DE1199376B - Verfahren zur Herstellung von Schichtwiderstaenden mit vorgegebener Flaechenbegrenzung der Schicht - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Schichtwiderstaenden mit vorgegebener Flaechenbegrenzung der Schicht

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DE1199376B
DE1199376B DER26971A DER0026971A DE1199376B DE 1199376 B DE1199376 B DE 1199376B DE R26971 A DER26971 A DE R26971A DE R0026971 A DER0026971 A DE R0026971A DE 1199376 B DE1199376 B DE 1199376B
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DE
Germany
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mask
layer
carrier
oxide
resistors
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Application number
DER26971A
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English (en)
Inventor
John G Ruckelshaus
Robert D Eaton
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JOHN G RUCKELSHAUS
Original Assignee
JOHN G RUCKELSHAUS
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/06Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base
    • H01C17/075Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques
    • H01C17/08Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for coating resistive material on a base by thin film techniques by vapour deposition
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01CRESISTORS
    • H01C17/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
    • H01C17/22Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming
    • H01C17/24Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material
    • H01C17/245Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors adapted for trimming by removing or adding resistive material by mechanical means, e.g. sand blasting, cutting, ultrasonic treatment

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
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  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)

Description

  • Verfahren zur Herstellung von Schichtwiderständen mit vorgegebener Flächenbegrenzung der Schicht Verfahren zur Herstellung von Schichtwiderständen auf keramischen Trägern, Glasträgern u. dgl. sind in verschiedenen Ausführungsformen bekannt. Insbesondere ist es bekannt, die metallischen Widerstandsschichten bei Temperaturen von über 350° C auf den Träger durch Sublimation einer geeigneten verdampfbaren Legierung aufzubringen. Um Schichtwiderstände mit vorgegebener Flächenbegrenzung der Schicht auf diese Weise zu erzeugen, ist es üblich, auf den Träger zunächst eine Maske aufzubringen, in welcher diejenigen Stellen entfernt sind, an denen die Widerstandsmasse niedergeschlagen werden soll.
  • Bei den bekannten Ausführungsformen verwendet man als Werkstoff für die Masken Lacke, Kunststoff, Fluorauflagen od. dgl. Das ist aus mehreren Gründen nachteilig. Soweit es sich um Werkstoffe handelt, die sich wie Lacke oder Kunststoff leicht aufbringen lassen, sind diese Masken bei den Temperaturen, die zum Zwecke der Sublimation angewandt werden müßten, nicht hinreichend beständig oder nicht hinreichend haftungsbeständig. Andere Werkstoffe, wie beispielsweise Fluor, müssen in umständlicher Weise aufgebracht und graviert werden, um die Stellen freizulegen, an denen die Widerstandsmasse niedergeschlagen werden soll. Hier will die Erfindung eine Vereinfachung schaffen.
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Schichtwiderständen mit vorgegebener Flächenbegrenzung der Schicht auf keramischen Trägern, Glasträgern u. dgl., wobei die metallische Widerstandsschicht bei Temperaturen von über 350° C auf den Träger durch Sublimation einer geeigneten verdampfbaren Legierung aufgebracht wird. Schutz wird begehrt für die Maßnahme, daß auf den Träger zuerst eine der gewünschten Widerstandsfläche als Negativ entsprechende Maske aus einer Mischung eines flüssigen Bindemittels mit einem schwer verdampfenden Metalloxyd, wie Aluminiumoxyd, Chromoxyd, Nickeloxyd und Siliziumoxydul oder Siliziumdioxyd, aufgebracht, diese Maske gebrannt, danach auf die gebrannte Maske sowie die frei liegenden Teile des Trägers die Widerstandsschicht sublimiert wird und daß durch Abreiben oder Abbürsten der Maske die gewünschte Widerstandsfläche freigelegt wird.
  • In Ausbildung der Erfindung kann der Maskenwerkstoff in geschlossener Schicht aufgetragen, z. B. aufgestrichen werden, wobei man mit einem geeigneten Bindemittel arbeiten kann. Die Maske läßt sich dann durch einfaches Auskratzen vor dem Brennen unschwer herstellen. Der Maskenwerkstoff kann aber auch in Form der gewünschten Maske auf den Träger aufgebracht werden, beispielsweise mit Hilfe entsprechender Schablonen od. dgl. Das Brennen der Maske erfolgt zweckmäßig bei Temperaturen von über 425° C, bevorzugt bei etwa 700° C.
  • Die durch die Erfindung erreichten Vorteile sind vor allem darin zu sehen, daß nach dem erfindungsgemäßen Verfahren die zur Herstellung von Schichtwiderständen mit vorgegebener Flächenbegrenzung der Schicht erforderlichen Masken in einfachster Weise werkstoffmäßig vorbereitet und hergestellt werden können. Diese Masken haften hinreichend fest an dem Träger, so daß bei der Sublimation der Widerstandslegierung wohldefinierte Widerstandsfiguren entstehen. Nichtsdestoweniger läßt sich die Maske nach der Sublimation durch Abbürsten leicht entfernen.
