temperatur der Spule über 25O°C hielt.
009833/U67 - - —_ +
BADORlGiNAL
Um die nachfolgende Entfernung des Films von den Wandungen der Beschichtungskammer zu erleichtern, erwies es sich als zweckmäßig, auf den Oberflächen ein Silikonentformungsmittel vorzusehen.
Nachdem ausreichend Polymer zur Bildung eines Trägers niedergeschlagen war, wurde der Stromfluß zur Wolframspule gesteigert, bis das Metall zu verdampfen begann, was durch die Bildung eines spiegelartigen oder rauchigen Films auf der Oberfläche des zuvor abgeschiedenen Kunststoff-Films zu erkennen
war· Dieser Arbeitsgang wurde fortgesetzt, bis der Unterdruckmesser eine Abnahme des Druckes auf ungefähr 1 Mikron anzeigte, woraus ein Verbruach des Di—p-xylylens in der Sublimationszone zu schließen war·
Die Wärmezufuhr zu dem Metallverdampfungsbad bei jedem dieser Beispiele wurde nicht gemssen, jedoch durch die Regeleinrichtung so eingestellt, daß das Metall verdampft und zusammen
mit dem Polymer als Gefüge abgeschieden wurde., was sich durch die Farbänderung auf den Wandungen der Beschichtungskammer
zeigte.
Nach Beendigung des Abscheidungsvorganges wurden sämtliche Heizeinheiten ausgeschaltet und ließ man die Anlage abkühlen,
worauf der Unterdruck aufgehoben und die Beschichtungskammer geöffnet wurde. -/-
009833/U67 ^^
In jedem Falle war die Gesamtdicke des zusammengesetzten Films
über 0,0025 mm und konnte der Film von Hand in einfacher Weise von den Wandungen der Beschichtungskammer abgezogen werden.
Die folgende Tabelle läßt die Eigenschaften der Metall-Polymer-Gefüge
entsprechend diesem Beispiel erkennen, wobei P die Polymer
ab scheidung allein und D die Dispersionsgefügeabscheidung darstellt. Bei einigen Beispielen wurde eine Polymerdeckschicht
über das Dispersionsgefüge
als weitere Schutzschicht für das Gefüge aufgebracht, indem
die Wärmezufuhr zu dem Wolframbad abgeschaltet wurde, bevor
das Di-p-xylylen in der Sublimationskammer aufgebracht war.
In diesen Fällen ist der Aufbau als 11P-D-P" bezeichnet, was
ein Polymer-Dispersions-Polymer-Schichtgefüge angibt· In weiteren
Beispielen wurde zunächst das Dispersionsgefüge, dann eine Polymerzwischenschicht und sodann eine weitere Dispersionsschicht
aufgebracht. In der Tabelle ist ein derartiger
Aufbau als "D-P-D" angegeben.
00 98 3 3/ U6-7
III
Verwendetes Diradikal Chloro-p-xyIylen
Chloro-p-xyIylen QAoro-p-xylylen
Chloro-p-xylylen
Chloro-p-xyIylen O Chloro-p-xyIyIen
Chloro.
Chloro
Chloro
Chloro·
Chloro
Chloro
Chloro·
-p-xylylen -p-xylylen -p-xylylen -p-xylylen
**· p-xylyleri
°* p-xylylen
■•Ji
p-xylylen
p-xylylen
Dichloro-p-xyIylen
Dichloro-p-xylylen
Chloro-p-xyIylen Dichloro-p-xylylen
Chloro-p-xyIylen
Dichloro-p-xyIyl«n
Dichloro-p-xyIylen ChIoro-p-xylylen
Metall Al
Pb Cu
Se
Ge Pb
Cu
Ag Ag Pb
Pb Pb
Pb
Pb Pb Cd
Cd Cu Pb
Cu Ag Se
Erzeugte Struktur P-D*
P-D-P P-D-P
P-D-P
P-D-P P-D-P
P-D-P P-D-P P-D
D-P-D
D-P-D
D-P-D D-P-D
D
D
D
D
D
D-P
P-D
P-D-P P-D-P P-D
klarer gelblicher Film klarer roter Film
blaßgelbe Filme schwarze oder rauchig graue opake Filme dunkelgelbe Filme
klare rote Filme klare rote Filme silbergraue Spiegel auf den Oberflächen V
nicht ausgebleicht durch konzentrierte HLSO.
