DE1496902A1

DE1496902A1 - Verfahren zur Herstellung von Plattierungen auf aktiven Grundmetallen

Info

Publication number: DE1496902A1
Application number: DE1964M0061934
Authority: DE
Inventors: Jongkind Jan Cornelis; Gowman Lawrence Paul
Original assignee: M&T Chemicals Inc
Current assignee: M&T Chemicals Inc
Priority date: 1964-01-20
Filing date: 1964-07-30
Publication date: 1969-08-14
Also published as: DE1496902C3; NL6408935A; SE327607B; DE1496902B2; NL148946B; GB1080291A; CH465354A

Description

DIP' -- Vn.oHR 1N5

DtPLMiiö.'C. 3TJ^QER ^LLilRSTR.31

M 19774 Ör.P/hr Case 487

Dr, Expl j

Beschreibung zur Patentanmeldung der

Firraa MST CHEMICALS IWC₉ New York„ Ν,Υ_Λ /V₀ St₀ Amerika

betreffend

"Verfahren zur Herstellung von Plattierungen auf aktiven

Grandstetellen'*

PRIORITÄT? 20,-Januar 1964 - Ü S A Mr· 338 607

Die vorliegende ErfinduHg bezieht sich auf die Plattierung von aktiven Grundmetslien^wie beispielsweise Aluiainium₀

Es ist bekannt, daß schon viele Versuche unternommen worden sind, um aktive Grundmetalle, wie Aluminium, Magnesium, Zink, Titan, Blei und deren Legierungen mit Plattierungen aus anderen Metallen ;, wie Zinn, Kupfer,· Nickel, Chrom und dergleichen zu versehen, um so ein Produkt zu erhalten, das die Vorteile des aktiven Grundmetalles mit denjenigen der Plat" tierung besitztο Keiner der bisher durchgeführten Versuche sind vollständig erfolgreich gewesen und den gemäß werden

9 0 9 8 3 3 /10 5 3 ^BAD original

aktive Grundraetalle, wie Aluminium„häufig ohne irgendeine Oberflächenbehandlung oder gewöhnlich nacft Anodisieren verwendet.

Gemäß der vorliegenden Erfindung wird nunmehr ein Verfahren vorgeschlagen, wodurch ein Plattierungsmetall auf die Oberfläche eines aktiven Grtindmstalles aufgebracht wird, und zwar wird hierbei das aktive Grundmetali mit einem Aktivierungs= bad in Berührung gebracht, das ein lösliches SaIs eines Plattierungsaetalles enthält, das edler ist als das Grundmetalls, wodurch dieses aktiviert wird und worauf dann das mit der aktivierten Oberfläche versehene Grundmetall aus diesem Bad entfernt und in ein Bad zur Herstellung einer dünnen Elektrölyseabscheidursg (Strike bath) eingebracht wird_B das Ira folgenden als Eiektrolysebad bezeichnet wird und das (a) ein Plattierungsraetall in inv wesentlichen der gleichen Konzentration wie in dsm Aktivierungsbad und (b) ein HiIfs^ plattiei'ungstaetail enthält₃ wodurch aus diesem Elektroiysebad auf dem Grundssetall eine Plattierung aufgebracht wird_a welche das Piattierungsraetall und das HilfsplsttierungSKetail ent·= hält.

Das aktive Grundraetall, welches durch das vorliegende Verfahren verarbeitet werden kann, kann diejenigen Metalle einschHessen, welche ein positives Elektrodenpotential (gemäß Seite 1740 der 44 ο Aufläge des Handbook of Chemistry and Physics) von weniger als 2,37 Volt aufweisen und die aus Megnesium, Aluminium, Beryllium,, Uran, Mangan, Titan, Tellur,

, #09 8 33/1OS3

BADOHlGlNÄg -

Zink,Chrom, Eisen, Cadmium, Indium, Thallium, Kobalt, Nickel, Molybdän, Zinn, Blei usw. bestehen.Das vorliegende Verfahren ist besonders brauchbar zur Herstellung von Plattierungen auf Aluminium und Magnesium, die entweder in reiner Form oder als Legierungen vorliegen» Andere Legierungen, auf denen eine Plattierung abgeschieden werden kann, sind Zinn«Blei (Pewter), Zink-Zinn, Zink-Kupfer, Kupfer-Zinn, Zink-Nickel usw.

Ein besonderes Merkmal der Erfindung besteht darin, daß auf Gründetet al lon, wie Aluminium, einschließlich Aluainiumlegierungen.der verschiedensten Art, Plattierungen hergestelIt* werden können,, Solche Aluminiumiegierungen können beispielsweise diejenigen sein» die verschiedene Anteile an anderen Metallen, wie Kupfer, Chrom, Zink, Nickel, Magnesium, Silicium und Mangan enthalten« Bine typische Aluminiumlegierung ist eine solche, die im Handel als Aluminiumlegierung Nr₁ 1100 zur Verfügung steht und die 99 % Aluminium enthält,. Eine weitere typische Aluminiumlegierung ist die Aluminium» legierung Nr „ 5O52_t welche folgende Zusammensetzung besitztt

Aluminium 97,25 I Magnesium 2,5 V

Chrom 0,25 %

Andere Aluminiumlegierungen sind folgende:

909833/1053

-4

Nr, 356 Aluminium Silicium Magnesium

Nr_v 2024 Aluminium Magnesium Chroa

Kupfer Eisen

Silicium Mangan

Zink 0,25 t

360

92,7	t
7,0	I
0,3	I
92,05	I
1,5	t
0,1	I
4,5	t
0,5	I
0,5	t
0,6	t

Aluminium 90,0 !

