DE1248412B - Galvanisches Verchromungsbad - Google Patents
Galvanisches VerchromungsbadInfo
- Publication number
- DE1248412B DE1248412B DEU11411A DEU0011411A DE1248412B DE 1248412 B DE1248412 B DE 1248412B DE U11411 A DEU11411 A DE U11411A DE U0011411 A DEU0011411 A DE U0011411A DE 1248412 B DE1248412 B DE 1248412B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- acid
- chromium
- plating bath
- cro
- sulfate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 28
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims description 8
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 22
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 21
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 21
- LIZCTYVUVWUZMN-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrachlorobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)C(Cl)(Cl)C(O)=O LIZCTYVUVWUZMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- YUDUFRYTKFGQCL-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluorobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(O)=O YUDUFRYTKFGQCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N chromium(6+) Chemical compound [Cr+6] JOPOVCBBYLSVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Chemical compound BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 4
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 claims description 3
- 150000001279 adipic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002311 glutaric acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003444 succinic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- CCUWGJDGLACFQT-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4-hexafluoropentanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(O)=O CCUWGJDGLACFQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 9
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 7
- -1 des Sulfate ions Chemical class 0.000 description 7
- AXRSOGFYDSXLQX-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluorohexanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(O)=O AXRSOGFYDSXLQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000978 Pb alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 6
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical class OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- ICKAEAFPESRWOT-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,3,3,4,5,5,6,6-decafluoro-4-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)cyclohexane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)C(F)(F)F)C(F)(F)C1(F)F ICKAEAFPESRWOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000537 White brass Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 2
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABXXWVKOBZHNNF-UHFFFAOYSA-N chromium(3+);dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Cr+3].[Cr+3].[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O.[O-][Cr]([O-])(=O)=O ABXXWVKOBZHNNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 2
- NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N strontium chromate Chemical compound [Sr+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NVKTUNLPFJHLCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L strontium sulfate Chemical compound [Sr+2].[O-]S([O-])(=O)=O UBXAKNTVXQMEAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910021653 sulphate ion Inorganic materials 0.000 description 2
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWEBJTDDSJSYDL-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachlorobutane-1,4-diol Chemical compound OCCC(Cl)(Cl)C(O)(Cl)Cl KWEBJTDDSJSYDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKHGRXVYRMKOLH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibromo-2,3-dichlorobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Br)C(Cl)(Br)C(O)=O YKHGRXVYRMKOLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNNMVKPGIKEQGO-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloro-2,3-difluorobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(Cl)C(F)(Cl)C(O)=O DNNMVKPGIKEQGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVFZPKYHJCLEET-UHFFFAOYSA-N 2-fluorobutanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(F)C(O)=O WVFZPKYHJCLEET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 230000002730 additional effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N chloroacetic acid Chemical class OC(=O)CCl FOCAUTSVDIKZOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001430 chromium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001429 cobalt ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+) Chemical compound [Co+2] XLJKHNWPARRRJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical group O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 229910052920 inorganic sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- PXUULQAPEKKVAH-UHFFFAOYSA-N perfluorohexanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PXUULQAPEKKVAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N perfluorooctanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F SNGREZUHAYWORS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000013049 sediment Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910001427 strontium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000008 strontium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- MZQZQKZKTGRQCG-UHFFFAOYSA-J thorium tetrafluoride Chemical compound F[Th](F)(F)F MZQZQKZKTGRQCG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/04—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium
- C25D3/10—Electroplating: Baths therefor from solutions of chromium characterised by the organic bath constituents used
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
C23b
Deutsche Kl.: 48 a - 5/06
C25D
3-0 4
Nummer: 1 248 412
Aktenzeichen: U 11411 Vl b/48 a
Anmeldetag: 1. Februar 1965
Auslegetag: 24. August 1967
Die Erfindung betrifft ein galvanisches Verchromungsbad
aus einer schwefelsauren wäßrigen Chrom(VI)-Lösung mit einem Gehalt von 100 bis
500 g/l Chromsäure und halogenierten aliphatischen Carbonsäuren als Badzusätze. Diese neuen Badzusätze
wirken als Begleitaktivatoren mit minimalen Konzentrationen an Katalysatorionen (anorganisches
Sulfation) und führen zu sehr gut deckenden Chromabscheidungen, ohne daß der Betrieb der Chrombäder
Schwierigkeiten bereitet.
