DE1265360B - Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0 ª– zur Herstellung einer Glas-Metall-Verschmelzung - Google Patents

Undurchlaessiges Glas fuer Strahlungen zwischen 0, 2 und 2, 0 ª– zur Herstellung einer Glas-Metall-Verschmelzung

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DE1265360B DEC21813A DEC0021813A DE1265360B DE 1265360 B DE1265360 B DE 1265360B DE C21813 A DEC21813 A DE C21813A DE C0021813 A DEC0021813 A DE C0021813A DE 1265360 B DE1265360 B DE 1265360B
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Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. CI.:
CO3c
Deutsche Kl.: 32 b - 5/02 f
Nummer: 1 265 360
Aktenzeichen: C 21813 VI b/32 b
Anmeldetag: 30. Juni 1960
Auslegetag: 4. April 1968
Die Erfindung bezieht sich auf ein für Strahlungen zwischen 0,2 und 2,0 μ undurchlässiges Glas zur Herstellung einer Glas-Metall-Verschmelzung, insbesondere im Zusammenhang mit Behältern für halbleitende Kristalle, wie sie in elektronischen Elementen, beispielsweise Transistoren und Dioden, Verwendung rinden.
Verschiedene elektronische Vorrichtungen werden dadurch hergestellt, daß man geeignete Kristalle, beispielsweise aus Germanium oder Silicium, in Glas- ίο hüllen hermetisch einschließt, um die Kristalle vor Zerstörung durch Umsetzung mit unerwünschten Bestandteilen der Atmosphäre, beispielsweise Wasserdampf, zu schützen. Bis jetzt wurde durchsichtiges Glas verwendet, das im Hinblick auf günstige Ausdehnungseigenschaften ausgewählt war, so daß elektrische Leitungen hindurchgeführt werden konnten. Außerdem hat man einen ausreichenden elektrischen Widerstand verlangt, um ein Kurzschließen der Elemente zu verhindern.
Das mit Glas umschlossene Element wurde dann mit einer dichten schwarzen Farbe überzogen, um Änderungen der Eigenschaften des Kristalls zu verhindern, die sich daraus ergeben, daß er elektromagnetischer Energie mit Wellenlängen zwischen 0,2 und 2,0 μ ausgesetzt ist, d. h. vom Ultraviolettbereich über das sichtbare Spektrum bis in den Bereich von Infrarot. Obwohl man annehmen könnte, daß ein Opakglas die zeitraubende und teure Arbeit des Bemalens des fertigen Elementes ersparen sowie einen Überzug ergeben würde, welcher nicht abblättert und keinem Abrieb ausgesetzt ist, hielt man es nicht für möglich, ein Glas zu erzeugen, welches in allen anderen Punkten geeignet ist und außerdem eine ausreichende Undurchsichtigkeit besitzt, um die schädlichen Strahlungen auch bei sehr dünnen Querschnitten zu absorbieren.
Aufgabe der Erfindung ist die Schaffung eines Glases, welches bei sehr dünnen Querschnitten, beispielsweise solchen bis zu 0,5 mm und darunter, für Strahlungen zwischen 0,2 und 2,0 μ im wesentlichen undurchlässig ist, eine elektrische Widerstandsfähigkeit über 100000 Ohm/cm bei 3500C und über 3000000 Ohm/cm bei 2500C, einen Ausdehnungskoeffizienten von 85 bis 95 · Kh7/0 C zwischen 0 und 3000C, einen äquivalenten Erstarrungspunkt zwischen 420 und 49O0C und eine Viskosität von wenigstens 15000 Poises am Verfestigungspunkt aufweist, um ein Ausziehen von Röhren auf automatischen Maschinen zu ermöglichen.
Das erfindungsgemäße Glas soll dabei insbesondere eine geeignete Glas-Metall-Verschmelzung mit Undurchlässiges Glas für Strahlungen zwischen
0,2 und 2,0 μ zur Herstellung einer
Glas-Metall-Verschmelzung
Anmelder:
Corning Glass Works, Corning, N. Y. (V. St. A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. R. H. Bahr
und Dipl.-Phys. E. Betzier, Patentanwälte,
4690 Herne, Freiligrathstr. 19
Als Erfinder benannt:
Robert Hennah Dalton, Corning, N. Y. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 1.Mi 1959 (824 369) --
einem kupferüberzogenen Eisen-Nickel-Draht ermöglichen.
Ein solches Glas soll als Behälterumhüllung für einen halbleitenden Kristall geeignet sein, diesen also hermetisch umschließen und abdichten.
Die Zeichnung zeigt einen vergrößerten Querschnitt durch eine besonders geeignete Ausführungsform des Erfindungsgegenstandes.
Es hat sich herausgestellt, daß die oben angegebene Aufgabe mit einem Glas gelöst werden kann, welches folgende Bestandteile in Gewichtsprozent — berechnet auf der Basis des Gemenges — enthält:
65 bis 76% SiO2,
2 bis 10% Fe2O3,
2 bis 5% Co3O4,
0,2 bis 1,1% s,
1 bis 10% CaO,
0 bis 10% MgO,
0 bis 15% Na2O,
0 bis 20% K2O,
0 bis 5% Al2O3,
bis zu 3% C,
wobei die Gesamtmenge an CaO und MgO 1 bis 10% und an Na2O und K2O 12 bis 20% beträgt.
Die glasbildenden Bestandteile müssen innerhalb der oben angegebenen Grenzen liegen, um die an das Glas zu stellenden Forderungen im Glas zu erfüllen. So darf der Alkaligehalt nicht kleiner als 12% sein, um den gewünschten Ausdehnungskoeffizienten aufrechtzuerhalten, während eine Menge über 20% zu
809 537/255
einem zu hohen Ausdehnungskoeffizienten und zu einer Abnahme des elektrischen Widerstandes auf einen unerwünschten Wert führt. Wenigstens 1% und vorzugsweise 2% CaO müssen im Glas vorhanden sein, um den gewünschten elektrischen Widerstand und die chemische Dauerhaftigkeit'zu erzielen. Mehr als 10 °/o CaO steigern den Anlaßpunkt des Glases in nachteiliger Weise. MgO kann ohne schädliche Einflüsse teilweise an die Stelle von CaO treten. Man kann bis zu 5% Aluminiumoxyd ins Glas einbauen, vorzugsweise 2 bis 3%, um die Beständigkeit des Glases zu steigern und die Viskosität des Glases zu erhöhen.
Die Anteile an Eisenoxyd, Kobaltoxyd und Schwefel sind kritisch, und jeder Bestandteil muß einzeln und zusammen in den angegebenen Bereichen gehalten werden, um ein brauchbares Produkt zu erzielen. Weniger als die minimale Menge eines dieser drei Bestandteile führt zu einem Glas, welches nicht die gewünschte Undurchlässigkeit über den ganzen Bereich von 0,2 bis 2,0 μ aufweist. Während diese Bestandteile in einer Glasschmelze bei Vorhandensein in den angegebenen anteiligen Mengen verträglich sind, führt ein Überschreiten der angegebenen Bereiche durch einen oder mehrere dieser Bestandteile zu einer Ausfällung von metallischem Kobalt im Glas, so daß das Glas inhomogen wird und das Kobalt sich vom Glas in der Schmelzanlage trennt, was wegen des raschen Angriffs auf die Auskleidung zu Fehlern des Tiegels führt.
Es sind bereits gefärbte Gläser bekannt, deren Grundbestandteile innerhalb der angegebenen Grenzwerte liegen. Es ist auch bereits bekannt, als färbende Stoffe reduzierende Farbstoffe auf der Grundlage von Schwefel oder Mischungen von Schwefelverbindungen und Kohle zuzusetzen (deutsche Patentschriften 1023 863 und 1019 445). Mit den bekannten Gemengen ist es jedoch nicht möglich, Gläser zu erreichen, die eine Undurchlässigkeit für Bestrahlungen zwischen 0,2 und 2,0 μ aufweisen.
Bekannt ist ferner ein Verfahren zur Herstellung schwarzen Glases auf Soda-Kalk-Kieselsäure-Basis mit Selengehalt und wenigstens einem der Elemente Kobalt, Nickel und Eisen (USA.-Patentschrift 2 309 071). Hier fehlt es jedoch an jeder Lehre hinsichtlich der gegenseitigen Beziehung des Schwefel- und Kohlenstoffgehaltes, die für das erfindungsgemäße Glas und seine Eigenschaften unerläßlich ist.
Beispiele für geeignete Glaszusammensetzungen, berechnet auf der Grundlage des Gemenges, sind in der Tabelle angegeben. Die angegebenen Mengen an Metalloxyden betragen insgesamt 100 %, während die Menge an Schwefel und Kohlenstoff im Überschuß über 100% angegeben, sind bis zu jenem Ausmaß, in dem sie im fertigen Glas verbleiben, wobei sie vermutlich in anionischer Form vorliegen.
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11
SiO2 69,6
14,6
1		 71
14
1		 76
15
1		 69
14
1		 70
13
1		 68
12
3		 68
10
5		 73
11
5		 70
14
1		 69,2
13,8
1		 72
15
Na2O 3,5 3 -3 3 5 4 4 5 2 3 6
K2O 2,4
2,2
4,7
2
1,1
0		 9
2
1,0
2,8		 1
2,0
2
1,0
1,0		 2
9
2
1,0
2,8		 9
2
0,8
O δ
l,b 		2
9
2
1,0
Z, 0 		2
9
2
1,0
2,8		 2
2,0
2
1,0
1,0		 2
9
2
1,0
2,8		 2
9
2
1,0
2,8
CaO 2
3
2
1,0
0,9
MgO
Al2Oo
Fe9O,
C00O4
S
C
Diese Gläser müssen unter reduzierenden Bedingungen erschmolzen werden, was man durch Verwendung von Ausgangsmaterialien erreicht, die ausnahmslos nichtoxydierenden Charakter haben und von denen wenigstens eines reduzierenden Charakter aufweist. Man kann elementaren Schwefel als reduzierendes Mittel verwenden, jedoch ist es wirtschaftlicher, den Schwefel in Form von Eisensulfid zu verwenden, welches ebenfalls ein wirksames Reduktionsmittel ist. Die Menge des zugegebenen reduzierenden Mittels ist kritisch und hängt von der Art der verwendeten Schmelzanlage ab. Ein geeignetes Mittel zur Einstellung der reduzierenden Bedingungen besteht darin, das Verhältnis von Eisensulfid zu Eisenoxyd in Form von Magnetit zu ändern oder kohlenstoffhaltige, reduzierende Mittel wie Eisenoxalat, Graphit, Lampenruß oder gepulverte Kohle zu dem Gemenge hinzuzugeben.
Ein bevorzugtes Gemenge zum Erschmelzen des Glases in einem Tiegel aus Silikamaterial mit 96% SiO2 in einem elektrisch beheizten Ofen enthält folgende Gewichtsteile:
Pulverisierter Sand 308
Natriumcarbonat 120
Dolomitkalkstein 55
Georgia-Feldspat 55
Kobaltoxyd 10
Eisensulfid 15
Magnetit 10
Ein Glas der Zusammensetzung nach Beispiel 1 der Tabelle wird aus diesem Gemenge in 4 Stunden bei einer Temperatur von 14500C erschmolzen. Das erzeugte Glas hat einen Ausdehnungskoeffizienten von 91 · 10-7/oC (0 bis 3000C), einen äquivalenten Erstarrungspunkt von 444° C, einen elektrischen Widerstand von 3,1 · 10e Ohm/cm bei 2500C und 125000 Ohm/cm bei 35O0C, eine Viskosität von mehr als 30000 Poises beim Verfiüssigungspunkt und ist wenigstens zu 99,5 % undurchlässig für alle Strahlungen mit Wellenlängen zwischen 0,2 und 2,0 μ in einer Dicke von 7/100mm. (Der äquivalente Erstarrungspunkt ist eine hypothetische Temperatur, die die Temperatur angibt, bei der das Glas starr wird, wenn es mit Metall abgedichtet wird. Der Ausdruck ist erklärt in dem Artikel »Stresses in Glass-Metal-Seals« in Jour. Am. Cer. Soc, Vol. 3, Nr. 7, S. 224ff. [(JuIi 1950]).
