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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Leistungshalbleiter-Bauelement
gemäß dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 oder Patentanspruchs 4.
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Bei
einem Leistungshalbleiter-Bauelement des Standes der Technik, ist
ein harzversiegeltes Leistungshalbleiter-Element auf einer Kühlrippe
befestigt, wobei Fett dazwischen angeordnet ist, um die Wärme des
Leistungshalbleiter-Elements abzustrahlen, siehe zum Beispiel die
JP 2001-250 911 A .
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Das
Leistungshalbleiter-Bauelement dieses. Standes der Technik hat jedoch
das Problem, dass es unmöglich
ist, eine ausreichende Wärmeabstrahlung
zu gewährleisten,
da die Wärmeleitfähigkeit
des Fettes gering ist.
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Ausserdem
benötigt
die Oberfläche
für das Befestigender
Rippe eine hochgradige Ebenheit, da die Ebenheit einer Oberfläche für das Befestigen
der Rippe einen grossen Einfluss auf die Wärmeabstrahlung hat, und das
wirft das Problem steigender Herstellungskosten auf.
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Die
Druckschrift
DE 197
15 592 C2 offenbart eine Kühlvorrichtung für einen
Elektronikbaustein, insbesondere für einen Steuer- oder Regelbaustein einer
elektromechanische Baugruppe in einem Kraftfahrzeug. Mit dem Ziel,
die beim Betrieb des Elektronikbausteins entstehende Wärme abzuführen, ist
ein Gehäuse
vorgesehen, in welchem der Elektronikbaustein aufgenommen wird,
wobei dieses Gehäuse
einen Kühlmittel-Zulaufanschluß sowie
einen Kühlmittel-Ausströmkanal aufweist.
Der Elektronikbaustein ist dabei derart innerhalb des Gehäuses positioniert, dass
er in dem Kühlmittel
eingetaucht ist. Ein Nachteil der
DE 197 15 592 C2 besteht darin, dass das Gehäuse weder
ausgelegt noch geeignet ist, zum Einen ein diskretes Halbleiter-Bauelement aufzunehmen,
und zum Anderen die beim Betrieb des Halbleiter-Bauelements entstehende Wärme hiervon
abzuführen.
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Die
Druckschrift
US 4 928
207 A offenbart ein Schaltungsmodul, welches eine Vielzahl
von Halbleiterelementen aufweist sowie eine direkte Kühlung über ein
Kühlmittel,
welches zwischen den wärmeerzeugenden
Halbleiterelementen und der Stirnfläche eines Kolbens strömt. Die
Anordnung der Halbleiter-Bauelemente erfolgt mit Hilfe einer Vielzahl
von Kolben, die über
eine Feder vorgespannt werden, um die Halbleiter-Bauelemente innerhalb des Gehäuses anzuordnen
bzw. zu befestigen. Diese Anordnung wird als relativ kompliziert
angesehen.
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Es
ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Leistungshalbleiter-Bauelement
zur Verfügung
zu stellen, das eine Steigerung der Abstrahlungseffizienz eines
Leistungshalbleiter-Elements und eine Senkung der Herstellungskosten
ermöglicht.
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Leistungshalbleiter-Bauelement.
Gemäß der vorliegenden
Erfindung umfasst das Leistungshalbleiter-Bauelement ein Gehäuse, welches
einen Gehäusekörper, eine
Gehäusebodenplatte
und/oder eine Gehäusedeckplatte
aufweist, ein diskretes Halbleiter-Bauelement mit einem oberen Bereich
und einem unteren Bereich, wobei das Halbleiter-Bauelement an seinem
oberen Bereich zumindest einen Anschluss für eine externe Verbindung aufweist,
und einen Zwischenraum, welcher durch zumindest eine der Seitenflächen des
Halbleiter-Bauelements
und eine Innenwand des Gehäuses
begrenzt wird, wobei der Zwischenraum einen Kanal für ein Kühlmittel
bildet, das zum Kühlen
des diskreten Halbleiter-Bauelements, welches darin eingetaucht
ist, verwendet wird.
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Nach
einem ersten Aspekt der Erfindung weist das Gehäuse außerdem ein in dem Gehäusekörper ausgebildetes
Einsatzloch auf, in welchem der obere Bereich des Halbleiter-Bauelements
derart aufgenommen wird, daß der
zumindest eine Anschluss aus dem Gehäuse herausragt, und eine Kerbe,
die entsprechend dem unteren Bereich des Halbleiter-Bauelements
in der Gehäusebodenplatte
ausgebildet ist, wobei die Kerbe mit einer dem Einsatzloch gegenüberliegenden
Seitenwand des Gehäuses derart
zusammenwirkt, dass das diskrete Halbleiter-Bauelement so in das
Gehäuse
eingepaßt
ist, dass es in einem vorbestimmten Teil innerhalb des Gehäuses positioniert
und angeordnet ist.