Um Chrom aus sauren Chrom(VI)-Lösungen, d. h. Chromsäurelösungen, abzuscheiden, war es nach den
früheren Feststellungen erforderlich, ein Bad mit geringen Konzentrationen gewisser Anionen, wie des
Sulfations, zu verwenden. Zusammen mit dem Sulfation wurden als wirksame Katalysatorionen auch
Fluoridionen und andere Ionen genannt. Viele Anionen wurden jedoch als Katalysatorionen bezeichnet,
die nur die Wirkung der in niedrigen Konzentrationen anwesenden Sulfationen unterstützten. Tatsächlich
scheint es so zu sein, daß das Sulfatanion das einzige wahre »Katalysator«-Anion ist und die
anderen Anionen nur zusätzliche Wirkungen hervorbringen.
Bei dem herkömmlichen galvanischen Verchromungsbad, bei dem nur das Sulfatanion als Katalysator
vorhanden ist und das zur Abscheidung auf Nickel, Eisen, Messing oder Kupfer Verwendung
findet, ist das Verhältnis von CrO3: SO4 = 100 :1.
In einem Bad mit 200 g/l Chromsäure kämen 2 g/1 Sulfation zur Anwendung und dementsprechend in
einem Bad mit 400 g/l Chromsäure 4 g/l Sulfationen. Arbeitet man statt dessen mit einem Verhältnis von
CrOs: SO4 = 200 :1 und scheidet auf Nickel, Kupfer,
Messing oder Stahl ab, so erhält man an Stelle einer Chromschicht bei stromlosem Eintauchen in
das Chrombad nur einen irisierenden (regenbogenfarbigen), nichtmetallischen Chromchromatfilm.
Wenn die Chromabscheidung auf einer unmittelbar glanzvernickelten Oberfläche aus einer wäßrigen
Lösung mit beispielsweise 340 g/l Chromsäure und der SrSO4-Sättigungskonzentration bei beispielsweise
etwa 50 bis 52° C erfolgt, wobei sich ein Verhältnis von CrO3 zu gelöstem SO4 = etwa 160: 1
ergibt, und bei stromlosem Eintauchen (d. h. der Gleichstrom wird erst eingeschaltet, nachdem das
vernickelte Blech in das Bad eingetaucht ist) wird auf der Nickelfläche kein Chrom, sondern nur ein
nichtmetallischer irisierender Film aus basischen Chromchromat abgeschieden. Wenn jedoch unter
Strom eingetaucht wird, d. h. der Strom vor Eintauchen des vernickelten Bleches in das Chrom-Galvanisches
Verchromungsbad
Anmelder:
The Udylite Corporation,
Warren, Mich. (V. St. A.)
Vertreter:
Dr.-Ing. H. Negendank, Patentanwalt,
Hamburg 36, Neuer Wall 41
Hamburg 36, Neuer Wall 41
Als Erfinder benannt:
Henry Brown, Huntington Woods, Mich.;
Edward Anthony Romanowski,
Troy, Mich. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 20. Februar 1964
(346116)
V. St. v. Amerika vom 20. Februar 1964
(346116)
Säurebad eingeschaltet wird und die Abscheidung in dem Moment beginnt, wo das Blech oder Werkstück
in das Bad kommt, wird auf dem Nickel Chrom abgeschieden. Auf Weißmessing (Legierung aus
80 %> Zink und 20 °/o Kupfer) wird sogar bei stromlosem Eintauchen in ein Chrombad mit einem Verhältnis
von CrO3: SO4 = 200 :1 eine Chromabscheidung
erhalten. Es ist anzunehmen, daß die Weißmessingoberfläche weniger passiv als die
Nickeloberfläche ist und das Sulfation teilweise als »Katalysator« und teilweise als Aktivator passiver
Oberflächen, wie Nickeloberflächen, wirkt. Je langer die Nickeloberfläche mit einem Chromsäurebad
stromlos in Berührung bleibt und je höher die Chromsäurekonzentration ist, um so schlechter wird
die Chromabscheidung ausfallen. Wenn die Sulfationenkonzentration weit über das Verhältnis 100 :1
erhöht wird, beispielsweise ein Verhältnis von CrO3 : SO4 = 50 : 1 vorliegt dann wird die Chromabscheidung
immer schlechter. Schließlich wird bei einem großen Sulfationenüberschuß kein Chrom
mehr abgeschieden, sondern nur an der Kathode dreiwertiges Chrom gebildet.
709 638/467
Es wurde nun gefunden, daß man unter Verwendung bestimmter aliphatischer Dicarbonsäuren
in Verbindung mit geringen Konzentrationen des Sulfatanionkatalysators äußerst gute Chromabscheidungen
aus Chromsäurebädern erhält. Bei Verwendung dieser Dicarbonsäuren kann das Verhältnis
CrO3 : SO4 = 150 : 1, 200 :1 und 300 :1, ja sogar
400:1 betragen.
Die Erfindung betrifft demgemäß ein galvanisches Verchromungsbad aus einer schwefelsauren wäßrigen
Chrom(VI)-Lösung mit einem Gehalt von 100 bis 500 g/l Chromsäure und halogenierten aliphatischen
Carbonsäuren, in der die Sulfationenkonzentration durch die Sättigungskonzentration des Strontiumsulfats
geliefert werden kann. Es ist gekennzeichnet durch ein CrO3: SO4-Verhältnis von etwa
100 bis 400:1 und einen Gehalt von etwa 0,1 bis 20, vorzugsweise 1 bis 10 g/l an polyhalogenierten
Bernstein-, Glutar- oder Adipinsäuren der allgemeinen Formel
HOOC — (CR1R2), — (CR3R4),, — COOH
in der χ und y unabhängig voneinander 1 oder 2 sind, R1 bis R4 unabhängig voneinander Fluor- oder
Chloratome oder für χ = y = 1 R2 auch ein Bromatom
und R4 auch ein Brom- oder Wasserstoffatom darstellen und für χ + y = 3 oder 4 die Anzahl der
Fluoratome der Anzahl der Chloratome mindestens gleich ist.
Die bevorzugten polyhalogenierten Verbindungen sind Tetrachlorbernsteinsäure, Tetrafluorbernsteinsäure
und Hexafluorglutarsäure. Die beiden zuletzt genannten Perfluordicarbonsäuren sind unter kräftigen
Oxydationsbedingungen, die während der Elektrolyse an Anoden aus Blei- und Bleilegierungen
herrschen, äußerst stabil. Die Tetrachlorbernsteinsäure ist gegenüber einer Oxydation durch Chromsäure
sehr widerstandsfähig. Obgleich sie anodischer Oxydation gegenüber nicht vollkommen stabil ist,
reicht ihre Stabilität praktisch aus, da ihre Herstellung nicht teuer ist. Sie kann aus Tetrachlorbutan-l,4-diol
hergestellt werden. Dieser Tetrachloralkohol kann als solcher dem Chromsäurebad zugesetzt
werden, wo er schnell zu Tetrachlorbernsteinsäure oxydiert wird. Der Alkohol kann auch vor dem
Zusatz zu dem Chromsäurebad oxydiert werden. Perfluoradipinsäure (Oktafluoradipinsäure) ist trotz ihrer
außerordentlichen Stabilität in Chromsäurebädern als Aktivator nicht ganz so wirksam wie die kürzerkettigen
Dicarbonsäuren, Perfluorbernsteinsäure, Perfluorglutarsäure, Tetrachlorbernsteinsäure, Dichlordifluorbernsteinsäure
oder Dichlordibrombernsteinsäure. Somit sind die erfindungsgemäßen Verchromungsbäder
vorzugsweise durch einen Gehalt an Tetrachlorbernsteinsäure, Tetrafluorbernsteinsäure
oder Hexafluorglutarsäure gekennzeichnet, wobei die beiden ersten Säuren optimale Ergebnisse liefern.
Gute Ergebnisse lassen sich auch mit Perfluoradipinsäure erzielen.
