DE1154904B - Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0ª Wellenlaenge mit sehr duennem Querschnitt - Google Patents
Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0ª Wellenlaenge mit sehr duennem QuerschnittInfo
- Publication number
- DE1154904B DE1154904B DEC21795A DEC0021795A DE1154904B DE 1154904 B DE1154904 B DE 1154904B DE C21795 A DEC21795 A DE C21795A DE C0021795 A DEC0021795 A DE C0021795A DE 1154904 B DE1154904 B DE 1154904B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- glass
- wavelength
- sulfur
- thin cross
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 37
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 8
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 2
- QVYYOKWPCQYKEY-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co] Chemical compound [Fe].[Co] QVYYOKWPCQYKEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N Ferrous sulfide Chemical compound [Fe]=S MBMLMWLHJBBADN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 3
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEPSWGHMGZQCIN-UHFFFAOYSA-H ferric oxalate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O.[O-]C(=O)C([O-])=O VEPSWGHMGZQCIN-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- HEHRHMRHPUNLIR-UHFFFAOYSA-N aluminum;hydroxy-[hydroxy(oxo)silyl]oxy-oxosilane;lithium Chemical compound [Li].[Al].O[Si](=O)O[Si](O)=O.O[Si](=O)O[Si](O)=O HEHRHMRHPUNLIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound [Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 UQGFMSUEHSUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N iron(II,III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000010309 melting process Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229910052670 petalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/02—Containers; Seals
- H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
- H01L23/041—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction having no base used as a mounting for the semiconductor body
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C27/00—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing
- C03C27/02—Joining pieces of glass to pieces of other inorganic material; Joining glass to glass other than by fusing by fusing glass directly to metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein undurchlässiges Glas für Strahlungen zwischen 0,2 und 2,0 μ mit sehr dünnem
Querschnitt, welches sich insbesondere als Behälterumhüllung für halbleitende Kristalle eignet, wie sie in
elektronischen Elementen, z. B. Transistoren und Dioden, Verwendung finden.
Man hat elektronische Bauelemente bereits hergestellt, indem man geeignete Kristalle, beispielsweise
aus Germanium oder Silizium, in Glashüllen hermetisch eingeschlossen hat, um die Kristalle vor einer Zerstörung
durch Umsetzung mit unerwünschten Bestandteilender Atmosphäre, beispielsweise Wasserdampf, zu
schützen. Das bisher für diesen Zweck verwendete Glas war durchsichtiges Glas, welches nach seinen
günstigen Ausdehnungseigenschaften für die Durchführung elektrischer Leitungen nach ausreichendem
elektrischem Widerstand ausgewählt wurde, um einen Kurzschluß zu verhindern. Die mit Glas umschlossenen
Elemente wurden dann mit einem dichten schwarzen Farbüberzug versehen, um Änderungen
der Charakteristiken des Kristalls zu vermeiden, die sich ergeben, wenn man den Kristall elektromagnetischen
Wellen mit Wellenlängen zwischen 0,2 und 2,0 μ aussetzt, d. h. Wellenlängen vom ultravioletten
Bereich über das sichtbare Spektrum in den Bereich von annähernd Infrarot. Obwohl anzunehmen war,
daß ein Opakglas den zeitraubenden und teueren Vorgang des Bemalens des fertigen Produktes beseitigen
und zu einem Überzug führen würde, welcher keinem Abrieb bzw. Abblättern unterliegt, hielt man
es doch für unmöglich, ein Glas herzustellen, welches in jeder anderen Hinsicht befriedigt und doch eine
so weitgehende Undurchlässigkeit aufweist, daß die schädliche Strahlung selbst von den erwünschten,
sehr dünnen Querschnitten absorbiert wird.
