DE112017004775T5

DE112017004775T5 - Elektronisches bauelement und elektronische bauelementevorrichtung

Info

Publication number: DE112017004775T5
Application number: DE112017004775.7T
Authority: DE
Inventors: Shinya Onodera; Koki Ito; Hideki Kaneko
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 2016-09-23
Filing date: 2017-09-20
Publication date: 2019-06-19
Also published as: KR20220121920A; CN112837934A; CN114899007A; CN112863874B; CN112863873B; CN112820542A; US11594378B2; US11763996B2; US20230377802A1; US20220084753A1; WO2018056319A1; CN112863874A; KR102486063B1; CN109791839B; CN109791839A; KR102599720B1; US20210125783A1; KR20190055187A; CN114899007B; US20220375689A1

Abstract

Ein Bauelementkörper umfasst eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, und eine erste Seitenfläche, die an die Hauptfläche angrenzt. Eine äußere Elektrode umfasst einen ersten Elektrodenabschnitt, der auf der Hauptfläche angeordnet ist, und einen zweiten Elektrodenabschnitt, der auf der ersten Seitenfläche angeordnet ist. Der erste Elektrodenabschnitt umfasst eine Sintermetallschicht, eine leitfähige Harzschicht, die auf der Sintermetallschicht ausgebildet ist, und eine Plattierungsschicht, die auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildet ist. Der zweite Elektrodenabschnitt umfasst ein erstes Gebiet und ein zweites Gebiet. Das erste Gebiet umfasst eine Sintermetallschicht und eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete Plattierungsschicht. Das zweite Gebiet umfasst eine Sintermetallschicht, eine leitfähige Harzschicht, die auf der Sintermetallschicht ausgebildet ist, und eine Plattierungsschicht, die auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildet ist. Das zweite Gebiet liegt näher bei der Hauptfläche als das erste Gebiet.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft ein elektronisches Bauelement und eine elektronische Bauelementevorrichtung.
Stand der Technik
Bekannte elektronische Bauelemente umfassen einen Bauelementkörper und eine auf dem Bauelementkörper angeordnete äußere Elektrode (siehe beispielsweise, Patentliteratur 1). Der Bauelementkörper umfasst eine Hauptfläche und eine an die Hauptfläche angrenzende erste Seitenfläche. Die äußere Elektrode umfasst einen ersten Elektrodenabschnitt und einen zweiten Elektrodenabschnitt. Der erste Elektrodenabschnitt ist auf der Hauptfläche angeordnet. Der zweite Elektrodenabschnitt ist auf der ersten Seitenfläche angeordnet und mit dem ersten Elektrodenabschnitt verbunden. Die Hauptfläche ist eingerichtet, um eine Montagefläche zu bilden, die einer elektronischen Vorrichtung (z.B. einer Leiterplatte oder einem elektronischen Bauelement) gegenüberliegt, auf die das elektronische Bauelement aufgelötet ist.
Entgegenhaltungsliste
Patentliteratur
Patentliteratur 1: Japanische ungeprüfte Patentanmeldung mit der Veröffentlichungsnummer S58-175817
Kurzdarstellung der Erfindung
Technisches Problem
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein elektronisches Bauelement und eine elektronische Bauelementevorrichtung bereitzustellen, die ein Auftreten eines Risses in einem Bauelementkörper unterdrücken.
Lösung des Problems
Als Ergebnis von Forschungen und Studien haben die Erfinder der vorliegenden Anmeldung die folgenden Tatsachen entdeckt. In einem Fall, in dem das elektronische Bauelement auf eine elektronische Vorrichtung (z.B. eine Leiterplatte oder ein elektronisches Bauelement) aufgelötet ist, kann eine äußere Kraft, die von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebracht wird, als Spannung auf den Bauelementkörper wirken. Die äußere Kraft wird von einer Lötkehle, die sich bei der Lötmontage gebildet hat, durch die äußere Elektrode auf den Bauelementkörper aufgebracht. Die Spannung neigt dazu, sich auf eine Stirnkante der äußeren Elektrode zu konzentrieren. Beispielsweise neigt die Spannung dazu, sich auf eine Stirnkante des ersten Elektrodenabschnitts zu konzentrieren, der sich auf der Hauptfläche befindet, die eingerichtet ist, um die Montagefläche zu bilden. Daher kann ein Riss in dem Bauelementkörper auftreten, wobei die Stirnkante des ersten Elektrodenabschnitts als Ursprung fungiert.
Ein elektronisches Bauelement nach einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds und eine äußere Elektrode. Der Bauelementkörper umfasst eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, und eine erste Seitenfläche, die an die Hauptfläche angrenzt. Die äußere Elektrode umfasst einen ersten Elektrodenabschnitt und einen zweiten Elektrodenabschnitt. Der erste Elektrodenabschnitt ist auf der Hauptfläche angeordnet. Der zweite Elektrodenabschnitt ist auf der ersten Seitenfläche angeordnet und mit dem ersten Elektrodenabschnitt verbunden. Der erste Elektrodenabschnitt umfasst eine Sintermetallschicht, eine leitfähige Harzschicht, die auf der Sintermetallschicht ausgebildet ist, und eine Plattierungsschicht, die auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildet ist. Der zweite Elektrodenabschnitt umfasst ein erstes Gebiet und ein zweites Gebiet. Das erste Gebiet umfasst eine Sintermetallschicht und eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete Plattierungsschicht. Das zweite Gebiet umfasst eine Sintermetallschicht, eine leitfähige Harzschicht, die auf der Sintermetallschicht ausgebildet ist, und eine Plattierungsschicht, die auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildet ist. Das zweite Gebiet liegt näher bei der Hauptfläche als das erste Gebiet.
Beim ersten Aspekt umfasst der erste Elektrodenabschnitt die leitfähige Harzschicht und das im zweiten Elektrodenabschnitt enthaltene zweite Gebiet umfasst die leitfähige Harzschicht. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf das elektronische Bauelement aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante der äußeren Elektrode konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird das Auftreten des Risses in dem Bauelementkörper unterdrückt.
Beim ersten Aspekt kann ein Verhältnis einer Länge des zweiten Gebiets in einer zur Hauptfläche orthogonalen Richtung zu einer Länge des Bauelementkörpers in der zur Hauptfläche orthogonalen Richtung größer oder gleich 0,2 sein. In diesem Fall besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode konzentriert. Daher wird das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper weiter unterdrückt.
Beim ersten Aspekt kann der Bauelementkörper ferner eine zweite Seitenfläche umfassen, die an die Hauptfläche und die erste Seitenfläche angrenzt. Die äußere Elektrode kann ferner einen dritten Elektrodenabschnitt umfassen. In diesem Fall ist der dritte Elektrodenabschnitt in der zweiten Seitenfläche angeordnet und mit dem ersten Elektrodenabschnitt verbunden. Der dritte Elektrodenabschnitt kann ein drittes Gebiet und ein viertes Gebiet umfassen. In diesem Fall umfasst das dritte Gebiet eine Sintermetallschicht und eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete Plattierungsschicht. Das vierte Gebiet umfasst eine Sintermetallschicht, eine leitfähige Harzschicht, die auf der Sintermetallschicht ausgebildet ist, und eine Plattierungsschicht, die auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildet ist. Das vierte Gebiet liegt näher bei der Hauptfläche als das dritte Gebiet. Bei dieser Ausgestaltung umfasst das im dritten Elektrodenabschnitt enthaltene vierte Gebiet die leitfähige Harzschicht. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem die äußere Elektrode den dritten Elektrodenabschnitt umfasst, nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode konzentriert. Folglich wird das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper zuverlässig unterdrückt.
Beim ersten Aspekt kann ein Verhältnis einer Länge des vierten Gebiets in der zur Hauptfläche orthogonalen Richtung zu einer Länge des Bauelementkörpers in der zur Hauptfläche orthogonalen Richtung größer oder gleich 0,2 sein. In diesem Fall besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode konzentriert. Daher wird das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper weiter unterdrückt.
Eine elektronische Bauelementevorrichtung nach einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst das elektronische Bauelement nach dem ersten Aspekt und eine elektronische Vorrichtung. Die elektronische Vorrichtung umfasst eine Anschlusselektrode. Die Anschlusselektrode ist mit der äußeren Elektrode über eine Lötkehle verbunden. Die Lötkehle ist auf dem ersten Gebiet und dem zweiten Gebiet ausgebildet, die im zweiten Elektrodenabschnitt enthalten sind.
Beim zweiten Aspekt umfasst der erste Elektrodenabschnitt die leitfähige Harzschicht und das im zweiten Elektrodenabschnitt enthaltene zweite Gebiet umfasst die leitfähige Harzschicht. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf das elektronische Bauelement aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante der äußeren Elektrode konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird ein Auftreten eines Risses in dem Bauelementkörper unterdrückt.
Bei dem zweiten Aspekt ist die Lötkehle auch auf dem ersten Gebiet zusätzlich zum zweiten Gebiet, das im zweiten Elektrodenabschnitt enthalten ist, ausgebildet. Beim zweiten Aspekt ist ein Gebiet, auf dem die Lötkehle ausgebildet ist, groß im Vergleich zu einer elektronischen Bauelementevorrichtung, bei der die Lötkehle nur auf dem zweiten Gebiet ausgebildet ist. Folglich ist die Montagefestigkeit des elektronischen Bauelements sichergestellt.
Als Ergebnis von Forschungen und Studien haben die Erfinder der vorliegenden Anmeldung ferner die folgenden Tatsachen entdeckt. Auf den Bauelementkörper wirkende Spannung neigt dazu, sich auf eine Stirnkante einer Sintermetallschicht zu konzentrieren. Daher kann ein Riss in dem Bauelementkörper auftreten, wobei die Stirnkante der Sintermetallschicht als Ursprung fungiert. Die Spannung neigt beispielsweise dazu, sich auf eine Stirnkante eines Endgebiets nahe einer Hauptfläche der Sintermetallschicht, aus einer zu einer Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, zu konzentrieren.
Ein elektronisches Bauelement nach einem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds und eine äußere Elektrode. Der Bauelementkörper umfasst eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, und eine Seitenfläche, die an die Hauptfläche angrenzt. Die äußere Elektrode umfasst einen auf der Seitenfläche angeordneten Elektrodenabschnitt. Der Elektrodenabschnitt umfasst ein erstes Gebiet und ein zweites Gebiet. Das erste Gebiet umfasst eine auf der Seitenfläche ausgebildete Sintermetallschicht und eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete Plattierungsschicht. Das zweite Gebiet umfasst eine auf der Seitenfläche ausgebildete Sintermetallschicht, eine über der Sintermetallschicht und der Seitenfläche ausgebildete leitfähige Harzschicht und eine auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildete Plattierungsschicht. Das zweite Gebiet liegt näher bei der Hauptfläche als das erste Gebiet.
Bei dem dritten Aspekt umfasst das zweite Gebiet, das näher bei der Hauptfläche liegt als das erste Gebiet, die leitfähige Harzschicht, die über der Sintermetallschicht und der Seitenfläche ausgebildet ist. Die leitfähige Harzschicht bedeckt eine Stirnkante der Sintermetallschicht, die im zweiten Gebiet enthalten ist. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf das elektronische Bauelement aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf die Stirnkante der im zweiten Gebiet enthaltenen Sintermetallschicht konzentriert. Die Stirnkante der Sintermetallschicht ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird das Auftreten des Risses in dem Bauelementkörper zuverlässig unterdrückt.
Bei einem elektronischen Bauelement, das in der japanischen ungeprüften Patentanmeldung mit der Veröffentlichungsnummer 2004-296936 beschrieben wird, bedeckt die leitfähige Harzschicht nicht die Stirnkante der im zweiten Gebiet enthaltenen Sintermetallschicht. In diesem Fall neigt die Spannung dazu, sich auf die Stirnkante der im zweiten Gebiet enthaltenen Sintermetallschicht zu konzentrieren. Die Stirnkante der Sintermetallschicht kann als Ursprung des Risses fungieren.
Beim dritten Aspekt kann das zweite Gebiet einen ersten Abschnitt und einen zweiten Abschnitt umfassen. In diesem Fall ist im ersten Abschnitt die leitfähige Harzschicht auf der Sintermetallschicht ausgebildet. Im zweiten Abschnitt ist die leitfähige Harzschicht auf der Seitenfläche ausgebildet. Eine Breite des zweiten Abschnitts kann mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche stetig abnehmen.
In einer Plattierungsschicht entsteht bei einem Prozess zum Ausbilden der Plattierungsschicht Eigenspannung. In einem Fall, in dem eine Form der Plattierungsschicht in der Draufsicht eine Ecke aufweist, neigt die Eigenspannung dazu, sich auf die Ecke zu konzentrieren. Daher kann sich die Plattierungsschicht oder eine unter der Plattierungsschicht befindliche leitfähige Harzschicht an der Ecke der Plattierungsschicht ablösen.
Eine Bindefestigkeit zwischen der leitfähigen Harzschicht und dem Bauelementkörper ist geringer als eine Bindefestigkeit zwischen der leitfähigen Harzschicht und der Sintermetallschicht. Anders als beim ersten Abschnitt besteht daher im zweiten Abschnitt, in dem die leitfähige Harzschicht auf der Seitenfläche ausgebildet ist, des zweiten Gebiets die Neigung, dass sich die leitfähige Harzschicht von der Seitenfläche löst.
In einem Fall, in dem die Breite des zweiten Abschnitts mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche stetig abnimmt, weist die Form des zweiten Abschnitts in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der Plattierungsschicht ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der Plattierungsschicht und der leitfähigen Harzschicht im zweiten Abschnitt unterdrückt.
Beim dritten Aspekt kann eine Stirnkante des zweiten Abschnitts, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, gekrümmt sein. Auch in diesem Fall weist die Form des zweiten Abschnitts in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der im zweiten Abschnitt enthaltenen Plattierungsschicht ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der Plattierungsschicht und der leitfähigen Harzschicht im zweiten Abschnitt unterdrückt.
Beim dritten Aspekt kann eine Stirnkante des zweiten Gebiets, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, annähernd bogenförmig sein. Auch in diesem Fall weist die Form des zweiten Abschnitts in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der im zweiten Abschnitt enthaltenen Plattierungsschicht ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der Plattierungsschicht und der leitfähigen Harzschicht im zweiten Abschnitt unterdrückt.
Als Ergebnis von Forschungen und Studien haben die Erfinder der vorliegenden Anmeldung ferner die folgenden Tatsachen entdeckt. Auf den Bauelementkörper wirkende Spannung neigt beispielsweise dazu, sich auf eine Stirnkante einer Sintermetallschicht, aus einer zu einer Hauptfläche orthogonalen Richtung betrachtet, und auf eine Stirnkante eines Endgebiets in der Nähe einer Hauptfläche der Sintermetallschicht, aus einer zu einer Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, zu konzentrieren.
Ein elektronisches Bauelement nach einem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds. Der Bauelementkörper umfasst eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, ein Paar einander gegenüberliegender und an die Hauptfläche angrenzender Stirnflächen und eine an das Paar von Stirnflächen und die Hauptfläche angrenzende Seitenfläche. Das elektronische Bauelement umfasst äußere Elektroden, die an jedem Endabschnitt des Bauelementkörpers in einer Richtung angeordnet sind, in der sich die zwei Stirnflächen gegenüberliegen. Die äußere Elektrode umfasst eine Sintermetallschicht und eine leitfähige Harzschicht, die über der Sintermetallschicht und dem Bauelementkörper ausgebildet ist. Aus einer zur Hauptfläche orthogonalen Richtung betrachtet, ist eine Gesamtheit der Sintermetallschicht mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt. Ein nahe der Hauptfläche gelegenes Randgebiet der Sintermetallschicht ist mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt und eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht kreuzt, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, eine Stirnkante der Sintermetallschicht.
Beim vierten Aspekt ist, aus der zur Hauptfläche orthogonalen Richtung betrachtet, die gesamte Sintermetallschicht mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante der Sintermetallschicht konzentriert. Das nahe der Hauptfläche gelegene Randgebiet der Sintermetallschicht ist, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante des Randgebiets konzentriert. Folglich wird ein Auftreten des Risses in dem Bauelementkörper unterdrückt.
Beim vierten Aspekt kreuzt die Stirnkante der leitfähigen Harzschicht, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, die Stirnkante der Sintermetallschicht. Die gesamte Sintermetallschicht ist nicht mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt. Die Sintermetallschicht umfasst ein von der leitfähigen Harzschicht freigelegtes Gebiet. Daher wird beim vierten Aspekt eine Zunahme einer Menge einer zum Ausbilden der leitfähigen Harzschicht verwendeten leitfähigen Harzpaste unterdrückt.
Beim vierten Aspekt kann die äußere Elektrode einen ersten Elektrodenabschnitt umfassen. In diesem Fall ist der erste Elektrodenabschnitt auf der Seitenfläche und auf einem Erhöhungsabschnitt angeordnet, der sich zwischen der Stirnfläche und der Seitenfläche befindet. Der erste Abschnitt kann ein erstes Gebiet und ein zweites Gebiet umfassen. In diesem Fall ist die Sintermetallschicht im ersten Gebiet von der leitfähigen Harzschicht freigelegt. Im zweiten Gebiet ist die Sintermetallschicht mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt. Das zweite Gebiet liegt näher bei der Hauptfläche als das erste Gebiet. Eine Breite des zweiten Abschnitts in der Richtung, in der sich die zwei Seitenflächen gegenüberliegen, kann mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche abnehmen. Bei dieser Ausgestaltung wird die Zunahme der zum Ausbilden der leitfähigen Harzschicht verwendeten Menge leitfähiger Harzpaste weiter unterdrückt.
Beim vierten Aspekt kann eine Stirnkante des zweiten Abschnitts, aus der zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, annähernd bogenförmig sein. Beim vierten Aspekt kann eine Stirnkante des zweiten Abschnitts, aus der zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, annähernd geradlinig sein. Beim vierten Aspekt kann eine Stirnkante des zweiten Abschnitts zwei Seitenkanten aufweisen, die, aus der zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, einander kreuzen.
Ein elektronisches Bauelement nach einem fünften Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds. Der Bauelementkörper umfasst eine erste Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, ein Paar einander gegenüberliegender und an die erste Hauptfläche angrenzender Stirnflächen und ein Paar Seitenflächen, die einander gegenüberliegen und an das Paar Stirnflächen und die erste Hauptfläche angrenzen. Das elektronische Bauelement umfasst äußere Elektroden, die an jedem Endabschnitt des Bauelementkörpers in einer Richtung angeordnet sind, in der sich die zwei Stirnflächen gegenüberliegen. Die äußere Elektrode umfasst eine leitfähige Harzschicht, die derart ausgebildet ist, dass sie einen Teil der ersten Hauptfläche, einen Teil der Stirnfläche und einen Teil von jeder des Paares von Seitenflächen durchgehend bedeckt.
Eine von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebrachte äußere Kraft neigt beispielsweise dazu, auf ein Gebiet zu wirken, das durch den Teil der ersten Hauptfläche, den Teil der Stirnfläche und den Teil von jeder des Paares von Seitenflächen definiert wird. Aufgrund der äußeren Kraft kann es zu einem Riss in dem Bauelementkörper kommen.
Bei dem fünften Aspekt ist die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet, dass sie den Teil der ersten Hauptfläche, den Teil der Stirnfläche und den Teil von jeder des Paares von Seitenflächen durchgehend bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass die von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebrachte äußere Kraft auf den Bauelementkörper wirkt. Folglich unterdrückt der fünfte Aspekt ein Auftreten eines Risses im B auelementkörper.
Ein Gebiet zwischen dem Bauelementkörper und der leitfähigen Harzschicht kann als Weg wirken, über den Feuchtigkeit eindringt. In einem Fall, in dem Feuchtigkeit aus dem Gebiet zwischen dem Bauelementkörper und der leitfähigen Harzschicht eindringt, verkürzt sich die Lebensdauer des elektronischen Bauelements. Im Vergleich zu einem elektronischen Bauelement, bei dem die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet ist, dass sie eine gesamte Stirnfläche, einen Teil von jeder eines Paares von Hauptflächen und einen Teil von jeder eines Paares von Seitenflächen durchgehend bedeckt, beinhaltet der fünfte Aspekt wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Daher verbessert der fünfte Aspekt die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit.
Der fünfte Aspekt kann einen Innenleiter umfassen, der zur entsprechenden Stirnfläche hin frei liegt. Die äußere Elektrode kann eine Sintermetallschicht umfassen, die derart auf der Stirnfläche ausgebildet ist, dass sie mit dem Innenleiter verbunden ist. In diesem Fall ist die Sintermetallschicht günstigerweise in Kontakt mit dem Innenleiter. Daher sind die äußere Elektrode und der Innenleiter zuverlässig miteinander elektrisch verbunden.
Beim fünften Aspekt kann die Sintermetallschicht ein erstes Gebiet und ein zweites Gebiet umfassen. In diesem Fall ist das erste Gebiet mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt. Das zweite Gebiet ist von der leitfähigen Harzschicht freigelegt. Die leitfähige Harzschicht umfasst ein leitfähiges Material (z.B. Metallpulver) und ein Harz (z.B. ein wärmehärtendes Harz). Der elektrische Widerstand der leitfähigen Harzschicht ist höher als der elektrische Widerstand der Sintermetallschicht. In einem Fall, in dem die Sintermetallschicht das zweite Gebiet einschließt, ist das zweite Gebiet mit der elektronischen Vorrichtung elektrisch verbunden, ohne dass über die leitfähige Harzschicht durchgeleitet wird. Daher wird bei dieser Ausgestaltung ein Anstieg des äquivalenten Serienwiderstands (ESR) auch dann unterdrückt, wenn die äußere Elektrode die leitfähige Harzschicht umfasst.
Beim fünften Aspekt kann die Sintermetallschicht auch auf einem ersten Erhöhungsabschnitt, der sich zwischen der Stirnfläche und der Seitenfläche befindet, und einem zweiten Erhöhungsabschnitt, der sich zwischen der Stirnfläche und der ersten Hauptfläche befindet, ausgebildet sein. Eine Bindefestigkeit zwischen der leitfähigen Harzschicht und dem Bauelementkörper ist geringer als eine Bindefestigkeit zwischen der leitfähigen Harzschicht und der Sintermetallschicht. Bei dieser Ausgestaltung ist die Sintermetallschicht auf dem ersten Erhöhungsabschnitt und dem zweiten Erhöhungsabschnitt ausgebildet. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem sich die leitfähige Harzschicht vom Bauelementkörper ablöst, nicht die Neigung, das sich das Ablösen der leitfähigen Harzschicht über eine dem ersten und dem zweiten Erhöhungsabschnitt entsprechende Position hinaus bis zu einer Position ausbreitet, die der Stirnfläche entspricht.
Beim fünften Aspekt kann die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet sein, dass sie einen Teil eines Abschnitts der auf dem ersten Erhöhungsabschnitt ausgebildeten Sintermetallschicht und eine Gesamtheit eines Abschnitts der auf dem zweiten Erhöhungsabschnitt ausgebildeten Sintermetallschicht bedeckt. Bei dieser Ausgestaltung besteht weiters nicht die Neigung, dass sich das Ablösen der leitfähigen Harzschicht bis zu der der Stirnfläche entsprechenden Position ausbreitet.
Die Spannung, die aufgrund der von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebrachten äußeren Kraft auf den Bauelementkörper wirkt, neigt dazu, sich auf eine Stirnkante der Sintermetallschicht zu konzentrieren. Daher kann ein Riss in dem Bauelementkörper auftreten, wobei die Stirnkante der Sintermetallschicht als Ursprung fungiert. In einem Fall, in dem die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet ist, dass sie den Teil des Abschnitts der Sintermetallschicht, die auf dem ersten Erhöhungsabschnitt ausgebildet ist, und eine Gesamtheit des Abschnitts der Sintermetallschicht, die auf dem zweiten Erhöhungsabschnitt ausgebildet ist, bedeckt, besteht nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der Sintermetallschicht konzentriert. Daher wird das Auftreten des Risses im Bauelementkörper zuverlässig unterdrückt.
Beim fünften Aspekt kann eine Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche und dem ersten Erhöhungsabschnitt befindet, größer sein als eine Fläche der Sintermetallschicht, die sich auf dem ersten Erhöhungsabschnitt befindet. Eine Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet, kann kleiner sein als eine Fläche der Sintermetallschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet. In diesem Fall wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim fünften Aspekt kann ein Teil des Abschnitts der Sintermetallschicht, die auf dem ersten Erhöhungsabschnitt ausgebildet ist, von der leitfähigen Harzschicht freigelegt sein. In diesem Fall kann die Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche und dem ersten Erhöhungsabschnitt befindet, größer sein als eine Fläche des Teils des Abschnitts der Sintermetallschicht, die auf dem ersten Erhöhungsabschnitt ausgebildet ist. Bei dieser Ausgestaltung wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim fünften Aspekt kann die Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet, kleiner sein als eine Fläche eines von der leitfähigen Harzschicht freigelegten Gebiets in der Sintermetallschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet. In diesem Fall wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim fünften Aspekt kann die äußere Elektrode eine Plattierungsschicht umfassen, die derart ausgebildet ist, dass sie die leitfähige Harzschicht und das in der Sintermetallschicht enthaltene zweite Gebiet bedeckt. In diesem Fall umfasst die äußere Elektrode die Plattierungsschicht und daher kann das elektronische Bauelement auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet sein. Das in der Sintermetallschicht enthaltene zweite Gebiet ist mit der elektronischen Vorrichtung über die Plattierungsschicht elektrisch verbunden und somit wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim fünften Aspekten kann eine Höhe der leitfähigen Harzschicht, aus einer zur Stirnfläche orthogonalen Richtung betrachtet, die Hälfte einer Höhe des Bauelementkörpers oder weniger betragen. Im Vergleich zu einem elektronischen Bauelement, bei dem eine Höhe der leitfähigen Harzschicht, aus einer zur Stirnfläche orthogonalen Richtung betrachtet, mehr als die Hälfte einer Höhe des Bauelementkörpers beträgt, beinhaltet diese Ausgestaltung wenige Wege, durch die Feuchtigkeit eindringt. Daher ist die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit weiter verbessert. Gegenüber einem elektronischen Bauelement, bei dem die Höhe der leitfähigen Harzschicht, aus der zur Stirnfläche orthogonalen Richtung betrachtet, mehr als die Hälfte der Höhe des Bauelementkörpers beträgt, wird bei dieser Ausgestaltung der Anstieg des ESR unterdrückt.
Beim fünften Aspekt kann der Bauelementkörper eine zweite Hauptfläche umfassen, die der ersten Hauptfläche gegenüberliegt, die eingerichtet ist, um die Montagefläche zu bilden. Die zweite Hauptfläche kann von der leitfähigen Harzschicht freigelegt sein. In diesem Fall wird der Anstieg des ESR unterdrückt.
Beim fünften Aspekt kann die leitfähige Harzschicht in Kontakt mit einem Erhöhungsabschnitt stehen, der sich zwischen der ersten Hauptfläche und der Seitenfläche befindet. Bei dieser Ausgestaltung besteht nicht die Neigung, dass es zu einem Riss in dem Erhöhungsabschnitt zwischen der ersten Hauptfläche und der Seitenfläche kommt.
Ein elektronisches Bauelement nach einem sechsten Aspekt der vorliegenden Erfindung umfasst einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds. Der Bauelementkörper umfasst eine erste Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, eine der ersten Hauptfläche in einer ersten Richtung gegenüberliegende zweite Hauptfläche, ein Paar einander in einer zweiten Richtung gegenüberliegender Seitenflächen und ein Paar einander in einer dritten Richtung gegenüberliegender Stirnflächen. Das elektronische Bauelement umfasst eine Vielzahl von inneren Elektroden. Die vielen inneren Elektroden sind in dem Bauelementkörper angeordnet und liegen einander in der zweiten Richtung gegenüber. Die vielen inneren Elektroden umfassen ein Ende, das zur entsprechenden Stirnfläche hin frei liegt. Das elektronische Bauelement umfasst äußere Elektroden, die an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers in der dritten Richtung angeordnet sind. Die äußere Elektrode ist mit der entsprechenden inneren Elektrode verbunden. Die äußere Elektrode umfasst eine leitfähige Harzschicht, die derart ausgebildet ist, dass sie einen Abschnitt nahe der ersten Hauptfläche in der Stirnfläche bedeckt.
Eine äußere Kraft, die von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebracht wird, neigt beispielsweise dazu, über ein Gebiet nahe der ersten Hauptfläche in der Stirnfläche auf den Bauelementkörper zu wirken. Aufgrund der äußeren Kraft kann es zu einem Riss in dem Bauelementkörper kommen.
Beim sechsten Aspekt ist die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet, dass sie den Abschnitt nahe der ersten Hauptfläche in der Stirnfläche bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass die von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebrachte äußere Kraft auf den Bauelementkörper wirkt. Folglich unterdrückt der sechste Aspekt ein Auftreten eines Risses im B auelementkörper.
Beim sechsten Aspekt ist die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet, dass sie den Abschnitt nahe der ersten Hauptfläche in der Stirnfläche bedeckt. Aus der dritten Richtung betrachtet, umfasst die Stirnfläche ein Gebiet, das nicht von der leitfähigen Harzschicht bedeckt wird. Im Vergleich zu einem elektronischen Bauelement, bei dem eine leitfähige Harzschicht derart ausgebildet ist, dass sie eine gesamte Stirnfläche bedeckt, beinhaltet der sechste Aspekt wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Folglich verbessert der sechste Aspekt die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit.
Beim sechsten Aspekt ist die erste Hauptfläche eingerichtet, um eine Montagefläche zu bilden, und liegen die vielen inneren Elektroden einander in der zweiten Richtung gegenüber. Daher ist beim sechsten Aspekt ein für jede der inneren Elektroden ausgebildeter Strompfad kurz. Folglich reduziert der sechste Aspekt die äquivalente Serieninduktivität (ESL).