Silicium 9,5 t

Magnesium 0,5 I

Bei der praktischen Durchführung des Verfahrens wird das aktive Grundstetall, wie Aluminium, das plattiert werden soll_s vorzugsweise vorher gereinigt. Zu diesem Zweck wird das Grundmetall, beispielsweise Aluminium, einer Dampfentfettungs behandlung, beispielsweise mit Trichlorethylen, unterworfene Das Metall kann dann vorzugsweise weiter mit einen alkali« sehen Reinigungsmittel gereinigt werden, indem dieses in eine 1 bis S !ige, beispielsweise 3 tige wäßrige Lösung von Natriumhydroxid, Natriuraorthophosphat„ Natriumcarbonat u.dgl..

909833/1053

BAD ORIGINAL⁵

oder Mischungen dieser Verbindungen eingetaucht wird*

Das Metall kann weiter durch Behandlung rait einer Säure gereinigt werden.« Dies erfolgt zweckmässig durch Eintauchen in eine Lösung, die vorzugsweise mindestens eine der Säuren enthält, welche ausgewählt werden aus der Gruppe von Salpeter säure und Fluorwasserstoffsäure» Vorzugsweise kann die Lösung 5 bis SO I, beispielsweise 20 Gew.-%,Säure enthalten,Vorzugsweise wird eine 20 ti ige Salpetersäure verwendet. Wenn das aktive Grundmetall unlösliche Salxe mit den üblichen Säuren bildet, so kann die Säurelösung Säuren enthalten, welche keine unlösliche Salze bilden und so kann beispielsweise Fluorborsäure verwendet werden, wenn das Metall aus Blei be» steht» Das Metall kann in der Säure 10 bos 120 Sekunden, beispielsweise 30 Sekunden_sgehalten werden.,

Vorzugswaise wird das Metall nach dem Eintauchen in die Säure rait Wasser gespült, um die an der Oberfläche verbleibende Säure zu entfernen, Das Spülen wit Wasser kann dadurch erfol» gen j, daß das Metall 5 bis 3 Minuten lang«, beispielsweise Minute„ in einen entsprechenden Wasserbehälter eingetaucht

Bei der Durchführung des Verfahrens gemäß der Erfindung kann das aktive Grundmetall durch Berührung mit einem Aktivierungsbad, das ein lösliches Salz eines Plattierungsraetalles ent» hält, welches edler ist, als das Grundmetalls aktiviert werden,

BAD ORIGINAL 909833/1Ό 83

Diejenigen Metalle der elektrischen Spannungsreihe _β welche unterhalb des zu plattierenden aktiven Gfundmetalles liegen, können für dia Beschreibung des vorliegenden Verfahrens als edlere Metalle bezeichnet werden. In der folgenden Tabelle sind als Beispiele einige aktive Grundmetalle und die darauf anzubringenden Plattierungsmetalle angegeben:

Tabelle I

Grcmdmetall

Plattierungsraetall

Magnesium

Aluminium

Zink

Zinn Kupfer Zink Cadaiuaj Zinn
Kupfer Zink Nickel Kupfer Zinn Nickel Silber Zinn Kupfer Silber

909833/1053

BAD ORIGINAL

Vorzugsweise kann das Plattierungsraetall in dem Aktivierungsbad in Form eines löslichen Salzes, beispielsweise von Stannaten, wie Natriuiastannat, Cyaniden, wie Kupfercyanid, Cadraiuacyanid, Zinkcyanid und Silbercyanid» Zinkaten, wie Natriumzinkat, Sulfaten,wie Nickelsulfat, Nitraten, wie Silber* nitrat usw. vorliegen. Das Aktivierungsbad kann ein alkalisches

v-

Bad, wie z.B. Kupfercyanidbad oder ein saures Bad, wie z.B, ein Stannochloridbad sein»

Wenn das durch den Gegenstand der Erfindung zu behandelnde aktive Grundnetall aus Aluminium oder Zink besteht, das »it einer Plattierung aus Kupfer»Zinn versehen werden soll, so kann das Aluainium- oder Zinkmetall dadurch, aktiviert werden, daß es «it einer Lösung von Natrium- oder Kaliurastannat in Berührung gebracht wird. Dies kann vorzugsweise dadurch erfolgen, daß das gereinigte Aluminium- oder Zinkmetall in eine Lösung von Kaliuastannat eingetaucht wird, die einen Zinngehalt von 10 bis 70 g/l, beispielsweise 40 g/l, besitzt. Das Eintauchen kann sich über S bis 300 Sekunden oder länger erstrecken und beispielsweise 30 Sekunden betragen. Die Lösung wird bein Eintauchen des Metalls auf einer Temperatur von 1S bis SS⁰C, beispielsweise 32°C, gehalten.

