DE1170081B - Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von HalbleiterbauelementenInfo
- Publication number
- DE1170081B DE1170081B DET21831A DET0021831A DE1170081B DE 1170081 B DE1170081 B DE 1170081B DE T21831 A DET21831 A DE T21831A DE T0021831 A DET0021831 A DE T0021831A DE 1170081 B DE1170081 B DE 1170081B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- zone
- alloy
- zones
- conductivity type
- alloyed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D10/00—Bipolar junction transistors [BJT]
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P32/00—Diffusion of dopants within, into or out of wafers, substrates or parts of devices
- H10P32/10—Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers
- H10P32/16—Diffusion of dopants within, into or out of semiconductor bodies or layers between a solid phase and a liquid phase
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
- H10P95/50—Alloying conductive materials with semiconductor bodies
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DET21831A DE1170081B (de) | 1962-03-24 | 1962-03-24 | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DET21831A DE1170081B (de) | 1962-03-24 | 1962-03-24 | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1170081B true DE1170081B (de) | 1964-05-14 |
| DE1170081C2 DE1170081C2 (enExample) | 1964-11-26 |
Family
ID=7550288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DET21831A Granted DE1170081B (de) | 1962-03-24 | 1962-03-24 | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1170081B (enExample) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1163048A (fr) * | 1955-09-02 | 1958-09-22 | Gen Electric Co Ltd | Diffusion différentielle d'impuretés dans les semi-conducteurs |
| GB836851A (en) * | 1956-09-26 | 1960-06-09 | Gen Electric | Improvements in semiconductor devices and methods of making same |
| DE1094371B (de) * | 1955-07-21 | 1960-12-08 | Philips Nv | Verfahren zur Herstellung einer Legierungselektrode auf einem aus Germanium bestehenden halbleitenden Koerper |
| DE1101624B (de) * | 1958-06-27 | 1961-03-09 | Ibm Deutschland | Verfahren zur Herstellung einer Legierungselektrode an einer Halbleiteranordnung |
-
1962
- 1962-03-24 DE DET21831A patent/DE1170081B/de active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1094371B (de) * | 1955-07-21 | 1960-12-08 | Philips Nv | Verfahren zur Herstellung einer Legierungselektrode auf einem aus Germanium bestehenden halbleitenden Koerper |
| FR1163048A (fr) * | 1955-09-02 | 1958-09-22 | Gen Electric Co Ltd | Diffusion différentielle d'impuretés dans les semi-conducteurs |
| GB836851A (en) * | 1956-09-26 | 1960-06-09 | Gen Electric | Improvements in semiconductor devices and methods of making same |
| DE1101624B (de) * | 1958-06-27 | 1961-03-09 | Ibm Deutschland | Verfahren zur Herstellung einer Legierungselektrode an einer Halbleiteranordnung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE1170081C2 (enExample) | 1964-11-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2312413B2 (de) | Verfahren zur herstellung eines matrixschaltkreises | |
| DE1035787B (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit mehreren UEbergaengen, z. B.Flaechen-Transistoren | |
| DE1964979B2 (de) | Halbleiterbauelement mit wenigstens einem lateralen transistor und verfahren zu seiner herstellung | |
| DE1194500B (de) | Halbleiterbauelement mit einer Mehrzahl von eingesetzten streifenfoermigen Zonen eines Leitfaehigkeitstyps und Verfahren zum Herstellen | |
| DE1806980A1 (de) | Halbleiter-Bauelement | |
| DE1218618B (de) | Diffusionsverfahren zum Herstellen eines Transistors | |
| DE1764829B1 (de) | Planartransistor mit einem scheibenfoermigen halbleiter koerper | |
| DE1514656A1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Halbleiterkoerpern | |
| DE1639581B1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung | |
| DE1769271C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Festkörperschaltung | |
| DE2405067C2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung | |
| DE1514806C (de) | Verfahren zur Herstellung einer sper renden oder nichtsperrenden Elektrode an einem Halbleiterkörper sowie einer diese Elektrode kontaktierenden Leitbahn | |
| DE2028632A1 (de) | Halbleiterbauelement | |
| DE1614910C3 (de) | Halbleiteranordnung | |
| DE1116829B (de) | Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung | |
| EP0061046A1 (de) | Rückwärts nicht sperrender Thyristor | |
| DE1439618C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterdiode oder eines Transistors | |
| DE1614772C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltung | |
| DE1764829C (de) | Planartransistor mit einem scheibenförmigen Halbleiterkörper | |
| CH406439A (de) | Halbleiteranordnung mit einem im wesentlichen einkristallinen Halbleiterkörper | |
| DE1514865C (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung | |
| DE2711657C2 (de) | Planardiffusionsverfahren mit mindestens zwei aufeinanderfolgenden Diffusionsprozessen | |
| DE1614286C3 (de) | Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE1514921C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiterdiode | |
| DE1189657B (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen mit legierten Elektroden |