Beim sechsten Aspekt kann das eine Ende der inneren Elektrode, aus der dritten Richtung betrachtet, ein erstes Gebiet und ein zweites Gebiet umfassen. In diesem Fall überschneidet sich das erste Gebiet mit der leitfähigen Harzschicht. Das zweite Gebiet überschneidet sich nicht mit der leitfähigen Harzschicht. Diese Ausgestaltung beinhaltet wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt, und folglich wird die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit zuverlässig verbessert.
Beim sechsten Aspekt kann eine Länge des ersten Gebiets an dem einen Ende der inneren Elektrode in der ersten Richtung kleiner sein als eine Länge des zweiten Gebiets an dem einen Ende der inneren Elektrode in der ersten Richtung. Diese Ausgestaltung beinhaltet sogar weniger Wege, über die Feuchtigkeit eindringt, und folglich wird die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit weiter verbessert.
Beim sechsten Aspekt kann die äußere Elektrode eine Sintermetallschicht umfassen, die derart auf der Stirnfläche ausgebildet ist, dass sie mit dem zweiten Gebiet des einen Endes der inneren Elektrode verbunden ist. In diesem Fall stehen die äußere Elektrode und die innere Elektrode günstigerweise miteinander in Kontakt. Daher sind die äußere Elektrode und die innere Elektrode zuverlässig miteinander elektrisch verbunden. Wie oben beschrieben, ist der elektrische Widerstand der leitfähigen Harzschicht höher als der elektrische Widerstand der Sintermetallschicht. In einem Fall, in dem die äußere Elektrode die mit der inneren Elektrode verbundene Sintermetallschicht umfasst, ist die Sintermetallschicht mit der elektronischen Vorrichtung verbunden, ohne dass über die leitfähige Harzschicht durchgeleitet wird. Daher wird bei dieser Ausgestaltung ein Anstieg des ESR auch dann unterdrückt, wenn die äußere Elektrode die leitfähige Harzschicht umfasst.
Beim sechsten Aspekt kann die Vielzahl innerer Elektroden eine Vielzahl erster innerer Elektroden und eine Vielzahl zweiter innerer Elektroden umfassen. In diesem Fall ist die Vielzahl erster innerer Elektroden an einer des Paares von Stirnflächen freigelegt. Die Vielzahl zweiter innerer Elektroden ist an einer anderen des Paares von Stirnflächen freigelegt. Die einen Enden von allen ersten inneren Elektroden und die einen Enden von allen zweiten inneren Elektroden können mit den jeweiligen Sintermetallschichten verbunden sein. In diesem Fall wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim sechsten Aspekt kann die äußere Elektrode eine Plattierungsschicht umfassen, die derart ausgebildet ist, dass sie die leitfähige Harzschicht und die Sintermetallschicht bedeckt. In diesem Fall umfasst die äußere Elektrode die Plattierungsschicht. Das elektronische Bauelement gemäß dieser Ausgestaltung kann auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet sein. Die Sintermetallschicht ist mit der elektronischen Vorrichtung über die Plattierungsschicht elektrisch verbunden. Daher wird bei dieser Ausgestaltung der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim sechsten Aspekt kreuzen sich eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht und das eine Ende der inneren Elektrode, aus der dritten Richtung betrachtet. Diese Ausgestaltung beinhaltet wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt, und folglich wird die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit zuverlässig verbessert.
Beim sechsten Aspekt kann die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet sein, dass sie auch einen Abschnitt nahe der Stirnfläche in der ersten Hauptfläche bedeckt. Eine äußere Kraft, die von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebracht wird, kann über ein Gebiet nahe der Stirnfläche in der ersten Hauptfläche auf den Bauelementkörper wirken. Daher wird bei dieser Ausgestaltung ein Auftreten eines Risses in dem Bauelementkörper zuverlässig unterdrückt.
Beim sechsten Aspekt kann die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet sein, dass sie auch einen Abschnitt nahe der Stirnfläche in der Seitenfläche bedeckt. Eine äußere Kraft, die von der elektronischen Vorrichtung auf das elektronische Bauelement aufgebracht wird, kann über ein Gebiet nahe der Stirnfläche in der Seitenfläche auf den Bauelementkörper wirken. Daher wird bei dieser Ausgestaltung ein Auftreten eines Risses in dem Bauelementkörper zuverlässig unterdrückt.
Beim sechsten Aspekt kann ein Abschnitt der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche befindet, der inneren Elektrode, die eine andere Polarität als der Abschnitt hat, in der zweiten Richtung gegenüberliegen. In diesem Fall bildet sich eine Kapazitätskomponente zwischen dem Abschnitt der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche befindet, und der diesem Abschnitt gegenüberliegenden inneren Elektrode. Daher nimmt die elektrostatische Kapazität bei dieser Ausgestaltung zu.
Beim sechsten Aspekt kann die leitfähige Harzschicht nicht auf der zweiten Hauptfläche ausgebildet sein. In einem Fall, in dem das elektronische Bauelement derart auf eine elektronische Vorrichtung montiert ist, dass die erste Hauptfläche eingerichtet ist, um die Montagefläche zu bilden, muss die zweite Hauptfläche von einer Saugdüse einer Bauelement-Montagevorrichtung (Bestückungsautomat) aufgenommen werden. Bei dieser Ausgestaltung unterscheidet sich eine Form der äußeren Elektrode auf der ersten Hauptfläche von einer Form der äußeren Elektrode auf der zweiten Hauptfläche. Daher werden die erste Hauptfläche und die zweite Hauptfläche problemlos voneinander unterschieden. Folglich wird das elektronische Bauelement gemäß dieser Ausgestaltung zuverlässig auf die elektronische Vorrichtung montiert.
Beim sechsten Aspekt kann ein Abstand zwischen der Seitenfläche und der der Seitenfläche am nächsten liegenden inneren Elektrode in der zweiten Richtung größer sein als ein Abstand zwischen der ersten Hauptfläche und der inneren Elektrode in der ersten Richtung sowie größer als ein Abstand zwischen der ersten Hauptfläche und der inneren Elektrode in der ersten Richtung. Selbst in einem Fall, in dem ein Riss von der Seitenfläche des Bauelementkörpers her entsteht, besteht in diesem Fall nicht die Neigung, dass dieser Riss die innere Elektrode erreicht.
Vorteilhafte Wirkungen der Erfindung
Die vorliegende Erfindung stellt ein elektronisches Bauelement und eine elektronische Bauelementevorrichtung bereit, die ein Auftreten eines Risses in einem Bauelementkörper unterdrücken.
Figurenliste

1 ist eine Draufsicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer ersten Ausführungsform.
2 ist eine Draufsicht des Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform.
3 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform.
4 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform.
5 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform darstellt.
6 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform darstellt.
7 ist eine Draufsicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer Abwandlung der ersten Ausführungsform.
8 ist eine Draufsicht eines Vielschichtkondensators gemäß der Abwandlung der ersten Ausführungsform.
9 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der Abwandlung.
10 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der Abwandlung.
11 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer zweiten Ausführungsform.
12 ist eine Draufsicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform.
13 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform.
14 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform.
15 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform darstellt.
16 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform darstellt.
17 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform darstellt.
18 ist eine Draufsicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer dritten Ausführungsform.
19 ist eine Draufsicht des Vielschichtkondensators gemäß der dritten Ausführungsform.
20 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der dritten Ausführungsform.
21 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der dritten Ausführungsform.
22 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration von äußeren Elektroden darstellt, die der Vielschichtkondensator gemäß der dritten Ausführungsform umfasst.
23 ist eine Draufsicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer vierten Ausführungsform.
24 ist eine Draufsicht des Vielschichtkondensators gemäß der vierten Ausführungsform.
25 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der vierten Ausführungsform.
26 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der vierten Ausführungsform.
27 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration von äußeren Elektroden darstellt, die der Vielschichtkondensator gemäß der vierten Ausführungsform umfasst.
28 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer fünften Ausführungsform.
29 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der fünften Ausführungsform.
30 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der fünften Ausführungsform darstellt.
31 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der fünften Ausführungsform darstellt.
32 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der fünften Ausführungsform darstellt.
33 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer Abwandlung der fünften Ausführungsform.
34 ist eine Draufsicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der Abwandlung.
35 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der Abwandlung.
36 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration einer elektronischen Bauelementevorrichtung gemäß einer sechsten Ausführungsform darstellt.
37 ist eine Seitenansicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer Abwandlung der ersten Ausführungsform.
38 ist eine Seitenansicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer Abwandlung der ersten Ausführungsform.
39 ist eine Seitenansicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer Abwandlung der zweiten Ausführungsform.
40 ist eine Seitenansicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer Abwandlung der zweiten Ausführungsform.
41 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer Abwandlung der zweiten Ausführungsform.
42 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer siebten Ausführungsform.
43 ist eine Draufsicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform.
44 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform.
45 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform.
46 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform darstellt.
47 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform darstellt.
48 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform darstellt.
49 ist eine Ansicht, die einen montierten Aufbau des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform darstellt.
50 ist eine Ansicht, die den montierten Aufbau des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform darstellt.
51 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer Abwandlung der siebten Ausführungsform.
52 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der Abwandlung der siebten Ausführungsform darstellt.
53 ist eine Draufsicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer achten Ausführungsform.
54 ist eine Draufsicht des Vielschichtkondensators gemäß der achten Ausführungsform.
55 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der achten Ausführungsform.
56 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration von äußeren Elektroden darstellt, die der Vielschichtkondensator gemäß der achten Ausführungsform umfasst.
57 ist eine perspektivische Ansicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer neunten Ausführungsform.
58 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform.
59 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform darstellt.
60 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform darstellt.
61 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform darstellt.
62 ist eine Draufsicht, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellt.
63 ist eine Seitenansicht, die den Bauelementkörper, die erste Elektrodenschicht und die zweite Elektrodenschicht darstellt.
64 ist eine stirnseitige Ansicht, die den Bauelementkörper, die erste Elektrodenschicht und die zweite Elektrodenschicht darstellt.
65 ist eine Ansicht, die einen montierten Aufbau des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform darstellt.
66 ist eine Seitenansicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer Abwandlung der neunten Ausführungsform.
67 ist eine Seitenansicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer Abwandlung der neunten Ausführungsform.
68 ist eine Seitenansicht eines Vielschichtkondensators gemäß einer Abwandlung der neunten Ausführungsform.
69 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß einer zehnten Ausführungsform.
70 ist eine Draufsicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform.
71 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform.
72 ist eine stirnseitige Ansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform.
73 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform darstellt.
74 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform darstellt.
75 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform darstellt.
76 ist eine Seitenansicht, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellt.
77 ist eine Draufsicht, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellt.
78 ist eine Seitenansicht, die den Bauelementkörper, die erste Elektrodenschicht und die zweite Elektrodenschicht darstellt.
79 ist eine stirnseitige Ansicht, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellt.
80 ist eine stirnseitige Ansicht, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellt.

Beschreibung von Ausführungsformen
Nachstehend werden Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen im Einzelnen beschrieben. In der Beschreibung werden dieselben Bezugszeichen für dieselben Elemente oder für Elemente mit denselben Funktionen verwendet und redundante Beschreibungen werden weggelassen.
(Erste Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtkondensators C1 gemäß einer ersten Ausführungsform wird mit Bezug auf 1 bis 6 beschrieben. 1 und 2 sind Draufsichten eines Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform. 3 und 4 sind Seitenansichten des Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform. 5 und 6 sind Ansichten, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtkondensators gemäß der ersten Ausführungsform darstellen. Bei der ersten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtkondensator C1.
Wie in 1 bis 4 dargestellt, umfasst der Vielschichtkondensator C1 einen Bauelementkörper 3 mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds und ein Paar äußerer Elektroden 5. Das Paar äußerer Elektroden 5 ist auf einer Außenfläche des Bauelementkörpers 3 angeordnet. Die zwei äußeren Elektroden 5 sind voneinander getrennt. Die Form eines rechteckigen Parallelepipeds umfasst eine Form eines rechteckigen Parallelepipeds, bei der Ecken und Erhöhungen abgeschrägt sind, und eine Form eines rechteckigen Parallelepipeds, bei der die Ecken und Erhöhungen abgerundet sind.
Der Bauelementkörper 3 umfasst ein Paar einander gegenüberliegender Hauptflächen 3a und 3b, ein Paar einander gegenüberliegender Seitenflächen 3c und ein Paar einander gegenüberliegender Seitenflächen 3e. Das Paar von Hauptflächen 3a und 3b und das Paar von Seitenflächen 3c haben eine rechteckige Form. Die Richtung, in der die zwei Hauptflächen 3a und 3b einander gegenüberliegen, ist eine erste Richtung D1. Die Richtung, in der die zwei Seitenflächen 3c einander gegenüberliegen, ist eine zweite Richtung D2. Die Richtung, in der die zwei Seitenflächen 3e einander gegenüberliegen, ist eine dritte Richtung D3.
Die erste Richtung D1 ist eine Richtung, die orthogonal zu den jeweiligen Hauptflächen 3a und 3b und zur zweiten Richtung D2 ist. Die dritte Richtung D3 ist eine Richtung, die parallel zu den jeweiligen Hauptflächen 3a und 3b und den jeweiligen Seitenflächen 3c sowie orthogonal zur ersten Richtung D1 und zur zweiten Richtung D2 ist. Bei der ersten Ausführungsform ist eine Länge des Bauelementkörpers 3 in der dritten Richtung D3 größer als eine Länge des Bauelementkörpers 3 in der ersten Richtung D1 und größer als eine Länge des Bauelementkörpers 3 in der zweiten Richtung D2. Die dritte Richtung D3 ist eine Längsrichtung des Bauelementkörpers 3.
Das Paar von Seitenflächen 3c erstreckt sich derart in der ersten Richtung D1, dass es das Paar von Hauptflächen 3a und 3b verbindet. Das Paar von Seitenflächen 3c erstreckt sich auch in der dritten Richtung D3. Das Paar von Seitenflächen 3e erstreckt sich derart in der ersten Richtung D1, dass es das Paar von Hauptflächen 3a und 3b verbindet. Das Paar von Seitenflächen 3e erstreckt sich auch in der zweiten Richtung D2. Jede der Hauptflächen 3a und 3b grenzt an das Paar von Seitenflächen 3c und das Paar von Seitenflächen 3e an.
Der Bauelementkörper 3 ist durch Schichten einer Vielzahl von Dielektrikumschichten in der ersten Richtung D1 ausgestaltet. Der Bauelementkörper 3 umfasst die Vielzahl von geschichteten Dielektrikumschichten. Beim Bauelementkörper 3 stimmt eine Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten mit der ersten Richtung D1 überein. Jede Dielektrikumschicht umfasst beispielsweise einen gesinterten Körper aus einer keramischen Grünfolie, die ein dielektrisches Material enthält. Als dielektrisches Material wird beispielsweise eine dielektrische Keramik auf BaTiO₃-Basis, Ba(Ti,Zr)O₃-Basis oder (Ba,Ca)TiO₃-Basis verwendet. Bei einem vorliegenden Bauelementkörper 3 ist jede der Dielektrikumschichten in einem solchen Umfang integriert, dass visuell keine Grenze zwischen den Dielektrikumschichten zu erkennen ist. Bei dem Bauelementkörper 3 kann die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten mit der zweiten Richtung D2 übereinstimmen.
Wie in 5 und 6 dargestellt, umfasst der Vielschichtkondensator C1 eine Vielzahl innerer Elektroden 7 und eine Vielzahl innerer Elektroden 9. Jede der inneren Elektroden 7 und 9 ist ein Innenleiter, der in dem Bauelementkörper 3 angeordnet ist. Jede der inneren Elektroden 7 und 9 besteht aus einem leitfähigen Material, das gewöhnlich als innere Elektrode eines vielschichtigen elektronischen Bauelements verwendet wird. Als leitfähiges Material wird ein unedles Metall (z.B. Ni oder Cu) verwendet. Jede der inneren Elektroden 7 und 9 umfasst einen Sinterkörper aus einer leitfähigen Paste, die das oben genannte leitfähige Material enthält. Bei der ersten Ausführungsform besteht jede der inneren Elektroden 7 und 9 aus Ni.
Die inneren Elektroden 7 und die inneren Elektroden 9 sind in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der ersten Richtung D1 angeordnet. Die inneren Elektroden 7 und die inneren Elektroden 9 sind in dem Bauelementkörper 3 derart abwechselnd angeordnet, dass sie einander in der ersten Richtung D1 mit einem Zwischenraum zwischen ihnen gegenüberliegen. Die Polaritäten der inneren Elektroden 7 und der inneren Elektroden 9 sind voneinander verschieden. In einem Fall, in dem die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten die zweite Richtung D2 ist, sind die inneren Elektroden 7 und die inneren Elektroden 9 in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der zweiten Richtung D2 angeordnet. Jede der inneren Elektroden 7 und 9 umfasst ein Ende, das zu einer entsprechenden Seitenfläche 3e hin frei liegt.
Die äußeren Elektroden 5 sind an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers 3 in der dritten Richtung D3 angeordnet. Jede der äußeren Elektroden 5 ist auf einer entsprechenden Seitenflächen- 3e -Seite des Bauelementkörpers 3 angeordnet. Die äußere Elektrode 5 umfasst Elektrodenabschnitte 5a, 5b, 5c und 5e. Der Elektrodenabschnitt 5a ist auf der Hauptfläche 3a angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 5b ist auf der Hauptfläche 3b angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 5c ist auf jeder Seitenfläche 3c angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 5e ist auf der entsprechenden Seitenfläche 3e angeordnet. Die äußere Elektrode 5 ist auf den fünf Flächen ausgebildet, d.h. auf den Hauptflächen 3a und 3b, dem Paar von Seitenflächen 3c und der Seitenfläche 3e. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 5a, 5b, 5c und 5e sind bei einer Erhöhung des Bauelementkörpers 3 miteinander verbunden und sie sind miteinander elektrisch verbunden.
Der Elektrodenabschnitt 5e bedeckt alle die bei der Seitenfläche 3e freiliegenden einen Enden der jeweiligen inneren Elektroden 7 und 9. Die inneren Elektroden 7 und 9 sind direkt mit einem entsprechenden Elektrodenabschnitt 5e verbunden. Die inneren Elektroden 7 und 9 sind mit den jeweiligen äußeren Elektroden 5 elektrisch verbunden.
Wie in 5 und 6 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 5 eine erste Elektrodenschicht E1, eine zweite Elektrodenschicht E2, eine dritte Elektrodenschicht E3 und eine vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 5.
Der Elektrodenabschnitt 5a umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 5a hat einen vierschichtigen Aufbau. Beim Elektrodenabschnitt 5a ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Der Elektrodenabschnitt 5b umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 5b umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Der Elektrodenabschnitt 5b hat einen dreischichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 5c umfasst ein Gebiet 5c₁ und ein Gebiet 5c₂ . Das Gebiet 5c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 5c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 5c nur zwei Gebiete 5c₁ und 5c₂ . Das Gebiet 5c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 5c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 5c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 5c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 5c₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 5e umfasst ein Gebiet 5e₁ und ein Gebiet 5e₂ . Das Gebiet 5e₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 5e₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 5e nur zwei Gebiete 5e₁ und 5e₂ . Das Gebiet 5e₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 5e₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 5e₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 5e₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 5e₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Die erste Elektrodenschicht E1 ist durch Sintern einer auf die Oberfläche des Bauelementkörpers 3 aufgebrachten leitfähigen Paste ausgebildet. Die erste Elektrodenschicht E1 ist eine Schicht, die durch Sintern eines Metallbestandteils (Metallpulver) ausgebildet ist, der in der leitfähigen Paste enthalten ist. Die erste Elektrodenschicht E1 ist eine Sintermetallschicht. Die erste Elektrodenschicht E1 ist eine Sintermetallschicht, die auf dem Bauelementkörper 3 ausgebildet ist. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die erste Elektrodenschicht E1 eine aus Cu bestehende Sintermetallschicht. Die erste Elektrodenschicht E1 kann eine Sintermetallschicht sein, die aus Ni besteht. Die erste Elektrodenschicht E1 enthält ein unedles Metall. Die leitfähige Paste enthält beispielsweise Pulver aus Cu oder Ni, einen Glasbestandteil, ein organisches Bindemittel und ein organisches Lösungsmittel.
Die zweite Elektrodenschicht E2 ist durch Aushärten einer auf die erste Elektrodenschicht E1 aufgebrachten leitfähigen Harzpaste ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie ein Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Das Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 ist ein Gebiet in der ersten Elektrodenschicht E1, das dem Elektrodenabschnitt 5a, dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5e₂ entspricht. Die erste Elektrodenschicht E1 dient als untere Metallschicht zum Ausbilden der zweiten Elektrodenschicht E2. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist eine leitfähige Harzschicht, die auf der ersten Elektrodenschicht E1 ausgebildet ist. Die leitfähige Harzpaste enthält ein wärmehärtendes Harz, ein Metallpulver und ein organisches Lösungsmittel. Als Metallpulver wird beispielsweise Ag-Pulver oder Cu-Pulver verwendet. Als wärmehärtendes Harz wird beispielsweise ein Phenolharz, ein Acrylharz, ein Silikonharz, ein Epoxidharz oder ein Polyimidharz verwendet.
Die dritte Elektrodenschicht E3 ist auf der zweiten Elektrodenschicht E2 und auf einem Bereich der ersten Elektrodenschicht E1, der von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist, mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die dritte Elektrodenschicht E3 eine durch Ni-Plattierung ausgebildete Ni-Plattierungsschicht. Die dritte Elektrodenschicht E3 kann eine Sn-Plattierungsschicht, eine Cu-Plattierungsschicht oder eine Au-Plattierungsschicht sein. Die dritte Elektrodenschicht E3 enthält Ni, Sn, Cu oder Au.
Die vierte Elektrodenschicht E4 ist auf der dritten Elektrodenschicht E3 mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die vierte Elektrodenschicht E4 eine durch Sn-Plattierung ausgebildete Sn-Plattierungsschicht. Die vierte Elektrodenschicht E4 kann eine Cu-Plattierungsschicht oder eine Au-Plattierungsschicht sein. Die vierte Elektrodenschicht E4 enthält Sn, Cu oder Au. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 bilden eine auf der zweiten Elektrodenschicht E2 angeordnete Plattierungsschicht. Bei der vorliegenden Ausführungsform hat die auf der zweiten Elektrodenschicht E2 angeordnete Plattierungsschicht einen zweischichtigen Aufbau.
Die erste Elektrodenschicht E1, die in jedem der Elektrodenabschnitte 5a, 5b, 5c und 5e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 5a, 5c und 5e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 5a, 5b, 5c und 5e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 5a, 5b, 5c und 5e enthalten ist, ist ebenfalls integral ausgebildet.
Ein Verhältnis (L2/L1) einer Länge L2 des Gebiets 5c₂ in der ersten Richtung D1 zu einer Länge L1 des Bauelementkörpers 3 in der ersten Richtung D1 ist größer oder gleich 0,2. Ein Verhältnis (L3/L1) einer Länge L3 des Gebiets 5e₂ in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2.
Der Vielschichtkondensator C1 ist auf eine elektronische Vorrichtung (z.B. eine Leiterplatte oder ein elektronisches Bauelement) aufgelötet. Bei dem Vielschichtkondensator C1 ist die Hauptfläche 3a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Bei der ersten Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 5a, wie oben beschrieben, die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht) und umfasst das im Elektrodenabschnitt 5e enthaltene Gebiet 5e₂ die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht). Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtkondensator C1 aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante der äußeren Elektrode 5 konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode 5 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C1 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 unterdrückt.
Bei der ersten Ausführungsform umfasst das im Elektrodenabschnitt 5c enthaltene Gebiet 5c₂ die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht). Daher besteht selbst in einem Fall, in dem die äußere Elektrode 5 den Elektrodenabschnitt 5c umfasst, nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 5 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C1 ein Auftreten des Risses im Bauelementkörper 3 zuverlässig unterdrückt.
Das Verhältnis (L3/L1) der Länge L3 des Gebiets 5e₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Daher besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 5 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C1 das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt.
Das Verhältnis (L2/L1) der Länge L2 des Gebiets 5c₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Daher besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 5 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C1 das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt.
Als Nächstes wird eine Ausgestaltung eines Vielschichtkondensators C2 gemäß einer anderen Abwandlung der ersten Ausführungsform mit Bezug auf 7 bis 10 beschrieben. 7 und 8 sind Draufsichten eines Vielschichtkondensators gemäß der vorliegenden Abwandlung. 9 und 10 sind Seitenansichten des Vielschichtkondensators gemäß der vorliegenden Abwandlung.
Wie im Falle des Vielschichtkondensators C1 umfasst der Vielschichtkondensator C2 den Bauelementkörper 3, das Paar äußerer Elektroden 5, die Vielzahl innerer Elektroden 7 (nicht dargestellt) und die Vielzahl innerer Elektroden 9 (nicht dargestellt). Beim Vielschichtkondensator C2 unterscheidet sich eine Form des Bauelementkörpers 3 von der des Vielschichtkondensators C1.
Bei der vorliegenden Abwandlung ist die Länge des Bauelementkörpers 3 in der zweiten Richtung D2 größer als die Länge des Bauelementkörpers 3 in der ersten Richtung D1 und größer als die Länge des Bauelementkörpers 3 in der dritten Richtung D3. Die zweite Richtung D2 ist eine Längsrichtung des Bauelementkörpers 3. Auch bei der vorliegenden Abwandlung wird ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 unterdrückt.
(Zweite Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtdurchführungskondensators C3 gemäß einer zweiten Ausführungsform wird mit Bezug auf 11 bis 17 beschrieben. 11 und 12 sind Draufsichten eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform. 13 und 14 sind Seitenansichten des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform. 15 bis 17 sind Ansichten, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zweiten Ausführungsform darstellen. Bei der zweiten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtdurchführungskondensator C3.
Wie in 11 bis 14 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C3 den Bauelementkörper 3, ein Paar äußerer Elektroden 13 und ein Paar äußerer Elektroden 15. Das Paar äußerer Elektroden 13 und das Paar äußerer Elektroden 15 sind auf der äußeren Oberfläche des Bauelementkörpers 3 angeordnet. Das Paar äußerer Elektroden 13 und das Paar äußerer Elektroden 15 sind voneinander getrennt. Die zwei äußeren Elektroden 13 dienen beispielsweise als Signalanschlusselektroden und die zwei äußeren Elektroden 15 dienen beispielsweise als Masseanschlusselektroden.
Wie in 15 bis 17 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C3 eine Vielzahl innerer Elektroden 17 und eine Vielzahl innerer Elektroden 19. Wie im Falle der inneren Elektroden 7 und 9 bestehen die inneren Elektroden 17 und 19 aus einem leitfähigen Material, das gewöhnlich als innere Elektrode eines vielschichtigen elektronischen Bauelements verwendet wird. Auch bei der zweiten Ausführungsform bestehen die inneren Elektroden 7 und 9 aus Ni.
Die inneren Elektroden 17 und die inneren Elektroden 19 sind in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der ersten Richtung D1 angeordnet. Die inneren Elektroden 17 und die inneren Elektroden 19 sind in dem Bauelementkörper 3 derart abwechselnd angeordnet, dass sie einander in der ersten Richtung D1 mit einem Zwischenraum zwischen ihnen gegenüberliegen. Die Polaritäten der inneren Elektroden 17 und der inneren Elektroden 19 sind voneinander verschieden. In einem Fall, in dem die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten die zweite Richtung D2 ist, sind die inneren Elektroden 17 und die inneren Elektroden 19 in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der zweiten Richtung D2 angeordnet. Beide Enden der inneren Elektrode 17 sind zu dem Paar von Seitenflächen 3e hin freigelegt. Beide Enden der inneren Elektrode 19 sind zu dem Paar von Seitenflächen 3c hin freigelegt.
Die äußere Elektrode 13 ist beim Endabschnitt des Bauelementkörpers 3 in einer dritten Richtung D3 angeordnet. Die äußere Elektrode 13 umfasst eine Vielzahl von Elektrodenabschnitten 13a, 13b, 13c und 13e. Der Elektrodenabschnitt 13a ist auf der Hauptfläche 3a angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 13b ist auf der Hauptfläche 3b angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 13c ist auf jeder Seitenfläche 3c angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 13e ist auf der entsprechenden Seitenfläche 3e angeordnet. Die äußere Elektrode 13 ist auf den fünf Flächen ausgebildet, d.h. auf den Hauptflächen 3a und 3b, dem Paar von Seitenflächen 3c und der Seitenfläche 3e. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 13a, 13b, 13c und 13e sind bei einer Erhöhung des Bauelementkörpers 3 miteinander verbunden und sie sind miteinander elektrisch verbunden.
Der Elektrodenabschnitt 13e bedeckt alle die bei der Seitenfläche 3e freiliegenden einen Enden der inneren Elektroden 17. Die inneren Elektroden 17 sind direkt mit jedem Elektrodenabschnitt 13e verbunden. Die inneren Elektroden 17 sind mit dem Paar äußerer Elektroden 13 elektrisch verbunden.
Wie in 15 und 16 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 13 die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 13.
Der Elektrodenabschnitt 13a umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 13a hat einen vierschichtigen Aufbau. Beim Elektrodenabschnitt 13a ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Der Elektrodenabschnitt 13b umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 13b umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Der Elektrodenabschnitt 13b hat einen dreischichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 13c umfasst ein Gebiet 13c₁ und ein Gebiet 13c₂ . Das Gebiet 13c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 13c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 13c nur zwei Gebiete 13c₁ und 13c₂ . Das Gebiet 13c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 13c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 13c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 13c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 13c₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 13e umfasst ein Gebiet 13e₁ und ein Gebiet 13e₂ . Das Gebiet 13e₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 13e₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 13e nur zwei Gebiete 13e₁ und 13e₂ . Das Gebiet 13e₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 13e₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 13e₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 13e₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 13e₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Ein Verhältnis (L4/L1) einer Länge L4 des Gebiets 13c₂ in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Ein Verhältnis (L5/L1) einer Länge L5 des Gebiets 13e₂ in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2.