Die aktivierenden Stannatbäder, welche gemfiß der Erfindung verwendet werden können, können freies Hydroxyd, beispielsweise Kaliumhydroxyd,in einer Menge von Q,bis 3,5 g/l, Vorzugs-

9 0 98 3 3 / 1 0 8 3 ^BAD ^OmnmAt - 8 -

weise 1,5 g/l₈ ausgedrückt als Äquivalentmenge an Kaliumhydroxyd enthalten.

Die aktivierende Stannatlösung kann auch noch O bis 25 g/l, beispielsweise 10 g/l eines Zusatzmittels enthaltene Diese Zusatznittel können aus Polyhydroxycarbonsäuren, einschließlich Salzen derselben oder Versenen bestehen., Typische Polyhydroxysäuren sind Gluconsäure, Glucohepton-(d.h„Hepto-W glucon-)säure, Sacharinsäure u.dgl. bestehen. Typische Versene sind Athylendiamintetraessigsäure, N,N-bis(HydroxyÄthyl-)-glycin u,dgl₀ Diese Zusatzstoffe werden vorzugsweise angewendet, wenn das zu plattierende Metall aus einer Magnesium enthaltenden Aluminiumlegierung, wie' der Legierung 2024, besteht. Wenn eine derartige Legierung plattiert werden SOlI₅ so besteht der Zusatzstoff vorzugsweise aus Gluconsäure (wie Natriumgluconat),

Beim Eintauchen in das beispielsweise aus Stannat bestehende Aktivierungsbad wird die Oberflache des Metalles aktivierte Nachdem das Grandeetall durch Berührung Bit dem Aktivierungsbad etwa S bis 120 Sekunden lang aktiviert worden ist, wird es aus diesem entfernt und in das Elektrolysebad eingebracht, das (a) Plattierungsmetal!ionen in im wesentlichen dergleichen Konrentration wie in dem Aktivierungsbad und (b) Ionen eines Hilfsplattierungsnetalles enthält·

Wenn das Plattierungsmetall eines der in Spalte 1 der folgenden Tabelle II aufgeführten Metalles ist, so beträgt die

■ ' λ 9 0 9833/1053

bad original- 9 -

Konzentration dieses Metalles in dem Aktivierungsbad und in dem Elektroylsebad die in der Spalte 2 dieser Tabelle angegebene Mengeο

Tabelle II	Plattierungsraetall	Bad g/l
Zinn (aus Stammt)	10 -■ 70
Kupfer (aus Cyanid)	10 » 100
Zink (aus Cyanid)	10 - 80
Cadmium (aus Cyanid)	12 - 25
Nickel (aus Pyrophosphat)	5 - 20
Silber (aus Cyanid)	5 - 20

Vorzugsweise liegt die Konzentration des Plattierungsmetailes in dem Elektrolysebad etwa in den gleichen Bareich₉wie die Konzentration in dein Aktivierungsbaden und vorzugsweise sind die Konzentrationen etwa gleiche

Ein wesentliches Merkmal der Erfindung besteht darin, daß das Elektrolysebad ein Hilfsplattierungsmetall enthält, das aus diesem Bad gleichseitig mit dem Plattierungsmetali abgeschieden wird, um eine Legierungsplattierung zu erzeugen« Das bevorzugte Hilfsplattierungsmetall kann ein eine Legierung bildendes Metall, beispielsweise ein solches sein, das mit dem Plattierungsmetali eine Legierung bildet* Typisch© Hilfs« plattierungsmetalle sind in der folgenden Tabelle III aufgeführt:

50 9 833/1063

- 10 -

Tabelle 211

Plattisnsngssjet&ll HiÜfsplattierungsmetall

Zinn

ti

Il

Kupfer

SJ

ti

Zink

Il

It

Cadmium

It

Blei Nickel

It

Silber

ti

It

909833/10S3

Kupfer Zink
Nickel-Cadmium Zink Zinn Nickel Silber Kupfer Zinn
Cadmium Silber Kupfer Zinn Zink Silber Zinn-Kupfer Kupfer Zinn
Silber Gold-Kupfer Nickel Cadmium

BAD ORIGINAL

- 11 -

Wenn das aktive Grundmetall aus Aluminium besteht, das mit einen) Zinn enthaltenden Bad aktiviert worden ist, und zwar durch eine Behandlung Über 5 bis 120 Sekunden, so wird es in das Elektrolysebad eingebracht. Ein Bronzeelektrolysebad kann Kupforcya.iid (CuCN), KaÜumcyanid (KCN)₉ Kaliumstannat (K Sn(OH)₆), Kaliuohydroxyd (KOH) und vorzugsweise Zusatzstoffe, wie Rochellesalze, Gluconate, Versenate usw. enthaltene

Im folgenden sind besonders geeignete Bronzebäder angegeben, und zwar hinsichtlich ihres Gehaltes an (a) Kaliuacuprocyanid (2KCN-CuCN), (b) freiem Kaliumcyanid (KCN), (c)Kaliuastannat (K₂Sn(OH)₆) und (d) Kaliuohydroxyd (KOH). Bin typisches alkalisches Bronzebad kann folgende Zusammensetzung besitzen:

Bestandteil	Menge g/l	Bevorzugte Menge g/l
K₂Sn(OH)₆	25 - 175	90
2KCN ■· CuCN	25 - 100	56
freies KCN	10 - 30	20
KOH	0-5	3
Zusatzstoff: Rochellesalz	15 - 25	20