Ein solches Gemenge eignet sich nicht zum Erschmelzen des Glases in einem Hafen, da Kobaltoxyd zum geschmolzenen Metall reduziert wird und den Hafen angreift und zu einer Zerstörung desselben führt. Man erhält jedoch ein geeignetes Gemenge für das Schmelzen in einem Hafen durch Verringern des Anteils an Eisensulfid in dem oben angegebenen Gemenge bei gleichzeitiger Steigerung des Magnetitanteils. Während der gesamte Schwefel im Gemenge dadurch verringert wird, geht durch Verflüchtigung aus dem Hafen weniger verloren als aus dem Tiegel während des Schmelzprozesses. Da Schwefel in der Sulfidform oder in Form freien Schwefels bei den während des Schmelzens dieses Glases auftretenden erhöhten Temperaturen leicht oxydiert, ist der Anteil an im Glas verbleibendem Schwefel kleiner als die aus dem Gemenge errechnete Menge. Wird Kohlenstoff in das Gemenge in elementarem Zustand eingeführt, dann wird dieser in gleicher Weise teilweise zu CO2 oxydiert, welches sich aus dem Glasgemenge verflüchtigt. Daher ist die im Glas verbleibende Kohlenstoffmenge kleiner als die auf der Basis des dem Gemenge zugegebenen elementaren Kohlenstoffes berechnete Menge.
Die erfindungsgemäßen Gläser eignen sich insbesondere zur Herstellung eines Behälters oder einer Hülle für einen halbleitenden Kristall, da sie für Strahlungen mit Wellenlängen von 0,2 bis 2,0 μ undurchlässig sind. Der Ausdruck »undurchlässig« oder »opak« bedeutet eine Durchlässigkeit unter 1% für die Strahlung einer besonderen Wellenlänge bei den vorgeschriebenen Schichtdicken des Glases. Darüber hinaus besitzen diese Gläser Viskositätseigenschaften, welche ihre Formung zu dünnwandigen Röhren durch übliche Rohrziehvorrichtungen ermöglichen. Außerdem besitzen diese Gläser noch weitere günstige Eigenschaften, wie vorteilhafte Ausdehnungskoeffizienten und einen Erstarrungspunkt, welcher es ermöglicht, sie unmittelbar mit Kupfer überzogenen Eisendrähten zu verschmelzen, wie es beispielsweise in der USA.-Patentschrift 1140 136 beschrieben wird. Diese Drähte eignen sich zur Herstellung elektrischer Kontakte mit dem Kristall im Behälter durch die Wandungen des Behälters.
Die Zeichnung zeigt einen Querschnitt durch eine hermetisch abgeschlossene halbleitende Vorrichtung mit einem halbleitenden Element 10, beispielsweise einem Germanium- oder Siliziumkristall, einem Punktkontaktelement 11, einem mit dem Punktkontaktelement in elektrischer Verbindung stehenden Leiter und einem zweiten Leiter 13, der mit dem Halbleiterelement in elektrischer Verbindung steht. Beide Leiter 12 und 13 sind kupferüberzogene Eisen-Nickel-Drähte. Die elektrisch leitenden Elemente sind hermetisch innerhalb eines Opakglasbehälters eingeschlossen, der aus einem äußeren Glasrohr 14 und Glasperlen 15 und 16 besteht. Jedes Glaselement besteht aus den in der Tabelle aufgeführten Oxyden in den angegebenen Konzentrationsgrenzen.
