DE1544226A1 - Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Material - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Material

Info

Publication number
DE1544226A1
DE1544226A1 DE19651544226 DE1544226A DE1544226A1 DE 1544226 A1 DE1544226 A1 DE 1544226A1 DE 19651544226 DE19651544226 DE 19651544226 DE 1544226 A DE1544226 A DE 1544226A DE 1544226 A1 DE1544226 A1 DE 1544226A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
zone
liquid
phase
single crystal
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19651544226
Other languages
English (en)
Inventor
Mullin John Brian
Hurle Donald Thomas James
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SECR AVIATION
Minister of Aviation
Original Assignee
SECR AVIATION
Minister of Aviation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SECR AVIATION, Minister of Aviation filed Critical SECR AVIATION
Publication of DE1544226A1 publication Critical patent/DE1544226A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/02Zone-melting with a solvent, e.g. travelling solvent process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/32Mechanisms for moving either the charge or the heater
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/107Melt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

Minister of Aviation in Her Majesty's Government of the United Kingdom of Great Britain and Northern Ireland, London W.G. 2
Verfahren zur Herstellung von einkrisxallinem
Material
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Herstellung von einkraistallinem Material.
Ziel der Erfindung ist es, ein neues Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Material vorzusehen. Die betrachteten Materialien gehören zu einer Klasse von Stoffen, die einphasige Materialien umfaßt, für die es entweder möglich ist, innerhalb des eingesetzten Materials eine hohe Verzerrungsoder Fehelerenergie (high strain energy) (aufrecht)zuerhalten oder (bei Materialien, die unter bestimmten Umgebungsbedingungen polymophe Umwandlungen oder Umwandlungen von Ordnungszuständen erleiden) eine thermodynamische treibende Kraft vorzusehen, deren Wirkung es ist, die angestrebte bzw. herzustellende Phase unter den gewählten Umgebungsbedingungen zur stabilen Phase zu machen. Es wird außerdem ein Lösungsmittel benötigt,
293-(JX/2002/06)-NöP (6)
009816/U23
INSPECTED
das die Iiqi{udu3-Temperatur. erniedrigt und selbst eine vernachlässigbare Löslichkeit in den festen Phasen aufweist.
Ein Beispiel für die erste Gruppe von Materialien ist reines und dotiertes Aluminiümoxyd; Beispiele für die zwei ce Gruppe sind das Wachstum von grauem Zinn aus weißem Zinn, von Diamant aus Graphit und von £ -Kobalt aus oc-Kobalt. Der Ausdruck "Umgebungsbedingung" umfaßt, wie er hier gebraucht ist, alle physikalischen Umgebungsbedingungen, beispielsweise Temperatur, Druck, elektrischen Strom und magnetisches oder elektrisches Feld.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Verfahren zur Züchtung eines homogenen Einkristalls eines ersten Materials auf einem Kristallkeim dieses ersten Materials aus einer eingesetzten Menge eines zweiten Materials vorgesehen, das die gleiche chemische Zusammensetzung hat wie das erste Material, aber strukturell davon abweicht; dieser Vorgang wird erreicht, indem man eine schmale flüssige Legierungszone zwischen die beiden Materialien einschaltet und durch das zweite Material bewegt, wobei die Wanderung der flüssigen Legierungszone durch die Differenz im chemischen Potential zwischen c'em ersten und dem zweiten Material unter den Umgebungsbedingungen erreicht wird.
Das zweite Material kann strukturell von dem ersten in der Weise verschieden sein, daß es einem höheren Energiezustand
009816/U23
(lurch Materialspannungen (more highly strained) oder einem unterschiedlichen polymorphen Zustand entspricht.
Wenn das erste und das zweite Material mit A "bzw. B bezeichnet werden, die beide die gleiche chemische Zusammensetzung X haben, so muß die flüssige Legierungszone eine Lösung von X in einem geeigneten Lösungsmittel Y sein. Sowohl X als auch Y können entweder einzelne chemische Elemente oder Mehrkomponenten-Mischungen oder auch Verbindungen sein. Y muß die Fähigkeit haben:
(a) geschmolzene Legierungen XY bei Temperaturen unterhalb
/von
des Schmelzpunktes/A und B unter dem Arbeitsdruck zu bilden;
(b) Y muß unlöslich oder praktisch unlöslich in den Feststoffen A und B sein.
Das Wachstum eines Einkristalls von A auf einem Einkristallkeim der Sorte A auf Kosten der eingesetzten Menge B wird durch die kontrolleirte Wanderung der flüssigen Legierungszone durch den Stab bzw. Barren von A weg in der weiter unten beschriebenen V/eise erreicht.
Nachfolgend werden die Ausführungsarten der Erfindung in
009816/U23
beispielhaft und unter Bezugnahme auf die angefügten Zeich-. nungen beschrieben, in denen