Ein typisches alkalisches Zinn-Zinkelektrolysebad kann Zink cyanid (Zn(CN)₂, Kaliuacyanid (KCN)₉ Kaliuastannat (K und Kaliumhydroxyd (KOH) enthalten, und zwar in folgenden Mengen:

9 0 9 8 3 3 / 1 0 S 3 ^BAD

- 12

■ 1

Met	ig® g/I	Bevorzugte Menge g/i
25	- 175	90
5	- SO	to
17,5	«so	22,5.
40	- .60	52,5

¹I
KCH

Gin typisches alkalisches Gadaiuaa-SilbssreloktToljrsabad kann CadniuBtoxyd (CdO), Silbercyanid (AgCN) und Natriuncyanid (NaCN) enthalten, und zwar beispielsweise in folgenden Mengen:

Bestandteil	Menge	g/l	Bevorzugte Menge g/i Menge ^ _i ·_
AgCN	5 -	20	12
*CaO*	12 -	25	17
NaCN	45 -	100	60

linn-Niekeieiektrolysebföd kann folgende Zusasn-

g/i

- TI

30 - 60

Bei des· prefctisdieis Onrchffiiirwif- des Verfahrens geisäß der Br-wird das Metall,, belspia-tsweise* Atuiainiwii₉ das in die

:, ·-. ■ ■' -VQO"8833/10i3 bad original «.. 13 -

1496302

Aktivierungslösung eingetaucht worden ist, aus dieser entfernt und in das Elektrolysebad eingebracht.

Bei der bevorzugten Ausführungsfor» kann das Elektrolysebad eine ,-node enthalten, welche ait einer Stromquelle verbunden istβ Vorzugsweise wird das aktivierte Metall, beispielsweise Aluminium, in die Elektrolyselösung als Kathode eingebracht, indem sie mit den .negativen PoL der Stromquelle verbunden wird«

Das Metall kann dann in dem Elektrolysebad mindestens 5 bis 300 Sekunden, beispielsweise 60 Sekunden, bei einer Tempera-* tür von 20 bis 64°Cy beispielsweise 30⁰C₁, verbleiben, wobei die Temperatur von den jeweils angewendeten Elektrolysebad abhängtο Während dieser Zeit kann die Kathodenstroadichte innerhalb des Bereiches sinken, der in der folgenden Tabelle angegeben istί

Kathoden» Bad · stromdichte Temp« C Zeit Sek.

(Arap/da²)

i i ii <ι>ι. i i fciwi ι m ι ■ i-** Kupfer-Zinn 1-15 20 - 65 5 - 300 Zink-Zinn 1,5-3 25-30 60-300 Cadmium-Silber 5-10 25-30 60-300

Wahrend dieser Zeit wird auf der Kathode, d»h, auf dem aktivierten Grundmetall eine Abscheidung der jeweiligen Legierung, beispielsweise von Kupfer-Zinn« Zink-Zinn, Cadmium-Silber usw. erfolgen«. Diese au|pla|tie^rte i*egierungsschicht kann als solche verwendet werden oder sie kann als Unterlage zur Herstellung

BAD

909833/1083

* 14 -

einer weiteren Plattierung dienen. Die Legierungsplattierung ist in jeder Hinsicht einer Plattierungsabscheidung auf anderen Metallen durch die üblichen Verfahren gleichwertig.

Das neue plattierte Produkt gemäß der Erfindung, das aus einen aktiven Grundisetall und einen darauf aufgebrachten Plattierungs· aetall besteht, kann durch ein Verfahren hergestellt werden, bsi den das aktive Grundaetall nit eines Aktivierungsbad in Berührung gebracht wird, das ein lösliches Salz eines Plattierungsiaet alles enthält, welches edler ist, als das Grundiss ta 11 und wodurch dieses aktiviert wird, worauf das Grund« aetall aus dens Bad entfernt wird und es nunmehr eine aktivierte Oberfläche erhalten hat und es darauf in ein Elektrolysebad eingebracht wird, welches (a) ein Plattierungsuetall in in «lesestliehen der gleichen Konzentration wie das Aktivierungs» bad und (b) ein Hilfsplattierungsraetall enthält₀ In diesen Elektrolysebad wird dann durch den elektrischen Stron auf der aktivierten Oberfläche des Grundmetalles eine Plattierung abgeschieden₉ welche das Plattierungsaetsil und das Hiifsplattierungsmetall enthält^

Ein wesentliches Merkmal der Erfindung besteht darin, daß das auf diese Weise hergestellte Produkt aus einer Plattierung besteht, welche ungewöhnlich fest an des Grundnetall haftet· Durch die genau der Erfindung angewendete Eintauchbehandlung kann ein sichtbarer a*la$z oder eine Abscheidung entstehen. -- wobei dieser Belag a^er, auch, nicht sichtbar zu sein braucht.