Die erste Elektrodenschicht E1, die in jedem der Elektrodenabschnitte 13a, 13b, 13c und 13e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 13a, 13c und 13e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 13a, 13b, 13c und 13e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 13a, 13b, 13c und 13e enthalten ist, ist ebenfalls integral ausgebildet.
Die äußere Elektrode 15 ist auf einem zentralen Abschnitt des Bauelementkörpers 3 in der dritten Richtung D3 angeordnet. Die äußere Elektrode 15 umfasst Elektrodenabschnitte 15a, 15b und 15c. Der Elektrodenabschnitt 15a ist auf der Hauptfläche 3a angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 15b ist auf der Hauptfläche 3b angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 15c ist auf der Seitenfläche 3c angeordnet. Die äußere Elektrode 6 ist auf den drei Flächen ausgebildet, d.h. auf dem Paar von Hauptflächen 3a und 3b und der Seitenfläche 3c. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 15a, 15b und 15c sind bei einer Erhöhung des Bauelementkörpers 3 miteinander verbunden und sie sind miteinander elektrisch verbunden.
Der Elektrodenabschnitt 15c bedeckt alle die bei der Seitenfläche 3c freiliegenden einen Enden der inneren Elektroden 19. Die inneren Elektroden 19 sind direkt mit jedem Elektrodenabschnitt 15c verbunden. Die inneren Elektroden 19 sind mit dem Paar äußerer Elektroden 15 elektrisch verbunden.
Wie in 17 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 15 auch die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 15.
Der Elektrodenabschnitt 15a umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 15a hat einen vierschichtigen Aufbau. Beim Elektrodenabschnitt 15a ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Der Elektrodenabschnitt 15b umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 15b umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Der Elektrodenabschnitt 15b hat einen dreischichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 15c umfasst ein Gebiet 15c₁ und ein Gebiet 15c₂ . Das Gebiet 15c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 15c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 15c nur zwei Gebiete 15c₁ und 15c₂ . Das Gebiet 15c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 15c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 15c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 15c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 15c₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Ein Verhältnis (L6/L1) einer Länge L6 des Gebiets 15c₂ in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Die erste Elektrodenschicht E1, die in jedem der Elektrodenabschnitte 15a, 15b und 15c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 15a und 15c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 15a, 15b und 15c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 15a, 15b und 15c enthalten ist, ist ebenfalls integral ausgebildet.
Der Vielschichtdurchführungskondensator C3 ist ebenfalls auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet. Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C3 ist die Hauptfläche 3a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Wie oben beschrieben, umfassen die Elektrodenabschnitte 13a und 15a bei der zweiten Ausführungsform die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht) und die in den Elektrodenabschnitten 13c und 15c enthaltenen Gebiete 13c₂ und 15c₂ umfassen die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht). Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtdurchführungskondensator C3 aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante der äußeren Elektroden 13 und 15 konzentriert. Die Stirnkanten der äußeren Elektroden 13 und 15 sind nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C3 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 unterdrückt.
Das Verhältnis (L5/L1) der Länge L5 des Gebiets 13e₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Daher besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 13 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C3 das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt.
Das Verhältnis (L4/L1) der Länge L4 des Gebiets 13c₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Daher besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 13 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C3 das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt.
Bei der zweiten Ausführungsform ist das Verhältnis (L6/L1) der Länge L6 des Gebiets 15c₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Daher besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 15 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C3 das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt.
(Dritte Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtkondensators C4 gemäß einer dritten Ausführungsform wird mit Bezug auf 18 bis 22 beschrieben. 18 und 19 sind Draufsichten eines Vielschichtkondensators gemäß der dritten Ausführungsform. 20 und 21 sind Seitenansichten des Vielschichtkondensators gemäß der dritten Ausführungsform. 22 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration von äußeren Elektroden darstellt. Bei der dritten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtkondensator C4.
Wie in 18 bis 21 dargestellt, umfasst der Vielschichtkondensator C4 den Bauelementkörper 3, eine Vielzahl äußerer Elektroden 21 und eine Vielzahl innerer Elektroden (nicht dargestellt). Die Vielzahl äußerer Elektroden 21 ist auf der Außenfläche des Bauelementkörpers 3 angeordnet. Die vielen äußeren Elektroden 21 sind voneinander getrennt. Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Vielschichtkondensator C4 acht äußere Elektroden 21. Die Anzahl der äußeren Elektroden 21 ist nicht auf acht begrenzt.
Jede der äußeren Elektroden 21 umfasst Elektrodenabschnitte 21a, 21b und 21c. Der Elektrodenabschnitt 21a ist auf der Hauptfläche 3a angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 21b ist auf der Hauptfläche 3b angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 21c ist auf der Seitenfläche 3c angeordnet. Die äußere Elektrode 21 ist auf den drei Flächen ausgebildet, d.h. auf den Hauptflächen 3a und 3b und der Seitenfläche 3c. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 21a, 21b und 21c sind bei einer Erhöhung des Bauelementkörpers 3 miteinander verbunden und sie sind miteinander elektrisch verbunden.
Der Elektrodenabschnitt 21c bedeckt alle bei der Seitenfläche 3c freiliegenden einen Enden der jeweiligen inneren Elektroden. Der Elektrodenabschnitt 21c ist direkt mit den jeweiligen inneren Elektroden verbunden. Die äußere Elektrode 21 ist mit den jeweiligen inneren Elektroden elektrisch verbunden.
Wie in 22 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 21 die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 21.
Der Elektrodenabschnitt 21a umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 21a hat einen vierschichtigen Aufbau. Beim Elektrodenabschnitt 21a ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Der Elektrodenabschnitt 21b umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 21b umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Der Elektrodenabschnitt 21b hat einen dreischichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 21c umfasst ein Gebiet 21c₁ und ein Gebiet 21c₂ . Das Gebiet 21c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 21c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 21c nur zwei Gebiete 21c₁ und 21c₂ . Das Gebiet 21c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 21c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 21c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 21c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 21c₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Ein Verhältnis (L7/L1) einer Länge L7 des Gebiets 21c₂ in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Die erste Elektrodenschicht E1, die in jedem der Elektrodenabschnitte 21a, 21b und 21c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 21a und 21c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 21a, 21b und 21c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 21a, 21b und 21c enthalten ist, ist ebenfalls integral ausgebildet.
Der Vielschichtkondensator C4 ist ebenfalls auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet. Bei dem Vielschichtkondensator C4 ist die Hauptfläche 3a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Wie oben beschrieben, umfasst der Elektrodenabschnitt 21a bei der dritten Ausführungsform die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht) und umfasst das im Elektrodenabschnitt 21c enthaltene Gebiet 21c₂ die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht). Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtkondensator C4 aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante der äußeren Elektrode 21 konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode 21 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C4 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 unterdrückt.
Das Verhältnis (L7/L1) der Länge L7 des Gebiets 21c₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Daher besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 21 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C4 das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt.
(Vierte Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtkondensators C5 gemäß einer vierten Ausführungsform wird mit Bezug auf 23 bis 27 beschrieben. 23 und 24 sind Draufsichten eines Vielschichtkondensators gemäß der vierten Ausführungsform. 25 und 26 sind Seitenansichten des Vielschichtkondensators gemäß der vierten Ausführungsform. 27 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration von äußeren Elektroden darstellt. Bei der vierten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtkondensator C5.
Wie in 23 bis 26 dargestellt, umfasst der Vielschichtkondensator C5 den Bauelementkörper 3, eine Vielzahl äußerer Elektroden 31 und eine Vielzahl innerer Elektroden (nicht dargestellt). Die Vielzahl äußerer Elektroden 31 ist auf der Außenfläche des Bauelementkörpers 3 angeordnet. Die vielen äußeren Elektroden 31 sind voneinander getrennt. Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Vielschichtkondensator C5 vier äußere Elektroden 31.
Die Länge des Bauelementkörpers 3 in der ersten Richtung D1 ist kleiner als die Länge des Bauelementkörpers 3 in der zweiten Richtung D2 und kleiner als die Länge des Bauelementkörpers 3 in der dritten Richtung D3. Die Länge des Bauelementkörpers 3 in der zweiten Richtung D2 und die Länge des Bauelementkörpers 3 in der dritten Richtung D3 sind gleich.
Jede äußere Elektrode 31 ist an jedem Eckabschnitt des Bauelementkörpers 3 angeordnet. Jede der äußeren Elektrode 31 umfasst Elektrodenabschnitte 31a, 31b, 31c und 31e. Der Elektrodenabschnitt 31a ist auf der Hauptfläche 3a angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 31b ist auf der Hauptfläche 3b angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 31c ist auf der Seitenfläche 3c angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 31e ist auf der Seitenfläche 3e angeordnet. Die äußere Elektrode 31 ist auf den vier Flächen ausgebildet, d.h. auf den Hauptflächen 3a und 3b, der Seitenfläche 3c und der Seitenfläche 3e. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 31a, 31b, 31c und 13e sind bei einer Erhöhung des Bauelementkörpers 3 miteinander verbunden und sie sind miteinander elektrisch verbunden.
Die Elektrodenabschnitte 31c und 31e bedecken alle die bei den Seitenflächen 3c und 3e freiliegenden einen Enden der jeweiligen inneren Elektroden. Die Elektrodenabschnitte 31c und 31e sind direkt mit den jeweiligen inneren Elektroden verbunden. Die äußere Elektrode 31 ist mit den jeweiligen inneren Elektroden elektrisch verbunden.
Wie in 27 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 31 eine erste Elektrodenschicht E1, eine zweite Elektrodenschicht E2, eine dritte Elektrodenschicht E3 und eine vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 31.
Der Elektrodenabschnitt 31a umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 31a hat einen vierschichtigen Aufbau. Beim Elektrodenabschnitt 31a ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Der Elektrodenabschnitt 31b umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 31b umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Der Elektrodenabschnitt 31b hat einen dreischichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 31c umfasst ein Gebiet 31c₁ und ein Gebiet 31c₂ . Das Gebiet 31c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 31c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 31c nur zwei Gebiete 31c₁ und 31c₂ . Das Gebiet 31c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 31c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 31c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 31c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 31c₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Der Elektrodenabschnitt 31e umfasst ein Gebiet 31e₁ und ein Gebiet 31e₂ . Das Gebiet 31e₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 31e₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 31e nur zwei Gebiete 31e₁ und 31e₂ . Das Gebiet 31e₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 31e₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 31e₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 31e₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 31e₂ hat einen vierschichtigen Aufbau.
Ein Verhältnis (L8/L1) einer Länge L8 des Gebiets 31c₂ in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Ein Verhältnis (L9/L1) einer Länge L9 des Gebiets 31e₂ in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2.
Die erste Elektrodenschicht E1, die in jedem der Elektrodenabschnitte 31a, 31b, 31c und 31e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 31a, 31c und 31e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 31a, 31b, 31c und 31e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 31a, 31b, 31c und 31e enthalten ist, ist ebenfalls integral ausgebildet.
Der Vielschichtkondensator C5 ist ebenfalls auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet. Bei dem Vielschichtkondensator C5 ist die Hauptfläche 3a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Wie oben beschrieben, umfasst der Elektrodenabschnitt 31a bei der vierten Ausführungsform die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht) und die in den Elektrodenabschnitten 31c und 31e enthaltenen Gebiete 31c₂ und 31e₂ umfassen die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht). Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtkondensator C5 aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf eine Stirnkante der äußeren Elektrode 31 konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode 31 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C5 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 unterdrückt.
Das Verhältnis (L8/L1) der Länge L8 des Gebiets 31c₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Das Verhältnis (L9/L1) der Länge L9 des Gebiets 31e₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 ist größer oder gleich 0,2. Daher besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 31 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C5 das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt.
(Fünfte Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtdurchführungskondensators C6 gemäß einer fünften Ausführungsform wird mit Bezug auf 28 bis 32 beschrieben. 28 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der fünften Ausführungsform. 29 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der fünften Ausführungsform. 30 bis 32 sind Ansichten, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der fünften Ausführungsform darstellen. Bei der fünften Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtdurchführungskondensator C6.
Wie in 28 bis 32 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C6 den Bauelementkörper 3, das Paar äußerer Elektroden 13, das Paar äußerer Elektroden 15, die Vielzahl innerer Elektroden 17 und die Vielzahl innerer Elektroden 19. Der Vielschichtdurchführungskondensator C6 ist ebenfalls auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet. Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C6 ist die Hauptfläche 3a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Wie in 30 und 31 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 13 die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C6 umfasst die äußere Elektrode 13 nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Jeder der Elektrodenabschnitte 13a, 13c und 13e umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Jeder der Elektrodenabschnitte 13a, 13c und 13e hat einen dreischichtigen Aufbau. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 13.
Wie in 32 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 15, wie es beim Vielschichtdurchführungskondensator C3 der Fall ist, die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4.
Der Vielschichtdurchführungskondensator C6 umfasst ein Paar von Isolierschichten I. Die Isolierschicht I besteht aus einem Material mit elektrischen Isoliereigenschaften (z.B. ein Isolierharz oder Glas). Bei der fünften Ausführungsform besteht die Isolierschicht I aus einem Isolierharz (z.B. ein Epoxidharz).
Die Isolierschicht I bedeckt einen Teil der äußeren Elektrode 13 und einen Teil des Bauelementkörpers 3 entlang einer Stirnkante 13a_e des Elektrodenabschnitts 13a und einer Stirnkante 13c_e des Elektrodenabschnitts 13c. Der Elektrodenabschnitt 13b, der Elektrodenabschnitt 13e und die Hauptfläche 3b sind nicht mit der Isolierschicht I bedeckt.
Entlang der Stirnkante 13a_e und nur einem Teil der Stirnkante 13c_e (einem Abschnitt nahe der Hauptfläche 3a in der ersten Richtung D1) bedeckt die Isolierschicht I die Stirnkante 13a_e und nur den Teil der Stirnkante 13c_e durchgehend und sie bedeckt die Hauptfläche 3a und die Seitenfläche 3c durchgehend. Die Isolierschicht I umfasst Schichtabschnitte Ia, Ib, Ic und Id. Der Schichtabschnitt Ia befindet sich auf dem Elektrodenabschnitt 13a. Der Schichtabschnitt Ib befindet sich auf dem Elektrodenabschnitt 13c. Der Schichtabschnitt Ic befindet sich auf der Hauptfläche 3a. Der Schichtabschnitt Id befindet sich auf der Seitenfläche 3c. Die Schichtabschnitte Ia, Ib, Ic und Id sind jeweils integral ausgebildet.
Eine Fläche des Elektrodenabschnitts 13a umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Ia) entlang der Stirnkante 13a_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist. Das von der Isolierschicht I freigelegte Gebiet befindet sich näher an der Stirnfläche 3e als das mit dem Schichtabschnitt Ia bedeckte Gebiet. Eine Fläche des Elektrodenabschnitts 13c umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Ib) entlang der Stirnkante 13c_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist.
Die Hauptfläche 3a umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Ic) entlang der Stirnkante 13a_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist. Die Seitenfläche 3c umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Id) entlang der Stirnkante 13c_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist.
Bei der fünften Ausführungsform beträgt ein Verhältnis (L11/L1) von jeder Länge L11 des Schichtabschnitts Ib und des Schichtabschnitts Id in der ersten Richtung D1 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 mindestens 0,1 bis höchstens 0,4. Ein Verhältnis (L13/L12) einer Länge L13 des Schichtabschnitts Ia in der dritten Richtung D3 zu einer Länge L12 des Elektrodenabschnitts 13a in der dritten Richtung D3 ist größer oder gleich 0,3.
Wie oben beschrieben, bedeckt die Isolierschicht I bei der fünften Ausführungsform die Stirnkante 13a_e und nur einen Teil der Stirnkante 13c_e durchgehend. Daher erreicht eine Lötkehle nicht die Stirnkante 13a_e und den Teil der Stirnkante 13c_e (eine Stirnkante eines nahe der Hauptfläche 3a befindlichen Abschnitts im Elektrodenabschnitt 13c). Folglich besteht selbst in einem Fall, in dem durch die Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtdurchführungskondensator C6 aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf die Stirnkanten 13a_e und 13c_e konzentriert. Die Stirnkanten 13a_e und 13c_e sind nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren.
Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C6 umfasst der Elektrodenabschnitt 15a die zweite Elektrodenschicht E2 und umfasst das in dem Elektrodenabschnitt 15c enthaltene Gebiet 15c₂ die zweite Elektrodenschicht E2. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem durch die Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtdurchführungskondensator C6 aufgebracht wird, nicht die Neigung, dass sich Spannung auf Stirnkanten der äußeren Elektrode 15 konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode 15 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren.
Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C6 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 unterdrückt.
Bei der fünften Ausführungsform bedeckt die Isolierschicht I die Hauptfläche 3a und die Seitenfläche 3c entlang der Stirnkante 13a_e und nur dem Teil der Stirnkante 13c_e durchgehend. Daher sind die Stirnkante 13a_e und der Teil der Stirnkante 13c_e zuverlässig mit der Isolierschicht I bedeckt. Folglich sind bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C6 die Stirnkanten 13a_e und 13c_e weiters nicht anfällig dafür, als Ursprung des Risses zu fungieren.
Bei der fünften Ausführungsform ist der gesamte Elektrodenabschnitt 13b von der Isolierschicht I freigelegt. Daher ist die Lötkehle SF auf dem Elektrodenabschnitt 13b ausgebildet. Folglich ist die Montagefestigkeit des Vielschichtdurchführungskondensators C6 sichergestellt.
Bei der fünften Ausführungsform beträgt das Verhältnis (L11/L1) der Länge L11 zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 mindestens 0,1 bis höchstens 0,4. In diesem Fall ist die Wirkung des Unterdrückens eines Auftretens von Rissen sichergestellt und eine Größe der Isolierschicht I ist verringert. Daher wird ein Kostenaufwand für den Vielschichtdurchführungskondensator C6 verringert. In einem Fall, in dem das Verhältnis (L11/L1) weniger als 0,1 beträgt, ist die auf die Stirnkanten 13a_e und 13c_e wirkende Spannung groß. Die Stirnkanten 13a_e und 13c_e sind anfällig dafür, als Ursprung des Risses zu fungieren.
Bei der fünften Ausführungsform ist das Verhältnis (L13/L12) der Länge L13 des Schichtabschnitts Ia zur Länge L12 des Elektrodenabschnitts 13a größer oder gleich 0,3. In diesem Fall besteht weiters nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante 13a_e konzentriert. Daher wird ein Auftreten des Risses in dem Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt. In einem Fall, in dem das Verhältnis (L13/L12) weniger als 0,3 beträgt, ist die auf die Stirnkante 13a_e wirkende Spannung groß. Die Stirnkante 13a_e ist anfällig dafür, als Ursprung des Risses zu fungieren.
Als Nächstes wird eine Ausgestaltung eines Vielschichtdurchführungskondensators C7 gemäß einer Abwandlung der fünften Ausführungsform mit Bezug auf 33 bis 35 beschrieben. 33 und 35 sind Draufsichten eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der vorliegenden Abwandlung. 35 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der vorliegenden Abwandlung.
Wie im Falle des Vielschichtdurchführungskondensators C6 umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C7 den Bauelementkörper 3, das Paar äußerer Elektroden 13, das Paar äußerer Elektroden 15, die Vielzahl innerer Elektroden 17 (nicht dargestellt) und die Vielzahl innerer Elektroden 19 (nicht dargestellt). Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C7 unterscheidet sich eine Form der Isolierschicht I von der des Vielschichtdurchführungskondensators C6.
Wie in 33 bis 35 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C7 das Paar von Isolierschichten I. Die Isolierschicht I bedeckt einen Teil der äußeren Elektrode 13 und einen Teil des Bauelementkörpers 3 entlang der Stirnkante 13a_e des Elektrodenabschnitts 13a, einer Stirnkante 13b_e des Elektrodenabschnitts 13b und der Stirnkante 13c_e des Elektrodenabschnitts 13c. Der Elektrodenabschnitt 13e ist nicht mit der Isolierschicht I bedeckt.
Entlang allen von der Stirnkante 13a_e , der Stirnkante 13b_e und der Stirnkante 13c_e bedeckt die Isolierschicht I die Stirnkante 13a_e , die Stirnkante 13b_e und die Stirnkante 13c_e durchgehend und sie bedeckt die Hauptfläche 3a, die Hauptfläche 3b und die Seitenfläche 3c durchgehend. Die Isolierschicht I umfasst Schichtabschnitte Ia, Ib, Ic, Id, Ie und If. Der Schichtabschnitt Ia befindet sich auf dem Elektrodenabschnitt 13a. Der Schichtabschnitt Ib befindet sich auf dem Elektrodenabschnitt 13c. Der Schichtabschnitt Ic befindet sich auf der Hauptfläche 3a. Der Schichtabschnitt Id befindet sich auf der Seitenfläche 3c. Der Schichtabschnitt Ie befindet sich auf dem Elektrodenabschnitt 13b. Der Schichtabschnitt If befindet sich auf der Hauptfläche 3b. Die Schichtabschnitte Ia, Ib, Ic, Id, Ie und If sind jeweils integral ausgebildet.
Die Fläche des Elektrodenabschnitts 13a umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Ia) entlang der Stirnkante 13a_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist. Das von der Isolierschicht I freigelegte Gebiet auf der Fläche des Elektrodenabschnitts 13a befindet sich näher an der Seitenfläche 3e als das mit dem Schichtabschnitt Ia bedeckte Gebiet. Die Fläche des Elektrodenabschnitts 13c umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Ib) entlang der Stirnkante 13c_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist. Das von der Isolierschicht I freigelegte Gebiet auf der Fläche des Elektrodenabschnitts 13c befindet sich näher an der Seitenfläche 3e als das mit dem Schichtabschnitt Ib bedeckte Gebiet. Eine Fläche des Elektrodenabschnitts 13b umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Ie) entlang der Stirnkante 13b_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist. Das von der Isolierschicht I freigelegte Gebiet auf der Fläche des Elektrodenabschnitts 13b befindet sich näher an der Seitenfläche 3e als das mit dem Schichtabschnitt Ie bedeckte Gebiet.
Die Hauptfläche 3a umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Ic) entlang der Stirnkante 13a_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist. Die Seitenfläche 3c umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt Id) entlang der Stirnkante 13c_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist. Die Hauptfläche 3b umfasst ein Gebiet, das mit der Isolierschicht I (Schichtabschnitt If) entlang der Stirnkante 13b_e bedeckt ist, und ein Gebiet, das von der Isolierschicht I freigelegt ist.
Bei der vorliegenden Abwandlung bedeckt die Isolierschicht I durchgehend alle von der Stirnkante 13a_e , der Stirnkante 13b_e und der Stirnkante 13c_e . Folglich wird ein Auftreten eines Risses in dem Bauelementkörper 3 zuverlässig unterdrückt.
Die Isolierschicht I bedeckt durchgehend die Hauptfläche 3a, die Hauptfläche 3b und die Seitenfläche 3c entlang aller von der Stirnkante 13a_e , der Stirnkante 13b_e und der Stirnkante 13c_e . Daher sind alle von der Stirnkante 13a_e , der Stirnkante 13b_e und der Stirnkante 13c_e zuverlässig mit der Isolierschicht I bedeckt. Folglich sind die Stirnkanten 13a_e und 13c_e weiters nicht anfällig dafür, als Ursprung des Risses zu fungieren.
(Sechste Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung einer elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 gemäß einer sechsten Ausführungsform wird mit Bezug auf 36 beschrieben. 36 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration der elektronischen Bauelementevorrichtung gemäß der sechsten Ausführungsform darstellt.
Wie in 36 dargestellt, umfasst die elektronische Bauelementevorrichtung ECD1 den Vielschichtkondensator C1 und eine elektronische Vorrichtung ED. Die elektronische Vorrichtung ED umfasst beispielsweise eine Leiterplatte oder ein elektronisches Bauelement.
Der Vielschichtkondensator C1 ist auf die elektronische Vorrichtung ED aufgelötet. Die elektronische Vorrichtung ED umfasst eine Hauptfläche EDa und zwei Anschlusselektroden PE1 und PE2. Jede der Anschlusselektroden PE1 und PE2 ist auf der Hauptfläche EDa angeordnet. Die zwei Anschlusselektroden PE1 und PE2 sind voneinander getrennt. Der Vielschichtkondensator C1 ist derart auf der elektronischen Vorrichtung ED angeordnet, dass die Hauptfläche EDa und die Hauptfläche 3a, welche die Montagefläche ist, einander gegenüberliegen.
In einem Fall, in dem der Vielschichtkondensator C1 aufgelötet wird, benetzt geschmolzenes Lot die äußeren Elektroden 5 (vierte Elektrodenschichten E4). Durch Erstarren des flüssigen Lots bilden sich Lötkehlen SF auf den äußeren Elektroden 5. Die äußeren Elektroden 5 und die Anschlusselektroden PE1 und PE2, die einander entsprechen, sind über die Lötkehlen SF verbunden.
Die Lötkehle SF wird auf dem Gebiet 5e₁ und dem Gebiet 5e₂ des Elektrodenabschnitts 5e ausgebildet. Außer dem Gebiet 5e₂ ist auch das Gebiet 5e₁ , das nicht die zweite Elektrodenschicht E2 umfasst, mit der entsprechenden Anschlusselektrode PE1 oder PE2 über die Lötkehle SF verbunden. Obwohl eine Darstellung weggelassen ist, ist die Lötkehle SF auch auf dem Gebiet 5c₁ und dem Gebiet 5c₂ des Elektrodenabschnitts 5c ausgebildet.
Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ist ein Gebiet, auf dem die Lötkehle SF ausgebildet ist, groß im Vergleich zu einer elektronischen Bauelementevorrichtung, bei der die Lötkehle SF nur auf den Gebieten 5e₂ des Elektrodenabschnitts 5e ausgebildet ist. Daher ist die Montagefestigkeit des Vielschichtkondensators C1 sichergestellt.
Das Gebiet 5e₂ ragt weiter in die zweite Richtung D2 und die dritte Richtung D3 vor als das Gebiet 5e₁ . Daher ist eine Stufe an der Grenze zwischen dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ ausgebildet. In einer Nähe der Grenze zwischen dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ ist eine Fläche des Gebiets 5e₁ kleiner als eine Fläche des Gebiets 5e₂ . Daher ist ein Weg der Benetzung mit geschmolzenem Lot klein. Folglich neigt das geschmolzene Lot dazu, vom Gebiet 5e₂ bis zum Gebiet 5e₁ zu benetzen, und das geschmolzene Lot neigt dazu, sich auf der Stufe anzulagern, die von dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ gebildet wird. Auf der von dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ gebildeten Stufe wird eine Lotansammlung gebildet.
Bei der in 36 dargestellten elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ist die Lotansammlung auf der Stufe ausgebildet, die von dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ gebildet wird. Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ist ein Volumen der Lötkehle, die auf dem Gebiet 5e₂ und der Anschlusselektrode PE1 oder PE2 ausgebildet ist, gering im Vergleich zu einer elektronischen Bauelementevorrichtung, bei der an der Grenze zwischen dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ keine Stufe ausgebildet ist. Daher ist eine von der Lötkehle SF auf den Vielschichtkondensator C1 wirkende Kraft gering. Eine Spannung, die sich auf die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert, die sich auf der Hauptfläche 3a befindet, die eingerichtet ist, um die Montagefläche zu bilden, ist ebenfalls gering. Folglich ist die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Ein Auftreten eines Risses in dem Bauelementkörper 3 wird unterdrückt.
Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ist ein Umfang der Lotbenetzung auf dem Gebiet 5e₁ groß im Vergleich zu der elektronischen Bauelementevorrichtung, bei der an der Grenze zwischen dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ keine Stufe ausgebildet ist. Demzufolge ist bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ein mit der Lötkehle SF ausgebildetes Gebiet groß. Folglich ist die Montagefestigkeit des Vielschichtkondensators C1 verbessert.
Die durch das Gebiet 5e₂ und das Gebiet 5e₁ gebildete Stufe umfasst die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht). Daher ist die Lotansammlung, die auf der Stufe ausgebildet ist, die von dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ gebildet wird, nicht anfällig dafür, als der Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich besteht nicht die Neigung, dass in der äußeren Elektrode 5 ein Riss auftritt.
Wie in 1 und 4 dargestellt, ragt das Gebiet 5c₂ weiter in die zweite Richtung D2 und die dritte Richtung D3 vor als das Gebiet 5c₁ . Daher ist eine Stufe an der Grenze zwischen dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ ausgebildet. In einer Nähe der Grenze zwischen dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ ist eine Fläche des Gebiets 5c₁ kleiner als eine Fläche des Gebiets 5c₂ . Daher ist ein Weg der Benetzung mit geschmolzenem Lot klein. Folglich neigt das geschmolzene Lot dazu, vom Gebiet 5c₂ bis zum Gebiet 5c₁ , zu benetzen, und das geschmolzene Lot neigt dazu, sich auf der Stufe anzulagern, die von dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ gebildet wird. Obwohl eine Darstellung weggelassen ist, ist auf der von dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ gebildeten Stufe eine Lotansammlung ausgebildet.
Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ist die Lotansammlung auf der Stufe ausgebildet, die von dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ gebildet wird. Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ist ein Volumen der Lötkehle, die auf dem Gebiet 5c₂ und der Anschlusselektrode PE1 oder PE2 ausgebildet ist, gering im Vergleich zu einer elektronischen Bauelementevorrichtung, bei der an der Grenze zwischen dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ keine Stufe ausgebildet ist. Daher ist eine von der Lötkehle SF auf den Vielschichtkondensator C1 wirkende Kraft gering. Eine Spannung, die sich auf die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert, die sich auf der Hauptfläche 3a befindet, die eingerichtet ist, um die Montagefläche zu bilden, ist ebenfalls gering. Folglich ist die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Ein Auftreten eines Risses in dem Bauelementkörper 3 wird unterdrückt.
Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD1 ist ein Umfang der Lotbenetzung auf dem Gebiet 5c₁ groß im Vergleich zu der elektronischen Bauelementevorrichtung, bei der an der Grenze zwischen dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ keine Stufe ausgebildet ist, und somit ist ein mit der Lötkehle SF ausgebildetes Gebiet groß. Folglich ist die Montagefestigkeit des Vielschichtkondensators C1 weiter verbessert.
Die durch das Gebiet 5c₂ und das Gebiet 5c₁ gebildete Stufe umfasst die zweite Elektrodenschicht E2 (leitfähige Harzschicht). Daher ist die Lotansammlung, die auf der Stufe ausgebildet ist, die von dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ gebildet wird, nicht anfällig dafür, als der Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich besteht weiters nicht die Neigung, dass in der äußeren Elektrode 5 der Riss auftritt.
Das Verhältnis (L3/L1) der Länge L3 des Gebiets 5e₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 kann kleiner oder gleich 0,8 sein. In einem Fall, in dem das Verhältnis (L3/L1) kleiner oder gleich 0,8 ist, wird die Lotansammlung gegenüber einem Fall, in dem das Verhältnis (L3/L1) größer als 0,8 ist, zuverlässig auf der Stufe ausgebildet, die von dem Gebiet 5e₂ und dem Gebiet 5e₁ gebildet wird.
Das Verhältnis (L2/L1) der Länge L2 des Gebiets 5c₂ zur Länge L1 des Bauelementkörpers 3 kann kleiner oder gleich 0,8 sein. In einem Fall, in dem das Verhältnis (L2/L1) kleiner oder gleich 0,8 ist, wird die Lotansammlung gegenüber einem Fall, in dem das Verhältnis (L2/L1) größer als 0,8 ist, zuverlässig auf der Stufe ausgebildet, die von dem Gebiet 5c₂ und dem Gebiet 5c₁ gebildet wird.
Die elektronische Bauelementevorrichtung ECD1 kann den Vielschichtkondensator C2, den Vielschichtkondensator C4 oder den Vielschichtkondensator C5 anstelle des Vielschichtkondensators C1 umfassen. Die elektronische Bauelementevorrichtung ECD1 kann den Vielschichtdurchführungskondensator C3, den Vielschichtdurchführungskondensator C6 oder den Vielschichtdurchführungskondensator C7 anstelle des Vielschichtkondensators C1 umfassen.
In einem Fall, in dem die elektronische Bauelementevorrichtung ECD1 den Vielschichtdurchführungskondensator C3 umfasst, ist die Lötkehle SF auf dem Gebiet 13e₁ und dem Gebiet 13e₂ des Elektrodenabschnitts 13e ausgebildet. Des Weiteren ist die Lötkehle SF auch auf dem Gebiet 15c₁ und dem Gebiet 15c₂ des Elektrodenabschnitts 15c ausgebildet.
In einem Fall, in dem die elektronische Bauelementevorrichtung ECD1 den Vielschichtkondensator C4 umfasst, ist die Lötkehle SF auf dem Gebiet 21c₁ und dem Gebiet 21c₂ des Elektrodenabschnitts 21c ausgebildet. In einem Fall, in dem die elektronische Bauelementevorrichtung ECD1 den Vielschichtkondensator C5 umfasst, ist die Lötkehle SF auf den Gebieten 31c₁ und 31e₁ und den Gebieten 31c₂ und 31e₂ der Elektrodenabschnitte 31c und 31e ausgebildet.
In einem Fall, in dem die elektronische Bauelementevorrichtung ECD1 den Vielschichtdurchführungskondensator C6 oder den Vielschichtdurchführungskondensator C7 umfasst, ist die Lötkehle SF auf dem Gebiet 15c₁ und dem Gebiet 15c₂ des Elektrodenabschnitts 15c ausgebildet. Des Weiteren ist die Lötkehle SF auch auf dem Elektrodenabschnitt 13e ausgebildet.
Wie in 37 und 38 dargestellt, kann bei dem Vielschichtkondensator C1 eine Breite des Gebiets 5c₂ in einer dritten Richtung D3 mit zunehmendem Abstand vom Gebiet 5c₁ zunehmen. In diesem Fall neigt geschmolzenes Lot dazu, vom Gebiet 5c₂ bis zum Gebiet 5c₁ zu benetzen. Daher wird das Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt und die Montagefestigkeit ist verbessert. Wie in 39 und 40 dargestellt, kann bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C3 eine Breite des Gebiets 13c₂ in einer dritten Richtung D3 mit zunehmendem Abstand vom Gebiet 13c₁ zunehmen. In diesem Fall neigt geschmolzenes Lot dazu, vom Gebiet 13c₂ bis zum Gebiet 13c₁ zu benetzen. Daher wird das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 3 weiter unterdrückt und die Montagefestigkeit ist verbessert.
Der Vielschichtdurchführungskondensator C3 kann eine äußere Elektrode 15 umfassen. In diesem Fall erstreckt sich der Elektrodenabschnitt 15a in der zweiten Richtung D2 auf der Hauptfläche 3a. Bei dieser Abwandlung ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 in dem Elektrodenabschnitt 5a bedeckt.
(Siebte Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtdurchführungskondensators C101 gemäß einer siebten Ausführungsform wird mit Bezug auf 42 bis 48 beschrieben. 42 und 43 sind Draufsichten eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform. 44 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform. 45 ist eine stirnseitige Ansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform. 46, 47 und 48 sind Ansichten, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform darstellen. Bei der siebten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtdurchführungskondensator C101.
Wie in 42 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C101 den Bauelementkörper 103, ein Paar äußerer Elektroden 105 und eine äußere Elektrode 106. Das Paar äußerer Elektroden 105 und die eine äußere Elektrode 106 sind auf einer äußeren Oberfläche des Bauelementkörpers 103 angeordnet. Das Paar äußerer Elektroden 105 und die äußere Elektrode 106 sind voneinander getrennt. Die zwei äußeren Elektroden 105 dienen beispielsweise als Signalanschlusselektroden. Die äußere Elektrode 106 dient beispielsweise als Masseanschlusselektrode.
Der Bauelementkörper 103 hat die Form eines rechteckigen Parallelepipeds. Der Bauelementkörper 103 umfasst ein Paar einander gegenüberliegender Hauptflächen 103a und 103b, ein Paar einander gegenüberliegender Seitenflächen 103c und ein Paar einander gegenüberliegender Stirnflächen 103e. Das Paar von Hauptflächen 103a und 103b und das Paar von Seitenflächen 103c haben eine rechteckige Form. Die Richtung, in der die zwei Hauptflächen 103a und 103b einander gegenüberliegen, ist eine erste Richtung D101. Die Richtung, in der die zwei Seitenflächen 103c einander gegenüberliegen, ist eine zweite Richtung D102. Die Richtung, in der die zwei Stirnflächen 103e einander gegenüberliegen, ist eine dritte Richtung D103. Die Form eines rechteckigen Parallelepipeds umfasst eine Form eines rechteckigen Parallelepipeds, bei der Ecken und Erhöhungen abgeschrägt sind, und eine Form eines rechteckigen Parallelepipeds, bei der die Ecken und Erhöhungen abgerundet sind.
Die erste Richtung D101 ist eine Richtung, die orthogonal zu den jeweiligen Hauptflächen 103a und 103b und zur zweiten Richtung D102 ist. Die dritte Richtung D103 ist eine Richtung, die parallel zu den jeweiligen Hauptflächen 103a und 103b und den jeweiligen Seitenflächen 103c sowie orthogonal zur ersten Richtung D101 und zur zweiten Richtung D102 ist. Die zweite Richtung D102 ist orthogonal zu den jeweiligen Seitenflächen 103c. Die dritte Richtung D103 ist orthogonal zu den jeweiligen Stirnflächen 103e. Bei der siebten Ausführungsform ist eine Länge des Bauelementkörpers 103 in der dritten Richtung D103 größer als eine Länge des Bauelementkörpers 103 in der ersten Richtung D101 und größer als eine Länge des Bauelementkörpers 103 in der zweiten Richtung D102. Die dritte Richtung D103 ist eine Längsrichtung des Bauelementkörpers 103.
Das Paar von Seitenflächen 103c erstreckt sich derart in der ersten Richtung D101, dass es das Paar von Hauptflächen 103a und 103b verbindet. Das Paar von Seitenflächen 103c erstreckt sich auch in der dritten Richtung D103. Das Paar von Stirnflächen 103e erstreckt sich derart in der ersten Richtung D101, dass es das Paar von Hauptflächen 103a und 103b verbindet. Das Paar von Stirnflächen 103e erstreckt sich auch in der zweiten Richtung D102.
Der Bauelementkörper 103 umfasst ein Paar von Erhöhungsabschnitten 103g, ein Paar von Erhöhungsabschnitten 103h, vier Erhöhungsabschnitte 103i, ein Paar von Erhöhungsabschnitten 103j und ein Paar von Erhöhungsabschnitten 103k. Der Erhöhungsabschnitt 103g befindet sich zwischen der Stirnfläche 103e und der Hauptfläche 103a. Der Erhöhungsabschnitt 103h befindet sich zwischen der Stirnfläche 103e und der Hauptfläche 103b. Der Erhöhungsabschnitt 103i befindet sich zwischen der Stirnfläche 103e und der Seitenfläche 103c. Der Erhöhungsabschnitt 103j befindet sich zwischen der Hauptfläche 103a und der Seitenfläche 103c. Der Erhöhungsabschnitt 103k befindet sich zwischen der Hauptfläche 103b und der Seitenfläche 103c. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist jeder der Erhöhungsabschnitte 103g, 103h, 103i, 103j und 103k derart abgerundet, dass er gekrümmt ist. Der Bauelementkörper 103 wird einem sogenannten Rundanfasprozess unterzogen.
Die Stirnfläche 103e und die Hauptfläche 103a grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 103g dazwischen befindet. Die Stirnfläche 103e und die Hauptfläche 103b grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 103h dazwischen befindet. Die Stirnfläche 103e und die Seitenfläche 103c grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 103i dazwischen befindet. Die Hauptfläche 103a und die Seitenfläche 103c grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 103j dazwischen befindet. Die Hauptfläche 103b und die Seitenfläche 103c grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 103k dazwischen befindet.
Der Bauelementkörper 103 ist durch Schichten einer Vielzahl von Dielektrikumschichten in der ersten Richtung D101 ausgestaltet. Der Bauelementkörper 103 umfasst die Vielzahl von geschichteten Dielektrikumschichten. Beim Bauelementkörper 103 stimmt eine Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten mit der ersten Richtung D101 überein. Die erste Richtung D101 ist die Richtung, in der die zwei Hauptflächen 103a und 103b einander gegenüberliegen. Jede Dielektrikumschicht umfasst beispielsweise einen gesinterten Körper aus einer keramischen Grünfolie, die ein dielektrisches Material enthält. Als dielektrisches Material wird beispielsweise eine dielektrische Keramik auf BaTiO₃-Basis, Ba(Ti,Zr)O₃-Basis oder (Ba,Ca)TiO₃-Basis verwendet. Bei einem vorliegenden Bauelementkörper 103 ist jede der Dielektrikumschichten in einem solchen Umfang integriert, dass visuell keine Grenze zwischen den Dielektrikumschichten zu erkennen ist. Bei dem Bauelementkörper 103 kann die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten mit der zweiten Richtung D102 übereinstimmen.
Der Vielschichtkondensator C101 ist auf eine elektronische Vorrichtung (z.B. eine Leiterplatte oder ein elektronisches Bauelement) aufgelötet. Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C101 ist die Hauptfläche 103a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Wie in 46, 47 und 48 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C101 eine Vielzahl innerer Elektroden 107 und eine Vielzahl innerer Elektroden 109. Jede der inneren Elektroden 107 und 109 ist ein Innenleiter, der in dem Bauelementkörper 103 angeordnet ist. Jede der inneren Elektroden 107 und 109 besteht aus einem leitfähigen Material, das gewöhnlich als innere Elektrode eines vielschichtigen elektronischen Bauelements verwendet wird. Als leitfähiges Material wird ein unedles Metall (z.B. Ni oder Cu) verwendet. Die inneren Elektroden 107 und 109 umfassen einen Sinterkörper aus einer leitfähigen Paste, die das oben genannte leitfähige Material enthält. Bei der siebten Ausführungsform bestehen die inneren Elektroden 107 und 109 aus Ni.
Die inneren Elektroden 107 und die inneren Elektroden 109 sind in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der ersten Richtung D101 angeordnet. Die inneren Elektroden 107 und die inneren Elektroden 109 sind in dem Bauelementkörper 103 derart abwechselnd angeordnet, dass sie einander in der ersten Richtung D101 mit einem Zwischenraum zwischen ihnen gegenüberliegen. Die Polaritäten der inneren Elektroden 107 und der inneren Elektroden 109 sind voneinander verschieden. In einem Fall, in dem die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten die zweite Richtung D102 ist, sind die inneren Elektroden 107 und die inneren Elektroden 109 in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der zweiten Richtung D102 angeordnet. Die innere Elektrode 107 umfasst ein Paar von einen Enden, die zu einer entsprechenden Stirnfläche 103e hin freigelegt sind. Die innere Elektrode 109 umfasst ein Paar von Enden, die zu einer entsprechenden Stirnfläche 103c hin freigelegt sind.
Die äußeren Elektroden 105 sind an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers 103 in der dritten Richtung D103 angeordnet. Jede der äußeren Elektroden 105 ist auf einer entsprechenden Stirnflächen- 103e -Seite des Bauelementkörpers 103 angeordnet. Die äußere Elektrode 105 umfasst Elektrodenabschnitte 105a, 105b, 105c und 105e. Der Elektrodenabschnitt 105a ist auf der Hauptfläche 103a und dem Erhöhungsabschnitt 103g angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 105b ist auf dem Erhöhungsabschnitt 103h angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 105c ist auf dem Erhöhungsabschnitt 103i angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 105e ist auf der entsprechenden Stirnfläche 103e angeordnet. Die äußere Elektrode 105 umfasst außerdem Elektrodenabschnitte, die auf den Erhöhungsabschnitten 103j angeordnet sind.
Die äußere Elektrode 105 ist auf den vier Flächen, d.h. auf der Hauptfläche 103a, dem Paar von Seitenflächen 103c und der einen Stirnfläche 103e, sowie auf den Erhöhungsabschnitten 103g, 103h, 103i und 103j ausgebildet. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 105a, 105b, 105c und 105e sind verbunden und sie sind elektrisch miteinander verbunden. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die äußere Elektrode 105 nicht vorsätzlich auf der Hauptfläche 103b ausgebildet.
Der auf der Stirnfläche 103e angeordnete Elektrodenabschnitt 105e bedeckt alle zur Stirnfläche 103e hin freiliegenden einen Enden der inneren Elektroden 107. Die inneren Elektroden 107 sind direkt mit den Elektrodenabschnitten 105e verbunden. Die innere Elektrode 107 ist mit dem Paar äußerer Elektroden 105 elektrisch verbunden.
Wie in 46, 47 und 48 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 105 die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 105. Jeder der Elektrodenabschnitte 105a, 105c und 105e umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 105b umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4.
Die im Elektrodenabschnitt 105a enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf dem Erhöhungsabschnitt 103g angeordnet und sie ist nicht auf der Hauptfläche 103a angeordnet. Die Hauptfläche 103a ist nicht mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt und somit von der ersten Elektrodenschicht E1 freigelegt. Die im Elektrodenabschnitt 105a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1 und der Hauptfläche 103a angeordnet. Eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 105a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist in Kontakt mit der Hauptfläche 103a. Der Elektrodenabschnitt 105a hat auf dem Erhöhungsabschnitt 103g einen vierschichtigen Aufbau und auf der Hauptfläche 103a einen dreischichtigen Aufbau.
Die im Elektrodenabschnitt 105b enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf dem Erhöhungsabschnitt 103h angeordnet und sie ist nicht auf der Hauptfläche 103b angeordnet. Die Hauptfläche 103b ist nicht mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt und somit von der ersten Elektrodenschicht E1 freigelegt. Der Elektrodenabschnitt 105b umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Der Elektrodenabschnitt 105b hat einen dreischichtigen Aufbau.
Die im Elektrodenabschnitt 105c enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf dem Erhöhungsabschnitt 103i angeordnet und sie ist nicht auf der Seitenfläche 103c angeordnet. Die Seitenfläche 103c ist nicht mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt und somit von der ersten Elektrodenschicht E1 freigelegt. Die im Elektrodenabschnitt 105c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 103c angeordnet. Ein Teil der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 105c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist in Kontakt mit der Seitenfläche 103c.
Der Elektrodenabschnitt 105c umfasst ein Gebiet 105c₁ und ein Gebiet 105c₂ . Das Gebiet 105c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 103a als das Gebiet 105c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 105c nur zwei Gebiete 105c₁ und 105c₂ . Das Gebiet 105c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 105c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 105c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 105c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 105c₂ hat auf dem Erhöhungsabschnitt 103i einen vierschichtigen Aufbau und auf der Seitenfläche 103c einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 105c₁ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Das Gebiet 105c₂ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist.
Die im Elektrodenabschnitt 105e enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf der Stirnfläche 103e angeordnet. Die gesamte Stirnfläche 103e ist mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 105e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1 angeordnet. Ein Teil der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt.
Der Elektrodenabschnitt 105e umfasst ein Gebiet 105e₁ und ein Gebiet 105e₂ . Das Gebiet 105e₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 103a als das Gebiet 105e₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 105e nur zwei Gebiete 105e₁ und 105e₂ . Das Gebiet 105e₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 105e₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 105e₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 105e₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 105e₂ hat einen vierschichtigen Aufbau. Das Gebiet 105e₁ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Das Gebiet 105e₂ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist.
Die äußere Elektrode 106 ist auf einem zentralen Abschnitt des Bauelementkörpers 103 in der dritten Richtung D103 angeordnet. Die äußere Elektrode 106 befindet sich zwischen dem Paar äußerer Elektroden 105 in der dritten Richtung D103. Die äußere Elektrode 106 umfasst einen Elektrodenabschnitt 106a und ein Paar von Elektrodenabschnitten 106c. Der Elektrodenabschnitt 106a ist auf der Hauptfläche 103a angeordnet. Jeder der Elektrodenabschnitte 106c ist auf der Seitenfläche 103c und den Erhöhungsabschnitten 103j und 103k angeordnet. Die äußere Elektrode 106 ist auf den drei Flächen, d.h. auf der Hauptfläche 103a und dem Paar von Seitenflächen 103c, sowie auf den Erhöhungsabschnitten 103j und 103k ausgebildet. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 106a und 106c sind verbunden und sie sind elektrisch miteinander verbunden. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die äußere Elektrode 106 nicht vorsätzlich auf der Hauptfläche 103b ausgebildet.
Der Elektrodenabschnitt 106a erstreckt sich in der zweiten Richtung D102 auf der Hauptfläche 103a. Jeder der Elektrodenabschnitte 106c bedeckt alle die bei der Seitenfläche 103c freiliegenden einen Enden der inneren Elektroden 109. Die inneren Elektroden 109 sind direkt mit jedem Elektrodenabschnitt 106c verbunden. Die inneren Elektroden 109 sind mit der äußeren Elektroden 106 elektrisch verbunden.
Wie in 46, 47 und 48 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 106 auch die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 106. Der Elektrodenabschnitt 106a umfasst die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Jeder der Elektrodenabschnitte 106c umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4.
Die im Elektrodenabschnitt 106a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der Hauptfläche 103a angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 106a umfasst nicht die erste Elektrodenschicht E1. Die im Elektrodenabschnitt 106a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist in Kontakt mit der Hauptfläche 103a. Der Elektrodenabschnitt 106a hat einen dreischichtigen Aufbau.
Die im Elektrodenabschnitt 106c enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf der Seitenfläche 103c und den Erhöhungsabschnitten 103j und 103k angeordnet. Die im Elektrodenabschnitt 106c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1, der Seitenfläche 103c und dem Erhöhungsabschnitt 103j angeordnet. Ein Teil der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 106c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist in Kontakt mit der Seitenfläche 103c und dem Erhöhungsabschnitt 103j.
Der Elektrodenabschnitt 106c umfasst ein Gebiet 106c₁ und ein Gebiet 106c₂ . Das Gebiet 106c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 103a als das Gebiet 106c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 106c nur zwei Gebiete 106c₁ und 106c₂ . Das Gebiet 106c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 106c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 106c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 106c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 106c₁ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Das Gebiet 106c₂ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist.
Das Gebiet 106c₂ umfasst einen ersten Abschnitt 106c_2-1 und ein Paar zweiter Abschnitte 106c_2-2 . Im ersten Abschnitt 106c_2-1 ist die zweite Elektrodenschicht E2 auf der ersten Elektrodenschicht E1 ausgebildet. In jedem von den zweiten Abschnitten 106c_2-2 ist die zweite Elektrodenschicht E2 auf der Seitenfläche 103c ausgebildet. Der erste Abschnitt 106c_2-1 hat einen vierschichtigen Aufbau. Jeder der Elektrodenabschnitte 106c_2-2 umfasst die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Jeder der zweiten Abschnitte 106c_2-2 hat einen dreischichtigen Aufbau. Der erste Abschnitt 106c_2-1 und das Paar zweiter Abschnitte 106c_2-2 sind integral ausgebildet. Der erste Abschnitt 106c_2-1 befindet sich zwischen dem Paar zweiter Abschnitte 106c_2-2 in der dritten Richtung D103. Die zweiten Abschnitte 106c_2-2 befinden sich, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, auf beiden Seiten des ersten Abschnitts 106c_2-1 .
Die erste Elektrodenschicht E1 ist durch Sintern einer leitfähigen Paste ausgebildet. Die erste Elektrodenschicht E1 ist eine Schicht, die durch Sintern eines Metallbestandteils (Metallpulver) ausgebildet ist, der in der leitfähigen Paste enthalten ist. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die erste Elektrodenschicht E1 eine aus Cu bestehende Sintermetallschicht. Die erste Elektrodenschicht E1 kann eine Sintermetallschicht sein, die aus Ni besteht. Die erste Elektrodenschicht E1 enthält ein unedles Metall. Die leitfähige Paste enthält beispielsweise Pulver aus Cu oder Ni, einen Glasbestandteil, ein organisches Bindemittel und ein organisches Lösungsmittel.
Die zweite Elektrodenschicht E2 ist durch Aushärten einer leitfähigen Harzpaste ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist eine leitfähige Harzschicht. Die leitfähige Harzpaste enthält beispielsweise ein Harz (z.B. ein wärmehärtendes Harz), ein leitfähiges Material (z.B. Metallpulver) und ein organisches Lösungsmittel. Als Metallpulver wird beispielsweise Ag-Pulver oder Cu-Pulver verwendet. Als wärmehärtendes Harz wird beispielsweise ein Phenolharz, ein Acrylharz, ein Silikonharz, ein Epoxidharz oder ein Polyimidharz verwendet.
Die dritte Elektrodenschicht E3 ist mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die dritte Elektrodenschicht E3 eine durch Ni-Plattierung ausgebildete Ni-Plattierungsschicht. Die dritte Elektrodenschicht E3 kann eine Sn-Plattierungsschicht, eine Cu-Plattierungsschicht oder eine Au-Plattierungsschicht sein. Die dritte Elektrodenschicht E3 enthält Ni, Sn, Cu oder Au.
Die vierte Elektrodenschicht E4 ist mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die vierte Elektrodenschicht E4 eine durch Sn-Plattierung ausgebildete Sn-Plattierungsschicht. Die vierte Elektrodenschicht E4 kann eine Cu-Plattierungsschicht oder eine Au-Plattierungsschicht sein. Die vierte Elektrodenschicht E4 enthält Sn, Cu oder Au.
Als Nächstes wird eine Ausgestaltung der äußeren Elektrode 105 beschrieben.
Die erste Elektrodenschicht E1 ist derart ausgebildet, dass sie die Stirnfläche 103e und die Erhöhungsabschnitte 103g, 103h und 103i bedeckt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist nicht vorsätzlich auf dem Paar von Hauptflächen 103a und 103b und dem Paar von Seitenflächen 103c ausgebildet. Die erste Elektrodenschicht E1 kann, beispielsweise aufgrund eines Herstellungsfehlers, unbeabsichtigt auf den Hauptflächen 103a und 103b und der Seitenfläche 103c ausgebildet sein.
Die zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1, der Hauptfläche 103a und dem Paar von Seitenflächen 103c ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist über der ersten Elektrodenschicht E1 und dem Bauelementkörper 103 ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie ein Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Das Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 ist ein Gebiet in der ersten Elektrodenschicht E1, das dem Elektrodenabschnitt 105a, dem Gebiet 105c₂ und dem Gebiet 105e₂ entspricht. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den Erhöhungsabschnitt 103j bedeckt. Die erste Elektrodenschicht E1 dient als untere Metallschicht zum Ausbilden der zweiten Elektrodenschicht E2. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist die leitfähige Harzschicht, die auf der ersten Elektrodenschicht E1 ausgebildet ist.
Die dritte Elektrodenschicht E3 ist auf der zweiten Elektrodenschicht E2 und der ersten Elektrodenschicht E1 (Bereich der ersten Elektrodenschicht E1, der von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist) ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist auf der dritten Elektrodenschicht E3 ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 bilden eine auf der zweiten Elektrodenschicht E2 ausgebildete Plattierungsschicht. Bei der vorliegenden Ausführungsform hat die auf der zweiten Elektrodenschicht E2 ausgebildete Plattierungsschicht einen zweischichtigen Aufbau.
Die erste Elektrodenschicht E1, die in jedem der Elektrodenabschnitte 105a, 105b, 105c und 105e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 105a, 105c und 105e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 105a, 105b, 105c und 105e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 105a, 105b, 105c und 105e enthalten ist, ist ebenfalls integral ausgebildet.
Aus der ersten Richtung D101 betrachtet, ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 105a enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der ersten Richtung D101 betrachtet, ist die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 105a enthaltene erste Elektrodenschicht E1) nicht von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt.
In der zweiten Richtung D102 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103a gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 105c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, kreuzt eine Stirnkante der zweiten Elektrodenschicht E2 eine Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103b gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 105c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Das Gebiet 105c₂ umfasst die zweite Elektrodenschicht E2, die über der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 103c ausgebildet ist.
Aus der dritten Richtung D103 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103a gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 105e₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der dritten Richtung D103 betrachtet, befindet sich eine Stirnkante der zweiten Elektrodenschicht E2 auf der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der dritten Richtung D103 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103b gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 105e₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt.
Wie in 44 dargestellt, nimmt eine Breite W1 des Gebiets 105c₂ mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a (Elektrodenabschnitt 105a) in der dritten Richtung D103 stetig ab. Eine Breite des Gebiets 105c₂ in einer ersten Richtung D101 nimmt mit zunehmendem Abstand von der Stirnfläche 103e (Elektrodenabschnitt 5e) stetig ab. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist eine Stirnkante des Gebiets 105c₂ , aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd bogenförmig. Das Gebiet 105c₂ ist, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd fächerförmig.
Als Nächstes wird eine Ausgestaltung der äußeren Elektrode 106 beschrieben.
Die erste Elektrodenschicht E1 ist derart ausgebildet, dass sie die Seitenfläche 103c und die Erhöhungsabschnitte 103j und 103k bedeckt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist nicht vorsätzlich auf dem Paar von Hauptflächen 103a und 103b ausgebildet. Die erste Elektrodenschicht E1 kann, beispielsweise aufgrund eines Herstellungsfehlers, unbeabsichtigt auf den Hauptflächen 103a und 103b ausgebildet sein.
Die zweite Elektrodenschicht E2 ist über der ersten Elektrodenschicht E1 und dem Bauelementkörper 103 ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie ein Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Das Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 ist ein Gebiet, das dem Gebiet 106c₂ in der ersten Elektrodenschicht E1 entspricht. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist auch derart ausgebildet, dass sie ein Teilgebiet der Hauptfläche 103a, ein Teilgebiet der Seitenfläche 103c und ein Teilgebiet des Erhöhungsabschnitts 103j bedeckt.
Die dritte Elektrodenschicht E3 ist auf der zweiten Elektrodenschicht E2 und der ersten Elektrodenschicht E1 (Bereich der ersten Elektrodenschicht E1, der von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist) mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist auf der dritten Elektrodenschicht E3 mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet.
Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 106a und 106c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 106a und 106c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 106a und 106c enthalten ist, ist integral ausgebildet.
Aus der ersten Richtung D101 betrachtet, ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 106c enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der ersten Richtung D101 betrachtet, ist die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 106c enthaltene erste Elektrodenschicht E1) nicht von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt.
In der zweiten Richtung D102 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103a gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 106c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, kreuzt eine Stirnkante der zweiten Elektrodenschicht E2 eine Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103b gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 106c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Das Gebiet 106c₂ umfasst die zweite Elektrodenschicht E2, die über der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 103c ausgebildet ist.
Wie in 44 dargestellt, nimmt eine Breite W3 des Gebiets 106c₂ mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a (Elektrodenabschnitt 106a) in der dritten Richtung D103 stetig ab. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist eine Stirnkante des Gebiets 106c₂ , aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd bogenförmig. Das Gebiet 106c₂ ist, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd halbkreisförmig.
Wie in 44 dargestellt, nehmen die Breiten W5 der Gebiete 106c_2-2 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a (Elektrodenabschnitt 106a) ebenfalls in der dritten Richtung D103 stetig ab. Eine Stirnkante von jedem Gebiet 106c_2-2 ist, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, gekrümmt. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die Stirnkante von jedem Gebiet 106c_2-2 , aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd bogenförmig. Jedes Gebiet 106c_2-2 ist, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd fächerförmig. Die Breite W5 von einem Gebiet 106c_2-2 und die Breite W5 von einem anderen Gebiet 106c_2-2 können gleich oder voneinander verschieden sein.