Diese Dicarbonsäuren ergeben ohne Sulfatanion keine Chromabscheidung aus reinen Chromsäurebädern.
In Verbindung mit geringen Sulfatanionkonzentrationen wirken sie als unkritische »Aktivatoren«,
d. h., das Sulfatanion wird in optimaler Konzentration nur für seinen »katalytischen« Effekt,
nicht für irgendeine besondere Aktivierung benötigt.
Es ist nicht neu, Carbonsäuren in galvanischen Bädern mit sechswertigem Chrom zu verwenden.
Derartige Carbonsäuren, wie Essigsäure und Acetate, greifen die in Chromsäurebädern benutzten
Anoden aus Blei und Bleilegierungen stark an. Während des Betriebes werden diese Anoden mit
hoher Geschwindigkeit wegkorrodiert. Das gilt auch für Chloressigsäuren und Trifluoressigsäuren. Es
wurde schon gefunden, daß die Gegenwart von Kobaltionen in Chromsäurebädern den Angriff durch
Acetate verringert. Die Dicarbonsäuren nach der
ίο Erfindung korrodieren die Anoden aus Blei und Bleilegierungen
bei weitem nicht so schnell wie Acetationen oder Essigsäure, einschließlich Mono-, Di-,
Trichloressigsäure und Trifluoressigsäure. Diese Verbesserung bedeutet einen sehr wichtigen, unerwarteten
technischen Fortschritt. Die Korrosion von Anoden aus Blei- und Bleilegierungen durch Dicarbonsäuren
nach der Erfindung ist nicht größer als bei den allgemein verwendeten Chromsäurebädern
mit Sulfat- und Fluosilikat-»Katalysator«-Ionen.
ao Essigsäure, Mono-, Di-, Trichloressigsäure und Trifluoressigsäure
in gleichen Konzentrationen wie die Dicarbonsäuren nach der Erfindung korrodieren
diese Anoden wenigstens fünfmal schneller.
Dicarbonsäuren, wie Weinsäure und Phthalsäure, werden durch die Chromsäurebäder, insbesondere
während der Elektrolyse, schnell oxydiert. Aus diesem Grund lassen sich die Säuren nur schwer kontrollieren,
und es können sich im Bad übermäßig hohe Konzentrationen an Chrom(III)-Ionen ansammeln,
was den guten Ablauf der Galvanisation schädlich beeinflußt. Bestimmte Carbonsäuren, wie
Perfluor-n-hexansäure und Perfluor-n-octansäure, können auch ziemlich dicke unansehnliche, gelbbraune
Filme aus basischem Chromchromat auf den Oberflächen bei geringer Stromdichte erzeugen.
Für den größten Teil der Anodenfläche müssen in sauren Chrom(VI)-Bädern Blei- oder Bleilegierungsanoden
benutzt werden, um die an der Kathode während der Chromabscheidung gebildeten dreiwertigen
Chromionen wieder wirksam auf zuoxydieren. Wenn der größte Teil dieses dreiwertigen Chroms
nicht wieder oxydiert wird, verliert das Chrombad weitgehend seine Wirksamkeit. Das kräftige Oxydationsmittel
Bleidioxyd bildet sich während der Elektrolyse auf den Anoden und oxydiert das dreiwertige
Chrom zur sechswertigen Stufe. Es oxydiert jedoch die Perfluorbernsteinsäure, Perfluorglutarsäure und
die Perfluoradipinsäure nicht und die Tetrachlorbernsteinsäure nur langsam.
Die sauren Chrom(VI)-Bäder können aus Chromsäure oder Chromsäure und Mischungen mit Dichromaten,
Chromaten und Polychromaten hergestellt werden. Vorzugsweise wird im allgemeinen gewöhnliche
Chromsäure benutzt. Das Sulfation kann aus Schwefelsäure oder aus einem ihrer löslichen Salze
stammen, aus der SrS04-Sättigungskonzentration mit oder ohne Zusatz von Strontiumionen anderer Herkunft,
wie Strontiumchromat, -dichromat oder -carbonat.