90 9833/rOSt BAD ORIGINAL

IS -

Gemäß einer bevorzugten Ausführmtgsfona gesali ü&v Erfindung

kann das neiae plattierte Produkt aus einem Alaainiiiiagrund tnetall und einen darauf abgeschiedenen Plattierimgsuetall b©» stehen, das dadurch hergestellt worden ist, dal das Aluminium» grundmetall alt einem Aktivierungsbad in Berührung gebracht wird, das ein lösliches Zinnsalz enthält, wodurch das

Aluttiniua aktiviert wird« Es wird dann aus diese« Bed entfernt

und das Aluminium ist »it «in»? aktivierten Oberfläche vor sehen· Out die aktiven« Oberfläche aufweisende Aluminium wird dann in ein Elektrolysebad eingebracht» welches (&} Zinn in im wesentlichen gleicher Konzentration wie das Aktivierungs·» bad und (b) ein Hilfsplattierungsaetall enthalt, worauf durch

Elektrolyse auf dem Aluminium eine Flattierung abgeschieden

wird ρ die Zinn und das HilfsplattierungsaetaÜ enthält.

Das neue Produkt kann aus Älualniumgrundneteli bestehen, das durch Berührung »it eine« ein lösliches ^innsaiz ξχ·Β·. ein S&annat) enthaltenden Aktivierungsbad 4ktivtinrt trordea ist und auf den dann eine eiektroplattierfce Qbesfllch© v©a. Zitiia einem HilfypIattierunESseetall, s«B. Kupfer₈ ist» Dieses neise Produkt kann in allen gewendet werden, wo Aluminium verwendet wird« Eigenschaft dieses Produktes besteht darin_t deß es ist, wenn die Plattierung beispielsweise .8&5 Zinn-Kupfer, besteht» Wenn beispielsweise ein Stück einer Aliiai&ii§£}I$glerumg Hr. 1100 durch Eintauchen in ein dann darauf durch Eiektroplattl«ru»ft. ®1ηφ

bad ORtQ^^AL 90^83 3/1053

aufgebracht worden ist, so läßt sich dieses mit einem gleichen StQck verlöten« Bei einem Zugfestigkeitsversuch tritt der - Bruch an der Lötstelle auf und nicht an den PlattierungsZonen„ Dieses neue Produkt kann in der gleichen Weise verwendet werden, wie Üblicherweise plattierte Metalle angewendet werden« Gesäß einer weiteren Ausführungsfora der Erfindung kann das die Legierungspiattierung aufweisende Aluainiua noch ait einer weiteren Plattierung von irgendeinen Metall, wie Chroa, " Nickel, Zinn, Kupfer u. dgl. versehen werden.

Die Erfindung ist in den folgenden Beispielen nflher eriftutert, worin sSatliehe Werte for die Stromdichte sich auf die Kathodenstroadichten beziehen. ... . ·

Beispiel .J.

Bine Platte aus einer Altiainiualegiesung Hr* 1100 wurde zu« nächst gereinigt, d„h» ait Daapf entfettet,, in einen alkalisehen Reinigungsaittel gereinigt, «it Wasser gespult, in 20 lige Salpetersflure eingetaucht und nochmals ait Wasser gespült. Di® so gereinigte Platte wurde in eine Aktiviemngslöswig A folgender Zusatsaenststsung eingetaucht ι

■ _ Lösung A_

Bestandteil Menge g/l

10

BAD

Die Platto wurde in der Lösung 30 Sekunden laag bei 25°C gehal» ten, dann daraus entfernt, mit Wasser gespült und in ein Bremselektroiysebad folgender Zusammensetzung eingebracht:

Bestandteil Menge g/l

90 2KCN⁰CuCN 56

■ -

Rochellesalz 20 g

KCN 20 ·

KOH 3

Di© Platte wurde in dem Elektrolysebad 10 Sekunden lang rait eimesa Strom von 1,S kmp/ύϋτ bei 25⁰C eiektrolysievt₉ wobei sich gi«e Bronseplattierung abschied« Die sieh ergebonde Bronze·· abscheidung *s&t fest haftende

Ein anregeiüslssig g©£osOstes Gußstück aus ein^s* rung 360 misrde zunächst gereinigt ₉ und «way disrch Da»pf®ntfettung» Eiittsucheiii in @in alkalisches Reinigungsiaittel und SpüleR in Wasser wie in Beispiel 1 beschrieben. Es mitde dann in.eine Lösung eingetaucht_β welche 25 I Salpetersäure und 25 i FluorwasserstoCfsäure enthielt und nochmals mit Wasser gespült« Das so gereinigte Gußstück wurde dann 30 Sekunden lang in eine Aktiviarungstdsung von 32°C eingetaucht, die in Liter 90 g Kaiiuastannat» 1 g Kaliumhydrosyd und 20 g Katriasagluconat . - .. BAD ORIGINAL·

909833/1013 ₅ . ₁₃ „

enthielt.

Das Gußstück wurde dann in ein Bronzeelektrolysebad folgender Zusammensetzung eingebracht;

Bastandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ SO

k 2KCNtCuCN 56

KOH 3

KCN " 20

Natriumgluconat 20

Das Arbeitsstück wurde 3 Minuten lang bsi 2S°C einen Strom von 1,5 Amp/dra^ ausgesetzt» Das Arbeitsstück erhielt hierdurch eine gut haftende Bronzeplattierung,

Das Arbeitsstück wurde dann in handelsüblichen Bädern elektrp= plattiert und mit einer Auflage von 17₈5 Micron Kupfer und schließlich mit einem Belag von 50 Micron Chrom versehen« Das sich ergebende chroraplattierte Aluminiumstück war in jeder , Hinsicht befriedigend«,

Ein Zinkspritzgußteil wurde mit Osapf entfettet_B in einen alkalischen Reinigungsmittel gereinigt, in W&ssas* gespült, in 2 lige Schwefelsäure eingetaucht uns nochmals mit lasser gespült» Das so gereinigte Gußstück wurde in eine-

908833/10S3

BAD ORIGINAL _ _{19 β}

- 19 -lösung folgender Zusammensetzung getaucht:

Bestandteil Menge g/i

2KCM«CuCN 60

KCN 10

KOH 3

Rochellesalze 20

Das Gußstück wurde in dieser Lösung IS Sekunden lang bei 32⁰C gehalten und dann in ein Bronzeelektrolysebad folgender Zusammensetzung eingetaucht:

Bestandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ 90

S6

KCN * 20

KOH 3

Rochellesalze 20

Das Gußstück wurde in diesen Elektrolysebad bei 32⁰C 3 Minuten lang unter eines Stroa von 3 Aap/ds² gehalten« Di® sich erge« bende Bronzeabscheidung besaß ein ausgezeichnetes Aussehen eine gute Haftung.

BAD ORIGINAL
909833710S3

Beispiel 4

Eine Platte aus einer Aluminiumlegierung Nr. 1100 wurde durch Dampf entfettet, in einem alkalischen Reinigungsmittel gereinigt, mit Wasser gespült, in 20 tige Salpetersäure eingetaucht und nochmals mit Wasser gespult« Die so gereinigte Platte wurde dann in eine Lösung folgender Zusammensetzung eingetaucht!

Bestandteil Menge g/l

ZnO 20

NaCN 15

Natriusgluconat 20

Die Platte wurde in dieser Lösung 30 Sekunden lang bei 32°C gehalten und dann in eine Elektrolyselösung folgender Zusammensetzung eingebracht:

Bestandteil . Menge g/l

CuCN 30

Zn(CN)₂ 11

NaCN 45

30

Die Platte verblieb in diesem Elektrolysebad bei 32°C 3 Minuten lang unter einem Strom von 2 Amp/dm², Die Platte besaß ein gutes Aussehen und die darauf abgeschiedene Plattierung haftete

"'909833/1063

- 21 -BAD ORIGINAL

Beispiel S

Eine Magnesiuraplatte wurde durch Eintauchen in einen Pampfent-. fetter entfettet und dann 3 Minuten lang in einer Reinigungslösung von 88⁰C folgender Zusammensetzung gereinigt,

Bestandteil Menge g/l |

Na₃PO₄ 60

NaOH 30

Die Platte wurde dann in Wasser gespült, in 10 %ige Salpetersäure eingetaucht und nochmals mit Wasser gespült» Die so gereinigte Platte wurde dann in eine Lösung folgender Zusammensetzung eingebracht;

Bestandteil - Menge g/l

ZnO 20

KCN 20

Natriuägluconat 20

Die Platte verblieb in dieser Lösung 30 Sekunden und wurde dann in ein Blektrolysebad folgender Zusammensetzung eingebracht:

BAD ORIGINAL

- 22 -

909833/TOSS

Bestandteil

1	Menge	496902
30	g/i
11
45
30

CuCN Zn(CN)₂

NaCN Na₂CO₃

Die Platte verblieb in dieser Lösung von 32°C 3 Minuten lang, unter einem Strom von 2 Amp/dm und es wurde eine Abscheidung ait guten Aussehen und guter Haftung erhalten·

Beispiel 6

Eine Zinnplatte wurde durch Paapfentfetten und dann in eines alkalischen Reinigungsmittel gereinigt, mit !fässer gespült, in 2 tige Schwefelsäure eingetaucht und nochoals mit Wasser gespülte Die so gereinigte Platte wurde in eine Lösung folgender Zusammensetzung eingetaucht:

Bestandteil Menge g/l

2KCN·CuCM 60

KCN 10

KOH 3

Die Platte verblieb in dieser Lösung von 32°C 15 Sekunden und sie wurde dann in ein Elektrolysebad folgender Zusammensetzung eingebracht:

9'8 33-/1OS?

BAD ORIGINAL

Bestandteil Menge g/l

CuCN 30

Zn(CN)₂ 11

WaCN 45

Na₂CO₃ 30 ,

Die Platte wurde 3 Minuten lang bei 32⁰C «it eine« Stroe von Z Amp/da² plattiert und es wurde eine gute Messingabscheidung λ

erhalten, die ein gutes Aussehen besäe,

Baispiel 7

Ein Lager aus Stahl, das auf einer, Seite alt einer Aluainiuaschicht versehen war, wurde zunächst durch Daapfentfetten und dann alkalisch gereinigt, in Wasser gospült, in 10 Iige Fluorwasserstoff slure eingetaucht und nochaals alt Wasser gespült. Das so gereinigte Lager würde dann 30 Sekunden lang in eine Lösung von 32⁰C folgender Zusaaaensetzung eingetaucht:

Bestandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ " 90

KOH 1

Das Lager wurde dann in ein Bronzeelektrolysebad folgender Zusammensetzung eingebracht:

- - 24 -909,833/1053

Bestandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ 125

2KCN*CuCN 32

KCN 25

KOH . 3

Das Arbeitsstück wurde 2 Minuten lang bei 5S⁰C ait einen Stro» t von 2 A«p/d»2 plattiert. Der Niederschlag besaft ein gutes Aussehen und eine gute Haftfähigkeit und es war kein Abblätternauf der Berührungsfläche zwischen de« Aluminium und Stahl festzustellen.