Wie oben beschrieben, umfasst das Gebiet 106c₂ , das sich näher an der Hauptfläche 103a als das Gebiet 106c₁ befindet, bei der siebten Ausführungsform die zweite Elektrodenschicht E2. Die im Gebiet 106c₂ enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist über der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 103c ausgebildet. Daher bedeckt die zweite Elektrodenschicht E2 die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1, die im Gebiet 106c₂ enthalten ist. Selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtdurchführungskondensator C101 aufgebracht wird, besteht nicht die Neigung, dass sich Spannung auf die Stirnkante der im Gebiet 106c₂ enthaltenen ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert. Die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C101 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 103 zuverlässig unterdrückt.
Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C101 umfasst das Gebiet 105c₂ , das sich näher an der Hauptfläche 103a als das Gebiet 105c₁ befindet, die zweite Elektrodenschicht E2. Die im Gebiet 105c₂ enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist über der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 103c ausgebildet. Daher bedeckt die zweite Elektrodenschicht E2 die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1, die im Gebiet 105c₂ enthalten ist. Es besteht nicht die Neigung, dass sich Spannung auf die Stirnkante der im Gebiet 105c₂ enthaltenen ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert. Die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C101 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 103 weiter zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtdurchführungskondensator C101 bedecken die zweiten Elektrodenschichten E2, aus der ersten Richtung D101 betrachtet, die gesamten ersten Elektrodenschichten E1 (in den Elektrodenabschnitten 105a und 106a enthaltene erste Elektrodenschichten E1). Daher besteht nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkanten der ersten Elektrodenschichten E1 konzentriert, die in den Elektrodenabschnitten 105a und 106a enthalten sind. Folglich wird bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C101 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 103 weiter zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtdurchführungskondensator C101 umfasst das Gebiet 106c₁ den ersten Abschnitt 106c_2-1 und die zweiten Abschnitte 106c_2-2 . Die Breiten W5 der Gebiete 106c_2-2 nehmen mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a (Elektrodenabschnitt 106a) in einer dritten Richtung D103 stetig ab.
In der dritten Elektrodenschicht E3 und der vierten Elektrodenschicht E4 entsteht Eigenspannung bei einem Prozess zum Ausbilden der jeweiligen Elektrodenschichten E3 und E4. In einem Fall, in dem Formen der dritten Elektrodenschicht E3 und der vierten Elektrodenschicht E4 in der Draufsicht eine Ecke aufweisen, besteht die Neigung, dass sich die Eigenspannung auf die Ecke konzentriert, und dann können sich die Elektrodenschichten E3 und E4 oder die unter den Elektrodenschichten E3 und E4 befindliche zweite Elektrodenschicht E2 an der Ecke ablösen.
Eine Bindefestigkeit zwischen der zweiten Elektrodenschicht E2 und dem Bauelementkörper 103 (Seitenfläche 103c) ist geringer als eine Bindefestigkeit zwischen der zweiten Elektrodenschicht E2 und der ersten Elektrodenschicht E1. Anders als beim ersten Abschnitt 106c_2-1 neigt daher die zweite Elektrodenschicht E2 im zweiten Abschnitt 106c_2-2 , in dem die zweite Elektrodenschicht E2 auf der Seitenfläche 103c ausgebildet ist, dazu, sich von der Seitenfläche 103c abzulösen.
In einem Fall, in dem die Breite W5 des zweiten Abschnitts 106c_2-2 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a stetig abnimmt, weist eine Form des zweiten Abschnitts 106c_2-2 in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der dritten Elektrodenschicht E3 und in der vierten Elektrodenschicht E4 ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der dritten Elektrodenschicht E3 und vierten Elektrodenschicht E4 sowie der zweiten Elektrodenschicht E2 im zweiten Abschnitt 106c_2-2 unterdrückt.
Beim Vielschichtdurchführungskondensator C101 nimmt die Breite W1 des Gebiets 105c₂ mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a stetig ab. Daher weist eine Form des Gebiets 105c₂ in der Draufsicht ebenfalls keine Ecke auf. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der dritten Elektrodenschicht E3 und vierten Elektrodenschicht E4 sowie der zweiten Elektrodenschicht E2 im Gebiet 105c₂ unterdrückt.
Beim Vielschichtdurchführungskondensator C101 ist die Stirnkante des zweiten Abschnitts 106c_2-2 , in der zweiten Richtung D102 betrachtet, gekrümmt. Auch in diesem Fall weist die Form des zweiten Abschnitts 106c_2-2 in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der dritten Elektrodenschicht E3 und der vierten Elektrodenschicht E4, die im zweiten Abschnitt 106c_2-2 enthalten sind, ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der dritten Elektrodenschicht E3 und vierten Elektrodenschicht E4 sowie der zweiten Elektrodenschicht E2 im zweiten Abschnitt 106c_2-2 unterdrückt.
Beim Vielschichtdurchführungskondensator C101 ist die Stirnkante des Gebiets 106c₂ , aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd bogenförmig. Auch in diesem Fall weist die Form des zweiten Abschnitts 106c_2-2 in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der dritten Elektrodenschicht E3 und der vierten Elektrodenschicht E4, die im zweiten Abschnitt 106c_2-2 enthalten sind, ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der dritten Elektrodenschicht E3 und vierten Elektrodenschicht E4 sowie der zweiten Elektrodenschicht E2 im zweiten Abschnitt 106c_2-2 unterdrückt.
Als Nächstes wird ein montierter Aufbau des Vielschichtdurchführungskondensators C101 mit Bezug auf 49 und 50 beschrieben. 49 und 50 sind Ansichten, die einen montierten Aufbau des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der siebten Ausführungsform darstellen.
Wie in 49 und 50 dargestellt, umfasst eine elektronische Bauelementevorrichtung ECD2 den Vielschichtdurchführungskondensator C101 und eine elektronische Vorrichtung ED. Die elektronische Vorrichtung ED umfasst beispielsweise eine Leiterplatte oder ein elektronisches Bauelement.
Der Vielschichtdurchführungskondensator C101 ist auf die elektronische Vorrichtung ED aufgelötet. Die elektronische Vorrichtung ED umfasst eine Hauptfläche EDa und eine Vielzahl von Anschlusselektroden PE101, PE102 und PE103. Jede der Anschlusselektroden PE101, PE102 und PE103 ist auf der Hauptfläche EDa angeordnet. Die vielen Anschlusselektroden PE101, PE102 und PE103 sind voneinander getrennt. Der Vielschichtdurchführungskondensator C101 ist derart auf der elektronischen Vorrichtung ED angeordnet, dass die Hauptfläche 103a, die die Montagefläche ist, und die Hauptfläche EDa einander gegenüberliegen.
In einem Fall, in dem der Vielschichtdurchführungskondensator C101 aufgelötet wird, benetzt geschmolzenes Lot die äußeren Elektroden 105 und 106 (vierte Elektrodenschichten E4). Durch Erstarren des flüssigen Lots bilden sich Lötkehlen SF auf den äußeren Elektroden 105 und 106. Die äußeren Elektroden 105 und 106 und die Anschlusselektroden PE101, PE102 und PE103, die einander entsprechen, sind über die Lötkehlen SF verbunden.
Die Lötkehlen SF sind auf den Gebieten 105e₁ und 106c₁ und den Gebieten 105e₂ und 106c₂ der Elektrodenabschnitte 105e und 106c ausgebildet. Zusätzlich zu den Gebieten 105e₂ und 106c₂ sind auch die Gebiete 105e₁ und 106c₁ , die nicht die zweite Elektrodenschicht E2 enthalten, über die Lötkehlen SF mit den Anschlusselektroden PE101, PE102 und PE103 verbunden. Obwohl eine Darstellung weggelassen ist, ist die Lötkehle SF auch auf dem Gebiet 105c₁ und dem Gebiet 105c₂ des Elektrodenabschnitts 105c ausgebildet.
Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD2 wird ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 103 zuverlässig unterdrückt, wie oben beschrieben.
Als Nächstes wird eine Ausgestaltung eines Vielschichtdurchführungskondensators C102 gemäß einer Abwandlung der siebten Ausführungsform mit Bezug auf 51 und 52 beschrieben. 51 ist eine Draufsicht eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der vorliegenden Abwandlung. 52 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der vorliegenden Abwandlung darstellt.
Wie im Falle des Vielschichtdurchführungskondensators C101 umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C102 den Bauelementkörper 103, das Paar äußerer Elektroden 105, die Vielzahl innerer Elektroden 107 (nicht dargestellt) und die Vielzahl innerer Elektroden 109 (nicht dargestellt). Der Vielschichtdurchführungskondensator C102 umfasst ein Paar äußerer Elektroden 106. Bei dem Vielschichtdurchführungskondensator C102 unterscheidet sich die Anzahl der äußeren Elektroden 106 von der des Vielschichtdurchführungskondensators C101.
Wie in 52 dargestellt, umfasst jede der äußeren Elektroden 106 die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 106. Die Elektrodenabschnitte 106a umfassen die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Jeder der Elektrodenabschnitte 106c umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4.
Die in einer äußeren Elektrode 106 enthaltenen Elektrodenabschnitte 106a und die in einer anderen äußeren Elektrode 106 enthaltenen Elektrodenabschnitte 106a sind in der zweiten Richtung D102 voneinander getrennt. Auch bei der vorliegenden Abwandlung bedecken die zweiten Elektrodenschichten E2, aus der ersten Richtung D101 betrachtet, eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschichten E1 (im Elektrodenabschnitt 106c enthaltene erste Elektrodenschichten E1). Die ersten Elektrodenschichten E1 (im Elektrodenabschnitt 106c enthaltene erste Elektrodenschichten E1) sind, aus der ersten Richtung D101 betrachtet, nicht von den zweiten Elektrodenschichten E2 freigelegt.
(Achte Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtkondensators C103 gemäß einer achten Ausführungsform wird mit Bezug auf 53 bis 56 beschrieben. 53 und 54 sind Draufsichten eines Vielschichtkondensators gemäß der achten Ausführungsform. 55 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der achten Ausführungsform. 56 ist eine Ansicht, die eine Querschnittskonfiguration von äußeren Elektroden darstellt. Bei der achten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtkondensator C103.
Wie in 53 bis 56 dargestellt, umfasst der Vielschichtkondensator C103 den Bauelementkörper 103, eine Vielzahl äußerer Elektroden 116 und eine Vielzahl innerer Elektroden (nicht dargestellt). Die Vielzahl äußerer Elektroden 116 ist auf der Außenfläche des Bauelementkörpers 103 angeordnet. Die vielen äußeren Elektroden 116 sind voneinander getrennt. Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Vielschichtkondensator C103 vier äußere Elektroden 116. Die Anzahl der äußeren Elektroden 116 ist nicht auf vier begrenzt.
Wie im Falle der äußeren Elektrode 106 umfasst die äußere Elektrode 116 einen Elektrodenabschnitt 116a und ein Paar von Elektrodenabschnitten 116c. Der Elektrodenabschnitt 116a ist auf der Hauptfläche 103a angeordnet. Jeder der Elektrodenabschnitte 116c ist auf der Seitenfläche 103c und den Erhöhungsabschnitten 103j und 103k angeordnet. Die äußere Elektrode 116 ist auf den drei Flächen, d.h. auf der Hauptfläche 103a und dem Paar von Seitenflächen 103c, sowie auf den Erhöhungsabschnitten 103j und 103k ausgebildet. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 116a und 116c sind verbunden und sie sind elektrisch miteinander verbunden. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die äußere Elektrode 116 nicht vorsätzlich auf der Hauptfläche 103b ausgebildet.
Der Elektrodenabschnitt 116c bedeckt alle bei der Seitenfläche 103c freiliegenden einen Enden der jeweiligen inneren Elektroden. Der Elektrodenabschnitt 116c ist direkt mit den jeweiligen inneren Elektroden verbunden. Die äußere Elektrode 116 ist mit den jeweiligen inneren Elektroden elektrisch verbunden.
Wie in 56 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 116 auch die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 16.
Als Nächstes wird eine Ausgestaltung der äußeren Elektrode 116 beschrieben.
Die erste Elektrodenschicht E1 ist derart ausgebildet, dass sie die Seitenfläche 103c und die Erhöhungsabschnitte 103j und 103k bedeckt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist nicht vorsätzlich auf dem Paar von Hauptflächen 103a und 103b ausgebildet. Die erste Elektrodenschicht E1 kann, beispielsweise aufgrund eines Herstellungsfehlers, unbeabsichtigt auf den Hauptflächen 103a und 103b ausgebildet sein.
Die zweite Elektrodenschicht E2 ist über der ersten Elektrodenschicht E1 und dem Bauelementkörper 103 ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie ein Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Das Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 ist ein Gebiet, das einem Gebiet 116c₂ in der ersten Elektrodenschicht E1 entspricht. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist auch derart ausgebildet, dass sie ein Teilgebiet der Hauptfläche 103a, ein Teilgebiet der Seitenfläche 103c und ein Teilgebiet des Erhöhungsabschnitts 103j bedeckt.
Die dritte Elektrodenschicht E3 ist auf der zweiten Elektrodenschicht E2 und der ersten Elektrodenschicht E1 (Bereich der ersten Elektrodenschicht E1, der von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist) mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist auf der dritten Elektrodenschicht E3 mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet.
Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 116a und 116c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 116a und 116c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 116a und 116c enthalten ist, ist integral ausgebildet.
Aus der ersten Richtung D101 betrachtet, ist eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 116c enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der ersten Richtung D101 betrachtet, ist die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 116c enthaltene erste Elektrodenschicht E1) nicht von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt.
In der zweiten Richtung D102 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103a gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 116c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, kreuzt eine Stirnkante der zweiten Elektrodenschicht E2 eine Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 103b gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 116c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Das Gebiet 116c₂ umfasst die zweite Elektrodenschicht E2, die über der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 103c ausgebildet ist.
Das Gebiet 116c₂ umfasst einen ersten Abschnitt 116c_2-1 und ein Paar zweiter Abschnitte 116c_2-2 . Im ersten Abschnitt 116c_2-1 ist die zweite Elektrodenschicht E2 auf der ersten Elektrodenschicht E1 ausgebildet. In dem Paar zweiter Abschnitte 1160c_2-2 ist die zweite Elektrodenschicht E2 auf der Seitenfläche 103c ausgebildet. Der erste Abschnitt 116c_2-1 hat einen vierschichtigen Aufbau. Jeder der Elektrodenabschnitte 1160c_2-2 umfasst die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Jeder der zweiten Abschnitte 1160c_2-2 hat einen dreischichtigen Aufbau. Der erste Abschnitt 116c_2-1 und das Paar zweiter Abschnitte 1160c_2-2 sind integral ausgebildet. Der erste Abschnitt 116c_2-1 befindet sich zwischen dem Paar zweiter Abschnitte 1160c_2-2 in der dritten Richtung D103. Die zweiten Abschnitte 1160c_2-2 befinden sich, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, auf beiden Seiten des ersten Abschnitts 116c_2-1 .
Wie in 55 dargestellt, nimmt eine Breite W13 des Gebiets 116c₂ mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a (Elektrodenabschnitt 116a) in der dritten Richtung D103 stetig ab. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist eine Stirnkante des Gebiets 116c₂ , aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd bogenförmig. Das Gebiet 116c₂ ist, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd halbkreisförmig.
Wie in 55 dargestellt, nehmen die Breiten W15 der Gebiete 116c_2-2 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a (Elektrodenabschnitt 116a) ebenfalls in der dritten Richtung D103 stetig ab. Eine Stirnkante von jedem Gebiet 116c_2-2 ist, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, gekrümmt. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die Stirnkante von jedem Gebiet 116c_2-2 , aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd bogenförmig. Jedes Gebiet 116c_2-2 ist, aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd fächerförmig. Die Breite W15 von einem Gebiet 116c_2-2 und die Breite W15 von einem anderen Gebiet 116c_2-2 können gleich oder voneinander verschieden sein.
Der Vielschichtkondensator C103 ist ebenfalls auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet. Bei dem Vielschichtkondensator C103 ist die Hauptfläche 103a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Wie oben beschrieben, umfasst das Gebiet 116c₂ , das sich näher an der Hauptfläche 103a als das Gebiet 116c₁ befindet, bei der achten Ausführungsform die zweite Elektrodenschicht E2. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist über der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 103c ausgebildet. Daher bedeckt die zweite Elektrodenschicht E2 die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1, die im Gebiet 116c₂ enthalten ist. Selbst in einem Fall, in dem durch eine Lötkehle eine äußere Kraft auf den Vielschichtkondensator C103 aufgebracht wird, besteht nicht die Neigung, dass sich Spannung auf die Stirnkante der im Gebiet 116c₂ enthaltenen ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert. Die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C103 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 103 zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C103 bedecken die zweiten Elektrodenschichten E2, aus der ersten Richtung D101 betrachtet, die Gesamtheit der ersten Elektrodenschichten E1 (in den Elektrodenabschnitten 105a und 106a enthaltene erste Elektrodenschichten E1). Daher besteht nicht die Neigung, dass sich Spannung auf die Stirnkanten der ersten Elektrodenschichten E1 konzentriert, die in den Elektrodenabschnitten 105a und 106a enthalten sind. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C103 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 103 weiter zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C103 umfasst das Gebiet 116c₂ den ersten Abschnitt 116c_2-1 und den zweiten Abschnitt 116c_2-2 . Die Breite W15 des zweiten Abschnitts 116c_2-2 nimmt mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 103a (Elektrodenabschnitt 116a) stetig ab. Daher weist eine Form des zweiten Abschnitts 116c_2-2 in der Draufsicht keine Ecke auf. Es besteht nicht die Neigung, dass in der dritten Elektrodenschicht E3 und in der vierten Elektrodenschicht E4 ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der dritten Elektrodenschicht E3 und vierten Elektrodenschicht E4 sowie der zweiten Elektrodenschicht E2 im zweiten Abschnitt 116c_2-2 unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C103 ist die Stirnkante des zweiten Abschnitts 116c_2-2 , in der zweiten Richtung D102 betrachtet, gekrümmt. Auch in diesem Fall weist die Form des zweiten Abschnitts 116c_2-2 in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der dritten Elektrodenschicht E3 und der vierten Elektrodenschicht E4, die im zweiten Abschnitt 116c_2-2 enthalten sind, ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der dritten Elektrodenschicht E3 und vierten Elektrodenschicht E4 sowie der zweiten Elektrodenschicht E2 im zweiten Abschnitt 116c_2-2 unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C103 ist die Stirnkante des Gebiets 116c₂ , aus der zweiten Richtung D102 betrachtet, annähernd bogenförmig. Auch in diesem Fall weist die Form des zweiten Abschnitts 106c_2-2 in der Draufsicht keine Ecke auf. Daher besteht nicht die Neigung, dass in der dritten Elektrodenschicht E3 und der vierten Elektrodenschicht E4, die im zweiten Abschnitt 116c_2-2 enthalten sind, ein Bereich gebildet wird, auf den sich die Eigenspannung konzentriert. Folglich wird ein Auftreten eines Ablösens der dritten Elektrodenschicht E3 und vierten Elektrodenschicht E4 sowie der zweiten Elektrodenschicht E2 im zweiten Abschnitt 116c_2-2 unterdrückt.
Die elektronische Bauelementevorrichtung ECD2 kann den Vielschichtkondensator C103 anstelle des Vielschichtdurchführungskondensators C101 umfassen. In diesem Fall wird ein Auftreten eines Risses in dem Bauelementkörper 103 zuverlässig unterdrückt.
(Neunte Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtkondensators C201 gemäß einer neunten Ausführungsform wird mit Bezug auf 57 bis 64 beschrieben. 57 ist eine perspektivische Ansicht des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform. 58 ist eine Seitenansicht des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform. 59, 60 und 61 sind Ansichten, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform darstellen. 62 ist eine Draufsicht, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellt. 63 ist eine Seitenansicht, die den Bauelementkörper, die erste Elektrodenschicht und die zweite Elektrodenschicht darstellt. 64 ist eine stirnseitige Ansicht, die den Bauelementkörper, die erste Elektrodenschicht und die zweite Elektrodenschicht darstellt. Bei der neunten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtkondensator C201.
Wie in 57 dargestellt, umfasst der Vielschichtkondensator C201 einen Bauelementkörper 203 mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds und ein Paar äußerer Elektroden 205. Das Paar äußerer Elektroden 205 ist auf einer Außenfläche des Bauelementkörpers 203 angeordnet. Die zwei äußeren Elektroden 205 sind voneinander getrennt. Die Form eines rechteckigen Parallelepipeds umfasst eine Form eines rechteckigen Parallelepipeds, bei der Ecken und Erhöhungen abgeschrägt sind, und eine Form eines rechteckigen Parallelepipeds, bei der die Ecken und Erhöhungen abgerundet sind.
Der Bauelementkörper 203 umfasst ein Paar einander gegenüberliegender Hauptflächen 203a und 203b, ein Paar einander gegenüberliegender Seitenflächen 203c und ein Paar einander gegenüberliegender Stirnflächen 203e. Das Paar von Hauptflächen 203a und 203b und das Paar von Seitenflächen 203c haben eine rechteckige Form. Die Richtung, in der die zwei Hauptflächen 203a und 203b einander gegenüberliegen, ist eine erste Richtung D201. Die Richtung, in der die zwei Seitenflächen 203c einander gegenüberliegen, ist eine zweite Richtung D202. Die Richtung, in der die zwei Stirnflächen 203e einander gegenüberliegen, ist eine dritte Richtung D203. Der Vielschichtkondensator C201 ist auf eine elektronische Vorrichtung (z.B. eine Leiterplatte oder ein elektronisches Bauelement) aufgelötet. Bei dem Vielschichtkondensator C201 ist die Hauptfläche 203a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden.
Die erste Richtung D201 ist eine Richtung, die orthogonal zu den jeweiligen Hauptflächen 203a und 203b und zur zweiten Richtung D202 ist. Die dritte Richtung D203 ist eine Richtung, die parallel zu den jeweiligen Hauptflächen 203a und 203b und den jeweiligen Seitenflächen 203c sowie orthogonal zur ersten Richtung D201 und zur zweiten Richtung D202 ist. Die zweite Richtung D202 ist orthogonal zu den jeweiligen Seitenflächen 203c. Die dritte Richtung D203 ist eine zu den jeweiligen Stirnflächen 203e orthogonale Richtung. Bei der neunten Ausführungsform ist eine Länge des Bauelementkörpers 203 in der dritten Richtung D203 größer als eine Länge des Bauelementkörpers 203 in der ersten Richtung D201 und größer als eine Länge des Bauelementkörpers 203 in der zweiten Richtung D202. Die dritte Richtung D203 ist eine Längsrichtung des Bauelementkörpers 203.
Das Paar von Seitenflächen 203c erstreckt sich derart in der ersten Richtung D201, dass es das Paar von Hauptflächen 203a und 203b verbindet. Das Paar von Seitenflächen 203c erstreckt sich auch in der dritten Richtung D203. Das Paar von Stirnflächen 203e erstreckt sich derart in der ersten Richtung D201, dass es das Paar von Hauptflächen 203a und 203b verbindet. Das Paar von Stirnflächen 203e erstreckt sich auch in der zweiten Richtung D202.
Der Bauelementkörper 203 umfasst ein Paar von Erhöhungsabschnitten 203g, ein Paar von Erhöhungsabschnitten 203h, vier Erhöhungsabschnitte 203i, ein Paar von Erhöhungsabschnitten 203j und ein Paar von Erhöhungsabschnitten 203k. Der Erhöhungsabschnitt 203g befindet sich zwischen der Stirnfläche 203e und der Hauptfläche 203a. Der Erhöhungsabschnitt 203h befindet sich zwischen der Stirnfläche 203e und der Hauptfläche 203b. Der Erhöhungsabschnitt 203i befindet sich zwischen der Stirnfläche 203e und der Seitenfläche 203c. Der Erhöhungsabschnitt 203j befindet sich zwischen der Hauptfläche 203a und der Seitenfläche 203c. Der Erhöhungsabschnitt 203k befindet sich zwischen der Hauptfläche 203b und der Seitenfläche 203c. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist jeder der Erhöhungsabschnitte 203g, 203h, 203i, 203j und 203k derart abgerundet, dass er gekrümmt ist. Der Bauelementkörper 203 wird einem sogenannten Rundanfasprozess unterzogen.
Die Stirnfläche 203e und die Hauptfläche 203a grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 203g dazwischen befindet. Die Stirnfläche 203e und die Hauptfläche 203b grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 203h dazwischen befindet. Die Stirnfläche 203e und die Seitenfläche 203c grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 203i dazwischen befindet. Die Hauptfläche 203a und die Seitenfläche 203c grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 203j dazwischen befindet. Die Hauptfläche 203b und die Seitenfläche 203c grenzen mittelbar aneinander an, wobei sich der Erhöhungsabschnitt 203k dazwischen befindet.
Der Bauelementkörper 203 ist durch Schichten einer Vielzahl von Dielektrikumschichten in der zweiten Richtung D202 ausgestaltet. Der Bauelementkörper 203 umfasst die Vielzahl von geschichteten Dielektrikumschichten. Beim Bauelementkörper 203 stimmt eine Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten mit der ersten Richtung D201 überein. Jede Dielektrikumschicht umfasst beispielsweise einen gesinterten Körper aus einer keramischen Grünfolie, die ein dielektrisches Material enthält. Als dielektrisches Material wird beispielsweise eine dielektrische Keramik auf BaTiO₃-Basis, Ba(Ti,Zr)O₃-Basis oder (Ba,Ca)TiO₃-Basis verwendet. Bei einem vorliegenden Bauelementkörper 203 ist jede der Dielektrikumschichten in einem solchen Umfang integriert, dass visuell keine Grenze zwischen den Dielektrikumschichten zu erkennen ist. Bei dem Bauelementkörper 203 kann die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten mit der ersten Richtung D201 übereinstimmen.
Wie in 59, 60 und 61 dargestellt, umfasst der Vielschichtkondensator C201 eine Vielzahl innerer Elektroden 207 und eine Vielzahl innerer Elektroden 209. Jede der inneren Elektroden 207 und 209 ist ein Innenleiter, der in dem Bauelementkörper 203 angeordnet ist. Jede der inneren Elektroden 207 und 209 besteht aus einem leitfähigen Material, das gewöhnlich als innere Elektrode eines vielschichtigen elektronischen Bauelements verwendet wird. Als leitfähiges Material wird ein unedles Metall (z.B. Ni oder Cu) verwendet. Jede der inneren Elektroden 207 und 209 umfasst einen Sinterkörper aus einer leitfähigen Paste, die das oben genannte leitfähige Material enthält. Bei der neunten Ausführungsform besteht jede der inneren Elektroden 207 und 209 aus Ni.
Die inneren Elektroden 207 und die inneren Elektroden 209 sind in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der zweiten Richtung D202 angeordnet. Die inneren Elektroden 207 und die inneren Elektroden 209 sind in dem Bauelementkörper 203 derart abwechselnd angeordnet, dass sie einander in der zweiten Richtung D202 mit einem Zwischenraum zwischen ihnen gegenüberliegen. Die Polaritäten der inneren Elektroden 207 und der inneren Elektroden 209 sind voneinander verschieden. In einem Fall, in dem die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten die erste Richtung D201 ist, sind die inneren Elektroden 207 und die inneren Elektroden 209 in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der ersten Richtung D201 angeordnet. Jede der inneren Elektroden 207 und 209 umfasst ein Ende, das zu einer entsprechenden Seitenfläche 203e hin frei liegt.
Die Vielzahl innerer Elektroden 207 und die Vielzahl innerer Elektroden 209 sind abwechselnd in der zweiten Richtung D202 angeordnet. Jede der inneren Elektroden 207 und 209 liegt in einer Ebene, die annähernd orthogonal zu jeder der Hauptflächen 203a und 203b ist. Die inneren Elektroden 207 und die inneren Elektroden 209 liegen einander in der zweiten Richtung D202 gegenüber. Die Richtung (zweite Richtung D202), in der die inneren Elektroden 207 und die inneren Elektroden 209 einander gegenüberliegen, ist orthogonal zu der Richtung (erste Richtung D201), die orthogonal zu jeder der Hauptflächen 203a und 203b ist. Wie in 64 dargestellt, ist ein Abstand Gc größer als ein Abstand Ga und größer als ein Abstand Gb. Der Abstand Gc ist der Abstand zwischen der Seitenfläche 203c und der inneren Elektrode 207 oder 209, die der Seitenfläche 203c in der zweiten Richtung D202 am nächsten ist. Der Abstand Ga ist der Abstand zwischen der Hauptfläche 203a und den inneren Elektroden 207 und 209 in der ersten Richtung D201. Der Abstand Gb ist der Abstand zwischen der Hauptfläche 203b und den inneren Elektroden 207 und 209 in der ersten Richtung D201.
Wie ebenfalls in 58 dargestellt, sind die äußeren Elektroden 205 an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers 203 in der dritten Richtung D203 angeordnet. Jede der äußeren Elektroden 205 ist auf einer entsprechenden Stirnflächen- 203e -Seite des Bauelementkörpers 203 angeordnet. Wie in 59, 60 und 61 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 205 eine Vielzahl von Elektrodenabschnitten 205a, 205b, 205c und 205e. Der Elektrodenabschnitt 205a ist auf der Hauptfläche 203a und dem Erhöhungsabschnitt 203g angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 205b ist auf dem Erhöhungsabschnitt 203h angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 205c ist auf dem Erhöhungsabschnitt 203i angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 205e ist auf der entsprechenden Stirnfläche 203e angeordnet. Die äußere Elektrode 205 umfasst außerdem Elektrodenabschnitte, die auf den Erhöhungsabschnitten 203j angeordnet sind. Der Elektrodenabschnitt 205c ist auch auf der Seitenfläche 203c angeordnet.