Fig. 1 schematisch eine Anordnung zur Herstellung von einkristallinem Material zeigt;
Pig. 2 ist eine Isobare Fläche des Phasendiagramms einer hypothetischen binären Legierung XY;
Fig. 3 ist eine graphische Darstellung der Konzentration von Y in der flüssigen Legierungszone, aufgetragen über die Dicke der Zone; und
Fig. 4 veranschaulicht das erfindungsgemäße Verfahren.
In Fig. 1 besteht ein Stab oder Barren 1 aus einem Keim 2 eines Materials A, der von einer eingesetzten Menge 3 eines Materials B durch eine Zwischenschicht (oder "Sandwich") 5 einer Legierung getrennt ist, die bei Durchführungstemperatur und -druck des Verfahrens flüssig ist. Die Materialien A und B sind fest. Die Legierungszwischenschicht 5 besteht aus einer schmalen Legierungszone, die, wie weiter unten beschrieben ist, dazu gebracht wird, in Richtung des Pfeiles 7 zu wandern. Zwei unterschiedliche Ausführungsarten der Erfindung sollen betrachtet werden.
Bei der ersten Ausführungsart wird der Stab bei einer bestimmten einheitlichen Temperatur und einheitlichem Druck gehalten, in der Weise, daß A die thermodynamisch stabile Phase ist und daß eine gewisse Mischung von X und Y, die die schmale
009816/U23
Legierungszone bildet, geschmolzen ist. laut Definition ist das chemische Potential von A geringer als das von B. für eine ebene Grenzschicht fest/flüssig existiert dann ein Gradient d'es chemischen Potentials mit einem mittleren Wert von ( /U. - /Utj)/Ii quer durch die schmale flüssige Legierungszone, wobei /U. und /U-n die chemische Potentiale der Materialien A und B sind und L die Dicke der Zone senkrecht zur Grenzschicht fest/flüssig ist. Der Gradient des chemischen Potentials bewirkt eine Wanderung -der Zone vom Kristallkeim fort. Die Geschwindigkeit der Zone nimmt also mit abnehmender Zonendicke zu und in der Praxis wird die Zonendicke zur Erreichung einer angemessenen Geschwindigkeit genügend gering gemacht. Im all-
-2 —5 gemeinen wird L im Bereich von 10 bis 10 cm liegen.
Bei der zweiten Ausführungsart sind A und B verschiedene polymorphe Formen der gleichen Substanz und das bezugnehmend auf die erste Ausführungsart beschriebene Verfahren führt zum Wachstum derjenigen potymorphen Form, die bei Arbeitstemperatur und -druck dfe thermodynamisch stabile ist. Durch Aufprägen einer anderen thermodynamischen treibenden Kraft von außen her, die (/UA - /11B)*■ entgegenwirkt und überkompensiert, ist es jedoch möglich, die metastabile Phase B auf Kosten der stabilen Phase Λ wachsen zu lassen.
Geeignete äußere treibende Kräfte sind ein elektrischer Strom (wie in der Besohreibung der brit. Patentanmeldung
009816/U23
Nr. 19 029/63 beschrieben) oder ein Temperatur- oder Drucfegradient. Es wird angenommen, daß die metastabile Phase B sich nicht spontan in die stabile Phase A umwandelt.
Das Prinzip dieser Ausführungsart wird nachfolgend bezugnehmend auf Pig. 2 beschrieben, die eine iaobare Fläche des Phasendiagramms einer hypothetischen binären Legierung XY zeigt. Die zu kristallisierende Substanz exietiert in zwei polymorphen Formen A und B und die Übergangstemperatur zwischen den beiden Formen ist T . Die Flüssigkeit Y löst X, ist aber selbst praktisch unlöslich in dem Feststoff X. Die liquidus-Kurve 9 hat bei der Übergangstemperatur TQ eine Diskontinuität in der Neigung· Die Neigungen der beiden Teilgebiete der liquidus-Kurve 9 sind mit m. und m-g bezeichnet. Betrachtet sei ein Experiment, bei dem A die stabile Phase ist, für das also der Α-stabile Bereich des Phasendiagramms gültig ist; zur Bestimmung der Bedingungen für das metastabile Gleichgewicht zwischen B und der flüssigen Phase wird die liquidus-Kurve von B in den stabilen Zustandsbe« reich der Phase A hinein extrapoliert (11).
Es sei zunächst das vorstehende Beispiel 1 (isothermes Wachstum) betrachtet, bei dem die Zwischenschicht eine Temperatur T aufweist. Venn zunächst die Konzentration von Y in der flüssigen legierungszone C ist, so ist die Flüssigkeit hinsichtlich der festen Phase A unterkühlt bzw. übersättigt und hinsiohtlich der festen Phase B überhitzt bzw. untersättigt. An
009816/1423 bad original
- m- ■■ ■
der .Grenzschicht A/flüssige Phase tritt daher Ausscheidung auf, d.h. "die Grenzschicht erstarrt" und die Grenzschicht B/flüssige Phase löst sich auf, his die Konzentration in der flüssigen Zone an der Grenzschicht A/flüssige Phase die Konzentration C. und an der Grenzschicht B/flüssige Phase die Konzentration CL· erreicht hat. Dieser Zustnad wird in Mg. 3 wiedergegeben, bei der die Konzentration gegen den Abstand quer durch die Zone aufgetragen ist. Beide Grenzschichten befinden sich nun in einem lokalen Gleichgewicht. Das ist jedoch kein Gleichgewicht des gesamten Systems, da eine Diffusion durch die flüssige Zone, bedingt durch den Konzentratioregradienten mit einem mittleren Wert von (C^ - C-g)/L, stattfinden wird. Eine ständige Überführung von Y quer durch die Zone von der Grenzschicht A/flüssige Phase zur Gdsnzschicht B/flüssige Phase hin, tritt dabei auf und die Zone bewegt sich längst des Stabes von dem Keimende weg.
Wenn nun ein elektrischer Gleichstrom in Achsrichtung mit einer solchen Polung durch die Zwischen- bzw. "Sandwich"-Schicht geschickt wird, daß eine differentielle Wanderung von Y-Ionen in Richtung der Grenzschicht A/flüssige Phase erzeugt wird, so hält bei einer bestimmten Stromstärke die auf die Y-Ionen einwirkende elektrostatische Kraft der "Diffusionskraft11 die Waage unc|der Konzentrationsgradient (C. - C-g)/L ist dann stabilisiert und es findet keine Zonen-Wanderung statt. Bin darüber hinaus ' erhöhter Strom führt zu einer ständigen Überführung von Y j
009816/U23
_r_ 15AA226
durch die Zone von der Grenzschicht B/flüssige Phase zur Grenzschicht A/flüssige Phase losgelöst vom Konzentrationsgradienten und die Phase B wächst dann auf Kosten von A. Wenn analog ein Temperaturgradient in der Zone aufgebracht wird, in der Weise, daß die Temperaturen an den Grenzschichten A/flüssige Phase bzw. B/flüssige Phase T^ bzw. T„ sind, so sind beide Grenzschichten bei der Konzentration C im Gleichgewicht. In diesem Fall existiert kein Konzentrationsgradient und die Zone bleibt stationär. Die Anwendung eines steileren Temperaturgradienten erzeugt einen Konzentrationsgradienten im entgegengesetzten Sinn (0-g > Ga) und die Zone bewegt sich in entgegengesetzter Richtung, d.h. L ■-gehst auf Kosten von A.
Die Wanderungsrichtung der Zone wird also durch das Vorzeichen der Differenz von entgegenwirkenden thermodynamischen Kräften bestimmt.
Man kann annehmen, daß bei der zweiten Ausführungsart, bei der die instabile Phase auf Kosten der stabilen Phase wächst, in der Schmelze kein Gradient konstitutionaler Unterkühlung für die Ausscheidung an der Grenzschicht existiert. Die Abwesenheit eines Gradienten konstitutionaler Unterkühlung ist ein sehr bedeutender Faktor, der zur Homogenität und Vollkommenheit der naoh irgendeinem Prozeß gezüchteten Kristalle beiträgt.
009816/U23
15U226
Um den Druck, bei dem der Wachstunfbrozeß stattfindet, zu regeln oder zu kontrollieren, kann der Stab 1 in irgendeinen druck-kontrollierten Raum gebracht werden, beispielsweise in eine Druckbombe.
Die Orientierung der Oberfläche des Kristallkeims A, die mit der flüssigen Legierung in Berührung steht, kann einen bedeutenden Einfluß auf die mikroskopisohe Vollkommenheit des Einkristalls eines bestimmten Materials haben. Beispielsweise kann es für bestimmte kubische, im Diamantgitter kristallisierende Halbleiter unter bestimmten Bedingungen Wünschenwert sein, der Oberfläche eine Orientierung in der ^11 ij -Ebene zu geben.
Nachfolgend wird als Beispiel ein Verfahren zur Züchtung von oc-(grauem) Zinn aus /3 -(weißem) Zinn anhand von Pig. 4 beschrieben! Ein Einkristallkeim 11 von oo -Zinn ist auf einen gekühlten Block 13 aufgesetzt; ein Block (oder Zylinder) 15 von β -Zinn ist über dem oberen Ende des Keimes 11 angeordnet, aber von diesem durch einen dünnen FiIm 17 aus flüssigem, mit Zinn gesättigtem Quecksilber getrennt. Die Oberflächenspannungs kräfte hindern den Block 15 an der direkten Berührung des Keimes 11. Der dünne Flüssigkeitsfilm 17 muß beide Oberflächen, und zwar die dee Keimes 11 und die des Blockes 15* vollständig benetzen· Es kann auch eine andere Anordnung engewendet werden» "bei der der Block 15 und der Keim 11 •fchysikaliaoh11 duroh einen dünnen Glimmer-Kreisring voneinander getrennt sind (gemäß der
009816/U23
Beschreibung der brit. Patentanmeldung Nr. 19 029/63). Es ist wünschenswert, daß die in Kontakt mit der Flüssigkeit stehende Oberfläche des Keimes 11 eine -Tl 11j -Ebene ist und daß das
Wachstum in ^111^-Richtung forschreitet. Das Wachstum von
-Ot-Zinn findet statt, während sich das B -Zinn in dem quecksilberreichen flüssigen Film 17 auflöst und durch den Film hindurch diffundiert und schließlich an der Oberfläche des Kristallkeimes 11 auskristallisiert.
Das Wachstum von OC-Zinn wird nach irgendeiner der beiden weiter oben beschriebenen Ausführungsarten der Erfindung
erreicht.
Im ersten Fall wird das gesamte System bei der Temperatur des gekühlten Blockes 13 gehalten (beispielsweise indem man
es in eine Kühlapparatur bringt). Diese Temperatur muß unterhalb von -8 C liegen und ihr optimaler Wert liegt in der
Gegend von -2O0C.
Im zweiten Fall wird ein ständiger (Temperaturgradient in Achsrichtung am System aufgebracht durch Erwärmung des Blockes 15 mit Hilfe eines schwachen (nicht gezeigten) Heizers von oben her. Die optimale mittlere Temperatur des flüssigen Filmes muß nicht die im ersten Falle angewandte Temperatur sein und sie muß experimentell bestimmt werdeni sie wird jedoch im Bereich von -2O0O bis +2O0O liegen.
Die gesamte Anordnung wird von einem geeigneten inerten Gas«
umgeben oder befindet eioh im Vakuum.
09816/U23 )

Claims (4)

'%' '. 154A226 Patentansprüche
1. Verfahren zur Züchtung eines homogenen Einkristalls eines ersten Materials auf einem Kristallkeim des ersten Materials aus einer eingesetzten Menge eines zweiten Materials der gleichen chemischen Zusammensetzung wie das erste Material, das jedoch strukturell davon verschieden ist, dadurch gekennzeichnet , daß eine schmale flüssige Le gie rungs ζ one zwischen die "beiden Materialien gebracht und üurch das zweite Material hindurch "bewegt wird, wobei die Wanderung der flüssigen Legierungszone durch die Differenz zwischen den chemischen Potentialen des ersten und des zweiten Materials unter den umgebenden Bedingungen veranlaßt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Material strukturell vom ersten Material abweicht in der Weise, daß es eine davon abweichende polymorphe Form aufweist»
3· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Material strukturell vom erstan Material abweicht, in der Weise, daß es einem höheren Energie zustand auf G-rund von Kristallstörungen entspricht (more highly strained).
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Differenz zwischen den chemischen Potentialen des ersten und des zweiten Materials durch von außen aufgebrachte zusätzliche thermodynaraische treibende Kräfte hervorgerufen wird«
Q09816/U23
DE19651544226 1964-03-31 1965-03-31 Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Material Pending DE1544226A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB13164/64A GB1095143A (en) 1964-03-31 1964-03-31 Improvements in or relating to the production of single crystal material

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1544226A1 true DE1544226A1 (de) 1970-04-16

Family

ID=10018042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19651544226 Pending DE1544226A1 (de) 1964-03-31 1965-03-31 Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Material

Country Status (4)

Country Link
US (2) US3460998A (de)
DE (1) DE1544226A1 (de)
GB (1) GB1095143A (de)
NL (1) NL6504083A (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3771970A (en) * 1970-02-02 1973-11-13 Tyco Laboratories Inc Method of producing cadmium telluride crystals
US4381598A (en) * 1981-06-11 1983-05-03 General Electric Company Method of making anode and cathode connections for electromigration
US5074952A (en) * 1987-11-13 1991-12-24 Kopin Corporation Zone-melt recrystallization method and apparatus
JP4701738B2 (ja) * 2005-02-17 2011-06-15 株式会社Sumco 単結晶の引上げ方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2813048A (en) * 1954-06-24 1957-11-12 Bell Telephone Labor Inc Temperature gradient zone-melting
US2932562A (en) * 1956-12-27 1960-04-12 Bell Telephone Labor Inc Zone-melting with joule heat
GB1034503A (en) * 1963-05-14 1966-06-29 Nat Res Dev Improvements in or relating to the production of crystalline material

Also Published As

Publication number Publication date
NL6504083A (de) 1965-10-01
US3546027A (en) 1970-12-08
US3460998A (en) 1969-08-12
GB1095143A (en) 1967-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE944209C (de) Verfahren zur Herstellung von Halbleiterkoerpern
EP1739210B1 (de) Verfahren zur Herstellung von dotierten Halbleiter-Einkristallen, und III-V-Halbleiter-Einkristall
DE1034772B (de) Verfahren zum Ziehen von spannungsfreien Einkristallen fast konstanter Aktivatorkonzentration aus einer Halbleiterschmelze
DE1135671B (de) Verfahren zum Herstellen eines pn-UEbergangs und/oder eines Gradienten eines elektrisch wirksamen Elements in einem Halbleiterkristall
AT398582B (de) Verfahren zur kristallzüchtung
DE68907184T2 (de) Verfahren zur zuechtung von kristallen und tiegel dafuer.
DE1282602B (de) Verfahren zur Herstellung von eine oder mehrere Hohlkehlen aufweisenden Zwillingskristallen in einer Schmelze
DE2161072C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer Halbleiterverbindung und Schiffchen zur Durchführung dieses Verfahrens
DE1544226A1 (de) Verfahren zur Herstellung von einkristallinem Material
DE1298085B (de) Verfahren zur Herstellung von Einkristallen hoher Kristallguete durch Zonenschmelzen
DE2425747B2 (de) Verfahren zum herstellen epitaktischer schichten auf einem substrat mittels fluessigphasen-epitaxie
DE2346399A1 (de) Verfahren zum zuechten von epitaxialschichten
DE2038875A1 (de) Verfahren zur Herstellung gewachsener Mischkristalle
DE2152801A1 (de) Verfahren und Ofen zum Ziehen von Kristallen gleichförmiger Zusammensetzung nach dem Czochralski-Verfahren
DE2728771C2 (de) Verfahren zur epitaktischen Ablagerung einer Schicht aus Verbindungshalbleitermaterial
DE3785638T2 (de) Verfahren zur Züchtung von Kristallen aus Halbleiterverbindungen.
DE2535160C3 (de) Vorrichtung zum epitaktischen Züchten einer Kristallschicht auf einem Halbleitersubstrat
DE68912686T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer Halbleiter-Verbindung.
DE2541140A1 (de) Isothermisches aufwachsen von einzelwanddomaenen-granatfilmen
DE2135539C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Abtrennen einer Substanz
DE2025376C3 (de) Einkristall-Züchtungsverfahren für Bariumnatriumniobat und verwandte Verbindungen
DE967930C (de) Halbleiter mit P-N-Schicht und Verfahren zu seiner Herstellung
DE4310612C1 (de) Flüssigphasen-Heteroepitaxieverfahren
DE2221574A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls
DE1920787A1 (de) Verfahren zum Zuechten eines Einkristalls