Nachstehend sind Beispiele für die erfindungsgemäßen Bäder angegeben. Diese Bäder können durch
Zusatz geringer Konzentrationen an Fluorid, Fluosilikat, Fluoborat, Fluotitanat, Fluoaluminat oder Fluozirkonationen
oder Borsäure oder Sättigungskonzentrationen an Thoriumfluorid, Thoriumfluoborat oder
-fluozirkonat, Urantetrafluoborat, Urantetrafluozirkonat,
modifiziert werden. Es können auch andere organische Aktivatoren, wie z. B. Trifluormethan-
sulfonsäure oder 2-Hydro-perfluoräthyl-l-phosphonsäure
[HCF2CF2PO(OH)2]
zusammen mit den Dicarbonsäuren nach der Erfindung benutzt werden. Beispielsweise zeigen 0,1 g/l
Dicarbonsäuren nach der Erfindung zusammen mit 2 bis 6 g/l Trifluormethansulfonsäure und/oder
2-Hydro-perfluoräthyl-l-phosphonsäure eine verbesserte
Aktivierung. Die polyhalogenierten Bernstein-, Glutar- oder Adipinsäuren können in hohen
Konzentrationen, wie etwa 20 g/l, eingesetzt werden, die optimalen Konzentrationen liegen jedoch im
allgemeinen im Bereich von etwa 0,5 bis etwa 10 g/l. Sie hängen ab von der Reinheit und der Passivität
der Nickelschicht und dem Konzentrationsverhältnis CrO3: SO4. In den meisten Fällen liegt der optimale
Konzentrationsbereich der Dicarbonsäure nach der Erfindung zwischen 1 und 10 g/l. Bei Verhältnissen
CrO3 : SO4 von etwa 100:1 oder 90:1 werden nur
geringe Mengen dieser Aktivatoren benötigt. Die Chromabscheidung ist dann aber nicht so stark, wie
wenn die Verhältnisse zwischen CrO3 und SO4 zwischen
etwa 300:1, 200 : 1 oder 150 : 1 liegen.
200 bis 400 g/l CrO3,
1 bis 1,5 g/l SO4-Anion,
2 bis 8 g/l Tetrachlorbernsteinsäure oder Per-
fluorbernsteinsäure oder Perfluorglutarsäure,
0,3 g/l Perfluor-p-äthylcyclohexylsulfonsäure.
Temperatur 40 bis 55° C.
Beispiel 2 300 bis 400 g/l CrO3,
Sättigungskonzentration an SrSO4 (mit Bodenkörper),
0 bis 50 g/l Strontiumchromat,
1 bis 10 g/l Tetrachlorbernsteinsäure und/oder
Perfluorbernsteinsäure oder Perfluorglutarsäure oder Perfluoradipinsäure,
0 bis 30 g/l Borsäure,
0 bis 30 g/l Borsäure,
0 bis 5 g/l Perfluor-p-äthylcyclohexylsulfonsäure
(an Stelle der obigen Strontiumsalze kann Schwefelsäure oder Sulfation anderer Herkunft benutzt
werden, so daß sich ein Verhältnis von CrO3: SO4 = etwa 300 : 1 bis
etwa 140 :1 ergibt).
Temperatur 40 bis 60° C.
bis 400 g/l CrO3,
Sättigungskonzentration an SrSO4
(mit Bodenkörper),
(mit Bodenkörper),
Sättigungskonzentration an ThF4
(mit Bodenkörper),
(mit Bodenkörper),
10 g/l bis Sättigungskonzentration Borsäure,
1 bis 8 g/l Tetrachlorbernsteinsäure oder Perfluorbernsteinsäure oder Perfluorglutarsäure oder Perfluoradipinsäure,
1 bis 8 g/l Tetrachlorbernsteinsäure oder Perfluorbernsteinsäure oder Perfluorglutarsäure oder Perfluoradipinsäure,
0 bis 5 g/l Perfluor-p-äthylcyclohexylsulfonsäure.