Die Glasperlen 15 und 16 werden mit den Leitern 12 und 13 verschmolzen, und jede Perle ist ferner mit dem äußeren Glasrohr 14 verschmolzen.
Bei der Herstellung der Glas-Metall-Abdichtung verwendet man vorzugsweise eine von einem Glasrohr mit der oben angegebenen Zusammensetzung abgeschnittene Perle mit einer Mittelbohrung, deren Durchmesser etwas größer als der Drahtdurchmesser ist. Dann wird die Perle auf den Draht aufgeschoben und auf etwa 7000C erhitzt, um sie rasch mit dem Draht zu verschmelzen. Vorzugsweise erfolgt das Erwärmen der Perle mit einer Sauerstoff-Wasserstoff-Brenner, der auf neutrale Flamme eingestellt ist.
Bei der Herstellung des hermetisch abgeschlossenen Halbleiters kann man eine Kombination aus einer mit einem Leiter abgedichteten Perle, an den der Punktkontakt angeschlossen ist, verwenden, die mit einer anderen Kombination vereinigt wird, die aus einer Perle besteht, die mit einem Leiter und mit dem äußeren Glasrohr verschmolzen ist, wobei dann diese beiden vorbereiteten Kombinationen zur vollständigen Vorrichtung vereinigt werden. Man braucht dann nur die Glasperle auf das äußere Glasrohr aufzuschmelzen, um den fertig abgedichteten Halbleiter zu erhalten.

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Undurchlässiges Glas für Strahlungen zwischen 0,2 und 2,0 μ bei sehr dünnen Querschnitten zum Verschmelzen mit kupferüberzogenen Nickel-Eisen-Drähten, dadurch gekennzeichnet, daß das Glas folgende Bestandteile in Gewichtsprozent — berechnet auf der Basis des Gemenges — enthält:
65 bis bis 76% SiO2, CaO, 2 bis bis 10% Eisenoxyd, errechnet als MgO, bis Fe2O3, Na2O, 2 bis bis 5% Kobaltoxyd, errechnet als K2O, bis Co3O4, Al2O3, 0,2 bis U% s, 1 10% 0 10% 0 15% 0 20% 0 5%
bis zu 3% C,
wobei die Gesamtmenge an CaO und MgO 1 bis 10% und an Na2O und K2O 12 bis 20% beträgt.
2. Glas nach Anspruch 1 als Behälterumhüllung für einen halbleitenden Kristall, wobei die beiden Zuführungen kupferüberzogene Nickel-Eisen-Drähte sind.
3. Glas nach Anspruch 1 zur Verwendung in hermetisch abgedichteten Halbleitervorrichtungen, bestehend in an sich bekannter Weise aus einem Halbleiterelement, einem Punktkontaktelement, einem äußeren Glasrohr, zwei aus kupferüberzogenem Nickel-Eisen-Draht bestehenden Leitern, die durch je eine Glasperle hindurchgeführt und mit ihr abgedichtet sind, wobei einer der Leiter mit dem Punktkontaktelement elektrisch leitend verbunden ist und der andere Leiter mit dem Halbleiterelement in elektrischer Verbindung steht und beide Perlen mit den Enden des Glasrohres verschmolzen sind.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschriften Nr. 1 019 445, 1 023 863; USA.-Patentschrift Nr. 2 309 071;