Beispiel 8

Ein Zinksprittgußstück wurde in eine« Danpfentfettungsnittel entfettet, dann in einen alkalischen Reinigungsmittel gereinigt, in 2 Iige Schwefelsäure eingetaucht und schließlich nit Wasser gespült. Das so gereinigte Gußstück wurde dann 15 Sekunden lang in eine Lösung von 32⁰C folgender Zusammensetzung eingebracht:

Bestandteil . Menge g/l

PbCO_s 40

GluconsSure 20

Dös Oußstück wurde aus dieser Lösung entfernt und in eine Elektrolyselösung folgender Zusammensetzung eingebracht:

909833/10Si

BAD ORIGINAL

Bestandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ 77

2KCN'CuCN 46

KCN 17

PbCO₃ 6

KOH 3

Das Gußstück wurde in dieser Lösung bei 32⁰C 3 Minuten lang

2
einer Strombehandlung von 3 Amp/dm ausgesetzt« Es wurde eine gut aussehende Platte erhalten, die einen gut haftenden Belag besaß.

Beispiel 9

Eine Magnesiumplatte wurde durch Eintauchen in ein Dampfentfettungsmittel entfettet, in einem Reinigungsmittel,bestehend aus

60 ε Na.PO^ und 30 g NaOH int Liter 3 Minuten lang bei 88°C 3 4

gereinigt« in Wasser gespült» in 10 Iige Salpetersäure eingetaucht und nochmals mit Wasser gespült. Die so gereinigte Platte wurde dann 30 Sekunden lang in eine Lösung von 32°C folgender Zusammensetzung eingebracht;

Bestandteil Meng« g/l

90

KOH 2

Natriumgluconat 20 BAD ORIGINAL

■" - - 2*' 90983371 Gif

Die Platte wurde dann in eine Elektrolyselösung folgender Zusammensetzung eingebracht:

Bestandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ .90

2KCN«CuCN . 56

KCN 20

KQH .-."-. 3

Natriumgluconat 20

und in ihr 3 Minuten lang bei 32°C unter einem Strom von

2 3 Αηφ/dm gehalten» Es wurde eine Bronzeabscheidung von gutem

Aussehen erhalten« Beispiel 10

Eine Molybdänplatte wurde in einen Dampfentfettungsaittel ent» fettet, 1 Minute lang in 40 %ige Salzsäure eingetaucht und mit Wasser gespült. Di© Platte wurde dann in eine Lösung folgender Zusammensetzung 30 Sekunden bei 65⁰C eingebracht:

Bestandteil Menge g/l

SnCl₂ SO

NH₄Cl 128

MHJI* 515 NH₄OH tür Einstellung auf eine» pH 2,3

00ft337JO$3 BADORIQINAL

Die Platte wurde aus der Lösung entfernt und in ein Elektrolysebad folgender Zusammensetzung eingebracht!

Bestandteil	Menge g/l
SnCl₂	SO
NiCl₂,6H₂O	300
NH₄HF₂	56
NHjOH zur Einstellung auf eine« pH 2.3

Die Platte wurde in diese« Bad von 65°C 3 Minuten lang unter

2 einen Strom von 3 Amp/da gehalten und es wurde eine gleich- ■flssige und gut haftende Abscheidung von Sn-Ni niedergeschlagen.

Beispiel 11

Eine Bleiplatte wurde «it eine« Dampfentfettungsnitte1 entfettet, in ein alkalisches Reinigungsmittel eingetaucht, ait Kasser gespült, in eine 2 tige HBF₄-Löaung eingebracht und nochmals alt Masser gespült. Öle so gereinigte Platt· wurde In

eine Lösung von 32 C folgender Zusaamensetzung eingebracht«

Bestandteil Menge g/l

AgCN 12,4

KCN 10

K₂CO 10

NH₄OH (Konz.) 2 ecm

90983 3/10 53 bad original - 28 -

Menge	β/1
12	.4
16	.5
40
to
2	cc«

Die Platte wurde dann in eine Elektrolyselösung folgender Zusammensetzung eingebracht:'

Bestandteil

AgCN .

CdO

KCN

^K2^CO3

NH₄OH (konz.)

und in ihr bei 32⁰C 3 Minuten lang einem Stroa von 1 Amp/drn² ausgesetzt. Es wurde eine Abscheidung von guter Oleichmässigfceit und Haftfähigkeit erhalten·

Beispiel 12

Bine Platte aus einer Aluminiumlegierung Nr, 1100 wurde mit einem Dampfentfettungsmittel entfettet, in ein alkalisches Reinigungsmittel eingetaucht, mit Masser gespult/ in 20 Uge Salpetersäure eingetaucht und nochmals mit Wasser gespülte Die so gereinigte Blatte wurde dann 30 Sekunden lang in eine Lösung von 32⁰C folgender Zusammensetzung eingetaucht:

Bestandteil Menge g/l

K₂Sa(OH)₆ 90

KOH 2

909833/10 S3

BAD ORIGINAL

« 29 - .