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Alternativ
kann nach einem zweiten Aspekt der Erfindung das Gehäuse außerdem ein
Einsatzloch, das entsprechend dem oberen Bereich des Halbleiter-Bauelements
in der Gehäusedeckplatte derart
aufgenommen wird, daß der
zumindest eine Anschluss aus dem Gehäuse herausragt, und eine in dem
Gehäusekörper ausgebildete
Kerbe, in welcher der untere Bereich des Halbleiter-Bauelements
aufgenommen wird, wobei die Kerbe mit einer dem Einsatzloch gegenüberliegenden
Seitenwand des Gehäuses
derart zusammenwirkt, daß das
diskrete Halbleiter-Bauelement so in das Gehäuse eingepaßt ist, dass es in einem vorbestimmten
Teil innerhalb des Gehäuses
positioniert und angeordnet ist, aufweisen.
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Das
diskrete Halbleiter-Bauelement ist in das Kühlmittel eingetaucht. Daher
kann das diskrete Halbleiter-Bauelement direkt durch das Kühlmittel gekühlt werden,
und dies verbessert die Kühlungseffizienz
des diskreten Halbleiter-Bauelements.
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Außerdem ist
das diskrete Halbleiter-Bauelement in das Gehäuse eingepasst, so dass es
an einem vorbestimmten Teil innerhalb des Gehäuses positioniert und angeordnet
ist. Dies verbessert die Befestigungsgenauigkeit eines Steuerkreissubstrats und
dergleichen.
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Diese
und andere Aufgaben, Leistungsmerkmale, Aspekte und Vorteile der
vorliegenden Erfindung werden noch deutlicher durch die folgende
detaillierte Beschreibung der vorliegenden Erfindung in Verbindung
mit den begleitenden Zeichnungen.
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1 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäß einer ersten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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2 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie II-II von 1;
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3 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie III-III von 1;
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4 ist
ein Querschnitt, der spezifisch eine Struktur eines diskreten Halbleiter-Bauelements zeigt;
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5 ist
eine Draufsicht, die eine Variation der ersten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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6 ist
ein Schaltkreisdiagramm, das eine Konfiguration einer Inverterschaltung
zeigt;
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7 ist
eine Draufsicht, die die Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss der zweiten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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8 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie VIII-VIII von 7;
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9 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem Stromschienen mit
der Struktur von 7 verbunden sind;
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10 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie X-X von 9;
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11 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem die Struktur von 9 mit
einem Gehäusedeckel
bedeckt ist;
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12 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XII-XII von 11;
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13 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein Steuerkreissubstrat
auf der Struktur von 9 befestigt ist;
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14 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XIV-XIV von 13;
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15 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem die Struktur von 13 mit
einem Gehäusedeckel
bedeckt ist;
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16 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XVI-XVI von 15;
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17 ist
eine Draufsicht, die eine Variation der zweiten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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18 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XVIII-XVIII von 17;
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19 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem die Struktur von 17 mit
einem Gehäusedeckel
bedeckt ist;
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20 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XX-XX von 19;
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21 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss der dritten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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22 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss der vierten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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23 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss der fünften bevorzugten
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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24 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXIV-XXIV von 23;
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25 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss der sechsten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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26 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXVI-XXVI von 25;
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27 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein Steuerkreissubstrat
auf der Struktur von 25 befestigt ist, und diese
Struktur ist mit einem Gehäusedeckel
bedeckt;
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28 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXVIII-XXVIII von 27;
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29 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines diskreten Halbleiter-Bauelements gemäss der siebten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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30 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss der siebten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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31 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXXI-XXXI von 30;
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32 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem Stromschienen der
Struktur von 30 verbunden sind;
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33 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXXIII-XXXIII von 32;
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34 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein Steuerkreissubstrat
auf der Struktur von 32 befestigt ist, und diese
Struktur ist mit einem Gehäusedeckel
bedeckt;
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35 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXXV-XXXV von 34;
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36 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss der achten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt;
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37 ist
ein Querschnitt, der eine Variation der achten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt; und
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38 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements gemäss einer neunten
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt.
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Erste bevorzugte Ausführungsform
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1 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
der ersten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, und 2 und 3 sind
Querschnitte, die Querschnittsstrukturen zeigen, durchgeführt entlang
der Linien II-II und III-III, jeweilig von 1. In 1 ist
die obere Wand des Gehäuses nicht
gezeigt.
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Bezugnehmend
auf 1 bis 3 schliesst das Leistungshalbleiter-Bauelement
der ersten bevorzugten Ausführungsform
ein Gehäuse, das
aus einem Gehäusekörper 5 und
einer Gehäusebodenplatte 7 besteht
und ein diskretes Halbleiterbauelement 1 ein. Das diskrete
Halbleiter-Bauelement 1 hat eine Struktur, in der ein Leistungshalbleiter-Element, wie z. B.
ein IGBT, mit einem Formharz abgedichtet ist. Dies verbessert die
Wasserbeständigkeit
des Leistungshalbleiter-Elements gegenüber einem Kühlmittel, das später erörtert wird.
Der Gehäusekörper 5 und
die Gehäusebodenplatte 7 sind durch
Schrauben 8 aneinander befestigt. Anstelle des Harzes kann
das Leistungshalbleiter-Element mit einem anderen Material versiegelt
werden.
