DE1439601C - Verfahren zum Kennzeichnen einzelner Halbleitersysteme - Google Patents
Verfahren zum Kennzeichnen einzelner HalbleitersystemeInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims 47
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- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 6
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- 230000000875 corresponding Effects 0.000 claims 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims 3
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 230000036633 rest Effects 0.000 claims 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 claims 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims 1
- 238000002372 labelling Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical Effects 0.000 claims 1
Claims (3)
1 2
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kenn- leiterkristalles aufgesetzt wird. Die Kennzeichnung
zeichnen einzelner Halbleitersysteme mit bestimmten, kann dann unmittelbar an die Messung angeschlossen
elektrischen Eigenschaften auf einer Halbleiter- werden, indem ein geeigneter Stromimpuls in An-
scheibe mit einer Vielzahl von Halbleitersystemen. Schluß an den Meßstrom durch den Whisker ge-
Bei der Herstellung von Planartransistoren ist es 5 schickt wird.
beispielsweise üblich, auf einer einzelnen Halbleiter- Die Erfindung soll an einem Ausführungsbeispiel
scheibe mehrere Halbleitersysteme gleichzeitig her- näher erläutert werden.
zustellen. Zu diesem Zweck wird die gesamte Halb- Von einem stabförmigen Halbleiterkristall werden
leiterscheibe mit einer Diffusionsschicht vom zunächst einzelne Scheiben abgeschnitten, die vorerst
Leitungstyp der Basiszone sowie mit einer Diffusions- io nicht in einzelne Halbleiterplättchen aufgeteilt, son-
schicht vom Leitungstyp der Emitterzone versehen. dem im ungeteilten Zustand \yeiterbehandelt werden.
Die einzelnen Halbleitersysteme werden dann durch Die Weiterbehandlung besteht darin, daß die zur
Aufteilen der diffundierten Scheibe gewonnen. Herstellung eines Halbleiterbauelementes erforder-
Das Aufteilen der Halbleiterscheibe erfolgt mit liehen Verfahrensschritte nicht nur an einem HaIb-Hilfe
eines Klebebandes, auf das die Halbleiter- 15 leiterplättchen, sondern an der ganzen Halbleiterscheiben
zunächst aufgeklebt werden. Nach dem scheibe durchgeführt werden. Auf der Halbleiter-Aufkleben
werden die Halbleiterscheiben entspre- scheibe werden also gleichzeitig mehrere Halbleiterchend
den Begrenzungslinien der einzelnen Halb- systeme aufgebaut.
leitersysteme geritzt und anschließend längs der ge- Dieses Verfahren hat den Vorteil, daß beispiels-
ritzten Linien gebrochen. 20 weise mit einer einzigen Diffusion sämtliche Basis-
Es empfiehlt sich, die einzelnen Halbleitersysteme zonen derjenigen Halbleitersysteme hergestellt wer-
noch vor dem Aufteilen der Halbleiterscheibe meß- den können, in die die Scheibe nach Fertigstellung
technisch zu überprüfen. Die Überprüfung erfolgt der für das Bauelement erforderlichen Halbleiter- /Λ
durch einen Whisker, welcher die einzelnen Systeme zonen aufgeteilt werden kann. Die einzelnen Halb- ^J
auf der Scheibe bzw. deren Elektroden nacheinander as leiterzonen können auch durch Legieren hergestellt
abtastet. Durch eine solche meßtechnische Über- werden. '■■■'.■'■
prüfung können ungeeignete Systeme rechtzeitig Sind die einzelnen Halbleitersysteme auf ihrer
erkannt und aussortiert werden. Die Kennzeichnung gemeinsamen Scheibe fertiggestellt, so müssen sie
erfolgte bisher mit Hilfe eines Farbtupfers, der auf voneinander getrennt werden. Zu diesem Zweck
die unbrauchbaren Systeme aufgebracht wird. 30 werden die Halbleiterscheiben auf ein Klebeband
Nach dem Zerteilen der Halbleiterscheibe müssen aufgeklebt und mit einem Diamanten geritzt. Durch
die so erhaltenen Einzelsysteme durch Eintauchen das Ritzen werden die Begrenzungslinien der einzelin
eine heiße, z. B. aus Natronlauge bestehende nen Halbleitersysteme hergestellt. Bevor die HaIb-Lösung
vom Klebeband gelöst werden. Das Ein- leiterscheibe längs der geritzten Linien gebrochen
tauchen in eine heiße Lösung hat jedoch den Nach- 35 wird, werden die einzelnen Halbleitersysteme meßteil,
daß nicht nur das Klebeband, sondern gleich- technisch überprüft. Eine solche Überprüfung ermögzeitig
auch die zur Kennzeichnung aufgebrachte licht es, unbrauchbare Systeme zu kennzeichnen ynd
Farbe gelöst wird. Außerdem ist es auch mit erheb- damit von der Weiterverarbeitung auszuschließen,