  • Im folgenden wird die Erfindung an Hand einer einige Anwendungsbeispiele darstellenden Zeichnung erläutert; es zeigt F i g. 1 eine Aufsicht auf einen flachen Schichtwiderstand, F i g. 2 das Schema des Widerstandes gemäß Fig.l, F i g. 3 in perspektivischer Ansicht und im Schnitt einen zylindrischen Schichtwiderstand, wobei das Profil der Widerstandsschicht auf der Innenfläche aufgezeigt ist, F i g. 4 das zugeordnete Schema des Gegenstandes nach F i g. 3, F i g. 5 eine Aufsicht auf eine Keramikplatte, auf der eine Vielzahl von flachen Schichtwiderständen aufgebracht ist, um die Art der Massenherstellung derartiger Widerstände zu veranschaulichen, und F i g. 6 in der Perspektive einen vergrößerten Ausschnitt aus dem Gegenstand nach F i g. 5.
  • Zunächst wird auf einen Träger eine der gewünschten Widerstandsfläche als Negativ entsprechende Maske aus schwer verdampfenden Metalloxyden, wie Aluminiumoxyd; Chromoxyd, Nickeloxyd mit Siliziumoxydul oder Siliziumdioxyd, aufgebracht. Dabei wird dem Pulver eine tintenähnliche Mischung zugesetzt, mit der die schwer verdampfenden Metalloxyde auf den Träger aufgebracht werden. Die vorstehenden pulverförmigen Metalloxyde sind selbst unter hohem Vakuum und auch bei hohen Temperaturen beständig, ohne dabei zu gasen. Dabei kann der Maskenwerkstoff in geschlossener Schicht aufgetragen, z. B. aufgestrichen werden, wobei man mit einem geeigneten Bindemittel arbeitet. Nach dem Abtrocknen desselben wird die Maske durch einfaches Auskratzen des Maskenwerkstoffes in der Form des gewünschten Schichtwiderstandes fertiggestellt. Man kann jedoch auch den Maskenwerkstoff in der Form der gewünschten Maske auf den Träger aufbringen, beispielsweise mit Hilfe entsprechender Schablonen od. dgl. Anschließend wird die Maske zweckmäßig bei Temperaturen von über 425° C, bevorzugt bei etwa 700° C, gebrannt. Dann wird auf die gebrannte Maske sowie auf die frei liegenden Teile des Trägers die Widerstandsschicht sublimiert und anschließend lediglich durch Abreiben oder Abbürsten bzw. mittels Abblasen durch Druckluft die gewünschte Widerstandsfigur freigelegt. Wie F i g. 1. erkennen läßt, wird z. B. auf einem quadratförmigen und glasierten Keramikteil 11 der Maskenwerkstoff 12 aufgebracht, der bei der dargestellten Ausführungsform aus einer Lösung von grünem Chromoxyd besteht. Anschließend werden die Linien 13, 14 und 15, die die ebenfalls ausgeschnittenen Klemmen 16 und 17 verbinden, ausgeschnitten. Bei der dargestellten Ausführungsform sind anschließend mittels der Schnitte 18, 19, 20 und 21 die beiden Schnitte 14 und 15 verbunden worden. Nach dem Brennvorgang wird anschließend die Widerstandsschicht auf den Träger sublimiert und die Maske durch Bürsten od. dgl. entfernt. Der durch den Schnitt 13 vorbestimmte Verlauf des Schichtwiderstandes stellt einen Reihenanschluß zwischen den Klemmen dar, wobei die Ausschnitte 18, 19, 20 und 21 parallel geschaltet sind. Die Länge und das Profil der vorgezeichneten Linien in der Maske wird naturgemäß von dem gewünschten Widerstand abhängen. Der in der F i g. 1 gezeigte Schichtwiderstand ist besonders zweckmäßig, da er leicht einstellbar ist. Nach der Durchmessung des Widerstandes und bei einer eventuellen Abweichung kann durch Entfernen eines oder mehrerer der Parallelenschnitte 18, 19, 20 bzw. 21 mittels eines Diamantschneiders der gewünschte Widerstandswert eingestellt werden. Wie das in der F i g. 2 aufgezeigte Schema des Gegenstandes nach F i g. 1 aufzeigt, werden die Klerr.-men 16a und 17a durch einen Reihenschlußweg der Widerstände 13 a und 14 a sowie 15 a verbunden. Die Widerstände 14 a und 15 a sind dabei an gleich entfernten Stellen angezapft, die selbst durch die Parallelwiderstände 18a, 19a, 20a und 21a verbunden sind. Durch die Entfernung irgendeines dieser Parallelwiderstände von dem Netzwerk läßt sich somit der Gesamtwiderstand -zwischen den Klemmen verändern. In der F i g. 3 ist eine zylindrische Ausführungsform eines Schichtwiderstandes dargestellt, dessen Herstellung in gleicher Weise erfolgte. Der Träger 22 weist dabei eine zylindrische Formgebung auf und besteht aus glasiertem keramischem Material, welches mit Silberklemmen 23 und 24 versehen ist. Eine Chromoxydmaske 25 bedeckt die innere Fläche des Zylinders. Ein Auftragsapparat mit einer Zylinder-Kolben-Anordnung kann zur Aufbringung der Masken dienen. Bei der dargestellten Ausführungsform besitzt die Maske 3 zu ihrer Zylinderachse parallel verlaufende Schnitte 26, 27 und 28 und einen sich von der Klemme 24 zu dem kreisförmigen Abschnitt 31 erstreckenden Schnitt 29. Die zusätzlichen kreisförmigen Schnitte 32 und 33 vervollständigen die Maske. Die Herstellung des Schichtwiderstandes erfolgt wie vorstehend beschrieben. Auch bei dieser Ausführungsform kann durch Abtrennen einzelner Teile der jeweils gewünschte Widerstand leicht eingestellt werden. In der F i g. 4 ist das entsprechende Schema des Schichtwiderstandes dargestellt. Wie aus den F i g. 5 und 6 zu entnehmen ist, läßt sich der erfindungsgemäße Schichtwiderstand in großen Mengen auf einfache Weise herstellen. Hierzu wird eine große Keramikplatte mittels eines Gitterwerkes mit Vertiefungslinien 36 versehen, die den Träger 34 in Quadrate 35 aufteilen. Jedes Quadrat besitzt zwei Klemmlöcher 37 und 38, die zur Aufnahme der Öse 39 dienen. Vor dem Einbringen dieser Öse 39 werden die Silberklemmen aufgebracht und der Träger gebahnt, um das Silber auf diese Weise am Fließen zu hindern. Die Ösen dienen dabei zur Befestigung eines Schutzdeckels 41 an einer Seite der Keramik. Der Deckel kann auch angekittet werden, wie es durch die Zahlen 42 in F i g. 6 angedeutet wird. Die Öse 39 besitzt Fahnen 43, die mit Lötspitzen versehen sind und als Zuleitung für die einzelnen Widerstände dienen, nachdem die letzteren von der Platte 34 abgebrochen sind. Ferner besteht die Möglichkeit, mittels kleiner Löcher 47 ein Abbrechen der einzelnen Schichtwiderstände nach der Herstellung zu erleichtern.