Im allgemeinen ist Tetrachlorbernsteinsäure der wirksamste Aktivator. Als nächster folgt Perfluorbernsteinsäure
und Perfluorglutarsäure. Perfluoradipinsäure ist etwas weniger wirksam. Im allgemeinen
sind 2 bis 4 g/l Tetrachlorbernsteinsäure bei Verhältnissen von CrO3 : SO4 von 150:1 bis 300 :1
für hervorragende Aktivierung ausreichend. Die entsprechenden Werte für Perfluorbernsteinsäure und
Perfluorglutarsäure sind 2 bis 8 g/l und für Perfluoradipinsäure 2 bis 10 g/l.
Claims (2)
1. Galvanisches Verchromungsbad aus einer schwefelsauren wäßrigen Chrom(VI)-Lösung mit
einem Gehalt von 100 bis 500 g/l Chromsäure und halogenierten aliphatischen Carbonsäuren,
in der die Sulfationenkonzentration durch die Sättigungskonzentration des Stontiumsulfats geliefert
werden kann, gekennzeichnet durch ein CrO3 : SO4-Verhältnis von etwa 100
bis 400:1 und einen Gehalt von etwa 0,1 bis
20, vorzugsweise 1 bis 10 g/l an polyhalogenierten Bernstein-, Glutar- oder Adipinsäuren der
allgemeinen Formel
HOOC — (CR1R2)* — (CR3R4),, — COOH
in der χ und y unabhängig voneinander 1 oder 2 sind, R1 bis R4 unabhängig voneinander Fluor-
oder Chloratome oder für χ = y = 1 R2 auch
ein Bromatom und R4 auch ein Brom- oder Wasserstoffatom darstellen und für χ + y = 3
oder 4 die Anzahl der Fluoratome der Anzahl der Chloratome mindestens gleich ist.
2. Verchromungsbad nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen Gehalt an Tetrachlorbernsteinsäure,
Tetrafluorbernsteinsäure oder Hexanfluorglutarsäure.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 939 661;
USA.-Patentschriften Nr. 2 655 471, 2 750 334, 750335.
USA.-Patentschriften Nr. 2 655 471, 2 750 334, 750335.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US346116A US3282812A (en) | 1964-02-20 | 1964-02-20 | Electrodeposition of chromium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1248412B true DE1248412B (de) | 1967-08-24 |
Family
ID=23358031
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEU11411A Pending DE1248412B (de) | 1964-02-20 | 1965-02-01 | Galvanisches Verchromungsbad |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3282812A (de) |
DE (1) | DE1248412B (de) |
GB (1) | GB1034494A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1290782B (de) * | 1964-12-28 | 1969-03-13 | M & T Chemicals Inc | Galvanisches Chrombad |
DE2502284A1 (de) * | 1974-01-23 | 1975-07-24 | Rotel Holding Ag | Galvanisches verchromungsbad und verfahren zum abscheiden von chromschichten |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1128465A (en) * | 1964-10-08 | 1968-09-25 | M & T Chemicals Inc | Improvements in or relating to electrodeposition of chromium |
US3745097A (en) * | 1969-05-26 | 1973-07-10 | M & T Chemicals Inc | Electrodeposition of an iridescent chromium coating |
GB1289117A (de) * | 1969-10-10 | 1972-09-13 | ||
US3725214A (en) * | 1971-02-19 | 1973-04-03 | Du Pont | Chromium plating medium for a portable plating device |
US4092226A (en) * | 1974-12-11 | 1978-05-30 | Nikolaus Laing | Process for the treatment of metal surfaces by electro-deposition of metal coatings at high current densities |
DE10005681B4 (de) * | 2000-02-07 | 2005-06-16 | Atc Dr. Mann E.K. | Verfahren und Vorrichtung zur Dekontamination metallhaltiger Wässer |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2655471A (en) * | 1951-12-21 | 1953-10-13 | Poor & Co | Chromium electroplating |
DE939661C (de) * | 1953-08-31 | 1956-03-01 | Udylite Res Corp | Bad zum Herstellen von Chromueberzuegen durch Elektrolyse, Verfahren zur Benutzung dieses Bades und Zusaetze fuer ein Chrombad |
US2750334A (en) * | 1953-01-29 | 1956-06-12 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of chromium |
US2750335A (en) * | 1953-07-17 | 1956-06-12 | Udylite Res Corp | Chromium electrodeposition |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2063197A (en) * | 1933-08-30 | 1936-12-08 | Schneidewind Richard | Method of chromium plating |
US2517441A (en) * | 1945-07-09 | 1950-08-01 | Ductile Chrome Process Co | Electrodeposition of chromium |
US3129149A (en) * | 1961-05-08 | 1964-04-14 | M & T Chemicals Inc | Chromium plating process |
-
1964
- 1964-02-20 US US346116A patent/US3282812A/en not_active Expired - Lifetime
-
1965
- 1965-02-01 DE DEU11411A patent/DE1248412B/de active Pending
- 1965-02-19 GB GB7348/65A patent/GB1034494A/en not_active Expired
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2655471A (en) * | 1951-12-21 | 1953-10-13 | Poor & Co | Chromium electroplating |
US2750334A (en) * | 1953-01-29 | 1956-06-12 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of chromium |
US2750335A (en) * | 1953-07-17 | 1956-06-12 | Udylite Res Corp | Chromium electrodeposition |
DE939661C (de) * | 1953-08-31 | 1956-03-01 | Udylite Res Corp | Bad zum Herstellen von Chromueberzuegen durch Elektrolyse, Verfahren zur Benutzung dieses Bades und Zusaetze fuer ein Chrombad |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1290782B (de) * | 1964-12-28 | 1969-03-13 | M & T Chemicals Inc | Galvanisches Chrombad |
DE2502284A1 (de) * | 1974-01-23 | 1975-07-24 | Rotel Holding Ag | Galvanisches verchromungsbad und verfahren zum abscheiden von chromschichten |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB1034494A (en) | 1966-06-29 |
US3282812A (en) | 1966-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1279424B (de) | Bad zum galvanischen UEberziehen von Metallen mit Iridium | |
DE1496917A1 (de) | Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege | |
DE2908846A1 (de) | Galvanisches chrombad | |
DE3875227T2 (de) | Verfahren zur herstellung eines bades fuer die elektroplattierung einer binaeren zinn-kobalt-, zinn-nickel- oder zinn-blei- legierung und damit hergestelltes elektroplattierungsbad. | |
DE1248412B (de) | Galvanisches Verchromungsbad | |
DE2600654A1 (de) | Verfahren zur herstellung von elektrolytisch verchromten stahlblechen | |
DE2049038A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung eines Chrombelags | |
DE2319197C3 (de) | Wäßriges Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung eines duktilen, festhaftenden Zinküberzugs | |
DE1621060C3 (de) | Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von schwarzchromueberzuegen | |
DE2724730A1 (de) | Verfahren und elektrolyt zum abscheiden von chromhaltigen umwandlungsschutzueberzuegen | |
AT510422B1 (de) | Verfahren zur abscheidung von hartchrom aus cr(vi)- freien elektrolyten | |
DE1290782B (de) | Galvanisches Chrombad | |
DE2618638C3 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung von Überzügen aus Zinn-enthaltenden Legierungen | |
DE1446015B2 (de) | Verfahren zum galvanischen Abscheiden von glänzendem rißf^eien Chrom | |
DE1213695B (de) | Saures/galvanisches Chrombad zum Abscheiden rissfreier Chromueberzuege und Trockenmischung zur Herstellung des Bades | |
DE2247840B2 (de) | Galvanisches chrombad | |
US3408272A (en) | Electrodeposition of chromium | |
DE2239962B2 (de) | Verfahren zum galvanischen ueberziehen eines eisensubstrats | |
DE3619386C2 (de) | ||
DE1122344B (de) | Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden von glaenzenden rissfreien Chromueberzuegen | |
DE837794C (de) | Elektrolyt fuer galvanische Niederschlaege aus Silber | |
DE1903580A1 (de) | Verfahren zur Oberflaechenbehandlung von Uran und Uranlegierungen | |
DE815882C (de) | Verfahren zur Erzeugung von Niederschlaegen auf Metallflaechen durch Elektrolyse | |
DE3100997C2 (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Rhodiumüberzügen | |
DE584550C (de) | Verfahren zur elektrolytischen Raffination von Chrom und Ferrochrom sowie zur Erzeugung von Chromsaeure |