Die Platte wurde dann in einer Elektrolyselösung von 32°C der folgenden Zusammensetzung 2 Minuten lang einer Strombehandlung

Ί
von 3 Amp/dm unterworfen, '

Bestandteil

Menge	g/l
36
90
200
50	cc«

MH-OH £28%)

Es wurde eine gleiehraässige Abscheidung erhalten₉ die gut haftete.

Beispiel ..ti

Eine Aluminiusiplatte aus einer Aluminiumlegierung Mr, 2024 wurde mit einem Dampfcntfettungsmittel entfettet, in ein alkalisches Reinigungsmittel eingetaucht,, mit Wasser gespült pnd in eine Säurelösung_p bestehend aus 3 Teilen Salpetersäure (70 Ϊ Säure) und 1 Teil Fluorwasserstoffsäure (48 I Säure) eingetaucht und in Wasser gespült. Die so gereinigte Platte wurde danti 30 Sekunden lang in eine Lösung von 32°C folgender Zusammensetzung eingetaucht:

BAD ORIGfNAL

- 30 -

90 9833/10 S3

Bestandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ 75

KOH 2

x der
Äthylendiamiinfcytraessigsäure 1

Die Platte wurde dann in eine Elektrolytlösung folgender Zusammensetzung bei 32⁰C 2 Minuten lang einer Strosnbehandlung W von 3 Amp/diH unterworfen.

Bestandteil Menge g/l

K₂Sn(OH)₆ 75

2KCN*CuGN 56

KCN 20

- KOH 3

Tetiranatriumsalt der

Es wurde eine glelehmässige Bronzeabscheidung von guten Aussehen und guter Haftfähigkeit erhalten.

Beispiel 14

Eine Platte au? einer Aluminiumlegierung Nr. 5052 wurde oit einem Dampfentiettungsmittol entfettet, In ein alkalisches Reinigungsmittel eingetaucht, in Wasser gespült, dann in eine Säurelösung eingetaucht, bestehend aus 3 Teilen Salpetersäure (70 f Säure) und 1 Teil Fluorwasserstoffsäure (48 I saure) und schließlich in Wasser gespült,. Die to gereinigt« Pl&tte

909833/101»

BAD ORIGINAL

wurde in eine Lösung von 32⁰C folgender Zusammensetzung IS Minuten lan| ·Ingotaucht:

Bestandteil Menge g/l

K_-1Sn(OH)- 90

2 6 ν

KOH . _: · ' ■ j : ^f

Tetranatriuafalt von Kthylendieeintetraessigslure

Die Platte wurde denn in eine elektrolyseldsung folgender Zn satmensetStinf bei 32⁰C 2 Minuten lang eingebracht und einer 8tro»behandlun| von 3 Aep/da² unterwerfen!

lestendteil | Me«g« f/1

■ - ■ i- - - f - ■ ■

tKCN'CuCN , ';.:....· Sp

KCM . ρ . . _v IO . ·

«oh ^r ■'■ / - "ι ⁷ ■■-. $

T»tranatrlue»«U von ( Xthylendiieintttraessigelure | 1

Bs wurde ein guter Bronxeniederechlag von gute« Aussehem erhalten« · ' - ί '^ - * - '

PATBNTANSPtOCHB:

ι ι

bad original 909833/1053 ' »*

Claims

- 52 -

PATENTANSPRÜCHE: '

T. Verfahren zum Aufbringen einer Metallplattierung auf die

• Oberfläche eines aktiven Grundmetalles, dadurch gekennzeichnet, daß das aktive Grundmetall mit einen Aktivierungsbad in Berührung gebracht wird, das ein lösliches Salz eines Plattierungsmetalles enthält, das edler ist. als das Grundmetall, wodurch dieses aktiviert wird und es dann in ein Elektrolysebad eingebracht wird, das (a) ein Plattierungsmetall in im wesentlichen gleicher Konzentration, wie in den Aktivierungsbad und (b) ein Hilfsplateienmgsmötall enthält und durch Elektrolyse auf der aktivierten Oberflache des aktiven Grumlmet alles eine Plattierung abgeschieden wird, die das Plattierungsfitetali und das Hilfspiattierungsraeta.il enthält,
2. Verfehlen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das aktive Grundnetall Aluminium enthält.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Plattierungsraetall aus Zinn, LKupfer, Zink oder Nickel besteht. ,
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß /das aktive Grundaetail Magnesium enthält«

£. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß

* das Plattierungsmetail aus Zinn, Kupfer, Zink oder Cadmium 'besteht. 8 098 33/1053

BAD ORIGINAL

6_a Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plnttierlingswetall aus Zinn- besteht«

7β Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das aus Zinn bestehende Plattiorungsmetali in einor Menge von tO biü 70 g/I als Stannation, SniOHK, vorliegt.

8, Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Plattierungseetall aus Zinn besteht und das Hilfsplattierungs» metall atisgewählt aus der Gruppe von Kupfer, Zink, Nickel und Cadmiumο ■

9_e Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gmndaet&li aus Aluminium und das Hilfsplattierungsmetall aus Kupfer besteht und dieses in der Lösung in einer Menge von 10 bis; 100 g/l vorliegt.

PAtP-HTANVWtITC DR.-ING. H FIf-Ci;-, DIfL₁-ING. M. ΒΟΗ»

909833/10S3

BAD ORIGINAL