liehen Schwierigkeiten verbunden, Halbleiterkristalle Die Bestimmung der elektrischen Werte erfolgt mit den heute üblichen kleinen Abmessungen mit 40 mit Hilfe eines Whiskers, der auf die Elektroden der Farbe zu betupfen. auf der Scheibe befindlichen Halbleitersysteme auf-• Zur Vermeidung dieser Nachteile wird erfindungs- gesetzt wird. Auf diese Weise werden sämtliche auf gemäß vorgeschlagen, daß auf die Oberfläche des zu der Halbleiterscheibe befindlichen Systeme nacheinkennzeichnenden Halbleitersystems eine Elektrode ander durchgemessen. Unbrauchbare Halbleiter- ^ „ aufgesetzt wird, die bei Vorliegen der bestimmten 45 systeme werden im Anschluß an die Messung ge- \JfC\ elektrischen Eigenschaften mit einem solchen Strom- kennzeichnet. Die Kennzeichnung erfolgt gemäß der stoß beschickt wird, daß die Stelle, an der die Elek- Erfindung ebenfalls mit Hilfe des Whiskers, der. bei trode aufliegt, angeschmort wird. unbrauchbaren Halbleitersystemen nach der Messung
liehen Schwierigkeiten verbunden, Halbleiterkristalle Die Bestimmung der elektrischen Werte erfolgt mit den heute üblichen kleinen Abmessungen mit 40 mit Hilfe eines Whiskers, der auf die Elektroden der Farbe zu betupfen. auf der Scheibe befindlichen Halbleitersysteme auf-• Zur Vermeidung dieser Nachteile wird erfindungs- gesetzt wird. Auf diese Weise werden sämtliche auf gemäß vorgeschlagen, daß auf die Oberfläche des zu der Halbleiterscheibe befindlichen Systeme nacheinkennzeichnenden Halbleitersystems eine Elektrode ander durchgemessen. Unbrauchbare Halbleiter- ^ „ aufgesetzt wird, die bei Vorliegen der bestimmten 45 systeme werden im Anschluß an die Messung ge- \JfC\ elektrischen Eigenschaften mit einem solchen Strom- kennzeichnet. Die Kennzeichnung erfolgt gemäß der stoß beschickt wird, daß die Stelle, an der die Elek- Erfindung ebenfalls mit Hilfe des Whiskers, der. bei trode aufliegt, angeschmort wird. unbrauchbaren Halbleitersystemen nach der Messung
Es ist bekannt, daß Spitzentransistoren und auf eine zur Kennzeichnung geeignete Stelle der
Spitzendioden durch Elektroformierung hergestellt 50 Halbleiteroberfläche aufgesetzt und mit einem Stromwerden
können. Hierbei ändert sich bei der Her- impuls beschickt wird. Die Höhe des Stromimpulses
stellung des Punktkontaktes die Oberflächenstruktur wird dabei so gewählt, daß der zur Kennzeichnung
des Halbleiterkörpers. Dieses Verfahren betrifft je- vorgesehene Bereich auf der Halbleiteroberfläche an- I
doch nicht die Kennzeichnung von Halbleiter- geschmort bzw. angeschmolzen wird.
systemen. 55 Nach Beendigung der Messung und Kennzeichnung |
systemen. 55 Nach Beendigung der Messung und Kennzeichnung |
Eine solche optische Umwandlung eines Teil- werden die einzelnen Halbleitersysteme durch j
bereiches der Halbleiteroberfläche kann beispiels- Brechen voneinander getrennt. Die Plättchen müssen · |
weise durch einen Whisker erfolgen, der auf die zu dann noch vom Klebeband durch Eintauchen in eine
kennzeichnende Halbleiteroberfläche aufgesetzt und heiße Natronlauge gelöst werden,
mit einem Stromimpuls beschickt wird. Bei entspre- 60
mit einem Stromimpuls beschickt wird. Bei entspre- 60
chender Wahl des Stromimpulses läßt sich erreichen, Patentansprüche:
daß die Halbleiteroberfläche in der unmittelbaren
daß die Halbleiteroberfläche in der unmittelbaren
Umgebung des Whiskers leicht angeschmort wird. 1. Verfahren zum Kennzeichnen einzelner J
Die Kennzeichnung von Einzelsystemen nach dem Halbleitersysteme mit !«stimmten, elektrischen -
Verfahren nach der Erfindung erfordert dann keinen 65 Eigenschaften auf einer Halbleiterscheibe mit
Mehraufwand, wenn, wie allgemein üblich, ohnehin einer Vielzahl von Halbleitersystemen, dadurch
ein Whisker bei der Bestimmung der elektrischen gekennzeichnet, daß auf die Oberfläche des
Werte verwendet und auf die Oberfläche des Halb- zu kennzeichnenden Halbleitersystems eine Elek-
trode aufgesetzt wird, die bei Vorliegen der bestimmten elektrischen Eigenschaften mit einem
solchen Stromstoß beschickt wird, daß die Stelle, an der die Elektrode aufliegt, angeschmort wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die auf der gemeinsamen
Halbleiterscheibe befindlichen und durch Anritzen der Halbleiteroberfläche begrenzten Halbleitersysteme
mit einer Elektrode nacheinander abgetastet und daß die Halbleitersysteme beim Abtasten gemessen und die unbrauchbaren
Systeme mit Hilfe eines Stromstoßes gekennzeichnet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß als Meß- und Kennzeichnungselektroden
Whisker verwendet werden.
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