Ziel der Erfindung ist die Schaffung eines Glases, welches bei sehr dünnen Querschnitten, beispielsweise
solchen von 0,5 mm und darunter für Strahlung zwischen 0,2 und 2,0 μ Wellenlänge vollständig undurchlässig
ist, einen elektrischen Widerstand bei 350° C über 100 000 Ohm/cm und bei 250° C über
3 000 000 Ohm/cm, einen Ausdehnungskoeffizienten von etwa 45 bis 55 · IO-7/0 C zwischen 0 und 300° C,
einen äquivalenten Erstarrungspunkt zwischen 420 und 4900C und eine Viskosität von wenigstens
15 000 Poises beim Verflüssigungspunkt aufweist, um das Glas auf automatisch arbeitenden Maschinen zu
Röhren ausziehen zu können.
Außerdem soll zwischen einem derartigen Glas und einem Metall, dessen Ausdehnungskoeffizient zwisehen
etwa 50 und 60 · 10~7/° C zwischen 0 und 3000C liegt, wie es beispielsweise bei Molybdän
Undurchlässiges Glas für Strahlungen
zwischen 0,2 und 2,0 μ Wellenlänge
mit sehr dünnem Querschnitt
Anmelder:
Corning Glass Works,
Corning, N. Y. (V. St. A.)
Corning, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter: Dipl.-Ing. R. H. Bahr
und Dipl.-Phys. E. Beteler, Patentanwälte,
Herne, Freiligrathstr. 19
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 1. Juli 1959 (Nr. 824 337)
V. St. v. Amerika vom 1. Juli 1959 (Nr. 824 337)
Robert Hennah Dalton, Corning, N. Y. (V. St. A.), ist als Erfinder genannt worden
oder Eisen-Nickel-Kobalt-Legierungen der Fall ist, die unter dem Namen »Kovar« bekannt sind, eine
ausreichende Verschmelzung oder Abdichtung möglich sein.
Ein solches Glas nach der Erfindung ist als Behälterumhüllung für einen halbleitenden Kristall geeignet,
indem es diesen hermetisch umschließt und abdichtet.
Es hat sich herausgestellt, daß sich die oben angegebenen Ziele mit einem Glas erreichen lassen,
welches in Gewichtsprozent enthält:
56 bis 64% SiO2
15 bis 21% B2O3
15 bis 21% B2O3
0 bis 4% Na2O ι wobei der Gesamtanteil an
1 bis 6% K2O L Na2O, K2O und Li2O bei
Obis 1,0% Li0O J 4 bis 6% liegt
2 bis 5% Al2O3
2 bis 10% Fe2O3
0,05 bis 0,5% Schwefel,
2 bis 10% Fe2O3
0,05 bis 0,5% Schwefel,
errechnet als freier Schwefel
2 bis 5% CO3O4
2 bis 5% CO3O4
Zusätzlich kann das Glas bis zu 3% TiO2, bis zu
2% V2O5 sowie bis zu 3% elementaren Kohlenstoff
enthalten, um die Intensität der Schwarzfärbung zu verstärken.
309 689/121
Die glasbildenden Bestandteile müssen innerhalb der oben vorgeschriebenen Grenze liegen, um die an
das Glas gestellten Forderungen zu erfüllen. So dürfen die Anteile an Alkali (R2O) und B2O3 die angegebenen
Minima nicht, unterschreiten, wenn man ein schmelzbares Glas erzielen will, während eine
Steigerung über die angegebenen Maxima den Ausdehnungskoeffizienten auf einen unerwünschten Wert
steigern würde.
Die Anteile an Eisenoxyd, Kobaltoxyd und Schwefel sind kritisch,. und jeder dieser Bestandteile
muß einzeln und zusammen innerhalb der angegebenen Bereiche gehalten werden, um ein brauchbares
Produkt zu erzielen. Weniger als die minimale Menge einer dieser drei Bestandteile führt zu einem
Glas, welches nicht die gewünschte Undurchsichtigkeit über das ganze Spektrum von 0,2 bis 2,0 μ aufweist.
Während diese. Bestandteile in einer Glasschmelze verträglich sind, wenn sie in den angegebenen
Anteilen vorliegen, führt ein Überschreiten der angegebenen Bereiche durch einen oder mehrere
dieser Bestandteile zu einer Ausfällung metallischen Kobalts im Glas, wodurch das Glas inhomogen wird
und das Kobalt sich vom Glas in der Schmelzanlage abscheidet und es wegen des raschen Angriffes auf
die Auskleidung zu Zerstörungen der Wanne oder des Tiegels kommt.
Eine bevorzugte Zusammensetzung, errechnet als Gemenge für eine Schmelze gemäß der vorliegenden
Erfindung, ist folgende
K2O
Li2O
FO
Li2O
FO
59,1 18,3
SiO2
B2O3 =
Na2O 1,2
3,2
0,8
8,8
3,8
2,8
1,0
1,0
23
Co3O4
Al2O3
TiO
Co3O4
Al2O3
TiO
2
V2O5
V2O5
S
C
C
100,0
. 0,4 ■ 2,7
35
40
45
Die angegebenen Mengen der Metalloxyde machen insgesamt 100% aus, während die Menge an
Schwefel und Kohlenstoff gesondert angegeben ist, da diese Stoffe, sofern sie im fertigen Glas verbleiben,
sich vermutlich in anionischer Form befinden.
Die erfindungsgemäßen Gläser müssen unter reduzierenden Bedingungen geschmolzen werden, was
man dadurch erreicht, daß man Gemengematerialien wählt, die nicht oxydierend sind und geeignete reduzierende
Materialien enthalten. Aus der Zusammensetzung des fertigen Glases, welches Schwefel enthält,
ergibt sich, daß man als reduzierendes Mittel elementaren Schwefel in das Gemenge einbauen kann.
Auch Eisensulfid, welches als reduzierendes Mittel wirkt, eignet sich als Ausgangssubstanz für den
Schwefel. Das Eisen kann lediglich als Eisensulfid zugegeben werden. Wegen der Notwendigkeit der Aufrechterhaltung
des richtigen Ausmaßes der Reduktion kann man auch Magnetit in dem Gemenge neben
dem Eisensulfid oder in Kombination mit Schwefel Eisenoxalat verwenden, ein anderes wirksames Reduzierungsmittel.
Darüber hinaus kann man ein zusätzlich reduzierendes Mittel in das Gemenge in Form von elementarem
Kohlenstoff einbauen, beispielsweise Ruß, Graphit oder gepulverte Kohle.
Ein bevorzugtes Gemenge zum Erschmelzen von Glas in einem 96% kieselsäurehaltigen Schmelztiegel
in einem elektrisch beheizten Ofen enthält folgende Gewichtsteile:
Pulverisierten Sand 240
Wasserfreies Borax 11
Wasserfreie Borsäure 82
Petalit (Li2O · Al2O3 · 8 SiO2) 88
Kaliumkarbonat 25
Eisenoxalat 105
Kobaltoxyd 20
Titandioxyd 5
Vanadiumpentoxyd 5
Schwefel 2
Aus diesem Gemenge erhält man in etwa 16 Stunden durch Schmelzen in einem feuerfesten Tiegel bei
einer Temperatur von 15500C ein Glas der bevorzugten
Zusammensetzung. Ein derart hergestelltes Glas hat einen Ausdehnungskoeffizienten von
49 · IO-7/0 C (0 bis 300° C), einen äquivalenten
Erstarrungspunkt von 478° C sowie andere physikalische Eigenschaften, die es für den beabsichtigten
Verwendungszweck geeignet machen, und ist wenigstens zu 99,5% undurchlässig für alle Strahlungen
mit Wellenlängen zwischen 0,2 und 2 μ bei einer Dicke von 4/100mm (der äquivalente Erstarrungspunkt
ist eine hypothetische Temperatur, die diejenige Temperatur angeben soll, bei der das Glas
beim Verschmelzen mit Metall erstarrt. Näheres darüber in dem Artikel »Stresses in Glass-Metal Seals«
in Jour. Am. Cer. Soc, Bd. 3, Nr. 7, S. 224 usf. [Juli 1950]).
Das gleiche Gemenge eignet sich nicht zum Schmelzen von Glas in einem Hafenofen, da das
Kobaltoxyd zu geschmolzenem Metall reduziert wird, welches den Hafen angreift und ihn zersetzt. Ein geeignetes
Gemenge zum Erschmelzen in einem Hafen erhält man durch Verminderung des Schwefelanteils
in dem obigen Gemenge auf etwa 0,1 bis 0,2 °/o. Während der Gesamtschwefelanteil im Gemenge dadurch
herabgesetzt wird, geht während des Schmelzprozesses weniger durch Verflüchtigung aus dem
Hafen als bei einem Tiegel verloren. Da Schwefel in Sulfid oder freier Schwefelform bei erhöhten Temperaturen,
wie sie beim Erschmelzen dieses Glases vorliegen, leicht oxydiert werden kann, ist der im
das verbleibende Schwefelanteil kleiner als der für das Gemenge errechnete Anteil. Wenn elementarer
Kohlenstoff in das Gemenge eingeführt wird, wird in gleicher Weise ein Teil des Kohlenstoffs zu CO2 oxydiert,
welches aus der Glasschmelze verdampft, so daß der im Glas verbleibende Kohlenstoffanteil
kleiner ist als die Menge, die auf der Basis des dem Gemenge zugesetzten Kohlenstoffs berechnet ist.
Die erfindungsgemäßen Gläser eignen sich insbesondere für die Herstellung eines Behälters für halbleitende Kristalle, da sie für Strahlungen mit Wellenlängen
zwischen 0,2 und 2,0 μ undurchlässig sind. Der Ausdruck »opak« oder »undurchlässig« soll bedeuten,
daß sie weniger als 1% der Strahlung einer bestimmten Wellenlänge in der vorgeschriebenen
Dicke hindurchlassen. Darüber' hinaus haben diese Gläser Viskositätseigenschaften, welche die Verarbei-
tung des Glases in dünnwandige Röhren auf üblichen Rohrausziehmaschinen erlauben.
Claims (3)
1. Undurchlässiges Glas für Strahlungen zwisehen
0,2 und 2,0 μ Wellenlänge mit sehr dünnem Querschnitt zum Verschmelzen mit einem Draht
aus Molybdän oder einer Eisen-Nickel-Kobalt-Legierung, dadurch gekennzeichnet, daß es, in
Gewichtsprozent, aus 56 bis 64% SiO2, 15 bis
21% B2O3, 0 bis 4% Na2O, 1 bis 6% K2O,
O bis 1,0%Li.,O. mit einem Gesamtalkalianteil
von 4 bis 6% R2O, 2 bis 5% Al2O3, 2 bis 10%
Fe2O3 und 2 bis 5% Co3O4 besteht und außerdem
noch 0,05 bis 0,5% Schwefel, errechnet als freier Schwefel, enthält.
2. Glas nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es bis zu 3 Gewichtsprozent TiO2
und bis zu 2 Gewichtsprozent V2O5 und außerdem
bis zu 3% elementaren Kohlenstoff enthält.
3. Verwendung eines Glases nach Anspruch 1 oder 2 als Behälterumhüllung für einen halbleitenden Kristall, wobei die beiden Zuführungsdrähte aus Molybdän oder einer Eisen-Kobalt-Legierung
die Umhüllung durchsetzen und mit ihr verschmolzen sind.