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Das
diskrete Halbleiter-Bauelement 1 hat Anschlüsse für externe
Verbindungen (Hauptelektroden 2A und 2B und Signalanschluß 3).
Alle Hauptelektroden (Anschlüsse) 2A und 2B und
die Signalanschlüsse 3 ragen
aus einer Oberfläche
(in diesem Fall der oberen Oberfläche) des diskreten Halbleiter-Bauelements
heraus. Dies ermöglicht
eine einfache Befestigung von Stromschienen bzw. Sammelschienen
(Busbar) oder einem Steuerkreissubstrat, wie später erörtert wird.
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Das
diskrete Halbleiter-Bauelement 1 ist vertikal zwischen
der oberen Wand des Gehäusekörpers 5 und
der Gehäusebodenplatte 7 angeordnet, so
dass es im Inneren des Gehäuses
befestigt ist. Dies ermöglicht
eine einfache Befestigung des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 und
des Gehäuses, und
es ermöglicht
eine Verkleinerung des diskreten Halbleiter-Bauelements 1,
da es nicht nötig
ist, das diskrete Halbleiter-Bauelement 1 mit
mit Innengewinden versehenen Löchern
auszustatten. Das diskrete Halbleiter-Bauelement 1 hat
eine Positionierungsstruktur 21, die in die Form der oberen
Wand des Gehäusekörpers 5 einzupassen
ist. Die obere Wand des Gehäusekörpers 5 ist
mit einem Einsatzloch versehen, in das die Form eines Oberteils
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 eingepasst ist.
Die Gehäusebodenplatte 7 ist
mit einer V-förmigen
Kerbe versehen, in die die Form eines Bodens des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 eingepasst
ist. Mit diesen Strukturen ist das diskrete Halbleiter-Bauelement 1 in das
Gehäuse
eingepasst, um auf einem vorbestimmten Teil innerhalb des Gehäuses mit
hoher Genauigkeit positioniert zu werden. Dies verbessert die Genauigkeit
der Befestigung des Steuerkreissubstrats und dergleichen, wie später erörtert wird.
Die Hauptelektroden 2A und 2B und die Signalanschlüsse 3 ragen
aus dem Gehäuse
heraus.
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Ein
Zwischenraum, definiert durch eine Seitenfläche des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 und
eine innere Wand des Gehäuses,
bildet einen Kanal 9 für
das zur Kühlung
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 verwendete Kühlmittel
(zum Beispiel kaltes Wasser). Das diskrete Halbleiter-Bauelement 1,
ausgenommen die Hauptelektroden 2A und 2B und
die Signalanschlüsse 3,
ist in das Kühlmittel eingetaucht.
Durch Anordnung eines Siegelmaterials 6 an einem Kontakt
zwischen dem diskreten Halbleiter-Bauelement 1 und dem
Gehäusekörper 5 wird das
Auslaufen des Kühlmittels
aus dem Gehäuse
von der oberen Wand des Gehäuses
aus verhindert.
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Eine
Rippe 4 ist an der Seitenfläche des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 angeordnet
und in das Kühlmittel
eingetaucht. Dies verbessert die Kühlungseffizienz des diskreten
Halbleiter-Bauelements 1. Wenn die Rippe 4 aus
einem Formharz hergestellt wird, dann wird die Rippe 4 auch
in einem Harzversiegelungsprozess für das Leistungshalbleiter-Element
gebildet, und dies ermöglicht
eine Senkung der Herstellungskosten. Durch Versehen der Seitenfläche des
diskreten Halbleiter-Bauelements 1 mit
vielen Unregelmässigkeiten,
anstatt die Rippe 4 an der Seitenfläche des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 zu
bilden, wird der Kontaktbereich zwischen dem diskreten Halbleiter-Bauelement 1 und
dem Kühlmittel vergrössert und
dies verbessert die Kühlungseffizienz
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1. Bezogen auf 1,
wie durch den Pfeil X gezeigt, fliesst das Kühlmittel von einem Kühlmitteleinlass 50A ausgehend
in das Gehäuse,
fliesst entlang des Kanals 9, wobei es das diskrete Halbleiter-Bauelement 1 kühlt, und
fliesst dann durch ein Kühlmittelauslass 50B aus dem
Gehäuse.
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4 ist
ein Querschnitt, der spezifisch eine Struktur des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 zeigt.
Ein Substrat wird durch Aufeinanderschichten eines Metallfilmes 51,
hergestellt aus Kupfer oder ähnlichem,
einer Isolierschicht 52, hergestellt aus Harz, Keramik
oder ähnlichem
und einem Metallsubstrat 53, hergestellt aus Kupfer oder ähnlichem,
in der genannten Reihenfolge gebildet. Der Metallfilm 51 ist an
einer Seitenfläche
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 exponiert. Die Rippe 4 ist
mit dem Metallfilm 51 verbunden. Auf dem Metallsubstrat 53 sind das
Leistungshalbleiter-Element,
wie ein IGBT 54, und eine Freilaufdiode 55 befestigt.
Der IGBT 54 und die Freilaufdiode 55 sind miteinander über einen Draht 57 verbunden.
Der Signalanschluss 3 und der IGBT 54 sind miteinander über einen
Draht 56 verbunden.