Claims (1)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zur Herstellung von Schichtwiderständen mit vorgegebener Flächenbegrenzung der Schicht auf keramischen Trägern, Glasträgern u. dgl., wobei die metallische Widerstandsschicht bei Temperaturen von über 350° C auf den Träger durch Sublimation einer geeigneten verdampfbaren Legierung aufgebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß auf den Träger zuerst eine der gewünschten Widerstandsfläche als Negativ entsprechende Maske aus einer Mischung eines flüssigen Binde_=nittels mit einem schwer verdampfenden Metalloxyd, wie Aluminiumoxyd, Chromoxyd, Nickeloxyd mit Siliziumoxydul oder Siliziumdioxyd, aufgebracht, diese Maske gebrannt, danach auf die gebrannte Maske sowie die frei liegenden Teile des Trägers die Widerstandsschicht sublimiert wird und daß durch Abreiben oder Abbürsten der Maske die gewünschte Widerstandsfläche freigelegt wird. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Maskenwerkstoff in geschlossener Schicht aufgetragen, z. B. aufgestrichen wird, wobei man mit einem geeigneten Bindemittel arbeiten kann, und danach die Maske durch Auskratzen hergestellt wird. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Maskenwerkstoff bereits in Form der gewünschten Maske auf den Träger aufgebracht wird. 4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Brennen der Maske bei Temperaturen von über 425° C, bevorzugt bei etwa 700° C, durchgeführt wird. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift Nr. 886 779; französische Patentschrift Nr. 1107 494; USA: Patentschrift Nr. 2 610 606.
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