DE102021102445A1 - Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung - Google Patents
Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung Download PDFInfo
- Publication number
- DE102021102445A1 DE102021102445A1 DE102021102445.5A DE102021102445A DE102021102445A1 DE 102021102445 A1 DE102021102445 A1 DE 102021102445A1 DE 102021102445 A DE102021102445 A DE 102021102445A DE 102021102445 A1 DE102021102445 A1 DE 102021102445A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- power
- control
- semiconductor device
- chips
- connections
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims abstract description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/49—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions wire-like arrangements or pins or rods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4885—Wire-like parts or pins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4885—Wire-like parts or pins
- H01L21/4889—Connection or disconnection of other leads to or from wire-like parts, e.g. wires
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
- H01L23/3677—Wire-like or pin-like cooling fins or heat sinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49548—Cross section geometry
- H01L23/49551—Cross section geometry characterised by bent parts
- H01L23/49555—Cross section geometry characterised by bent parts the bent parts being the outer leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49568—Lead-frames or other flat leads specifically adapted to facilitate heat dissipation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5384—Conductive vias through the substrate with or without pins, e.g. buried coaxial conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0601—Structure
- H01L2224/0603—Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48095—Kinked
- H01L2224/48096—Kinked the kinked part being in proximity to the bonding area on the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
- H01L2224/48139—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate with an intermediate bond, e.g. continuous wire daisy chain
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Geometry (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Eine Aufgabe besteht darin, eine Technik bereitzustellen, die imstande ist, eine Wärmeableitung zu verbessern, während die Verarbeitbarkeit eines Produkts in einer Halbleitervorrichtung aufrechterhalten wird. Eine Halbleitervorrichtung (100) enthält Leistungs-Chips (2a bis 2f), Steuerungs-Chips (1a, 1b), die dafür konfiguriert sind, die Leistungs-Chips (2a bis 2f) zu steuern, leistungsseitige Anschlüsse (6), die mit den Leistungs-Chips (2a bis 2f) verbunden sind, steuerungsseitige Anschlüsse (5), die mit den Steuerungs-Chips (1a, 1b) verbunden sind, und ein Gussharz (8), das die Leistungs-Chips (2a bis 2f), die Steuerungs-Chips (1a, 1b), eine Seite der einen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) und eine Seite der einen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse (5) bedeckt. Eine Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) und eine Seite der anderen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse (5) stehen aus einer seitlichen Oberfläche des Gussharzes (8) horizontal vor und biegen sich an deren Mittelteilen nach unten. Von den leistungsseitigen Anschlüssen (6) und den steuerungsseitigen Anschlüssen (5) sind nur auf der Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) Teilbereiche (10) zur Wärmeableitung ausgebildet, die von nach unten gebogenen Teilbereichen in einer Richtung auf das Gussharz (8) zu oder von ihm weg vorstehen.
Description
- Hintergrund der Erfindung
- Gebiet der Erfindung
- Die vorliegende Offenbarung bezieht sich auf eine Halbleitervorrichtung und ein Herstellungsverfahren der Halbleitervorrichtung.
- Beschreibung der Hintergrundtechnik
- Eine Halbleitervorrichtung enthält einen auf einem Leiterrahmen angeordneten Leistungs-Chip, einen Steuerungs-Chip, der den Leistungs-Chip steuert, ein Form- bzw. Gussharz, das den Leistungs-Chip und den Steuerungs-Chip bedeckt, und einen Anschluss, der aus dem Gussharz vorsteht und mit einem Substrat verbunden ist, auf dem die Halbleitervorrichtung montiert ist. Es bestand ein Problem, bei dem sich die durch den Leistungs-Chip erzeugte Wärme über den Anschluss zum Substrat ausbreitet, was den Temperaturanstieg im Substrat verursachte.
- Typischerweise hat der Querschnitt des Anschlusses eine rechtwinklige Form; jedoch offenbart die offengelegte
japanische Patentanmeldung Nr. 2006-80180 - Zusammenfassung
- In der in der offengelegten
japanischen Patentanmeldung Nr. 2006-80180 - Eine Aufgabe der vorliegenden Offenbarung besteht darin, eine Technik bereitzustellen, die imstande ist, eine Wärmeableitung zu verbessern, während die Verarbeitbarkeit eines Produkts in einer Halbleitervorrichtung aufrechterhalten wird.
- Die Halbleitervorrichtung gemäß der vorliegenden Offenbarung enthält Leistungs-Chips, Steuerungs-Chips, leistungsseitige Anschlüsse, steuerungsseitige Anschlüsse und ein Gussharz. Der Steuerungs-Chip steuert den Leistungs-Chip. Die leistungsseitigen Anschlüsse sind mit den Leistungs-Chips verbunden. Die steuerungsseitigen Anschlüsse sind mit den Steuerungs-Chips verbunden. Das Gussharz bedeckt die Leistungs-Chips, die Steuerungs-Chips, eine Seite der einen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse und eine Seite der einen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse. Eine Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse und eine Seite der anderen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse stehen aus einer seitlichen Oberfläche des Gussharzes horizontal vor und biegen sich an deren Mittelteilen nach unten. Von den leistungsseitigen Anschlüssen und den steuerungsseitigen Anschlüssen sind nur auf der Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse Teilbereiche zur Wärmeableitung ausgebildet, die von nach unten gebogenen Teilbereichen in einer Richtung auf das Gussharz zu oder von ihm weg vorstehen.