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5 ist
eine Draufsicht, die eine Variation der ersten bevorzugten Ausführungsform
zeigt, entsprechend 1. Während der Kanal 9 für das Kühlmittel
im Fall von 1 linear ist, ist der Kanal 9 im Fall
von 5 U-förmig.
Wie durch den Pfeil X gezeigt, fliesst das Kühlmittel vom Kühlmitteleinlass 50A ausgehend
in das Gehäuse,
fliesst entlang des Kanals 9, wobei es eine erste Seitenfläche des
diskreten Halbleiter-Bauelements 1 kühlt (diejenige
Seitenfläche,
auf der die Rippe 4 angeordnet ist), folgt einem U-förmigen Bogen,
fliesst dann weiter entlang des Kanals 9, wobei es eine
zweite Seitenfläche
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 kühlt (diejenige Seitenfläche, auf
der die Rippe 4 nicht angeordnet ist), und fliesst dann
durch den Kühlmittelauslass 50B aus
dem Gehäuse.
Dies verbessert die Kühlungseffizienz
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 verglichen mit dem
Fall von 1. Die Rippe 4 kann
auch auf der zweite Seitenfläche
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 angeordnet sein.
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Auf
diese Art ist im Leistungshalbleiter-Bauelement der ersten bevorzugten
Ausführungsform das
diskrete Halbleiter-Bauelement 1 in das Kühlmittel
eingetaucht. Das diskrete Halbleiter-Bauelement 1 kann
dadurch direkt durch das Kühlmittel
gekühlt werden
und dies verbessert die Kühlungseffizienz des
diskreten Halbleiter-Bauelements 1 verglichen mit dem Stand
der Technik. Die Oberfläche,
auf der die Rippe 4 befestigt ist, benötigt nicht den genauso hohen
Grad an Ebenheit wie das Bauelement des Standes der Technik, und
dies ermöglicht
die Senkung der Herstellungskosten.
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Zweite bevorzugte Ausführungsform
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6 ist
ein Schaltkreisdiagramm, das eine Konfiguration einer Inverterschaltung
als Beispiel für einen
Kraftstromkreis zeigt. Die Inverterschaltung besteht aus sechs IGBT 541 bis 546 und
sechs Freilaufdioden 551 bis 556 . Bezogen auf 4, sind
jeweils ein IGBT und eine Freilaufdiode in ein diskretes Halbleiter-Bauelement 1 eingebaut.
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Um
die Inverterschaltung von 6 herzustellen,
werden deshalb sechs diskrete Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 benötigt.
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7 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
einer zweiten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, und 8 ist ein
Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie VIII-VIII von 7. In 7 ist die
obere Wand des Gehäuses
nicht gezeigt. Bezogen auf 7 ist eine
Vielzahl diskreter Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 , die die Inverterschaltung von 6 bilden,
nebeneinanderliegend in einer Matrix mit zwei Zeilen und drei Spalten
in dem Gehäuse
angeordnet. Durch Unterbringung einer Vielzahl diskreter Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 ,
die einen Soll-Kraftstromkreis in einem Gehäuse 5 bilden, ist
es möglich,
die Zweckmässigkeit
im Gebrauch zu verbessern. In dem Gehäuse ist der dahinschlängelnde
Kanal 9 zwischen den diskreten Halbleiter-Bauelementen 11 bis 16 definiert.
Die IGBT 541 bis 546 und die Freilaufdioden 551 bis 556 sind
jeweils in die diskreten Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 eingebaut. Andere Elemente können auch
dorthinein eingebaut werden.
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Bezogen
auf 8 hat das Gehäuse
den Gehäusekörper 5 und
die Gehäusebodenplatte 7,
die durch Schrauben 8 aneinander befestigt sind. In einem
Montageprozess für
das Leistungshalbleiter-Bauelement wird eine Vielzahl von diskreten Halbleiter-Bauelementen 11 bis 16 vertikal
zwischen der oberen Wand des Gehäusekörpers 5 und
der Gehäusebodenplatte 7 so
angeordnet, dass sie im Inneren des Gehäuses befestigt sind. Dies ermöglicht eine
einfache Montage des Leistungshalbleiter-Bauelements.
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Wenn
eine Differenz im Wärmewert
zwischen den diskreten Halbleiter-Bauelementen 11 bis 16 besteht, ist es zu bevorzugen, dass
die diskreten Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 von einer stromaufwärts gelegenen
Seite des Kanals 9 für
das Kühlmittel
aus (näher
zum Kühlmitteleinlass 50A)
in absteigender Ordnung des Wärmewerts
angeordnet werden sollen. Im genaueren ist eines der diskreten Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 ,
das den höchsten Wärmewert
besitzt, an dem Teil angeordnet, an dem das diskrete Halbleiter-Bauelement 14 in 7 angeordnet
ist. Dies ermöglicht
eine effiziente Kühlung, bei
der die diskreten Halbleiter-Bauelemente 1, die einen grösseren Wärmewert
besitzen, durch ein Kühlmittel
niedriger Temperatur gekühlt
werden können.
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9 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem die Stromschienen
mit der Struktur von 7 verbunden sind, und 10 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie X-X von 9. In 9 ist die obere
Wand des Gehäuses
nicht gezeigt. Eine Eingangsstromschiene 10P ist üblicherweise
mit den Hauptelektroden (Eingangsanschlüssen) 2A1 bis 2A3 verbunden, und eine Eingangsstromschiene 10N ist üblicherweise
mit den Hauptelektroden (Eingangsanschlüssen) 2A4 bis 2A6 verbunden. Da die diskreten Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 so
angeordnet sind, dass die Hauptelektroden 2A1 bis 2A3 und die Hauptelektroden 2A4 bis 2A6 einander
gegenüberstellt sein
sollen, sind die Stromschienen 10P und 10N benachbart
und parallel zueinander angeordnet. Da der Strom in den Stromschienen 10P und 10N in
entgegengesetzter Richtung fliesst, kann durch zueinander angrenzender
Anordnung der Stromschienen 10P und 10N die Induktivität zwischen
den Stromschienen 10P und 10N reduziert werden.
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Die
Ausgangsstromschienen 11U1 , 11V1 , 11W1 , 11U2 , 11V2 und 11W2 sind jeweils mit den Hauptelektroden
(Ausgangsanschlüssen) 2B1 , 2B2 , 2B3 , 2B4 , 2B5 und 2B6 verbunden.
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11 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem die Struktur von 9 mit
einem Gehäusedeckel 12 bedeckt
ist, und 12 ist ein Querschnitt, der
eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang der Linie XII-XII
von 11. Durch Anordnung des Gehäusedeckels 12 wird
ein Modul des Leistungshalbleiter-Bauelements erreicht.
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Der
Gehäusekörper 5,
die Gehäusebodenplatte 7 und
der Gehäusedeckel 12 können aus
einem Metall hergestellt sein, wie zum Beispiel einer Aluminiumlegierung.
Dies vermeidet sowohl den Effekt, dass Rauschen vom Leistungshalbleiter-Bauelement
nach aussen dringt, als auch den Effekt, dass Rauschen von aussen
zum Leistungshalbleiter-Bauelement
gelangt.
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13 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem ein Steuerkreissubstrat 13 auf
der Struktur von 9 angebracht ist, und 14 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XIV-XIV von 13. In 13 ist
die obere Wand des Gehäuses
nicht gezeigt. Auf dem Steuerkreissubstrat 13 ist ein Steuerkreis
(nicht gezeigt) gebildet, um die diskreten Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 zu
steuern. Das Steuerkreissubstrat 13 ist mit den diskreten
Halbleiter-Bauelementen 11 bis 16 über die
Signalanschlüsse 3 (nicht
gezeigt in den 13 und 14) elektrisch verbunden.
Ein Verbindungsglied 14 ist an dem Steuerkreissubstrat 13 angeordnet.
Das Steuerkreissubstrat 13 ist so angeordnet, dass die
diskreten Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 und das Steuerkreissubstrat 13 senkrecht
aufeinander sein sollten, was eine Verkleinerung des Bauelements
ermöglicht.
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15 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand, in dem die Struktur von 13 mit
einem Gehäusedeckel 15 bedeckt
ist zeigt, und 16 ist ein Querschnitt, der
eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang der Linie XVI-XVI
von 15. Durch Anordnung des Gehäusekörpers 5 mit dem Gehäusedeckel 15 ist
ein Produkt erreicht (integrierter Leistungsbaustein, IPM).
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Der
Gehäusekörper 5,
die Gehäusebodenplatte 7 und
der Gehäusedeckel 15 können aus
Metall hergestellt werden, wie etwa einer Aluminiumlegierung. Dies
vermeidet sowohl den Effekt, dass elektromagnetisches Rauschen vom
Leistungshalbleiter-Bauelement
nach aussen strömt,
als auch den Effekt, dass elektromagnetisches Rauschen von aussen
zum Leistungshalbleiter-Bauelement gelangt.
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17 ist
eine Draufsicht, die eine Variation der zweiten bevorzugten Ausführungsform
zeigt, entsprechend 9, und 18 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang der
Linie XVIII-XVIII von 17. Die Hauptelektroden 2B1 und 2B4 sind
mit der Stromschiene 11U verbunden, die Hauptelektroden 2B2 und 2B5 sind
mit der Stromschiene 11V verbunden, und die Hauptelektroden 2B3 und 2B6 sind
mit der Stromschiene 11W verbunden. Um den Kontakt zwischen
den Stromschienen 11U bis 11W und den Stromschienen 10P und 10N zu
verhindern, sind die Stromschienen 11U bis 11W über den
Stromschienen 10P und 10N angeordnet. Mit anderen
Worten kreuzen sich die Stromschienen 11U bis 11W und
die Stromschienen 10P und 10N stufenweise getrennt.
Um den Kontakt zwischen den Stromschienen 11U bis 11W und
den Hauptelektroden 2A1 bis 2A6 zu verhindern, haben die Stromschienen 11U bis 11W in
Draufsicht jeweils eine geschlängelte
Form. In der Struktur von 17 ist
es möglich,
die Ausgangsstromschienen 11U bis 11W von einer
Seite her herauszuziehen.
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19 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem die Struktur von 17 mit
dem Gehäusedeckel 12 bedeckt
ist, und 20 ist ein Querschnitt, der
eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang der Linie XX-XX
von 19. Durch Anordnen des Gehäusedeckels 12 ist
ein Modul des Leistungshalbleiter-Bauelements erreicht. Wie in den 15 und 16 wird
durch Anordnung des Steuerkreissubstrats 13 und des Gehäusedeckels 15 ein integrierter
Leistungsbaustein erreicht.
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Dritte bevorzugte Ausführungsform
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21 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
einer dritten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, entsprechend 8.
Anstelle des Gehäusekörpers 5 und
der Gehäusebodenplatte 7,
die über
Schrauben 8 aneinander befestigt sind, sind ein Gehäusekörper 5a und
eine Gehäusedeckplatte 7a,
die über
Schrauben 8a aneinander befestigt sind, angeordnet. Der
Gehäusekörper 5a bildet Seitenwände und
eine Bodenwand des Gehäuses als
eine Einheit.
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In
der Struktur von 8 berührt das Kühlmittel den Gehäusekörper 5 und
die Gehäusebodenplatte 7,
die physikalisch getrennt sind. Deshalb verhindert der Wärmewiderstand
am Kontakt zwischen dem Gehäusekörper 5 und
der Gehäusebodenplatte 7 den
Wärmerückfluss
(gezeigt durch den Pfeil Y) durch das Gehäuse. Im Gegensatz dazu berührt das Kühlmittel
den Gehäusekörper 5a,
der als eine Einheit im Leistungshalbleiter-Bauelement der dritten bevorzugten
Ausführungsform
gebildet ist. Deswegen wird der Wärmerückfluss, verursacht durch die Differenz
zwischen der Temperatur nahe des Kühlmitteleinlasses 50A und
nahe des Kühlmittelauslasses 50B,
effizient durch das Gehäuse
erreicht. Als Resultat ist es möglich,
Variationen in der Temperaturverteilung im Gehäuse zu unterdrücken und einen Ausgleich
in der Kühlungseffizienz
zu ermöglichen. Wenn
zumindest der Gehäusekörper 5a aus
einem Metall hergestellt ist, wie zum Beispiel einer Aluminiumlegierung,
wird der oben beschriebene Effekt bemerkenswert.
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Vierte bevorzugte Ausführungsform
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22 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
zeigt gemäss einer
vierten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung, entsprechend 16. Eine
Metallschutzplatte 16 ist zwischen der Stromschiene 10P und
dem Steuerkreissubstrat 13 angeordnet. In der Draufsicht
ist die Schutzplatte 16 quer über das Gehäuse angeordnet. Die Schutzplatte 16 ist
mit dem Deckel 15 verbunden, der Teil des Gehäuses ist,
und das Potential der Schutzplatte 16 wird dadurch auf
einem hohen Level gehalten.
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Somit
ist es durch die Anordnung der Schutzplatte 16 im Leistungshalbleiter-Bauelement der vierten
bevorzugten Ausführungsform
möglich,
den Effekt zu vermeiden, dass elektromagnetisches Rauschen aus den
diskreten Halbleiter-Bauelementen 11 bis 16 und
den Stromschienen 10P und 10N und 11U bis 11W aus
dem Steuerkreis ausströmt,
und einer Fehlfunktion vorzubeugen.
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Fünfte bevorzugte Ausführungsform
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23 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
der fünften
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, entsprechend 9,
und 24 ist ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur
zeigt, durchgeführt
entlang der Linie XXIV-XXIV von 23. Bezogen
auf 23 ist eine Stromschiene 17 anstelle
der Stromschiene 10P und 10N von 9 angeordnet.
Bezogen auf 24 hat die Stromschiene 17 Stromschienen 17P und 17N. Die
Stromschienen 17P und 17N sind jeweils planar und
liegen einander gegenüber,
wobei sie durch einen Isolierfilm 18 voneinander elektrisch
isoliert sind. Die Stromschiene 17P ist mit den Hauptelektroden (Eingangsanschlüssen) 2A1 bis 2A3 elektrisch
verbunden, und die Stromschiene 17N ist elektrisch mit den
Hauptelektroden (Eingangsanschlüssen) 2A4 bis 2A6 verbunden.
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Somit
ist es durch eine gegenüberliegende Anordnung
der planaren Stromschienen 17P und 17N im Leistungshalbleiter-Bauelement
der fünften bevorzugten
Ausführungsform
möglich,
die Induktivität
zwischen den Stromschienen 17P und 17N verglichen
mit denen der Struktur von 9 zu reduzieren.
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Sechste bevorzugte Ausführungsform
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25 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
der sechsten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, entsprechend 9,
und 26 ist ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur
zeigt, durchgeführt
entlang der Linie XXVI-XXVI von 25. Eine
elektronische Komponente (ein Glättungskondensator 20 im
Falle von 25), der zusammen mit den diskreten
Halbleiter-Bauelementen 11 bis 16 den Stromkreis bildet, ist zusammen mit
den diskreten Halbleiter-Bauelementen 11 bis 16 ins Gehäuse eingebaut. Das Gehäuse besteht
aus den Gehäusekörpern 5 und 22 und
der Gehäusebodenplatte 7,
die über
Schrauben 8 und 23 aneinander befestigt sind,
und der Glättungskondensator 20 ist innerhalb
des Gehäusekörpers 22 angeordnet.
Im Gehäusekörper 22 ist
ein Kanal 210 gebildet, der mit dem Kanal 9 für das Kühlmittel
im Gehäusekörper 5 verbunden
ist. Wie durch den Pfeil Z gezeigt, fliesst das Kühlmittel
vom Kühlmitteleinlass 50A in
den Gehäusekörper 5,
fliesst entlang des Kanals 9, wobei es die diskreten Halbleiter-Bauelemente 1 kühlt, und fliesst
dann in den Gehäusekörper 22,
fliesst entlang des Kanals 210, wobei es den Glättungskondensator 20 kühlt. Danach
fliesst das Kühlmittel
aus dem Gehäusekörper 22 durch
den Kühlmittelauslass 50B.
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27 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem das Steuerkreissubstrat 13 auf
der Struktur von 25 befestigt ist, und diese
Struktur ist mit dem Gehäusedeckel 15 bedeckt. 28 ist ein
Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXVIII-XXVIII von 27. Durch
Anordnung des Steuerkreissubstrats 13 und des Gehäusedeckels 15 ist
ein integrierter Leistungsbaustein erreicht.
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Somit
ist es in dem Leistungshalbleiter-Bauelement der sechsten bevorzugten
Ausführungsform möglich, mit
der Struktur, in der der Glättungskondensator 20 durch
das Kühlmittel
gekühlt
wird, das für
die Kühlung
der diskreten Halbleiter-Bauelemente 11 bis 16 verwendet wird, die Vereinfachung
und Verkleinerung des Bauelements zu ermöglichen.
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Siebte bevorzugte Ausführungsform
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29 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines diskreten Halbleiter-Bauelements 100 gemäss der siebten
bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung, entsprechend 3, zeigt.
Das diskrete Halbleiter-Bauelement 100 unterscheidet sich
von dem diskreten Halbleiter-Bauelement 1 von 3,
dadurch, dass die Hauptelektrode (Eingangsanschluss) 2A,
die als ein Eingangsterminal dient, und die Hauptelektrode (Ausgangsanschluss) 2B, die
als Ausgangsterminal dient, invers angeordnet sind.
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30 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
der siebten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, entsprechend 7,
und 31 ist ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur
zeigt, durchgeführt
entlang der Linie XXXI-XXXI von 30. Bezogen
auf 30 sind die sechs diskreten Halbleiter-Bauelemente 1 und 100, die
die Inverterschaltung von 6 bilden,
nebeneinander in einer Matrix mit einer Zeile und sechs Spalten
innerhalb des Gehäuses
angeordnet. Die diskreten Halbleiter-Bauelemente 1 und
die diskreten Halbleiter-Bauelemente 100 sind im Wechsel
angeordnet. Die Hauptelektroden 2A, die in den diskreten
Halbleiter-Bauelementen 1 und 100 enthalten sind,
sind nebeneinander entlang einer ersten Seite L1 des Gehäuses angeordnet.
Die Hauptelektroden 2B, die in den diskreten Halbleiter-Bauelementen 1 und 100 enthalten
sind, sind nebeneinander entlang einer zweiten Seite L2 des Gehäuses angeordnet.
Im Gehäuse
ist der durchschlängelnde
Kanal 9 definiert entlang der diskreten Halbleiter-Bauelemente 1 und 100.
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32 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem Stromschienen mit
der Struktur von 30 verbunden sind, und 33 ist
ein Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXXIII-XXXIII von 32.
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In 32 ist
die obere Wand des Gehäuses nicht
gezeigt. 33 zeigt Stromschienen 30P und 30N,
die in dem Querschnitt, durchgeführt
entlang der Linien XXXIII-XXXIII von 32, nicht
zu sehen sind, zusammen mit der Querschnittsstruktur.
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Die
Eingangsstromschiene 30P ist üblicherweise mit den Hauptelektroden 2A,
die in den diskreten Halbleiter-Bauelementen 1 enthalten
sind, verbunden, und die Eingangsstromschiene 30N ist üblicherweise
mit den Hauptelektroden 2A, die in den diskreten Halbleiter-Bauelementen 100 enthalten sind,
verbunden. Die Stromschienen 30P und 30N können mit
einem dazwischen geschobenen Isolierfilm beschichtet werden, wie
in der Struktur der oben besprochenen fünften bevorzugten Ausführungsform.
Ausgangsstromschienen 31U, 31V und 31W sind
jeweils mit der Hauptelektrode 2B des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 und
der Hauptelektrode 2B des diskreten Halbleiter-Bauelements 100 verbunden.
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34 ist
eine Draufsicht, die einen Zustand zeigt, in dem das Steuerkreissubstrat 13 auf
der Struktur von 32 befestigt ist, und diese
Struktur ist mit dem Gehäusedeckel 15 bedeckt. 35 ist ein
Querschnitt, der eine Querschnittsstruktur zeigt, durchgeführt entlang
der Linie XXXV-XXXV von 34. In 34 ist
die obere Wand des Gehäuses nicht
gezeigt. 35 zeigt die Hauptelektroden 2B und
die Stromschienen 30P, 30N, 31U, 31V und 31W,
die im Querschnitt, durchgeführt
entlang der Linie XXXV-XXXV, nicht zu sehen sind, zusammen mit der
Querschnittsstruktur. Durch Anordnung des Gehäusekörpers 5 mit dem Steuerkreissubstrat 13 und dem
Gehäusedeckel 15 wird
ein integrierter Leistungsbaustein erreicht.
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Die
Struktur von 9 benötigt elektrische Verbindungen
zwischen den Stromschienen 11U1 und 11U2 , zwischen den Stromschienen 11V1 und 11V2 und
zwischen den Stromschienen 11W1 und 11W2 ausserhalb des Gehäuses. Ausserdem wird die Zusammenschaltung
kompliziert, da die Struktur von 17 die
stufenweise geteilte Intersektion der Stromschienen 11U, 11V und 11W und
der Stromschienen 10P und 10N benötigt. Im
Gegensatz zu diesen eliminiert das Leistungshalbleiter-Bauelement der
siebten bevorzugten Ausführungsform
solche Unannehmlichkeiten und ermöglicht die Vereinfachung der
Bauelementstruktur und der Zusammenschaltung.
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Achte bevorzugte Ausführungsform
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36 ist
eine Draufsicht, die eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
der achten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, entsprechend 1.
Anstelle der Harzrippe 4 aus 1 ist eine
Rippe 40, hergestellt aus Metall, wie zum Beispiel Kupfer,
vorgesehen. Dies verbessert die Ausstrahlungseffizienz des diskreten
Halbleiter-Bauelements 1 verglichen mit der oben besprochenen
ersten bevorzugten Ausführungsform.
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37 ist
ein Querschnitt, der eine Variation der achten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, entsprechend 2.
Anstelle der Rippe 40 von 36 ist
im Kanal 9 für
das Kühlmittel
ein elastisches Bauteil 41, hergestellt aus Metall, wie
zum Beispiel Kupfer, angeordnet, auf welches von der Seitenfläche des
diskreten Halbleiter-Bauelements 1 Druck ausgeübt wird.
Im Besonderen ist das Bauteil 41 zwischen der Seitenfläche des
diskreten Halbleiter-Bauelements 1 und der inneren Wand
des Gehäusekörpers 5 angeordnet,
wobei es gedrückt
wird und mit seiner elastischen Rückstellkraft auf die Seitenfläche des
diskreten Halbleiter-Bauelements 1 Druck ausübt. Das
Bauelement 41 berührt
dabei sicher die Seitenfläche
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 und deshalb wird
die Wärme
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 über das
Bauteil 41 zum Kühlmittel übertragen.
Obwohl die Rippen 4 und 40 durch Löten oder Ähnliches
mit dem diskreten Halbleiter-Bauelement 1 verbunden sein
müssen,
muss das Bauteil 41 nur zwischen dem diskreten Halbleiter-Bauelement 1 und
dem Gehäusekörper 5 eingesetzt
werden. Deshalb ermöglicht eine
Verwendung des Bauteils 41 anstelle der Rippen 4 oder 40 eine
einfache Herstellung des Leistungshalbleiter-Bauelements.
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Ausserdem
ist, wenn das Bauteil 41 in der Struktur von 7 anstelle
der Rippe 4 verwendet wird, das Bauteil 41 zwischen
der Seitenfläche
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 und
der inneren Wand des Gehäusekörpers 5 oder
zwischen den Seitenflächen
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 angeordnet.
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Neunte bevorzugte Ausführungsform
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38 ist
ein Querschnitt, der eine Struktur eines Leistungshalbleiter-Bauelements
gemäss
der neunten bevorzugten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung zeigt, entsprechend 2.
Mindestens ein Teil der Oberfläche
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1,
der das Kühlmittel
berührt,
ist mit einem Metallfilm 42 bedeckt. Der Metallfilm 42 wird durch
Beschichten, Löten
oder dergleichen gebildet.
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Somit
ist es im Leistungshalbleiter-Bauelement der neunten bevorzugten
Ausführungsform durch
Anordnung des Metallfilms 42 möglich, die Wärmeabstrahlung
des diskreten Halbleiter-Bauelements 1 und die Wasserbeständigkeit
desselben gegenüber
dem Kühlmittel
zu verbessern.
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Obwohl
der Fall eines diskreten Halbleiter-Bauelements erörtert wurde,
das eine Eins- in-Einem-Funktion
hat, bei dem ein Paar von Eingängen und
Ausgängen
angeordnet ist, kann ein multifunktionelles diskretes Halbleiter-Bauelement,
das eine Zwei-in-Einem-Funktion,
eine Sechs-in-Einem-Funktion, eine Sieben-in-Einem-Funktion oder
dergleichen hat oder ein diskretes Halbleiter-Bauelement, das die
Funktion eines integrierten Schaltkreises oder dergleichen umfasst,
verwendet werden.