© 309 689/121 9.63
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US824337A US3114863A (en) | 1959-07-01 | 1959-07-01 | Opaque glass and semiconductive device made therefrom |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1154904B true DE1154904B (de) | 1963-09-26 |
Family
ID=25241127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEC21795A Pending DE1154904B (de) | 1959-07-01 | 1960-06-29 | Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0ª Wellenlaenge mit sehr duennem Querschnitt |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3114863A (de) |
| BE (1) | BE592485A (de) |
| DE (1) | DE1154904B (de) |
| GB (1) | GB917037A (de) |
| NL (2) | NL120525C (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3206659A (en) * | 1963-05-10 | 1965-09-14 | Jfd Electronics Corp | Trimmer capacitor with radiation absorbing glass envelope |
| DE1249466B (de) * | 1963-10-29 | 1900-01-01 | ||
| US4342553A (en) * | 1980-10-01 | 1982-08-03 | General Electric Company | Glass to nickel-iron alloy seal |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US756676A (en) * | 1902-11-10 | 1904-04-05 | Internat Wireless Telegraph Company | Wave-responsive device. |
| US2220690A (en) * | 1937-03-09 | 1940-11-05 | Stupakoff Lab Inc | Glass and metal construction unit |
| US2582852A (en) * | 1948-06-16 | 1952-01-15 | Pittsburgh Corning Corp | Method of making cellular glass of light color |
-
0
- NL NL252846D patent/NL252846A/xx unknown
- NL NL120525D patent/NL120525C/xx active
-
1959
- 1959-07-01 US US824337A patent/US3114863A/en not_active Expired - Lifetime
-
1960
- 1960-06-24 GB GB22295/60A patent/GB917037A/en not_active Expired
- 1960-06-29 DE DEC21795A patent/DE1154904B/de active Pending
- 1960-06-30 BE BE592485A patent/BE592485A/fr unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL120525C (de) | 1965-08-16 |
| GB917037A (en) | 1963-01-30 |
| US3114863A (en) | 1963-12-17 |
| BE592485A (fr) | 1960-12-30 |
| NL252846A (de) |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0071927B1 (de) | Verfahren zur Verfestigung von radioaktiven Abfällen | |
| DE2905875C2 (de) | Optisches Glas im System P↓2↓O↓5↓-Nb↓2↓O↓5↓ | |
| DE1248244B (de) | Verfahren zur Herstellung eines auf einem Glas-Kristall-Mischkoerper befindlichen Metallfilmes | |
| DE1596938B2 (de) | Verfahren zur herstellung von mit kobaltoxid gefaerbtem glas in einer relativ grossen schmelzeinrichtung im kontinuierlichen betrieb | |
| DE2222771A1 (de) | Glaeser mit hohem Silberoxidgehalt und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE2159759C3 (de) | Nb tief 2 0 tief 5 -haltige Borosilikatgläser mittlerer bis hoher Brechzahl, relativ großer Dispersion und hoher chemischer Beständigkeit, sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE1496091A1 (de) | Phototropische Glaskoerper | |
| DE2719250B2 (de) | Optisches Glas mit einem Brechungsindex von 137 bis 1,98 und einer Abbe-Zahl von 18 bis 46 | |
| DE3743609A1 (de) | Lichtdurchlaessige calciumphosphatglaskeramik | |
| DE1265360B (de) | Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0 ª– zur Herstellung einer Glas-Metall-Verschmelzung | |
| DE1496644C2 (de) | Silberhaltige Überzugsmasse | |
| DE1154904B (de) | Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0ª Wellenlaenge mit sehr duennem Querschnitt | |
| DE2853670C2 (de) | ||
| EP0767763A2 (de) | Borosilicatglas | |
| DE1154242B (de) | Nichtbraeunendes, durchsichtiges Phosphatglas | |
| DE2346778C2 (de) | Verwendung von im glasartigen Zustand als Fritte vorliegenden Teilchen als Flußmittel zum Stranggießen von Stahl | |
| DE69216883T2 (de) | Glasfritten und ihre Verwendung in Emailbarriereschichten zur Verhinderung der Silbermigration | |
| DE1273757B (de) | Glas, insbesondere als lichtdurchlaessige Schutzschicht fuer Elektrolumineszenzanordnungen | |
| DE1206555B (de) | Verfahren zur Herstellung eines Glasbandes durch Aufgiessen von geschmolzenem Glas auf eine Traegerfluessigkeit | |
| DE4324492A1 (de) | Glas auf der Basis von Siliciumoxid und Calciumoxid | |
| DE2754714B2 (de) | Nichtbeschlagendes Glas des Grundglassystems P2 O5 - RO-(B2 O3 - R2 O-PbO) | |
| DE1149140B (de) | Fritte zur Herstellung von Leuchtemails | |
| DE1049063B (de) | Glaeser zum direkten Verschmelzen mit Metallen und Legierungen hoher thermischer Ausdehnung | |
| DE554027C (de) | Verfahren zur Herstellung bleihaltiger Glaeser, Emails, Glasuren u. dgl. | |
| DE845249C (de) | Ultraviolett- und infrarotdurchlaessige Glaeser |