,P a Polymer, D a Dispersion von Metall in Polymer als Widerstand
Claims (1)
- - 35 Patentansprüche1. Zusammensetzung zur Verwendung als Widerstandselement, gekennzeichnet durch ein inniges Dispersionsgefüge aus einem in Dampfform abgeschiedenen leiten· den Metall und einem normalerweise festen Poly-(p-xylylen) ■it 25 bio 75 Gew.-S Metall.2. Zusammensetzung nach Anspruch 1, dadurch g e k e η nzeichne t, daß das in Dampfform abgeschiedene Metall •inen spezifischen Flächenwiderstand von unter ungefähr 1 yuOhm.cm hat.3· Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch g e k β η η ze i c hne t, daß das Gefüge ein Film mit einer Dicke von mindestens 5 ^-Einheiten ist.k. Zusammensetzung nach Anspruch 3t dadurch geken nzeichnet« daß das Metall in einer Menge zwischen 30 und 60 Gew.-Ji des Gefüges vorliegt ·5· Zusammensetzung nach Anspruch 3, gekennzeichnet d u rc h mindestens kO Gew.-Ji Poly(ρ-xyIyIen) und eine ausreichende Dicke, um selbsttragend zu sein.BAD ORIGINAL 009833/14676. Zusammensetzung nach Anspruch 31 dadurch gekennzeichnet, daß das Gefüge von einer nichtleitenden Unterlage getragen ist·7. Verfahren zur Herstellung von Zusammensetzung nach einem der vorhergehenden Ansprüche,dadurch gekennzeichnet, daß ein Gemisch aus einem verdampften, normalerweise leitenden Metall und einem dampfförmigen p-xylylen Diradikal zur Bildung eines festen abgeschiedenen Gefüges unter vermindertem Druck gleichzeitig kondensiert und abgeschieden wird.8. Verfahren nach Anspruch 7i dadurch gekennzeichnet, daß ein Gemisch aus einem verdampften Metall und einem dampfförmigen p-xylylen Diradikal derart hergestellt wird, daß ein Endgefüge mit 25 bis 75 Gew.-Ji Metall und 75 bis 25 Gew.-S linearem festen Poly(p-xylylen) erhalten wird.9. Verfahren nach Ansprüchen 7 bis 8,dadurch gekennze ichnet, daß das abgeschiedene Gefüge nach der Abscheidung von der Unterlage abgezogen wird.009833/U6710. Verfahren nach Anspruch 9i-d a durch ge ken nzeichnet, daß das abgeschiedene Gefüge nach der Abscheidung von der Unterlage abgezogen wird.11. Verfahren nach Anspruch 10« dadurch- g e k e η η-z e ic h η e t, daß ein Gemisch verwendet wird, bei dem das Poly(p^xylylen) mindestens kO Gew.-% des Gefüges ausmacht· ■BAD 00 9 833/U67
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US247558A US3301707A (en) | 1962-12-27 | 1962-12-27 | Thin film resistors and methods of making thereof |
US24755862 | 1962-12-27 | ||
DEU0010374 | 1963-12-27 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1545100A1 true DE1545100A1 (de) | 1970-08-13 |
DE1545100B2 DE1545100B2 (de) | 1972-08-17 |
DE1545100C DE1545100C (de) | 1973-03-08 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3301707A (en) | 1967-01-31 |
GB1072049A (en) | 1967-06-14 |
DE1545100B2 (de) | 1972-08-17 |
FR1385708A (fr) | 1965-01-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |