DE151399C

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Publication number: DE151399C
Application number: DENDAT151399D
Authority: DE

Description

KAISERLICHES

PATENTAMT.

PATENTSCHRIFT

-M 151399 KLASSE 57d.

mit stetig gekrümmten Umrissen.

Patentiert im Deutschen Reiche vom 25. Januar 1902 ab.

Den Gegenstand vorliegender Erfindung bildet ein Verfahren zur Umwandlung von Mustern mit glatten Umrissen in solche mit abgetreppten. Dieses neue Verfahren kann z. B. bei der Herstellung von Webpatronen für Jacquardstühle angewendet werden. Man benutzt hierzu eine durchlochte, einem Raster ähnliche Platte.

Es ist bereits versucht worden, solche

ίο Platten zur Herstellung von Webpatronen zu benutzen; so ist z. B. durch die deutsche Patentschrift 109097, Kl. 86, ein Verfahren zur Herstellung von Webpatronen bekannt geworden, welches nichts anderes enthält als eine Anwendung des bei der Autotypie üblichen Verfahrens zur Zerlegung eines Bildes in Rasterelemente auf die Herstellung von Webpatronen. Beim Verfahren dieser Patentschrift bedient man sich eines Objektivs, in dessen Innerem eine rechteckige oder quadratische Blende derart angeordnet ist, daß die den verschiedenen Punkten des Musters entsprechenden Strahlenbündel rechteckige oder quadratische Querschnitte aufweisen. Die durchlochte Platte bringt man vor das lichtempfindliche Papier und projiziert das wiederzugebende Muster mit dem Objektiv durch die Platte hindurch auf das Papier. Jeder Durchlochung der Platte entspricht dann auf dem empfindlichen Papier ein Quadrat oder ein Rechteck, und die Gesamtheit dieser geometrischen Figuren ergibt das Muster, welches auf die Webpatrone zu übertragen war, in abgetreppten Umgrenzungslinien. Zur Ausführung dieses Verfahrens genügt daher die durchlochte Platte allein nicht, es ist vielmehr noch ein Objektiv erforderlich.

A^orliegende Erfindung bezweckt nun, die Anwendung des Objektivs entbehrlich zu machen. Zu diesem Zweck wird das wiederzugebende Muster direkt auf die Lochplatte gelegt, so daß es nach Art der Kontaktkopie kopiert wird.

An Hand der beiliegenden Zeichnung soll das Verfahren näher erläutert werden.

Es sei in Fig. 1: α die Lochplatte mit den Löchern b, und c die lichtempfindliche Platte. Bringt man nun vor die Platte a einen belichteten Spalt d, so wird eine jede der Öffnungen b wie ein Objektiv wirken und in d¹ d² ein Bild des Spaltes entwerfen. Wird die Entfernung d von der Platte α beliebig gewählt, so werden im allgemeinen zwei aufeinander folgende Öffnungen b Bilder d¹ dP entwerfen, die übereinander fallen (Fig. 1 und 2). Bei passender Wahl der Abmessungen kann man aber erreichen, daß sie aneinander grenzen (Fig. 3 und 4).

Legt man nun bei dieser Stellung auf die Lochplatte ein durchsichtiges Bild des wiederzugebenden Musters, z. B. ein Filmpositiv, so wird dieses einen Teil der Öffnungen verdecken und andere freigeben. Man wird also auf der lichtempfindlichen Platte ein Bild des Musters erhalten, dessen Umrisse bei Anwendung einer quadratischen Spaltöffnung

nach scharfen Quadraten, also abgetreppt, verlaufen. Soll die Wiedergabe vollkommen sein, so muß der Spalt ohne Rücksicht auf den Wert des Einfallwinkels gleichmäßig belichtet sein. Trägt man nicht dafür Sorge, so entstehen Unregelmäßigkeiten in den auf dem Pauspapier erscheinenden Quadraten. Das Licht muß demnach hinter dem Spalt gleichmäßig verteilt sein. Bei der praktischen

ίο Ausführung werden Muster und Platte a in einen Rahmen gesteckt, der dem Spalt zugekehrt wird. Man bewegt dann den Rahmen vor einer an Stelle der lichtempfindlichen Platte gesetzten Einstellfläche von Pauspapier oder dergl. so lange von dem Spalt weg, bis die entworfenen Bilder genau aneinander anschließende Elementarquadrate aufweisen. Dann läßt man an Stelle des Pauspapieres eine lichtempfindliche Platte treten. Durch Belichtung dieser Platte erhält man ein Negativ des abgetreppten Musters, von dem man ein Positiv in der gewünschten Vergrößerung anfertigen kann.

Bei Anwendung des Verfahrens auf Stickereimuster wird die Vergrößerung auf empfindlich gemachtem karriertem Papier ausgeführt und der Maßstab so gewählt, daß die Elemente des nach dem Verfahren erzielten Bildes sich mit denen des Papieres decken.

Soll eine Patrone für ein Gewebe angefertigt werden, so bringt man die Bindungspunkte zweckmäßig schon auf dem Muster an, ohne daß man dabei die Umrisse abtreppt. Man begnügt sich vielmehr damit, die innere Bindung aufzuzeichnen, indem man jedoch dafür sorgt, daß der Maßstab der Bindung mit dem der Lochplatte übereinstimmt.

Man legt dann die mit den Bindungspunkten versehene Musterplatte mit den Bildseiten auf die Lochplatte a, daß Bindungspunkte und Löcher sich decken.

Die undurchsichtigen Bindungspunkte verdecken dann die ihnen entsprechenden Löcher der Lochplatte.

Legt man nun beide Platten in den bereits erwähnten Rahmen und belichtet hierauf mit gleichmäßig verteiltem Licht, so erhält man auf einer empfindlichen Platte, welche sich hinter der Lochplatte befindet, ein negatives Bild, das Muster und Bindung zugleich in Form eines Systems von quadratischen EIementarfeldcrn erhält.

Von diesem Negativ wird hierauf ein Positiv in der gewünschten Vergrößerung auf lichtempfindlichem karriertem Papier angcfertigt.

Claims

Patent-Anspruch :

Verfahren zur Herstellung von Mustern mit abgetreppten Umrissen aus solchen mit stetig gekrümmten Umrissen durch gleichzeitige Erzeugung eines photograpjiischen Bildes des Musters und eines durch eine rasterartige Lochplatte aufgenommenen Systems von photographischen Bildern einer rechteckigen Blendenöffnung, dadurch gekennzeichnet, daß bei der photographischen Aufnahme Muster und Lochplatte aufeinander gelegt werden.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen.