DE1055912B - Saure galvanische Kupferbaeder - Google Patents
Saure galvanische KupferbaederInfo
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- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 20
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims description 20
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 title claims description 7
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000000852 azido group Chemical group *N=[N+]=[N-] 0.000 claims description 3
- 239000004129 EU approved improving agent Substances 0.000 claims 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 6
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 6
- -1 2,3 - Diazido - butanesulfonic acid Chemical compound 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- JUINSXZKUKVTMD-UHFFFAOYSA-N hydrogen azide Chemical compound N=[N+]=[N-] JUINSXZKUKVTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008053 sultones Chemical class 0.000 description 2
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 1,3-Propane sultone Chemical compound O=S1(=O)CCCO1 FSSPGSAQUIYDCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFGHAIRCQHVZNZ-UHFFFAOYSA-N 3-azido-2-hydroxypropane-1-sulfonic acid Chemical compound N(=[N+]=[N-])CC(CS(=O)(=O)O)O QFGHAIRCQHVZNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBRIOBHILRGDPP-UHFFFAOYSA-N 3-azidopropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CCCN=[N+]=[N-] DBRIOBHILRGDPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKZNWRUUTQNYTH-UHFFFAOYSA-N 4-azidobenzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=C(N=[N+]=[N-])C=C1 ZKZNWRUUTQNYTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical class [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 125000004915 dibutylamino group Chemical group C(CCC)N(CCCC)* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
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Description
Z O Γ
DEUTSCHES
kl. 48 a 6/07
INTERNAT. KL. C 23 b
PATENTAMT
C2i>ü
3-38
D 27038 VI/48a
ANMELDETAG: 17. DEZEMBER 1957
BEKANNTMACHUNG
DER ANMELDUNG
UND AUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT:
DER ANMELDUNG
UND AUSGABE DER
AUSLEGESCHRIFT:
2 3. APRIL 1959
Saure galvanische Kupferbäder, die gewöhnlich mit organischen Zusätzen betrieben werden, zeigen vielfach
den Nachteil einer erheblichen Anodenschlammbildung. Dieser Schlamm besteht aus feindispersen Kupferpartikelchen,
welche auf elektrophoretischem Wege auch auf die zu verkupfernden Gegenstände gelangen und die Güte
der erzeugten Kupferüberzüge erheblich beeinträchtigen. Durch die Anwesenheit dieser feinen Teilchen wird die
typisch blaue Farbe der sauren Kupferbäder grün verfärbt.
Man hat versucht, das Auftreten des Schlammes in der Weise zu vermeiden, daß man besonders legierte (phosphorhaltige)
Kupferanoden verwendete. Ferner hat man versucht, vorhandene Verunreinigungen dadurch zu
beseitigen, daß man die Bäder über Filteraggregate ständig filtrierte und/oder die Anoden mit Filtersäcken
umgab. Trotz dieser Maßnahmen ist jedoch nicht zu vermeiden, daß geringe kolloide Verunreinigungen im
Kupferbad verbleiben. Auch ist vorgeschlagen worden, durch Einblasen von Luft oder durch Zusatz von Oxydationsmitteln,
z. B. Wasserstoffperoxyd, die vorhandenen Badverunreinigungen zu beseitigen.
Durch Einblasen von Luft werden die Verunreinigungen zwar zu Kupfer-(II)-verbindungen oxydiert, die
durch die Badschwefelsäure wieder in Kupfersulfat übergeführt werden, doch ist dieses Verfahren in den meisten
Fällen, vor allem wenn die Kupferbäder mit Netzmitteln betrieben werden, wegen der starken Schaumbildung
nicht empfehlenswert. Ein Zusatz von Wasserstoffperoxyd führt in kurzer Zeit zur Zerstörung der Verunreinigungen,
doch hat diese Maßnahme den Nachteil, daß dabei die Kupferüberzüge verspröden und daß der anwendbare
Stromdichtebereich stark beeinträchtigt wird. Aus diesem Grunde muß bei einer mit Wasserstoffperoxyd
durchgeführten Regenerierung das Kupferbad längere Zeit außer Betrieb gesetzt werden, bis das gesamte Wasserstoff
peroxyd zersetzt ist.
Alle die geschilderten Maßnahmen erschweren den Betrieb der sauren Kupferbäder erheblich und erfordern
zusätzliche Arbeit bzw. zusätzliche technische Einrichtungen.
Es wurde nun gefunden, daß man alle diese Nachteile vermeiden kann, wenn man den sauren Kupferbädern
organische, wenigstens eine Azidogruppe im Molekül enthaltende Sulfonsäuren bzw. deren Salze zusetzt. Dieser
Zusatz bewirkt, daß die Bäder selbst bei starker Beanspruchung über die gesamte Betriebsdauer tiefblau gefärbt
und klar bleiben und keinen Schlamm absetzen, während Bäder, die ohne diese Zusätze betrieben werden,
nach 2 bis 4 Ah/1 grün aussehen und nach einer weiteren Zeitspanne Anodenschlamm absetzen.
Gleichzeitig besitzen die neuen Produkte auch eine gewisse Glanzwirkung. Der Glanz kann verbessert
werden, wenn man in den Bädern noch zusätzlich Saure galvanische Kupferbäder
Anmelder:
DEHYDAG Deutsche Hydrierwerke
DEHYDAG Deutsche Hydrierwerke
G.m.b.H.,
Düsseldorf, Henkelstr. 67
Düsseldorf, Henkelstr. 67
Dr. Wennemar Strauss und Dr. Wolf-Dieter Willmund,
Düsseldorf-Holthausen,
sind als Erfinder genannt worden
sind als Erfinder genannt worden
bekannte Glanzmittel verwendet. Als Glanzmittel kommen unter anderem in Betracht: Thioharnstoffe und
seine Derivate, N-mono- bzw. disubstituierte Dithiocarb-
aminsäurealkylester-co-sulfonsäuren bzw. deren Salze,
1 ^,S-Triazin^Ao-tris-fmercaptoalkansulfonsäuren). Des
weiteren kann man übliche Netzmittel und/oder auch bekannte Verbindungen zusetzen, die die Duktilität der
Überzüge verbessern.
Als organische, wenigstens eine Azidogruppe im Molekül enthaltende Sulfonsäuren seien beispielsweise genannt:
3 - Azido - propansulfonsäure -1,4- Azido - butansulfonsäure-1, l-Azido-l,l-dimethyl-propansulfonsäure-3, 3-Azido
- 2 - hydroxy - propansulfonsäure -1,3 - Azido - 2-halogen-
propansulfonsäuren-1, 2,3-Diazido-propansulfonsäure-l,
2,3 - Diazido - butansulf onsäure -1, 8 - Azido - naphthalinsulfonsäure-1,
4-Azido-benzolsulfonsäure, 2-(Azidomethyl)-benzolsulf
onsäure.
Diese Verbindungen lassen sich nach bekannten Ver-
fahren dadurch herstellen, daß man z. B. Sultone, wie Propansulton, Tolylsulton, 1,8-Naphthsulton, mit Stickstoffwasserstoffsäure
oder deren Salzen (Aziden) umsetzt oder daß man auf Stickstoffwasserstoffsäure oder deren
Salze halogensubstituierte organische Sulfonsäuren zur
+5 Einwirkung bringt.
Üblicherweise gelangen die Säuren in Form ihrer wasserlöslichen Salze zur Anwendung. Als salzbildende Komponenten
kommen anorganische oder organische Basen, beispielsweise die Alkalimetalle, Ammoniak, Dialkyl-
amine oder Dialkanolamine in Betracht.
Die erfindungsgemäßen Verbindungen werden den sauren Kupferbädern in Mengen von 0,05 bis 4,5 g/l, vorzugsweise
von 0,2 bis 0,8 g/l, zugesetzt. Die Betriebstemperaturen solcher Bäder, die gewöhnlich in Strom-
dichtebereichen von ~ 0 bis 12,5 Amp/dm2 betrieben werden, dürfen in weiten Grenzen bis etwa 600C variieren.
Versetzt man ein saures Kupferbad, welches 220 g/l CuSO4- 5H30,60 g/l H2SO4, 0,05 g/l Ν,Ν-diäthyl-dithiocarbaminsäureäthylester
- ω - sulfonsaures Natrium als
Glanzmittel, 0,25 g/l l,3-Bis-(dibutylamino)-propanol-2 als duktilitätsverbesserndes Mittel und 1 g/l eines Umsetzungsproduktes
aus Dodecylalkohol mit 8 Mol Äthylenoxyd als Netzmittel enthält, mit 0,5 g/l ω-azido-propansulfonsaurem
Natrium, so erhält man bei der elektrolytischen Verkupferung von Gegenständen aus Messing,
Bronze, Eisen oder Stahl hochglänzende Kupferüberzüge. Es kann im Temperaturbereich von etwa 15 bis etwa
50° C gearbeitet werden. Die anwendbaren Stromdichten liegen bei 15°C zwischen ~ 0 und 4,5 Amp/dm2, bei 25°C
zwischen ~ 0 und 8 Amp/dm2 und bei 5O0C zwischen ~ 1
und 12,5 Amp/dm2. Das Kupferbad verfärbt sich selbst nach langem Arbeiten nicht und behält seine blaue Farbe.
Eine Schlammbildung an den Kupferanoden tritt nicht auf. Es sind weder Umpumpfilter noch Anodensäcke
erforderlich.
Ohne den Zusatz von co-azido-propansulfonsaurem
Natrium muß kontinuierlich umgepumpt und filtriert werden. Trotz dieser Filtration kann in niederem und
mittlerem Stromdichtebereich eine gewisse Glanzminderung eintreten, die unerwünscht ist.
Claims (4)
1. Saure galvanische Kupferbäder, gekennzeichnet ίο durch einen Gehalt an organischen, wenigstens eine
Azidogruppe im Molekül enthaltenden Sulfonsäuren oder deren wasserlöslichen Salzen.
2. Bäder nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch einen zusätzlichen Gehalt an N-mono- bzw. disubstituierten
Dithiocarbaminsäurealkylester-oj-sulfonsäuren
bzw. deren wasserlöslichen Salzen.
3. Bäder nach Anspruch 1 und 2, gekennzeichnet durch einen zusätzlichen Gehalt an 1,3,5-Triazin-2,4,6
- tris - (mercaptoalkansulfonsäuren) oder deren wasserlöslichen Salzen.
4. Bäder nach Anspruch 1 bis 3, gekennzeichnet durch einen zusätzlichen Gehalt an die Duktilität
der Überzüge verbessernden Mitteln.
© 909 507/49« 4. 59
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL234197D NL234197A (de) | 1957-12-17 | ||
NL110454D NL110454C (de) | 1957-12-17 | ||
BE572186D BE572186A (de) | 1957-12-17 | ||
DED27038A DE1055912B (de) | 1957-12-17 | 1957-12-17 | Saure galvanische Kupferbaeder |
CH6407658A CH369948A (de) | 1957-12-17 | 1958-09-18 | Saures galvanisches Kupferbad |
GB34608/58A GB857409A (en) | 1957-12-17 | 1958-10-29 | Acid electrolytic copper-plating baths |
FR1208880D FR1208880A (fr) | 1957-12-17 | 1958-11-26 | Bains galvaniques acides de cuivre |
US778075A US2950235A (en) | 1957-12-17 | 1958-12-04 | Acid copper electroplating baths |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DED27038A DE1055912B (de) | 1957-12-17 | 1957-12-17 | Saure galvanische Kupferbaeder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1055912B true DE1055912B (de) | 1959-04-23 |
Family
ID=7039098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DED27038A Pending DE1055912B (de) | 1957-12-17 | 1957-12-17 | Saure galvanische Kupferbaeder |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US2950235A (de) |
BE (1) | BE572186A (de) |
CH (1) | CH369948A (de) |
DE (1) | DE1055912B (de) |
FR (1) | FR1208880A (de) |
GB (1) | GB857409A (de) |
NL (2) | NL110454C (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL238490A (de) * | 1958-04-26 | |||
DE1133610B (de) * | 1959-06-06 | 1962-07-19 | Dehydag Gmbh | Saure galvanische Kupferbaeder |
DE1184172B (de) * | 1961-08-31 | 1964-12-23 | Dehydag Gmbh | Verfahren zum galvanischen Abscheiden festhaftender und hochglaenzender Kupferueberzuege |
US4376685A (en) * | 1981-06-24 | 1983-03-15 | M&T Chemicals Inc. | Acid copper electroplating baths containing brightening and leveling additives |
JP5952093B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2016-07-13 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | 電解銅めっき液及び電解銅めっき方法 |
CN114277413B (zh) * | 2021-12-29 | 2024-05-17 | 广东利尔化学有限公司 | 一种用于电路板的铜镀敷液 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL110592C (de) * | 1956-06-15 |
-
0
- NL NL234197D patent/NL234197A/xx unknown
- NL NL110454D patent/NL110454C/xx active
- BE BE572186D patent/BE572186A/xx unknown
-
1957
- 1957-12-17 DE DED27038A patent/DE1055912B/de active Pending
-
1958
- 1958-09-18 CH CH6407658A patent/CH369948A/de unknown
- 1958-10-29 GB GB34608/58A patent/GB857409A/en not_active Expired
- 1958-11-26 FR FR1208880D patent/FR1208880A/fr not_active Expired
- 1958-12-04 US US778075A patent/US2950235A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE572186A (de) | |
GB857409A (en) | 1960-12-29 |
NL110454C (de) | |
FR1208880A (fr) | 1960-02-26 |
NL234197A (de) | |
CH369948A (de) | 1963-06-15 |
US2950235A (en) | 1960-08-23 |
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