Die äußere Elektrode 205 ist auf den vier Flächen, d.h. auf der Hauptfläche 203a, der Stirnfläche 203e und dem Paar von Seitenflächen 203c, sowie auf den Erhöhungsabschnitten 203g, 203h, 203i und 203j ausgebildet. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 205a, 205b, 205c und 205e sind verbunden und sie sind elektrisch miteinander verbunden. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die äußere Elektrode 205 nicht vorsätzlich auf der Hauptfläche 203b ausgebildet. Der auf der Stirnfläche 203e angeordnete Elektrodenabschnitt 205e bedeckt alle bei der Stirnfläche 203e freiliegenden einen Enden der entsprechenden inneren Elektroden 207 oder 209. Der Elektrodenabschnitt 205e ist direkt mit den jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 verbunden. Die äußere Elektrode 205 ist mit den jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 elektrisch verbunden.
Wie in 59, 60 und 61 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 205 eine erste Elektrodenschicht E1, eine zweite Elektrodenschicht E2, eine dritte Elektrodenschicht E3 und eine vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 205. Jeder der Elektrodenabschnitte 205a, 205c und 205e umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Der Elektrodenabschnitt 205b umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4.
Die im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf dem Erhöhungsabschnitt 203g angeordnet und sie ist nicht auf der Hauptfläche 203a angeordnet. Die im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist in Kontakt mit dem gesamten Erhöhungsabschnitt 203g. Die Hauptfläche 203a ist nicht mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt und somit von der ersten Elektrodenschicht E1 freigelegt. Die im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1 und der Hauptfläche 203a angeordnet. Eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. In dem Elektrodenabschnitt 205a ist die zweite Elektrodenschicht E2 in Kontakt mit einem Teil der Hauptfläche 203a (Teilgebiet nahe der Stirnfläche 203e in der Hauptfläche 203a) und einer Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1. Der Elektrodenabschnitt 205a hat auf dem Erhöhungsabschnitt 203g einen vierschichtigen Aufbau und auf der Hauptfläche 203a einen dreischichtigen Aufbau.
Die im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g und den Teil der Hauptfläche 203a (Teilgebiet nahe der Stirnfläche 203e in der Hauptfläche 203a) bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g mittelbar bedeckt, wobei die erste Elektrodenschicht E1 dazwischen liegt. Die im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den Teil der Hauptfläche 203a direkt bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie einen gesamten Abschnitt der auf dem Erhöhungsabschnitt 203g ausgebildeten ersten Elektrodenschicht E1 direkt bedeckt.
Die im Elektrodenabschnitt 205b enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf dem Erhöhungsabschnitt 203h angeordnet und sie ist nicht auf der Hauptfläche 203b angeordnet. Die im Elektrodenabschnitt 205b enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist in Kontakt mit dem gesamten Erhöhungsabschnitt 203h. Die Hauptfläche 203b ist nicht mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt und somit von der ersten Elektrodenschicht E1 freigelegt. Der Elektrodenabschnitt 205b umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Die Hauptfläche 203b ist nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt und somit von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist nicht auf der Hauptfläche 203b ausgebildet. Der Elektrodenabschnitt 205b hat einen dreischichtigen Aufbau.
Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf dem Erhöhungsabschnitt 203i angeordnet und sie ist nicht auf der Seitenfläche 203c angeordnet. Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist in Kontakt mit dem gesamten Erhöhungsabschnitt 203i. Die Seitenfläche 203c ist nicht mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt und somit von der ersten Elektrodenschicht E1 freigelegt. Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1 und der Seitenfläche 203c angeordnet. Ein Teil der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Im Elektrodenabschnitt 205c ist die zweite Elektrodenschicht E2 in Kontakt mit einem Teil der Seitenfläche 203c und einem Teil der ersten Elektrodenschicht E1. Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 umfasst einen Abschnitt, der sich auf der Seitenfläche 203c befindet.
Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203i (Teilgebiet nahe der Hauptfläche 203a im Erhöhungsabschnitt 203i) und einen Teil der Seitenfläche 203c (Eckgebiet nahe der Hauptfläche 203a und der Stirnfläche 203e in der Seitenfläche 203c) bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist mittelbar derart ausgebildet, dass sie den Teil des Erhöhungsabschnitts 203i mittelbar bedeckt, wobei die erste Elektrodenschicht E1 dazwischen liegt. Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den Teil der Seitenfläche 203c direkt bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den Teil der ersten Elektrodenschicht E1, der im Erhöhungsabschnitt 203i ausgebildet ist, direkt bedeckt.
Der Elektrodenabschnitt 205c umfasst ein Gebiet 205c₁ und ein Gebiet 205c₂ . Das Gebiet 205c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 3a als das Gebiet 205c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 205c nur zwei Gebiete 205c₁ und 205c₂ . Das Gebiet 205c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 205c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 205c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 205c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 205c₂ hat auf dem Erhöhungsabschnitt 203i einen vierschichtigen Aufbau und auf der Seitenfläche 203c einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 205c₁ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Das Gebiet 205c₂ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist.
Die im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf der Stirnfläche 203e angeordnet. Die gesamte Stirnfläche 203e ist mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist in Kontakt mit der gesamten Stirnfläche 203e. Die im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1 angeordnet. Ein Teil der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Im Elektrodenabschnitt 205e ist die zweite Elektrodenschicht E2 in Kontakt mit dem Teil der ersten Elektrodenschicht E1. Die im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil der Stirnfläche 203e (Teilgebiet nahe der Hauptfläche 203a in der Stirnfläche 203e) bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den Teil der Stirnfläche 203e mittelbar bedeckt, wobei die erste Elektrodenschicht E1 dazwischen liegt. Die im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den Teil der ersten Elektrodenschicht E1, der auf der Stirnfläche 203e ausgebildet ist, direkt bedeckt. Im Elektrodenabschnitt 205e ist die erste Elektrodenschicht E1 derart auf der Stirnfläche 203e ausgebildet, dass sie mit den einen Enden der jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 verbunden ist.
Der Elektrodenabschnitt 205e umfasst ein Gebiet 205e₁ und ein Gebiet 205e₂ . Das Gebiet 205e₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 203a als das Gebiet 205e₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 205e nur zwei Gebiete 205e₁ und 205e₂ . Das Gebiet 205e₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 205e₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 205e₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 205e₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 205e₂ hat einen vierschichtigen Aufbau. Das Gebiet 205e₁ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Das Gebiet 205e₂ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist.
Die erste Elektrodenschicht E1 ist durch Aufbringen einer leitfähigen Paste auf die Oberfläche des Bauelementkörpers 203 und Sintern derselben ausgebildet. Die erste Elektrodenschicht E1 ist derart ausgebildet, dass sie die Stirnfläche 203e und die Erhöhungsabschnitte 203g, 203h und 203i bedeckt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist eine Sintermetallschicht, die durch Sintern eines Metallbestandteils (Metallpulver) ausgebildet ist, der in der leitfähigen Paste enthalten ist. Die erste Elektrodenschicht E1 ist eine Sintermetallschicht, die auf dem Bauelementkörper 203 ausgebildet ist. Die erste Elektrodenschicht E1 ist nicht vorsätzlich auf dem Paar von Hauptflächen 203a und 203b und dem Paar von Seitenflächen 203c ausgebildet. Die erste Elektrodenschicht E1 kann, beispielsweise aufgrund eines Herstellungsfehlers, unbeabsichtigt auf den Hauptflächen 203a und 203b und den Seitenflächen 203c ausgebildet sein.
Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die erste Elektrodenschicht E1 eine aus Cu bestehende Sintermetallschicht. Die erste Elektrodenschicht E1 kann eine Sintermetallschicht sein, die aus Ni besteht. Die erste Elektrodenschicht E1 enthält ein unedles Metall. Die leitfähige Paste enthält beispielsweise Pulver aus Cu oder Ni, einen Glasbestandteil, ein organisches Bindemittel und ein organisches Lösungsmittel.
Die zweite Elektrodenschicht E2 ist durch Aushärten einer auf die erste Elektrodenschicht E1, die Hauptfläche 203a und das Paar von Seitenflächen 203c aufgebrachte leitfähige Harzpaste ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1 und dem Bauelementkörper 203 ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie ein Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Das Teilgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 ist ein Gebiet in der ersten Elektrodenschicht E1, das dem Elektrodenabschnitt 205a, dem Gebiet 205c₂ und dem Gebiet 205e₂ entspricht. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203j (Teilgebiet nahe der Stirnfläche 203e im Erhöhungsabschnitt 203j) direkt bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist in Kontakt mit dem Teil des Erhöhungsabschnitts 203j. Die erste Elektrodenschicht E1 dient als untere Metallschicht zum Ausbilden der zweiten Elektrodenschicht E2. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist eine leitfähige Harzschicht, die auf der ersten Elektrodenschicht E1 ausgebildet ist.
Die leitfähige Harzpaste enthält beispielsweise ein Harz (z.B. ein wärmehärtendes Harz), ein leitfähiges Material (z.B. Metallpulver) und ein organisches Lösungsmittel. Als Metallpulver wird beispielsweise Ag-Pulver oder Cu-Pulver verwendet. Als wärmehärtendes Harz wird beispielsweise ein Phenolharz, ein Acrylharz, ein Silikonharz, ein Epoxidharz oder ein Polyimidharz verwendet.
Die dritte Elektrodenschicht E3 ist auf der zweiten Elektrodenschicht E2 und der ersten Elektrodenschicht E1 (Bereich der ersten Elektrodenschicht E1, der von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist) mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die dritte Elektrodenschicht E3 eine Ni Plattierungsschicht, die auf die erste Elektrodenschicht E1 und die zweite Elektrodenschicht E2 durch Ni-Plattieren aufgebracht wird. Die dritte Elektrodenschicht E3 kann eine Sn-Plattierungsschicht, eine Cu-Plattierungsschicht oder eine Au-Plattierungsschicht sein. Die dritte Elektrodenschicht E3 enthält Ni, Sn, Cu oder Au.
Die vierte Elektrodenschicht E4 ist auf der dritten Elektrodenschicht E3 mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die vierte Elektrodenschicht E4 eine durch Sn-Plattierung auf der dritten Elektrodenschicht E3 ausgebildete Sn-Plattierungsschicht. Die vierte Elektrodenschicht E4 kann eine Cu-Plattierungsschicht oder eine Au-Plattierungsschicht sein. Die vierte Elektrodenschicht E4 enthält Sn, Cu oder Au. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 bilden eine auf der zweiten Elektrodenschicht E2 ausgebildete Plattierungsschicht. Bei der vorliegenden Ausführungsform hat die auf der zweiten Elektrodenschicht E2 ausgebildete Plattierungsschicht einen zweischichtigen Aufbau.
Die erste Elektrodenschicht E1, die in jedem der Elektrodenabschnitte 205a, 205b, 205c und 205e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 205a, 205c und 205e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 205a, 205b, 205c und 205e enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 205a, 205b, 205c und 205e enthalten ist, ist integral ausgebildet.
Die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene erste Elektrodenschicht E1) ist derart auf der Stirnfläche 203e ausgebildet, dass sie mit den jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 verbunden ist. Die erste Elektrodenschicht E1 ist derart ausgebildet, dass sie die gesamte Stirnfläche 203e, den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g, den gesamten Erhöhungsabschnitt 203h und den gesamten Erhöhungsabschnitt 203i bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2 (in den Elektrodenabschnitten 205a, 205c und 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil der Hauptfläche 203a, einen Teil der Stirnfläche 203e und einen Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c durchgehend bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2 (in den Elektrodenabschnitten 205a, 205c und 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) ist derart ausgebildet, dass sie den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g, einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203i und einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203j bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2 umfasst Abschnitte, die jeweils dem Teil der Hauptfläche 203a, dem Teil der Stirnfläche 203e, dem Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c, dem gesamten Erhöhungsabschnitt 203g, dem Teil des Erhöhungsabschnitts 203i und dem Teil des Erhöhungsabschnitts 203j entsprechen. Die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene erste Elektrodenschicht E1) ist direkt mit den jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 verbunden.
Die erste Elektrodenschicht E1 (in den Elektrodenabschnitten 205a, 205b, 205c und 205e enthaltene erste Elektrodenschicht E1) umfasst ein Gebiet, das mit der zweiten Elektrodenschicht E2 (in den Elektrodenabschnitten 205a, 205c und 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) bedeckt ist, und ein Gebiet, das nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 (in den Elektrodenabschnitten 205a, 205c und 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) bedeckt ist. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 sind derart ausgebildet, dass sie das Gebiet der ersten Elektrodenschicht E1, das nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist, und die zweite Elektrodenschicht E2 bedecken.
Wie in 62 dargestellt, ist, aus der ersten Richtung D201 betrachtet, eine Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der ersten Richtung D201 betrachtet, ist die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene erste Elektrodenschicht E1) nicht von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt.
Wie in 63 dargestellt, ist, in der zweiten Richtung D202 betrachtet, ein nahe der Hauptfläche 203a gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, kreuzt eine Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 eine Stirnkante E1e der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 203b gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, ist eine Fläche eines auf der Seitenfläche 203c und dem Erhöhungsabschnitt 203i befindlichen Gebiets in der zweiten Elektrodenschicht E2 größer als eine Fläche eines auf dem Erhöhungsabschnitt 203i befindlichen Gebiets in der ersten Elektrodenschicht E1. Ein auf der Seitenfläche 203c befindliches Gebiet in der zweiten Elektrodenschicht E2 liegt, in der zweiten Richtung D2, der inneren Elektrode 207 oder 209 gegenüber, die eine andere Polarität als die zweite Elektrodenschicht E2 hat.
Wie in 64 dargestellt, ist, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, ein nahe der Hauptfläche 203a gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205e₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der dritten Richtung D203 betrachtet, befindet sich eine Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 auf der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der dritten Richtung D203 betrachtet, ist das nahe der Hauptfläche 203b gelegene Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205e₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Aus der dritten Richtung D203 betrachtet, ist eine Fläche eines auf der Stirnfläche 203e und dem Erhöhungsabschnitt 203g befindlichen Gebiets in der zweiten Elektrodenschicht E2 kleiner als eine Fläche eines auf der Stirnfläche 203e und dem Erhöhungsabschnitt 203g befindlichen Gebiets in der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der dritten Richtung D203 betrachtet, beträgt eine Höhe H2 der zweiten Elektrodenschicht E2 nicht mehr als die Hälfte der Höhe H1 des Bauelementkörpers 203.
Wie in 64 dargestellt, umfasst ein Ende jeder inneren Elektrode 207, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, ein Gebiet 207a, das sich mit der zweiten Elektrodenschicht E2 überschneidet, und ein Gebiet 207b, das sich nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 überschneidet. Ein Ende jeder inneren Elektrode 209 umfasst, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, ein Gebiet 209a, das sich mit der zweiten Elektrodenschicht E2 überschneidet, und ein Gebiet 209b, das sich nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 überschneidet. Die Gebiete 207a und 209a befinden sich in der ersten Richtung D201 näher an der Hauptfläche 203a als die Gebiete 207b und 209b. Die in dem Gebiet 205e₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist mit den entsprechenden Gebieten 207a und 209a verbunden. Die in dem Gebiet 205e₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist mit den entsprechenden Gebieten 207b und 209b verbunden. Aus der dritten Richtung D203 betrachtet, kreuzt die Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 das eine Ende von jeder inneren Elektrode 207 und 209. Längen L_ia der Gebiete 207a und 209a in der ersten Richtung D1 sind kleiner als Längen L_ib der Gebiete 207b und 209b in der ersten Richtung D1. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die erste Elektrodenschicht E1 direkt mit den einen Enden aller entsprechenden inneren Elektroden 207 und 209 verbunden.
Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie nur den Teil der Hauptfläche 203a, nur den Teil der Stirnfläche 203e und nur den Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c durchgehend bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g, nur den Teil des Erhöhungsabschnitts 203i und nur den Teil des Erhöhungsabschnitts 203j bedeckt. Der Teil eines Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1, der den Erhöhungsabschnitt 203i bedeckt, ist von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Beispielsweise ist die im Gebiet 205c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist auf der Stirnfläche 203e derart ausgebildet, dass sie mit den entsprechenden Gebieten 207a und 209a verbunden ist. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die erste Elektrodenschicht E1 ebenfalls derart auf der Stirnfläche 203e ausgebildet, dass sie mit den entsprechenden Gebieten 207b und 209b verbunden ist. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die erste Elektrodenschicht E1 direkt mit den einen Enden aller entsprechenden inneren Elektroden 207 und 209 verbunden.
Wie in 58 dargestellt, nimmt eine Breite des Gebiets 205c₂ in der dritten Richtung D203 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a (Elektrodenabschnitt 205a) ab. Eine Breite des Gebiets 205c₂ in der ersten Richtung D201 nimmt mit zunehmendem Abstand von der Stirnfläche 203e (Elektrodenabschnitt 205e) ab. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist eine Stirnkante des Gebiets 205c₂ , aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd bogenförmig. Das Gebiet 205c₂ ist, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd fächerförmig. Wie in 63 dargestellt, nimmt bei der vorliegenden Ausführungsform die Breite der zweiten Elektrodenschicht E2, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a ab. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, nimmt eine Länge der zweiten Elektrodenschicht E2 in der ersten Richtung D201 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203e in der dritten Richtung D203 ab. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, nimmt eine Länge des auf der Seitenfläche 203c befindlichen Abschnitts der zweiten Elektrodenschicht E2 in der ersten Richtung D201 mit zunehmendem Abstand vom Endabschnitt des Bauelementkörpers 203 in der dritten Richtung D203 ab. Wie in 63 dargestellt, ist die Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 annähernd bogenförmig.
In einem Fall, in dem der Vielschichtkondensator C201 auf eine elektronische Vorrichtung aufgelötet ist, kann eine äußere Kraft, die von der elektronischen Vorrichtung auf den Vielschichtkondensator C201 aufgebracht wird, von einer beim Auflöten gebildeten Lötkehle her durch die äußere Elektrode 205 als Spannung auf den Bauelementkörper 203 wirken. In diesem Fall kann ein Riss im Bauelementkörper 203 auftreten. Die äußere Kraft neigt dazu, auf ein Gebiet zu wirken, das durch einen Teil der Hauptfläche 203a, einen Teil der Stirnfläche 203e und einen Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c beim Bauelementkörper 203 definiert ist. Bei dem Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 (in den Elektrodenabschnitten 205a, 203c und 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) derart ausgebildet, dass sie nur den Teil der Hauptfläche 203a, nur den Teil der Stirnfläche 203e und nur den Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c durchgehend bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass die von der elektronischen Vorrichtung auf den Vielschichtkondensator C201 aufgebrachte äußere Kraft auf den Bauelementkörper 203 wirkt. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C201 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 203 unterdrückt.
Ein Gebiet zwischen dem Bauelementkörper 203 und der zweiten Elektrodenschicht E2 kann als Weg wirken, über den Feuchtigkeit eindringt. In einem Fall, in dem Feuchtigkeit aus dem Gebiet zwischen dem Bauelementkörper 203 und der zweiten Elektrodenschicht E2 eindringt, verkürzt sich die Lebensdauer des Vielschichtkondensators C201. Im Vergleich zu einem Vielschichtkondensator, bei dem die zweite Elektrodenschicht E2r derart ausgebildet ist, dass sie die gesamte Stirnfläche 203e, einen Teil von jeder des Paares von Hauptflächen 203a und 203b und einen Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c durchgehend bedeckt, umfasst der Vielschichtkondensator C201 wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Daher ist beim Vielschichtkondensator C201 die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit verbessert.
Der Vielschichtkondensator C201 umfasst die Vielzahl innerer Elektroden 207 und 209, die zu den jeweiligen Stirnflächen 203 hin freigelegt sind. Die äußeren Elektroden 205 umfassen die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 5e enthaltene erste Elektrodenschicht E1), die derart auf der Stirnfläche 203e ausgebildet ist, dass sie mit den jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 verbunden ist. In diesem Fall stehen die äußeren Elektroden 205 (erste Elektrodenschicht E1) und die inneren Elektroden 207 und 209, die einander entsprechen, günstigerweise miteinander in Kontakt. Daher sind die äußeren Elektroden 205 und die inneren Elektroden 207 und 209, die einander entsprechen, zuverlässig miteinander elektrisch verbunden.
Bei dem Vielschichtkondensator C201 umfasst die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene erste Elektrodenschicht E1) das Gebiet, das mit der zweiten Elektrodenschicht E2 (im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) bedeckt ist, und das Gebiet, das nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 (im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) bedeckt ist. Ein elektrischer Widerstand der zweiten Elektrodenschicht E2 ist größer als ein elektrischer Widerstand der ersten Elektrodenschicht E1. Das Gebiet in der ersten Elektrodenschicht E1, das nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist, ist mit der elektronischen Vorrichtung elektrisch verbunden, ohne dass über die zweite Elektrodenschicht E2 durchgeleitet wird. Daher wird bei dem Vielschichtkondensator C201 ein Anstieg des ESR selbst in einem Fall unterdrückt, in dem die äußere Elektrode 205 die zweite Elektrodenschicht E2 umfasst.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die erste Elektrodenschicht E1 auch auf dem Erhöhungsabschnitt 203i und dem Erhöhungsabschnitt 203g ausgebildet. Eine Bindefestigkeit zwischen der zweiten Elektrodenschicht E2 und dem Bauelementkörper 203 ist geringer als eine Bindefestigkeit zwischen der zweiten Elektrodenschicht E2 und der ersten Elektrodenschicht E1. Beim Vielschichtkondensator C201 ist die erste Elektrodenschicht E1 auf dem Erhöhungsabschnitt 203i und dem Erhöhungsabschnitt 203g ausgebildet. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem sich die zweite Elektrodenschicht E2 vom Bauelementkörper 203 ablöst, nicht die Neigung, dass sich das Ablösen der zweiten Elektrodenschicht E2 über eine Position, die dem Erhöhungsabschnitt 203i und dem Erhöhungsabschnitt 203g entspricht, hinaus bis zu einer Position ausbreitet, die der Stirnfläche 203e entspricht.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 (in den Elektrodenabschnitten 205a und 205c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) derart ausgebildet, dass sie einen Teil des auf dem Erhöhungsabschnitt 203i ausgebildeten Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) und eine Gesamtheit des auf dem Erhöhungsabschnitt 203g ausgebildeten Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Bei dieser Ausgestaltung besteht weiters nicht die Neigung, dass sich das Ablösen der zweiten Elektrodenschicht E2 bis zu der der Stirnfläche 203e entsprechenden Position ausbreitet.
Die Spannung, die aufgrund der von der elektronischen Vorrichtung auf den Vielschichtkondensator C201 aufgebrachten äußeren Kraft auf den Bauelementkörper wirkt, neigt dazu, sich auf die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 zu konzentrieren. Im Bauelementkörper 203 kann ein Riss auftreten, wobei die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 als Ursprung fungiert. Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie den Teil des auf dem Erhöhungsabschnitt 203i ausgebildeten Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) und die Gesamtheit des auf dem Erhöhungsabschnitt 203g ausgebildeten Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert. Folglich wird beim Vielschichtkondensator C201 das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, die Fläche des auf der Seitenfläche 203c und dem Erhöhungsabschnitt 203i befindlichen Gebiets in der zweiten Elektrodenschicht E2 größer als die Fläche des auf dem Erhöhungsabschnitt 203i befindlichen Gebiets in der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der dritten Richtung D203 betrachtet, ist die Fläche des auf der Stirnfläche 203e und dem Erhöhungsabschnitt 203g befindlichen Gebiets in der zweiten Elektrodenschicht E2 kleiner als die Fläche des auf der Stirnfläche 203e und dem Erhöhungsabschnitt 203g befindlichen Gebiets in der ersten Elektrodenschicht E1. In diesem Fall wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist der Teil des auf dem Erhöhungsabschnitt 203i ausgebildeten Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Beispielsweise ist die im Gebiet 5c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist die Fläche des auf der Seitenfläche 203c und dem Erhöhungsabschnitt 203i befindlichen Gebiets in der zweiten Elektrodenschicht E2 größer als eine Fläche des Teils des Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1, der auf dem Erhöhungsabschnitt 203i ausgebildet ist. In diesem Fall wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die Fläche des auf der Stirnfläche 203e und dem Erhöhungsabschnitt 203g befindlichen Gebiets in der zweiten Elektrodenschicht E2 kleiner als eine Fläche des von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegten Gebiets in dem auf der Stirnfläche 203e und dem Erhöhungsabschnitt 203g befindlichen Gebiets in der ersten Elektrodenschicht E1. In diesem Fall wird der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 umfasst die äußere Elektrode 205 die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 sind derart ausgebildet, dass sie die zweite Elektrodenschicht E2 und das Gebiet der ersten Elektrodenschicht E1 bedecken, das von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Die äußere Elektrode 205 umfasst die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 und somit kann der Vielschichtkondensator C201 auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet werden. Das Gebiet der ersten Elektrodenschicht E1, das von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist, ist mit der elektronischen Vorrichtung über die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 elektrisch verbunden. Daher wird bei dem Vielschichtkondensator C201 der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 beträgt, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, die Höhe H2 der zweiten Elektrodenschicht E2 die Hälfte der Höhe H1 des Bauelementkörpers 203 oder weniger. Im Vergleich zu einer Ausgestaltung, bei der, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, die Höhe H2 der zweiten Elektrodenschicht E2 mehr als die Hälfte der Höhe H1 des Bauelementkörpers 203 beträgt, umfasst der Vielschichtkondensator C201 wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Daher ist beim Vielschichtkondensator C201 die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit weiter verbessert. Gegenüber einer Ausgestaltung, bei der, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, die Höhe H2 der zweiten Elektrodenschicht E2 mehr als die Hälfte der Höhe H1 des Bauelementkörpers 203 beträgt, wird beim Vielschichtkondensator C201 der Anstieg des ESR unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die Hauptfläche 203b des Bauelementkörpers 203 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Beim Vielschichtkondensator C201 wird der Anstieg des ESR unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 in Kontakt mit einem Teil des Erhöhungsabschnitts 203j. Daher besteht nicht die Neigung, dass in dem Teil des Erhöhungsabschnitts 203j ein Riss auftritt. Die zweite Elektrodenschicht E2 bedeckt zuverlässig die erste Elektrodenschicht E1 und somit mildert die erste Elektrodenschicht E1 Spannung, die auf die zweite Elektrodenschicht E2 wirkt.
Bei der vorliegenden Ausführungsform weist der Vielschichtkondensator C201 außerdem die folgenden Wirkungsweisen und Wirkungen auf.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist, aus der ersten Richtung D201 betrachtet, die erste Elektrodenschicht E1 (im Elektrodenabschnitt 205a enthaltene erste Elektrodenschicht E1) vollständig mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der im Elektrodenabschnitt 205 enthaltenen ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, ist das nahe der Hauptfläche 203a gelegene Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der im Gebiet 205c₂ enthaltenen ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C201 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 203 unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 kreuzt die Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, die Stirnkante E1e der ersten Elektrodenschicht E1. Die Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 ist nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Die erste Elektrodenschicht E1 umfasst das Gebiet, das von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Daher wird beim Vielschichtkondensator C201 eine Zunahme einer Menge einer zum Ausbilden der zweiten Elektrodenschicht E2 verwendeten leitfähigen Harzpaste unterdrückt.
Der elektrische Widerstand der zweiten Elektrodenschicht E2 ist größer als der elektrische Widerstand der ersten Elektrodenschicht E1. In dem im Elektrodenabschnitt 205e enthaltenen Gebiet 205e₁ ist die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Das Gebiet 205e₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Bei dem Gebiet 205e₁ ist die erste Elektrodenschicht E1 mit der elektronischen Vorrichtung elektrisch verbunden, ohne dass über die zweite Elektrodenschicht E2 durchgeleitet wird. Daher wird beim Vielschichtkondensator C201 ein Anstieg des ESR unterdrückt.
Das im Elektrodenabschnitt 205c enthaltene Gebiet 205c₂ umfasst die zweite Elektrodenschicht E2. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem die äußere Elektrode 205 den Elektrodenabschnitt 205c umfasst, nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 205 konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode 205 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird beim Vielschichtkondensator C201 das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 zuverlässig unterdrückt.
Das im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene Gebiet 205e₂ umfasst die zweite Elektrodenschicht E2. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem die äußere Elektrode 205 den Elektrodenabschnitt 205e umfasst, nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 205 konzentriert. Folglich wird beim Vielschichtkondensator C201 das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 nimmt die Breite des Gebiets 205c₂ in der dritten Richtung D203 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a ab. Die Breite der zweiten Elektrodenschicht E2 nimmt, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a ab. Daher wird das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 unterdrückt und die Zunahme der Menge einer zum Ausbilden der zweiten Elektrodenschicht E2 verwendeten leitfähigen Harzpaste wird überdies unterdrückt.
Bei der vorliegenden Ausführungsform weist der Vielschichtkondensator C201 außerdem die folgenden Wirkungsweisen und Wirkungen auf.
In einem Fall, in dem der Vielschichtkondensator C201 auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet ist, besteht auch die Neigung, dass die äußere Kraft durch das Gebiet nahe der Hauptfläche 203a in der Stirnfläche 203e auf den Bauelementkörper 203 wirkt. Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 (im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) derart ausgebildet, dass sie den Abschnitt nahe der Hauptfläche 203a in der Stirnfläche 203e bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass die von der elektronischen Vorrichtung auf den Vielschichtkondensator C201 aufgebrachte äußere Kraft auf den Bauelementkörper 203 wirkt. Folglich wird das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 (im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene zweite Elektrodenschicht E2) derart ausgebildet, dass sie den Abschnitt nahe der Hauptfläche 203a in der Stirnfläche 203e bedeckt. Daher umfasst die Stirnfläche 203e, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, das Gebiet, das nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist. Im Vergleich zu einem Vielschichtkondensator, bei dem die zweite Elektrodenschicht E2r derart ausgebildet ist, dass sie die gesamte Stirnfläche 203e bedeckt, umfasst der Vielschichtkondensator C201 wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Folglich ist beim Vielschichtkondensator C201 die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit verbessert.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die Hauptfläche 203a eingerichtet, um die Montagefläche zu bilden und die Vielzahl innerer Elektroden 207 und 209 liegen einander in der zweiten Richtung D202 gegenüber. Daher ist beim Vielschichtkondensator C201 ein für jede der inneren Elektroden 207 und 209 gebildeter Strompfad kurz und die ESL ist niedrig.
Beim Vielschichtkondensator C201 umfasst das eine Ende von jeder der inneren Elektroden 207 und 209, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, die Gebiete 207a und 209a und die Gebiete 207b und 209b. Auch in diesem Fall gibt es wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Daher ist beim Vielschichtkondensator C201 die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit verbessert.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist jede Länge Lia der Gebiete 207a und 209a in der ersten Richtung D201 kleiner als jede Länge L_ib der Gebiete 207b und 209b in der ersten Richtung D201. In diesem Fall gibt es weniger Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Daher ist beim Vielschichtkondensator C201 die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit weiter verbessert.
Beim Vielschichtkondensator C201 umfassen die äußeren Elektroden 205 die erste Elektrodenschicht E1, die auf der Stirnfläche 203e derart ausgebildet ist, dass sie mit den jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 verbunden ist. In diesem Fall stehen die äußeren Elektroden 205 (erste Elektrodenschicht E1) und die inneren Elektroden 207 und 209, die einander entsprechen, günstigerweise miteinander in Kontakt. Daher sind die äußeren Elektroden 205 und die inneren Elektroden 207 und 209, die einander entsprechen, zuverlässig miteinander elektrisch verbunden. Der elektrische Widerstand der zweiten Elektrodenschicht E2 ist größer als der elektrische Widerstand der ersten Elektrodenschicht E1. In einem Fall, in dem die äußeren Elektroden 205 die mit den jeweiligen inneren Elektroden 207 und 209 verbundene erste Elektrodenschicht E1 umfassen, ist die erste Elektrodenschicht E1 mit der elektronischen Vorrichtung elektrisch verbunden, ohne dass über die zweite Elektrodenschicht E2 durchgeleitet wird. Daher wird beim Vielschichtkondensator C201 selbst in einem Fall, in dem die äußere Elektrode 205 die zweite Elektrodenschicht E2 umfasst, der Anstieg des ESR unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 sind die Gebiete 207b aller inneren Elektroden 207 und die Gebiete 209b aller inneren Elektroden 209 mit der jeweiligen ersten Elektrodenschicht E1 verbunden. Daher wird bei dem Vielschichtkondensator C201 der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 umfasst die äußere Elektrode 205 die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 sind derart ausgebildet, dass sie die zweite Elektrodenschicht E2 und die erste Elektrodenschicht E1 (Gebiet der ersten Elektrodenschicht E1, das von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist) bedecken. Die äußere Elektrode 205 umfasst die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Daher kann der Vielschichtkondensator C201 auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet werden. Die erste Elektrodenschicht E1 ist mit der elektronischen Vorrichtung über die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4 elektrisch verbunden. Daher wird bei dem Vielschichtkondensator C201 der Anstieg des ESR weiter unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 kreuzt die Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, das eine Ende von jeder der inneren Elektroden 207 und 209. Auch in diesem Fall gibt es wenige Wege, über die Feuchtigkeit eindringt. Daher ist beim Vielschichtkondensator C201 die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit zuverlässig verbessert.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie den Abschnitt nahe der Stirnfläche 203e in der Hauptfläche 203a bedeckt. Es besteht auch die Neigung, dass die von der elektronischen Vorrichtung auf den Vielschichtkondensator C201 aufgebrachte äußere Kraft durch das Gebiet nahe der Stirnfläche 203e in der Hauptfläche 203a auf den Bauelementkörper 203 wirkt. Daher wird beim Vielschichtkondensator C201 das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 derart ausgebildet, dass sie den Abschnitt nahe der Stirnfläche 203e in der Seitenfläche 203c bedeckt. Es besteht auch die Neigung, dass die von der elektronischen Vorrichtung auf den Vielschichtkondensator C201 aufgebrachte äußere Kraft durch das Gebiet nahe der Stirnfläche 203e in der Seitenfläche 203c auf den Bauelementkörper 203 wirkt. Daher wird beim Vielschichtkondensator C201 das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C201 liegt die auf der Seitenfläche 203c befindliche zweite Elektrodenschicht E2 der inneren Elektrode 207 oder 209, die eine andere Polarität als die zweite Elektrodenschicht E2 hat, in der zweiten Richtung D2 gegenüber. Daher bildet sich eine Kapazitätskomponente zwischen der auf der Seitenfläche 203c befindlichen zweiten Elektrodenschicht E2 und der inneren Elektrode 207 oder 209, die der zweiten Elektrodenschicht E2 gegenüberliegt. Folglich nimmt die elektrostatische Kapazität beim Vielschichtkondensator C201 zu.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist die zweite Elektrodenschicht E2 nicht auf der Hauptfläche 203b ausgebildet. In einem Fall, in dem der Vielschichtkondensator C201 derart auf eine elektronische Vorrichtung montiert ist, dass die Hauptfläche 203a eingerichtet ist, um die Montagefläche zu bilden, muss die Hauptfläche 203b von einer Saugdüse eines Bestückungsautomats aufgenommen werden. Beim Vielschichtkondensator C201 ist eine Form der äußeren Elektrode 205 auf der Hauptfläche 203a anders als eine Form der äußeren Elektrode 205 auf der Hauptfläche 203b. Daher werden die Hauptfläche 203a und die Hauptfläche 203b problemlos voneinander unterschieden. Folglich wird der Vielschichtkondensator C201 zuverlässig auf die elektronische Vorrichtung montiert.
Beim Vielschichtkondensator C201 ist der Abstand Gc größer als die Abstände Ga und Gb. Daher besteht beim Vielschichtkondensator C201 selbst in einem Fall, in dem ein Riss von der Seitenfläche 203c des Bauelementkörpers 203 her entsteht, nicht die Neigung, dass der Riss die inneren Elektroden 207 und 209 erreicht.
Als Nächstes wird ein montierter Aufbau des Vielschichtkondensators C201 mit Bezug auf 65 beschrieben. 65 ist eine Ansicht, die einen montierten Aufbau des Vielschichtkondensators gemäß der neunten Ausführungsform darstellt.
Wie in 65 dargestellt, umfasst eine elektronische Bauelementevorrichtung ECD3 den Vielschichtkondensator C201 und eine elektronische Vorrichtung ED. Die elektronische Vorrichtung ED umfasst beispielsweise eine Leiterplatte oder ein elektronisches Bauelement. Der Vielschichtkondensator C201 ist auf die elektronische Vorrichtung ED aufgelötet. Die elektronische Vorrichtung ED umfasst eine Hauptfläche EDa und zwei Anschlusselektroden PE1 und PE2. Jede der Anschlusselektroden PE1 und PE2 ist auf der Hauptfläche EDa angeordnet. Die zwei Anschlusselektroden PE1 und PE2 sind voneinander getrennt. Der Vielschichtkondensator C201 ist derart auf der elektronischen Vorrichtung ED angeordnet, dass die Hauptfläche 203a, die die Montagefläche ist, und die Hauptfläche EDa einander gegenüberliegen.
In einem Fall, in dem der Vielschichtkondensator C201 aufgelötet wird, benetzt geschmolzenes Lot die äußeren Elektroden 205 (vierte Elektrodenschichten E4). Durch Erstarren des flüssigen Lots bilden sich Lötkehlen SF auf den äußeren Elektroden 205. Die äußeren Elektroden 205 und die Anschlusselektroden PE1 und PE2, die einander entsprechen, sind über die Lötkehlen SF verbunden.
Die Lötkehle SF ist auf dem Gebiet 205e₁ und dem Gebiet 205e₂ des Elektrodenabschnitts 205e ausgebildet. Außer dem Gebiet 205e₂ ist auch das Gebiet 205e₁ , das nicht die zweite Elektrodenschicht E2 umfasst, mit der entsprechenden Anschlusselektrode PE1 oder PE2 über die Lötkehle SF verbunden. Aus der dritten Richtung D203 betrachtet, überlagert die Lötkehle SF das im Elektrodenabschnitt 205e enthaltene Gebiet 205e₁ (erste Elektrodenschicht E1, die im Gebiet 205e₁ enthalten ist). Obwohl eine Darstellung weggelassen ist, ist die Lötkehle SF auch auf dem Gebiet 205c₁ und dem Gebiet 205c₂ des Elektrodenabschnitts 205c ausgebildet. Eine Höhe der Lötkehle SF in der ersten Richtung D201 ist größer als eine Höhe der zweiten Elektrodenschicht E2. Die Lötkehle SF erstreckt sich über die Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 in der ersten Richtung D201 hinaus näher zur Hauptfläche 203b.
Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD3 wird ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 103 unterdrückt und die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit ist verbessert, wie oben beschrieben. Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD3 überlagert die Lötkehle SF, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, das Gebiet 205e₁ , das im Elektrodenabschnitt 205e enthalten ist, und somit wird ein Anstieg des ESR selbst in einem Fall unterdrückt, in dem die äußere Elektrode 205 die zweite Elektrodenschicht E2 umfasst. Bei der elektronischen Bauelementevorrichtung ECD3 ist die ESL niedrig, wie oben beschrieben.
Als Nächstes werden Ausgestaltungen von Vielschichtkondensatoren C202 gemäß Abwandlungen der neunten Ausführungsform mit Bezug auf 66 bis 68 beschrieben. 66 bis 68 sind Seitenansichten von Vielschichtkondensatoren gemäß den vorliegenden Abwandlungen.
Wie im Falle des Vielschichtkondensators C201 umfasst der Vielschichtkondensator C202 den Bauelementkörper 3, das Paar äußerer Elektroden 5, die Vielzahl innerer Elektroden 7 (nicht dargestellt) und die Vielzahl innerer Elektroden 9 (nicht dargestellt). Beim Vielschichtkondensator C202 ist eine Form des Gebiets 205c₂ (zweite Elektrodenschicht E2, die im Gebiet 205c₂ enthalten ist) anders als die des Vielschichtkondensators C201.
Wie es beim Vielschichtkondensator C201 der Fall ist, nimmt bei den in 66 und 67 dargestellten Vielschichtkondensatoren C202 die Breite des Gebiets 205c₂ in der dritten Richtung D203 mit zunehmendem Abstand vom Elektrodenabschnitt 205a ab. Die Breite der zweiten Elektrodenschicht E2 nimmt, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, mit zunehmendem Abstand vom Elektrodenabschnitt 205a ab. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, nimmt die Länge der zweiten Elektrodenschicht E2 in der ersten Richtung D201 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203e in der dritten Richtung D203 ab. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, nimmt die Länge des auf der Seitenfläche 203c befindlichen Abschnitts der zweiten Elektrodenschicht E2 in der ersten Richtung D201 mit zunehmendem Abstand vom Endabschnitt des Bauelementkörpers 203 in der dritten Richtung D203 ab.
Bei dem in 66 dargestellten Vielschichtkondensator C202 ist die Stirnkante des Gebiets 205c₂ (Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2), aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd geradlinig. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, hat das Gebiet 205c₂ (zweite Elektrodenschicht E2, die im Gebiet 205c₂ enthalten ist) eine annähernd dreieckige Form. Bei dem in 67 dargestellten Vielschichtkondensator C202 ist die Stirnkante des Gebiets 205c₂ (Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2), aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd bogenförmig.
Bei dem in 68 dargestellten Vielschichtkondensator C202 ist eine Breite des Gebiets 205c₂ (zweite Elektrodenschicht E2) in der dritten Richtung D203 ungefähr gleich der Breite in der ersten Richtung D201. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, hat die Stirnkante des Gebiets 205c₂ (Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2) eine Seitenkante, die sich in der dritten Richtung D203 erstreckt, und eine Seitenkante, die sich in der ersten Richtung D201 erstreckt. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, hat das Gebiet 205c₂ (zweite Elektrodenschicht E2, die im Gebiet 205c₂ enthalten ist) bei der vorliegenden Abwandlung eine annähernd rechteckige Form.
(Zehnte Ausführungsform)
Eine Ausgestaltung eines Vielschichtdurchführungskondensators C203 gemäß einer zehnten Ausführungsform wird mit Bezug auf 69 bis 76 beschrieben. 69 und 70 sind Draufsichten eines Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform. 71 ist eine Seitenansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform. 72 ist eine stirnseitige Ansicht des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform. 73, 74 und 75 sind Ansichten, die eine Querschnittskonfiguration des Vielschichtdurchführungskondensators gemäß der zehnten Ausführungsform darstellen. 76 ist eine Seitenansicht, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellt. Bei der zehnten Ausführungsform ist ein elektronisches Bauelement beispielsweise der Vielschichtdurchführungskondensator C203.
Wie in 69 bis 72 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C203 den Bauelementkörper 203, das Paar äußerer Elektroden 205 und eine äußere Elektrode 206. Das Paar äußerer Elektroden 205 und die äußere Elektrode 206 sind auf der äußeren Oberfläche des Bauelementkörpers 203 angeordnet. Das Paar äußerer Elektroden 205 und die äußere Elektrode 206 sind voneinander getrennt. Die zwei äußeren Elektroden 205 dienen beispielsweise als Signalanschlusselektroden. Die äußere Elektrode 206 dient beispielsweise als Masseanschlusselektrode. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist der Bauelementkörper 203 durch Schichten einer Vielzahl von Dielektrikumschichten in der ersten Richtung D201 ausgestaltet.
Wie in 73, 74 und 75 dargestellt, umfasst der Vielschichtdurchführungskondensator C203 eine Vielzahl innerer Elektroden 217 und eine Vielzahl innerer Elektroden 219. Jede der inneren Elektroden 217 und 219 ist ein Innenleiter, der in dem Bauelementkörper 203 angeordnet ist. Wie im Falle der inneren Elektroden 207 und 209 bestehen die inneren Elektroden 217 und 219 aus einem leitfähigen Material, das gewöhnlich als innere Elektrode eines vielschichtigen elektronischen Bauelements verwendet wird. Auch bei der zehnten Ausführungsform bestehen die inneren Elektroden 217 und 219 aus Ni.
Die inneren Elektroden 217 und die inneren Elektroden 219 sind in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der ersten Richtung D201 angeordnet. Die inneren Elektroden 217 und die inneren Elektroden 219 sind in dem Bauelementkörper 203 derart abwechselnd angeordnet, dass sie einander in der ersten Richtung D201 mit einem Zwischenraum zwischen ihnen gegenüberliegen. Die Polaritäten der inneren Elektroden 217 und der inneren Elektroden 219 sind voneinander verschieden. In einem Fall, in dem die Schichtungsrichtung der Vielzahl von Dielektrikumschichten die zweite Richtung D202 ist, sind die inneren Elektroden 217 und die inneren Elektroden 219 in unterschiedlichen Positionen (Schichten) in der zweiten Richtung D202 angeordnet. Beide Enden der inneren Elektrode 217 sind zu dem Paar von Seitenflächen 203e hin freigelegt. Beide Enden der inneren Elektrode 219 sind zu dem Paar von Seitenflächen 203c hin freigelegt.
Wie im Falle der äußeren Elektroden 205 des Vielschichtkondensators C201, sind die äußeren Elektroden 205 an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers 203 in der dritten Richtung D203 angeordnet. Jede der äußeren Elektroden 205 ist auf einer entsprechenden Stirnflächen- 203e -Seite des Bauelementkörpers 203 angeordnet. Die äußere Elektrode 205 umfasst die Elektrodenabschnitte 205a, 205b, 205c und 205e. Der Elektrodenabschnitt 205a ist auf der Hauptfläche 203a und dem Erhöhungsabschnitt 203g angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 205b ist auf dem Erhöhungsabschnitt 203h angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 205c ist auf dem Erhöhungsabschnitt 203i angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 205e ist auf der entsprechenden Stirnfläche 203e angeordnet. Die äußere Elektrode 205 umfasst außerdem Elektrodenabschnitte, die auf den Erhöhungsabschnitten 203j angeordnet sind. Der Elektrodenabschnitt 205c ist auch auf der Seitenfläche 203c angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 205e bedeckt alle bei der Stirnfläche 203e freiliegenden Enden der inneren Elektroden 217. Die innere Elektrode 217 ist direkt mit dem Elektrodenabschnitt 205e verbunden. Die innere Elektrode 217 ist mit dem Paar äußerer Elektroden 205 elektrisch verbunden.
Die erste Elektrodenschicht E1, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten ist, ist derart auf der Stirnfläche 203e ausgebildet, dass sie mit der inneren Elektrode 217 verbunden ist. Die erste Elektrodenschicht E1, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten ist, ist derart ausgebildet, dass sie die gesamte Stirnfläche 203e, den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g, den gesamten Erhöhungsabschnitt 203h und den gesamten Erhöhungsabschnitt 203i bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten ist, ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil der Hauptfläche 203a, einen Teil der Stirnfläche 203e und einen Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c durchgehend bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten ist, ist derart ausgebildet, dass sie den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g, einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203i und einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203j bedeckt. Die zweite Elektrodenschicht E2, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten ist, umfasst Abschnitte, die jeweils dem Teil der Hauptfläche 203a, dem Teil der Stirnfläche 203e, dem Teil von jeder des Paares von Seitenflächen 203c, dem gesamten Erhöhungsabschnitt 203g, dem Teil des Erhöhungsabschnitts 203i und dem Teil des Erhöhungsabschnitts 203j entsprechen. Die erste Elektrodenschicht E1, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten ist, ist direkt mit den inneren Elektroden 217 verbunden.
Die erste Elektrodenschicht E1, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten ist, umfasst ein Gebiet, das mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist, und ein Gebiet, das nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4, die in der äußeren Elektrode 205 enthalten sind, sind derart ausgebildet, dass sie das Gebiet der ersten Elektrodenschicht E1, das nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist, und die zweite Elektrodenschicht E2 bedecken. Die in der äußeren Elektrode 205 enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 umfasst einen Abschnitt, der sich auf der Seitenfläche 203c befindet.
Wie in 76 dargestellt, nimmt beim Vielschichtdurchführungskondensator C203 eine Breite des Gebiets 205c₂ in der dritten Richtung D203 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a (Elektrodenabschnitt 205a) ab, wie es beim Vielschichtkondensator C201 der Fall ist. Eine Breite des Gebiets 205c₂ in der ersten Richtung D201 nimmt mit zunehmendem Abstand von der Stirnfläche 203e (Elektrodenabschnitt 205e) ab. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist eine Stirnkante des Gebiets 205c₂ , aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd bogenförmig. Das Gebiet 205c₂ ist, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd fächerförmig. Wie in 6 dargestellt, nimmt auch bei der vorliegenden Ausführungsform die Breite der zweiten Elektrodenschicht E2, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a ab. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, nimmt eine Länge der zweiten Elektrodenschicht E2 in der ersten Richtung D201 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203e in der dritten Richtung D203 ab. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, nimmt eine Länge des auf der Seitenfläche 203c befindlichen Abschnitts der zweiten Elektrodenschicht E2 in der ersten Richtung D201 mit zunehmendem Abstand vom Endabschnitt des Bauelementkörpers 203 in der dritten Richtung D203 ab. Die Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 ist annähernd bogenförmig.
Die äußere Elektrode 206 ist auf einem zentralen Abschnitt des Bauelementkörpers 203 in der dritten Richtung D203 angeordnet. Die äußere Elektrode 206 befindet sich zwischen dem Paar äußerer Elektroden 205. Die äußere Elektrode 206 umfasst einen Elektrodenabschnitt 206a und ein Paar von Elektrodenabschnitten 206c. Der Elektrodenabschnitt 206a ist auf der Hauptfläche 203a angeordnet. Jeder der Elektrodenabschnitte 206c ist auf der Seitenfläche 203c und den Erhöhungsabschnitten 203j und 203k angeordnet. Die äußere Elektrode 206 ist auf den drei Flächen, d.h. auf der Hauptfläche 203a und dem Paar von Seitenflächen 203c, sowie auf den Erhöhungsabschnitten 203j und 203k ausgebildet. Die aneinander angrenzenden Elektrodenabschnitte 206a und 206c sind verbunden und sie sind elektrisch miteinander verbunden. Der Elektrodenabschnitt 206c bedeckt alle bei der Seitenfläche 203c freiliegenden Enden der inneren Elektroden 219. Die innere Elektrode 219 ist direkt mit dem Elektrodenabschnitt 206c verbunden. Die innere Elektrode 219 ist mit der einen äußeren Elektrode 206 elektrisch verbunden.
Wie in 73, 74 und 75 dargestellt, umfasst die äußere Elektrode 206 auch die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist die äußerste Schicht der äußeren Elektrode 206. Der Elektrodenabschnitt 206a umfasst die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Jeder der Elektrodenabschnitte 206c umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4.
Die im Elektrodenabschnitt 206a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der Hauptfläche 203a angeordnet. Der Elektrodenabschnitt 206a umfasst nicht die erste Elektrodenschicht E1. Die im Elektrodenabschnitt 206a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil der Hauptfläche 203a bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 206a enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist in Kontakt mit der Hauptfläche 203a. Die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4, die im Elektrodenabschnitt 206a enthalten sind, sind derart ausgebildet, dass sie die zweite Elektrodenschicht E2 bedecken. Der Elektrodenabschnitt 206a hat einen dreischichtigen Aufbau.
Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist auf der Seitenfläche 203c und den Erhöhungsabschnitten 203j und 203k angeordnet. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene erste Elektrodenschicht E1 ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil der Seitenfläche 203c, einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203j und einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203k bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist auf der ersten Elektrodenschicht E1, der Seitenfläche 203c und dem Erhöhungsabschnitt 203j angeordnet. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie einen Teil der ersten Elektrodenschicht E1, einen Teil der Seitenfläche 203c und einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203j bedeckt. Der Teil der ersten Elektrodenschicht E1 ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Im Elektrodenabschnitt 206c ist der Teil der ersten Elektrodenschicht E1 in Kontakt mit einem Teil der zweiten Elektrodenschicht E2. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist in Kontakt mit dem Teil der Seitenfläche 203c und dem Teil des Erhöhungsabschnitts 203j. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 umfasst einen Abschnitt, der sich auf der Seitenfläche 203c befindet.
Im Elektrodenabschnitt 206c sind Gebiete in der Seitenfläche 203c mit der ersten Elektrodenschicht E1 bedeckt und der Erhöhungsabschnitt 203j ist mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt, wobei die erste Elektrodenschicht E1 dazwischen liegt. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie den Teil der Seitenfläche 203c und den Teil des Erhöhungsabschnitts 203j mittelbar bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist außerdem derart ausgebildet, dass sie einen Teil der Seitenfläche 203c und einen Teil des Erhöhungsabschnitts 203j direkt bedeckt. Die im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 ist derart ausgebildet, dass sie einen gesamten Abschnitt der auf dem Erhöhungsabschnitt 203g ausgebildeten ersten Elektrodenschicht E1 direkt bedeckt.
Der Elektrodenabschnitt 206c umfasst ein Gebiet 206c₁ und ein Gebiet 206c₂ . Das Gebiet 206c₂ befindet sich näher an der Hauptfläche 203a als das Gebiet 206c₁ . Bei der vorliegenden Ausführungsform umfasst der Elektrodenabschnitt 206c nur zwei Gebiete 206c₁ und 206c₂ . Das Gebiet 206c₁ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 206c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Das Gebiet 206c₁ hat einen dreischichtigen Aufbau. Das Gebiet 206c₂ umfasst die erste Elektrodenschicht E1, die zweite Elektrodenschicht E2, die dritte Elektrodenschicht E3 und die vierte Elektrodenschicht E4. Das Gebiet 206c₂ hat einen vierschichtigen Aufbau. Das Gebiet 206c₁ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Das Gebiet 206c₂ ist das Gebiet, in dem die erste Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt ist.
Die in der äußeren Elektrode 206 enthaltene dritte Elektrodenschicht E3 ist auf der zweiten Elektrodenschicht E2 und der ersten Elektrodenschicht E1 (Bereich der ersten Elektrodenschicht E1, der von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist) mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4 ist auf der dritten Elektrodenschicht E3 mittels eines Plattierungsverfahrens ausgebildet. Wie im Falle der in der äußeren Elektrode 205 enthaltenen ersten Elektrodenschicht E1 ist die in der äußeren Elektrode 206 enthaltene erste Elektrodenschicht E1 nicht vorsätzlich auf dem Paar von Hauptflächen 203a und 203b ausgebildet. Bei der äußeren Elektrode 206 kann die erste Elektrodenschicht E1, beispielsweise aufgrund eines Herstellungsfehlers, unbeabsichtigt auf den Hauptflächen 203a und 203b ausgebildet sein.
Die zweite Elektrodenschicht E2, die in jedem der Elektrodenabschnitte 206a und 206c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die dritte Elektrodenschicht E3, die in jedem der Elektrodenabschnitte 206a und 206c enthalten ist, ist integral ausgebildet. Die vierte Elektrodenschicht E4, die in jedem der Elektrodenabschnitte 206a und 206c enthalten ist, ist integral ausgebildet.
Als Nächstes wird eine Ausgestaltung der äußeren Elektrode 206 beschrieben.
Wie in 76 dargestellt, ist, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, ein nahe der Hauptfläche 203a gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 206c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, kreuzt eine Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 eine Stirnkante E1e der ersten Elektrodenschicht E1. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, ist ein nahe der Hauptfläche 203b gelegenes Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 206c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt.
Wie in 71 dargestellt, nimmt eine Breite des Gebiets 206c₂ in der dritten Richtung D203 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a (Elektrodenabschnitt 206a) ab. Bei der vorliegenden Ausführungsform ist eine Stirnkante des Gebiets 206c₂ , aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd bogenförmig. Das Gebiet 206c₂ ist, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, annähernd halbkreisförmig. Wie in 76 dargestellt, nimmt bei der vorliegenden Ausführungsform die Breite der zweiten Elektrodenschicht E202, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a ab. Aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, ist die Stirnkante E2e der im Gebiet 206c₂ enthaltenen zweiten Elektrodenschicht E2 annähernd bogenförmig.
Der Vielschichtdurchführungskondensator C203 ist ebenfalls auf die elektronische Vorrichtung aufgelötet. Beim Vielschichtdurchführungskondensator C203 ist die Hauptfläche 203a eingerichtet, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden. Die Hauptfläche 203b kann eingerichtet sein, um eine der elektronischen Vorrichtung gegenüberliegende Montagefläche zu bilden. Beim Vielschichtdurchführungskondensator C203 kann die äußere Elektrode 206 nicht den Elektrodenabschnitt 206a umfassen.
Wie im Fall des Vielschichtkondensators C201, weist der Vielschichtdurchführungskondensator C203 die folgenden Wirkungsweisen und Wirkungen auf.
Ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 203 wird unterdrückt und die Zuverlässigkeit der Feuchtigkeitsbeständigkeit ist verbessert. Jede der äußeren Elektroden 205 und jede der inneren Elektroden 217 sind zuverlässig elektrisch miteinander verbunden. Jede der äußeren Elektroden 206 und jede der inneren Elektroden 219 sind zuverlässig elektrisch miteinander verbunden. Es besteht nicht die Neigung, dass sich ein Ablösen der zweiten Elektrodenschicht E2 bis zu einer Position ausbreitet, die der Stirnfläche 203e entspricht. Ein Anstieg des ESR wird unterdrückt.
Der Vielschichtdurchführungskondensator C203 weist außerdem die folgenden Wirkungsweisen und Wirkungen auf.
Was die äußere Elektrode 206 und die äußere Elektrode 205 angeht, ist das, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, nahe der Hauptfläche 203a gelegene Endgebiet der ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 206c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Daher besteht nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der im Gebiet 206c₂ enthaltenen ersten Elektrodenschicht E1 konzentriert. Folglich wird bei dem Vielschichtkondensator C203 ein Auftreten eines Risses im Bauelementkörper 203 unterdrückt.
Was die äußere Elektrode 206 und die äußere Elektrode 205 angeht, kreuzt beim Vielschichtkondensator C203, aus der zweiten Richtung D202 betrachtet, die Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2 die Stirnkante E1e der ersten Elektrodenschicht E1. Die Gesamtheit der ersten Elektrodenschicht E1 ist nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Die erste Elektrodenschicht E1 umfasst das Gebiet, das von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt ist. Daher wird beim Vielschichtkondensator C203 eine Zunahme einer Menge einer zum Ausbilden der zweiten Elektrodenschicht E2 verwendeten leitfähigen Harzpaste unterdrückt.
In dem im Elektrodenabschnitt 206c enthaltenen Gebiet 206c₁ ist die erste Elektrodenschicht E1 von der zweiten Elektrodenschicht E2 freigelegt. Das Gebiet 206c₁ umfasst nicht die zweite Elektrodenschicht E2. Bei dem Gebiet 206c₁ ist die erste Elektrodenschicht E1 mit der elektronischen Vorrichtung elektrisch verbunden, ohne dass über die zweite Elektrodenschicht E2 durchgeleitet wird. Daher wird beim Vielschichtkondensator C203 ein Anstieg des ESR unterdrückt.
Das im Elektrodenabschnitt 206c enthaltene Gebiet 206c₂ umfasst die zweite Elektrodenschicht E2. Daher besteht selbst in einem Fall, in dem die äußere Elektrode 206 den Elektrodenabschnitt 206c umfasst, nicht die Neigung, dass sich die Spannung auf die Stirnkante der äußeren Elektrode 206 konzentriert. Die Stirnkante der äußeren Elektrode 206 ist nicht anfällig dafür, als Ursprung eines Risses zu fungieren. Folglich wird beim Vielschichtkondensator C203 das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 zuverlässig unterdrückt.
Beim Vielschichtkondensator C203 nimmt die Breite des Gebiets 206c₂ in der dritten Richtung D3 mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a ab. Die Breite der zweiten Elektrodenschicht E2 nimmt, aus der zweiten Richtung D2 betrachtet, mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche 203a ab. Daher wird das Auftreten des Risses im Bauelementkörper 203 unterdrückt und die Zunahme der Menge einer zum Ausbilden der zweiten Elektrodenschicht E2 verwendeten leitfähigen Harzpaste wird überdies unterdrückt.
Bei der vorliegenden Erfindung kann die Stirnkante des Gebiets 205c₂ (Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2) annähernd geradlinig sein sowie eine Seitenkante, die sich in der dritten Richtung D203 erstreckt, und eine Seitenkante, die sich in der ersten Richtung D201 erstreckt, aufweisen. Die Stirnkante des Gebiets 206c₂ (Stirnkante E2e der zweiten Elektrodenschicht E2) kann annähernd geradlinig sein sowie eine Seitenkante, die sich in der dritten Richtung D203 erstreckt, und eine Seitenkante, die sich in der ersten Richtung D201 erstreckt, aufweisen.
Die neunte und die zehnte Ausführungsform können wie folgt ausgestaltet sein.
Die erste Elektrodenschicht E1 kann auf der Hauptfläche 203a derart ausgebildet sein, dass sie sich von der Stirnfläche 203e vollständig oder teilweise über den Erhöhungsabschnitt 203g erstreckt. Die erste Elektrodenschicht E1 kann auf der Hauptfläche 203b derart ausgebildet sein, dass sie sich von der Stirnfläche 203e vollständig oder teilweise über den Erhöhungsabschnitt 203g hinaus erstreckt. Die erste Elektrodenschicht E1 kann auf der Seitenfläche 203c derart ausgebildet sein, dass sie sich von der Stirnfläche 203e vollständig oder teilweise über den Erhöhungsabschnitt 203i hinaus erstreckt.
Wie in 77 und 78 dargestellt, kann die erste Elektrodenschicht E1 beispielsweise auf jeder der Hauptflächen 203a und 203b und jeder der Seitenflächen 203c ausgebildet sein. In 77 und 78 ist die erste Elektrodenschicht E1 derart auf der Hauptfläche 203a ausgebildet, dass sie sich von der Stirnfläche 203e über den gesamten Erhöhungsabschnitt 203g erstreckt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist derart auf der Hauptfläche 203b ausgebildet, dass sie sich von der Stirnfläche 203e über den gesamten Erhöhungsabschnitt 203h hinaus erstreckt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist derart auf der Hauptfläche 203c ausgebildet, dass sie sich von der Stirnfläche 203e über den gesamten Erhöhungsabschnitt 203i hinaus erstreckt. Bei der in 77 und 78 dargestellten Abwandlung ist, wie in 77 dargestellt, eine Gesamtheit des Abschnitts der auf der Hauptfläche 203 ausgebildeten ersten Elektrodenschicht E1 mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Wie in 78 dargestellt, ist ein Teil des Abschnitts der auf der Seitenfläche 203c ausgebildeten ersten Elektrodenschicht E1 (im Gebiet 205c₂ enthaltene erste Elektrodenschicht E1) mit der zweiten Elektrodenschicht E2 bedeckt. Die auf jeder der Hauptflächen 203a und 203b und jeder der Seitenflächen 203c ausgebildete erste Elektrodenschicht E1 ist mit der dritten Elektrodenschicht E3 und der vierten Elektrodenschicht E4 bedeckt.
Die Plattierungsschicht (dritte und vierte Elektrodenschichten E3 und E4) bedeckt mittelbar den Abschnitt der ersten Elektrodenschicht E1, der auf der Hauptfläche 203a ausgebildet ist, und die erste Elektrodenschicht E1, die im Gebiet 205c₂ enthalten ist, wobei die zweite Elektrodenschicht E2 dazwischen liegt. Die Plattierungsschicht (dritte und vierte Elektrodenschichten E3 und E4) bedeckt direkt den Abschnitt der ersten Elektrodenschicht E1, der auf der Hauptfläche 203b ausgebildet ist, und einen Teil des Abschnitts der ersten Elektrodenschicht E1, der auf der Seitenfläche 203c ausgebildet ist (im Gebiet 205c₁ enthaltene erste Elektrodenschicht E1). Der auf der Hauptfläche 203a angeordnete Elektrodenabschnitt hat einen vierschichtigen Aufbau. Der auf der Hauptfläche 203b angeordnete Elektrodenabschnitt hat einen dreischichtigen Aufbau. Der auf dem Gebiet nahe der Hauptfläche 203b in der Seitenfläche 203c angeordnete Elektrodenabschnitt hat einen dreischichtigen Aufbau. Der auf dem Gebiet nahe der Hauptfläche 203a in der Seitenfläche 203c angeordnete Elektrodenabschnitt hat einen vierschichtigen Aufbau. Der auf dem Gebiet nahe der Hauptfläche 203b in der Stirnfläche 203e angeordnete Elektrodenabschnitt hat einen dreischichtigen Aufbau. Der auf dem Gebiet nahe der Hauptfläche 203a in der Stirnfläche 203e angeordnete Elektrodenabschnitt hat einen vierschichtigen Aufbau.
Die Anzahl der inneren Elektroden 207 und 209, die in dem Vielschichtkondensator C201 oder C202 enthalten sind, ist nicht auf die Anzahl der inneren Elektroden 207 und 209 beschränkt, die in 59 und 61 dargestellt sind. Die Anzahl der inneren Elektroden 217 und 219, die in dem Vielschichtdurchführungskondensator C203 enthalten sind, ist nicht auf die Anzahl der inneren Elektroden 217 und 219 beschränkt, die in 73 und 75 dargestellt sind. Beim Vielschichtkondensator C201 oder C202 kann die Anzahl der inneren Elektroden, die mit einer äußeren Elektrode 205 (erste Elektrodenschicht E1) verbunden sind, eins betragen. Beim Vielschichtdurchführungskondensator C203 kann die Anzahl der inneren Elektroden, die mit einem Paar äußerer Elektroden 205 (erste Elektrodenschicht E1) verbunden sind, eins betragen. Die Anzahl der inneren Elektroden, die mit einem Paar äußerer Elektroden 206 (erste Elektrodenschicht E1) verbunden sind, kann eins betragen.
Als Nächstes werden Ausgestaltungen von Vielschichtkondensatoren gemäß Abwandlungen der neunten Ausführungsform mit Bezug auf 79 und 80 beschrieben. 79 und 80 sind stirnseitige Ansichten, die einen Bauelementkörper, eine erste Elektrodenschicht und eine zweite Elektrodenschicht darstellen. Bei den in 79 und 80 dargestellten Abwandlungen unterscheidet sich eine Form der zweiten Elektrodenschicht E2, die im Gebiet 205e₂ enthalten ist, von der des Vielschichtkondensators C201.
Bei dem in 79 dargestellten Vielschichtkondensator besteht die im Gebiet 205e₂ enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 aus einer Vielzahl von Abschnitten E2₁ und E2₂ . Bei der vorliegenden Abwandlung besteht die im Gebiet 205e₂ enthaltene zweite Elektrodenschicht E2 aus zwei Abschnitten E2₁ und E2₂ . Die Abschnitte E2₁ und E2₂ sind sämtlich voneinander getrennt. Die erste Elektrodenschicht E1 ist zwischen dem Abschnitt E2₁ und dem Abschnitt E2₂ freigelegt. Die Vielzahl innerer Elektroden 207 und 209 umfasst eine innere Elektrode, die ein Ende umfasst, das sich, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 (Abschnitte E2₁ und E2₂ ) überschneidet. Die Anzahl der inneren Elektroden, die das eine Ende umfassen, das sich nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 (Abschnitte E2₁ und E2₂ ) überschneidet, kann eins oder mehr betragen. Die zweite Elektrodenschicht E2, die im Gebiet 205e₂ enthalten ist, kann aus drei oder mehr Abschnitten bestehen.
Bei dem in 80 dargestellten Vielschichtkondensator überschneidet sich die im Gebiet 205e₂ enthaltene zweite Elektrodenschicht E2, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, nicht mit den einen Enden aller inneren Elektroden 207 und 209. Alle inneren Elektroden 207 und 209 sind innere Elektroden, die ein Ende umfassen, das sich, aus der dritten Richtung D203 betrachtet, nicht mit der zweiten Elektrodenschicht E2 (Abschnitte E2₁ und E2₂ ) überschneidet.
Beispielsweise offenbaren die neunte und die zehnte Ausführungsform die folgenden Anmerkungen.
(Anmerkung 1)
Ein elektronisches Bauelement umfasst
einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds, der eine erste Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, eine der ersten Hauptfläche in einer ersten Richtung gegenüberliegende zweite Hauptfläche, ein Paar einander in einer zweiten Richtung gegenüberliegender Seitenflächen und ein Paar einander in einer dritten Richtung gegenüberliegender Stirnflächen umfasst, und
äußere Elektroden, die an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers in der dritten Richtung angeordnet sind.
Die äußere Elektrode umfasst eine leitfähige Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche befindet.
Aus der zweiten Richtung betrachtet, nimmt eine Länge der leitfähigen Harzschicht in der ersten Richtung mit zunehmendem Abstand von dem entsprechenden Endabschnitt in der dritten Richtung ab.
(Anmerkung 2)
Elektronisches Bauelement nach Anmerkung 1, wobei
eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht, aus der zweiten Richtung betrachtet, annähernd bogenförmig ist.
(Anmerkung 3)
Elektronisches Bauelement nach Anmerkung 1, wobei
eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht, aus der zweiten Richtung betrachtet, annähernd geradlinig ist.
(Anmerkung 4)
Elektronisches Bauelement nach einer der Anmerkungen 1 bis 3, wobei
sich die leitfähige Harzschicht auf der ersten Hauptfläche und auf der Stirnfläche befindet.
(Anmerkung 5)
Elektronisches Bauelement nach Anmerkung 4, wobei
die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet ist, dass sie einen Teil der ersten Hauptfläche, einen Teil der Stirnfläche, einen Teil der Seitenfläche, einen Teil eines Erhöhungsabschnitts, der sich zwischen der ersten Hauptfläche und der Seitenfläche befindet, und einen gesamten Erhöhungsabschnitt, der sich zwischen der ersten Hauptfläche und der Stirnfläche befindet, bedeckt.
(Anmerkung 6)
Das elektronische Bauelement nach einer der Anmerkungen 1 bis 5 umfasst einen Innenleiter, der zur entsprechenden Stirnfläche hin freigelegt ist.
Die äußere Elektrode umfasst ferner eine Sintermetallschicht, die derart auf der Stirnfläche ausgebildet ist, dass sie mit dem Innenleiter verbunden ist.
(Anmerkung 7)
Elektronisches Bauelement nach Anmerkung 6, wobei
die Sintermetallschicht ein erstes Gebiet, das mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt ist, und ein zweites Gebiet umfasst, das von der leitfähigen Harzschicht freigelegt ist.
(Anmerkung 8)
Elektronisches Bauelement nach Anmerkung 7, wobei
die äußere Elektrode ferner eine Plattierungsschicht umfasst, die derart ausgebildet ist, dass sie die leitfähige Harzschicht und das in der Sintermetallschicht enthaltene zweite Gebiet bedeckt.
Obwohl die bevorzugten Ausführungsformen und Abwandlungen der vorliegenden Erfindung oben beschrieben wurden, ist die vorliegende Erfindung nicht zwangsläufig auf die oben beschriebenen Ausführungsformen und Abwandlungen beschränkt, und es können vielfältige Abwandlungen vorgenommen werden, ohne vom Kern der Erfindung abzuweichen.
Bei den oben beschriebenen Ausführungsformen und Abwandlungen sind die Vielschichtkondensatoren C1, C2, C4, C5, C103 und C201 und die Vielschichtdurchführungskondensatoren C3, C6, C7, C101 und C203 beispielhaft als elektronische Bauelemente dargestellt, doch sind die anwendbaren elektronischen Bauelemente nicht auf Vielschichtkondensatoren und Vielschichtdurchführungskondensatoren beschränkt. Anwendbare elektronische Bauelemente sind beispielsweise vielschichtige elektronische Bauelemente wie Vielschichtinduktivitäten, Vielschichtvaristoren, Vielschichtpiezoaktoren, Vielschichtthermistoren, vielschichtige Verbundbauelemente oder dergleichen oder andere elektronische Bauelemente als vielschichtige elektronische Bauelemente.
Gewerbliche Anwendbarkeit
Die vorliegende Erfindung kann für einen Vielschichtkondensator oder einen Vielschichtdurchführungskondensator verwendet werden.
Bezugszeichenliste

3: Bauelementkörper
3a, 3b: Hauptfläche
3c, 3e: Seitenfläche
5, 13, 15, 21, 31: äußere Elektrode
5a, 5b, 5c, 5e, 13a, 13b, 13c, 13e, 15a, 15b, 15c, 21a, 21b, 21c, 31a, 31b, 31c, 31e: Elektrodenabschnitt
5c₁, 5c₂, 5e₁, 5e₂, 13c₁, 13c₂, 13e₁, 13e₂, 15c₁, 15c₂, 21c₁, 21c₂, 31c₁, 31c₂, 31e₁, 31e₂: Gebiet, das im Elektrodenabschnitt enthalten ist
C1, C2, C4, C5: Vielschichtkondensator
C3, C5, C7: Vielschichtdurchführungskondensator
E1: erste Elektrodenschicht
E2: zweite Elektrodenschicht
E3: dritte Elektrodenschicht
E4: vierte Elektrodenschicht
ECD1: elektronische Bauelementevorrichtung
ED: elektronische Vorrichtung
PE1, PE2: Anschlusselektrode
SF: Lötkehle.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

JP S58175817 [0003]

Claims

Elektronisches Bauelement, umfassend: einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds, der eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, und eine erste Seitenfläche umfasst, die an die Hauptfläche angrenzt; und eine äußere Elektrode, die einen auf der Hauptfläche angeordneten ersten Elektrodenabschnitt, und einen zweiten Elektrodenabschnitt umfasst, der auf der ersten Seitenfläche angeordnet und mit dem ersten Elektrodenabschnitt verbunden ist, wobei der erste Elektrodenabschnitt eine Sintermetallschicht, eine leitfähige Harzschicht, die auf der Sintermetallschicht ausgebildet ist, und eine Plattierungsschicht umfasst, die auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildet ist, der zweite Elektrodenabschnitt Folgendes umfasst: ein erstes Gebiet, das eine Sintermetallschicht und eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete Plattierungsschicht umfasst, und ein zweites Gebiet, das eine Sintermetallschicht, eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete leitfähige Harzschicht und eine auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildete Plattierungsschicht umfasst, und das zweite Gebiet näher bei der Hauptfläche liegt als das erste Gebiet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 1, wobei ein Verhältnis einer Länge des zweiten Gebiets in einer zur Hauptfläche orthogonalen Richtung zu einer Länge des Bauelementkörpers in der zur Hauptfläche orthogonalen Richtung größer oder gleich 0,2 ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Bauelementkörper ferner eine zweite Seitenfläche umfasst, die an die Hauptfläche und die erste Seitenfläche angrenzt, die äußere Elektrode ferner einen dritten Elektrodenabschnitt umfasst, der in der zweiten Seitenfläche angeordnet und mit dem ersten Elektrodenabschnitt verbunden ist, und der dritte Elektrodenabschnitt Folgendes umfasst: ein drittes Gebiet, das eine Sintermetallschicht und eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete Plattierungsschicht umfasst, und ein viertes Gebiet, das eine Sintermetallschicht, eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete leitfähige Harzschicht und eine auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildete Plattierungsschicht umfasst, und das vierte Gebiet näher bei der Hauptfläche liegt als das dritte Gebiet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 3, wobei ein Verhältnis einer Länge des vierten Gebiets in der zur Hauptfläche orthogonalen Richtung zu einer Länge des Bauelementkörpers in der zur Hauptfläche orthogonalen Richtung größer oder gleich 0,2 ist.
Elektronisches Bauelement, umfassend: das elektronische Bauelement nach einem der Ansprüche 1 bis 4; und eine elektronische Vorrichtung, die eine Anschlusselektrode umfasst, die über eine Lötkehle mit der äußeren Elektrode verbunden ist, wobei die Lötkehle auf dem ersten Gebiet und dem zweiten Gebiet ausgebildet ist, die im zweiten Elektrodenabschnitt enthalten sind.
Elektronisches Bauelement, umfassend: einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds, der eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, und eine Seitenfläche umfasst, die an die Hauptfläche angrenzt; und eine äußere Elektrode, die einen auf der Seitenfläche angeordneten Elektrodenabschnitt umfasst, wobei der Elektrodenabschnitt Folgendes umfasst: ein erstes Gebiet, das eine auf der Seitenfläche ausgebildete Sintermetallschicht und eine auf der Sintermetallschicht ausgebildete Plattierungsschicht umfasst, und ein zweites Gebiet, das eine auf der Seitenfläche ausgebildete Sintermetallschicht, eine über der Sintermetallschicht und der Seitenfläche ausgebildete leitfähige Harzschicht und eine auf der leitfähigen Harzschicht ausgebildete Plattierungsschicht umfasst, und das zweite Gebiet näher bei der Hauptfläche liegt als das erste Gebiet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 6, wobei das zweite Gebiet Folgendes umfasst: einen ersten Abschnitt, in dem die leitfähige Harzschicht auf der Sintermetallschicht ausgebildet ist, und einen zweiten Abschnitt, in dem die leitfähige Harzschicht auf der Seitenfläche ausgebildet ist, und wobei eine Breite des zweiten Abschnitts mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche stetig abnimmt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 7, wobei eine Stirnkante des zweiten Abschnitts, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, gekrümmt ist.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 6 bis 8, wobei eine Stirnkante des zweiten Gebiets, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, annähernd bogenförmig ist.
Elektronisches Bauelement, umfassend: einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds, der eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, ein Paar einander gegenüberliegender und an die Hauptfläche angrenzender Stirnflächen und eine an das Paar von Stirnflächen und die Hauptfläche angrenzende Seitenfläche umfasst; und äußere Elektroden, die an jedem Endabschnitt des Bauelementkörpers in einer Richtung angeordnet sind, in der sich die zwei Stirnflächen gegenüberliegen, wobei die äußere Elektrode eine Sintermetallschicht und eine leitfähige Harzschicht umfasst, die über der Sintermetallschicht und dem Bauelementkörper ausgebildet ist, aus einer zur Hauptfläche orthogonalen Richtung betrachtet, eine Gesamtheit der Sintermetallschicht mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt ist, und ein nahe der Hauptfläche gelegenes Randgebiet der Sintermetallschicht mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt ist und eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, eine Stirnkante der Sintermetallschicht kreuzt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 10, wobei die äußere Elektrode einen ersten Elektrodenabschnitt, der auf der Seitenfläche angeordnet ist, und einen Erhöhungsabschnitt umfasst, der zwischen der Stirnfläche und der Seitenfläche angeordnet ist, der erste Abschnitt Folgendes umfasst: ein erstes Gebiet, in dem die Sintermetallschicht von der leitfähigen Harzschicht freigelegt ist, und ein zweites Gebiet, in dem die Sintermetallschicht mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt ist, das zweite Gebiet näher bei der Hauptfläche liegt als das erste Gebiet, und eine Breite des zweiten Abschnitts in der Richtung, in der sich die zwei Seitenflächen gegenüberliegen, mit zunehmendem Abstand von der Hauptfläche abnimmt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 11, wobei eine Stirnkante des zweiten Gebiets, aus der zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, annähernd bogenförmig ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 11, wobei eine Stirnkante des zweiten Abschnitts, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, annähernd geradlinig ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 11, wobei eine Stirnkante des zweiten Abschnitts, aus einer zur Seitenfläche orthogonalen Richtung betrachtet, zwei einander kreuzende Seitenkanten aufweist.
Elektronisches Bauelement, umfassend: einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds, der eine Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, ein Paar einander gegenüberliegender und an die Hauptfläche angrenzender Stirnflächen und ein Paar einander gegenüberliegender und an das Paar von Stirnflächen und die Hauptfläche angrenzender Seitenflächen umfasst; und äußere Elektroden, die an jedem Endabschnitt des Bauelementkörpers in einer Richtung angeordnet sind, in der sich die zwei Stirnflächen gegenüberliegen, wobei die äußere Elektrode eine leitfähige Harzschicht umfasst, die derart ausgebildet ist, dass sie einen Teil der ersten Hauptfläche, einen Teil der Stirnfläche und einen Teil von jeder des Paares von Seitenflächen durchgehend bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 15, ferner umfassend: einen Innenleiter, der zur entsprechenden Stirnfläche hin freigelegt ist, wobei die äußere Elektrode ferner eine Sintermetallschicht umfasst, die derart auf der Stirnfläche ausgebildet ist, dass sie mit dem Innenleiter verbunden ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 16, wobei die Sintermetallschicht ein erstes Gebiet, das mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt ist, und ein zweites Gebiet umfasst, das von der leitfähigen Harzschicht freigelegt ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 16 oder 17, wobei die Sintermetallschicht außerdem auf einem ersten Erhöhungsabschnitt, der sich zwischen der Stirnfläche und der Seitenfläche befindet, und einem zweiten Erhöhungsabschnitt ausgebildet ist, der sich zwischen der Stirnfläche und der ersten Hauptfläche befindet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 18, wobei die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet ist, dass sie einen Teil eines Abschnitts der auf dem ersten Erhöhungsabschnitt ausgebildeten Sintermetallschicht und eine Gesamtheit eines Abschnitts der auf dem zweiten Erhöhungsabschnitt ausgebildeten Sintermetallschicht bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 19, wobei eine Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche und dem ersten Erhöhungsabschnitt befindet, größer ist als eine Fläche der Sintermetallschicht, die sich auf dem ersten Erhöhungsabschnitt befindet, und eine Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet, kleiner ist als eine Fläche der Sintermetallschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 19 oder 20, wobei ein Teil des Abschnitts der Sintermetallschicht, die auf dem ersten Erhöhungsabschnitt ausgebildet ist, von der leitfähigen Harzschicht freigelegt ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 21, wobei die Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche und dem ersten Erhöhungsabschnitt befindet, größer ist als eine Fläche des Teils des Abschnitts der Sintermetallschicht, die auf dem ersten Erhöhungsabschnitt ausgebildet ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 19, wobei die Fläche der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet, kleiner ist als eine Fläche eines von der leitfähigen Harzschicht freigelegten Gebiets in der Sintermetallschicht, die sich auf der Stirnfläche und dem zweiten Erhöhungsabschnitt befindet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 17, wobei die äußere Elektrode eine Plattierungsschicht umfasst, die derart ausgebildet ist, dass sie die leitfähige Harzschicht und das in der Sintermetallschicht enthaltene zweite Gebiet bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 15 bis 24, wobei, aus einer zur Stirnfläche orthogonalen Richtung betrachtet, eine Höhe der leitfähigen Harzschicht die Hälfte einer Höhe des Bauelementkörpers oder weniger beträgt.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 15 bis 25, wobei der Bauelementkörper ferner eine zweite Hauptfläche umfasst, die der ersten Hauptfläche, die eingerichtet ist, um die Montagefläche zu bilden, gegenüberliegt, und die zweite Hauptfläche von der leitfähigen Harzschicht freigelegt ist.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 15 bis 26, wobei die leitfähige Harzschicht in Kontakt mit einem Erhöhungsabschnitt ist, der sich zwischen der ersten Hauptfläche und der Seitenfläche befindet.
Elektronisches Bauelement, umfassend: einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds, der eine erste Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, eine der ersten Hauptfläche in einer ersten Richtung gegenüberliegende zweite Hauptfläche, ein Paar einander in einer zweiten Richtung gegenüberliegender Seitenflächen und ein Paar einander in einer dritten Richtung gegenüberliegender Stirnflächen umfasst; eine Vielzahl innerer Elektroden, die in dem Bauelementkörper angeordnet sind, wobei die vielen inneren Elektroden einander in der zweiten Richtung gegenüberliegen und ein zur entsprechenden Stirnfläche hin freigelegtes Ende umfassen; und äußere Elektroden, die an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers in der dritten Richtung angeordnet und mit der entsprechenden inneren Elektrode verbunden sind, wobei die äußere Elektrode eine leitfähige Harzschicht umfasst, die derart ausgebildet ist, dass sie einen Abschnitt nahe der ersten Hauptfläche in der Stirnfläche bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 28, wobei das eine Ende der inneren Elektrode, aus der dritten Richtung betrachtet, ein erstes Gebiet, das sich mit der leitfähigen Harzschicht überschneidet, und ein zweites Gebiet umfasst, das sich nicht mit der leitfähigen Harzschicht überschneidet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 29, wobei eine Länge des ersten Gebiets an dem einen Ende der inneren Elektrode in der ersten Richtung kleiner ist als eine Länge des zweiten Gebiets an dem einen Ende der inneren Elektrode in der ersten Richtung.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 29 oder 30, wobei die äußere Elektrode eine Sintermetallschicht umfasst, die derart auf der Stirnfläche ausgebildet ist, dass sie mit dem zweiten Gebiet des einen Endes der inneren Elektrode verbunden ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 31, wobei die Vielzahl innerer Elektroden eine Vielzahl von ersten inneren Elektroden, die an einer des Paares von Stirnflächen freigelegt sind, und eine Vielzahl von zweiten inneren Elektroden umfasst, die an einer anderen des Paares von Stirnflächen freigelegt sind, und die einen Enden von allen ersten inneren Elektroden und die einen Enden von allen zweiten inneren Elektroden mit den jeweiligen Sintermetallschichten verbunden sind.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 31 oder 32, wobei die äußere Elektrode ferner eine Plattierungsschicht umfasst, die derart ausgebildet ist, dass sie die leitfähige Harzschicht und die Sintermetallschicht bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 28, wobei sich eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht und das eine Ende der inneren Elektrode, aus der dritten Richtung betrachtet, kreuzen.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 28 bis 34, wobei die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet ist, dass sie auch einen Abschnitt nahe der Stirnfläche in der ersten Hauptfläche bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 28 bis 35, wobei die leitfähige Harzschicht derart ausgebildet ist, dass sie auch einen Abschnitt nahe der Stirnfläche in der Seitenfläche bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 36, wobei ein Abschnitt der leitfähigen Harzschicht, die sich auf der Seitenfläche befindet, der inneren Elektrode, die eine andere Polarität als der Abschnitt hat, in der zweiten Richtung gegenüberliegt.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 28 bis 37, wobei die leitfähige Harzschicht nicht auf der zweiten Hauptfläche ausgebildet ist.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 28 bis 38, wobei ein Abstand zwischen der Seitenfläche und der der Seitenfläche am nächsten liegenden inneren Elektrode in der zweiten Richtung größer ist als ein Abstand zwischen der ersten Hauptfläche und der inneren Elektrode in der ersten Richtung sowie größer als ein Abstand zwischen der zweiten Hauptfläche und der inneren Elektrode in der ersten Richtung.
Elektronisches Bauelement, umfassend: einen Bauelementkörper mit der Form eines rechteckigen Parallelepipeds, der eine erste Hauptfläche, die eingerichtet ist, um eine Montagefläche zu bilden, eine der ersten Hauptfläche in einer ersten Richtung gegenüberliegende zweite Hauptfläche, ein Paar einander in einer zweiten Richtung gegenüberliegender Seitenflächen und ein Paar einander in einer dritten Richtung gegenüberliegender Stirnflächen umfasst; und äußere Elektroden, die an beiden Endabschnitten des Bauelementkörpers in der dritten Richtung angeordnet sind, wobei die äußere Elektrode eine leitfähige Harzschicht umfasst, die sich auf der Seitenfläche befindet, und aus der zweiten Richtung betrachtet, eine Länge der leitfähigen Harzschicht in der ersten Richtung mit zunehmendem Abstand von der entsprechenden Seitenfläche in der dritten Richtung abnimmt.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 40, wobei eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht, aus der zweiten Richtung betrachtet, annähernd bogenförmig ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 40, wobei eine Stirnkante der leitfähigen Harzschicht, aus der zweiten Richtung betrachtet, annähernd geradlinig ist.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 40 bis 42, wobei sich die leitfähige Harzschicht auch auf der Hauptfläche und der Stirnfläche befindet.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 43, wobei die leitfähige Harzschicht derart integral ausgebildet ist, dass sie einen Teil der ersten Hauptfläche, einen Teil der Stirnfläche, einen Teil der Seitenfläche, einen Teil eines Erhöhungsabschnitts, der sich zwischen der ersten Hauptfläche und der Seitenfläche befindet, und eine Gesamtheit eines Erhöhungsabschnitts, der sich zwischen der ersten Hauptfläche und der Stirnfläche befindet, bedeckt.
Elektronisches Bauelement nach einem der Ansprüche 40 bis 44, ferner umfassend: einen Innenleiter, der zur entsprechenden Stirnfläche hin freigelegt ist, wobei die äußere Elektrode ferner eine Sintermetallschicht umfasst, die derart auf der Stirnfläche ausgebildet ist, dass sie mit dem Innenleiter verbunden ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 45, wobei die Sintermetallschicht ein erstes Gebiet, das mit der leitfähigen Harzschicht bedeckt ist, und ein zweites Gebiet umfasst, das von der leitfähigen Harzschicht freigelegt ist.
Elektronisches Bauelement nach Anspruch 46, wobei die äußere Elektrode eine Plattierungsschicht umfasst, die derart ausgebildet ist, dass sie die leitfähige Harzschicht und das in der Sintermetallschicht enthaltene zweite Gebiet bedeckt.