J. Am. Cer. Soc, Bd. 3, Nr. 7, S. 224 ff (1950).
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
809 537/255 3.68 © Bundesdruckerei Berlin
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0457047A1 (de) * 1990-05-12 1991-11-21 Schott Glaswerke Körpergewebeverträgliches Glas
EP0480530A1 (de) * 1990-10-09 1992-04-15 Texas Instruments Incorporated Antwortendegerät und Verfahren zu dessen Herstellung

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1249466B (de) * 1963-10-29 1900-01-01
US3340347A (en) * 1964-10-12 1967-09-05 Corning Glass Works Enclosed electronic device
US3633080A (en) * 1970-04-29 1972-01-04 Johanson Technology Inc Capacitor utilizing a glass sleeve as structural and spacing means
US3633079A (en) * 1970-04-29 1972-01-04 Johanson Technology Inc Capacitor with malleable means for providing a hermetic seal and strain relief
DE2116155B2 (de) * 1971-04-02 1972-03-23 Jenaer Glaswerk Schott & Gen, 6500 Mainz Bleioxid- und bariumoxidfreie, wärmeabsorbierende Verschmelzgläser mit nur geringfügiger Verdampfungsrate während des mit Hilfe von Heizstrahlern ausgeführten Verschmelzens mit Wärmeausdehnungskoeffizienten von 90,9 bis 93,5.10-7/Grad C (20-300 Grad C), Erweichungstemperatur von 648 bis 672 Grad C und Verarbeitungstemperaturen von 945 bis 999 Grad C
US3900415A (en) * 1971-09-27 1975-08-19 Ethyl Corp Magnetic glass
BE793171A (fr) * 1972-07-18 1973-04-16 Nippon Steel Corp Composition d'email-glacure
GB9111401D0 (en) * 1991-05-25 1991-07-17 Pilkington Insulation Ltd Glass composition and use
US5374872A (en) * 1992-11-13 1994-12-20 General Electric Company Means for supporting and sealing the lead structure of a lamp and method for making such lamp
DE69613440T2 (de) * 1995-02-10 2002-05-29 Asahi Glass Co Ltd Kratzfestes glas
JP5115545B2 (ja) * 2009-09-18 2013-01-09 旭硝子株式会社 ガラスおよび化学強化ガラス
CN104619664A (zh) * 2012-09-14 2015-05-13 旭硝子株式会社 化学强化用玻璃、化学强化玻璃以及化学强化用玻璃的制造方法
FR3122421B3 (fr) * 2021-04-28 2023-09-08 Saint Gobain Procede de fabrication de verre flotte a partir de matieres minerales non transformees

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2309071A (en) * 1941-03-21 1943-01-19 Battelle Memorial Institute Black glass and method of making the same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US756676A (en) * 1902-11-10 1904-04-05 Internat Wireless Telegraph Company Wave-responsive device.
US2582852A (en) * 1948-06-16 1952-01-15 Pittsburgh Corning Corp Method of making cellular glass of light color
US2669807A (en) * 1951-09-15 1954-02-23 Pittsburgh Plate Glass Co Glass composition
US2755212A (en) * 1952-08-04 1956-07-17 Libbey Owens Ford Glass Co Sheet glass
CH307662A (fr) * 1952-09-05 1955-08-15 Alfred Charles Edouard Borel Enveloppe destinée à isoler des gaz un espace déterminé dans un four.
US2830238A (en) * 1955-09-30 1958-04-08 Hughes Aircraft Co Heat dissipating semiconductor device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2309071A (en) * 1941-03-21 1943-01-19 Battelle Memorial Institute Black glass and method of making the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0457047A1 (de) * 1990-05-12 1991-11-21 Schott Glaswerke Körpergewebeverträgliches Glas
US5121748A (en) * 1990-05-12 1992-06-16 Schott Glaswerke Biocompatible infused absorption glass containing feo
EP0480530A1 (de) * 1990-10-09 1992-04-15 Texas Instruments Incorporated Antwortendegerät und Verfahren zu dessen Herstellung

Also Published As

Publication number Publication date
NL252848A (de)
US3169217A (en) 1965-02-09
NL120812C (de) 1965-12-15
BE592487A (fr) 1960-12-30
FR1272035A (fr) 1961-09-22
GB909660A (en) 1962-10-31

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