DE1299075B - Verfahren zum Herstellen eines Planartransistors - Google Patents

Verfahren zum Herstellen eines Planartransistors

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DE1299075B
DE1299075B DED51849A DED0051849A DE1299075B DE 1299075 B DE1299075 B DE 1299075B DE D51849 A DED51849 A DE D51849A DE D0051849 A DED0051849 A DE D0051849A DE 1299075 B DE1299075 B DE 1299075B
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Germany
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semiconductor body
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Pending
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DED51849A
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German (de)
English (en)
Inventor
Abbey Peter John Bexley
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TDK Micronas GmbH
Original Assignee
Deutsche ITT Industries GmbH
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • HELECTRICITY
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GB (1) GB1110654A (enExample)
NL (1) NL6618062A (enExample)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1073111B (de) * 1954-12-02 1960-01-14 Siemens Schuckertwerke Aktiengesellschaft Berlin und Erlangen Verfahren zur Herstellung eines Flachentransistors mit einer Oberflachenschicht erhöhter Storstellenkonzentration an den freien Stellen zwischen den Elektroden an einem einkristallmen Halbleiterkörper
US2981877A (en) * 1959-07-30 1961-04-25 Fairchild Semiconductor Semiconductor device-and-lead structure

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1073111B (de) * 1954-12-02 1960-01-14 Siemens Schuckertwerke Aktiengesellschaft Berlin und Erlangen Verfahren zur Herstellung eines Flachentransistors mit einer Oberflachenschicht erhöhter Storstellenkonzentration an den freien Stellen zwischen den Elektroden an einem einkristallmen Halbleiterkörper
US2981877A (en) * 1959-07-30 1961-04-25 Fairchild Semiconductor Semiconductor device-and-lead structure

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ES334878A1 (es) 1967-11-01
GB1110654A (en) 1968-04-24
FR1505934A (fr) 1967-12-15
NL6618062A (enExample) 1967-06-26

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