- Eine Verbesserung der Wärmeableitungseigenschaft wird sichergestellt, während die Verarbeitbarkeit des Produkts in der Halbleitervorrichtung aufrechterhalten wird.
- Diese und andere Aufgaben, Merkmale, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Offenbarung werden aus der folgenden detaillierten Beschreibung der vorliegenden Erfindung ersichtlicher werden, wenn sie in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen vorgenommen wird.
- Figurenliste
-
-
1 ist ein Diagramm einer internen Konfiguration einer Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 1; -
2 ist eine Seitenansicht, die einen Zustand veranschaulicht, in dem die Halbleitervorrichtung umgedreht ist; -
3 ist ein Schaltungsdiagramm der Halbleitervorrichtung; -
4 ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht eines leistungsseitigen Anschlusses und seiner Umgebung; -
5A bis5C sind vergrößerte perspektivische Ansichten des leistungsseitigen Anschlusses und dessen Umgebung, die ein Verfahren zum Herstellen des leistungsseitigen Anschlusses veranschaulichen; -
6A und6B sind vergrößerte perspektivische Ansichten des steuerungsseitigen Anschlusses und seiner Umgebung, die ein Verfahren zum Herstellen des steuerungsseitigen Anschlusses veranschaulichen; -
7 ist eine vergrößerte Vorderansicht eines in einer Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 2 enthaltenen leistungsseitigen Anschlusses und seiner Umgebung; und -
8 ist eine vergrößerte Vorderansicht eines in einer Halbleitervorrichtung gemäß einer Ausführungsform 3 enthaltenen leistungsseitigen Anschlusses und seiner Umgebung. - Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
- <Ausführungsform 1 >
- Unter Bezugnahme auf die Zeichnungen wird im Folgenden eine Ausführungsform 1 beschreiben.
1 ist ein Diagramm einer internen Konfiguration einer Halbleitervorrichtung100 gemäß der Ausführungsform 1.2 ist eine Seitenansicht, die einen Zustand veranschaulicht, in dem die Halbleitervorrichtung100 umgedreht ist.3 ist ein Schaltungsdiagramm der Halbleitervorrichtung100 . - Wie in
1 veranschaulicht ist, enthält die Halbleitervorrichtung100 eine Isolierplatte3 , Leiterrahmen4a bis4f , Leistungs-Chips2a bis2f , Steuerungs-Chips1a und1b und ein Form- bzw. Gussharz8 . - Die Isolierplatte
3 ist eine Platte, in der eine Metallfolie oder eine Metallplatte und ein Isolierharz miteinander verklebt sind, und ist aus einem Material mit ausgezeichneter Isolierung und Wärmeleitfähigkeit geschaffen. Die Leiterrahmen4c bis4f sind auf der oberen Oberfläche der Isolierplatte3 angeordnet. Die Leistungs-Chips2a bis2c sind auf der oberen Oberfläche des Leiterrahmens4c montiert. Die Leistungs-Chips2a bis2c sind Leistungs-Chips für hohe Spannung, an die eine hohe Spannung angelegt wird. Die Leistungs-Chips2d bis2f sind jeweils auf den oberen Oberflächen der Leiterrahmen4d bis4f montiert. Die Leistungs-Chips2d bis2f sind Leistungs-Chips für niedrige Spannung, an die eine Spannung angelegt wird, die niedriger als die an die Leistungs-Chips für eine hohe Spannung angelegte Spannung ist. - Die Leiterrahmen
4a und4b sind außerhalb der Isolierplatte3 angeordnet. Die Steuerungs-Chips1a und1b sind auf den oberen Oberflächen der Leiterrahmen4a bzw.4b montiert. Der Steuerungs-Chip1a ist eine sogenannte integrierte Schaltung für hohe Spannung (HVIC), die die Leistungs-Chips2a bis2c auf der Hochspannungsseite steuert. Der Steuerungs-Chip1b ist eine sogenannte integrierte Schaltung für niedrige Spannung (LVIC), die die Leistungs-Chips2d bis2f auf der Niederspannungsseite steuert. - Wie in
1 und3 veranschaulicht ist, enthält jeder Leistungs-Chip2a bis2f einen Bipolartransistor mit isoliertem Gate (IGBT) und eine Freilaufdiode (FWD). Zwischen dem Steuerungs-Chip1a und den Leistungs-Chips2a bis2c , zwischen dem Steuerungs-Chip1b und den Leistungs-Chips2d bis2f und zwischen jedem IGBT und jeder FWD sind Drähte angeschlossen. - Die Leiterrahmen
4a und4b bilden einen Teil der steuerungsseitigen Anschlüsse5 , die jeweils mit den Steuerungs-Chips1a und1b verbunden sind, und sind mit dem Rest der steuerungsseitigen Anschlüsse5 verbunden. Die Leiterrahmen4c bis4f bilden einen Teil der leistungsseitigen Anschlüsse6 , die jeweils mit den Leistungs-Chips2a bis2f verbunden sind, und sind mit dem Rest der leistungsseitigen Anschlüsse6 verbunden. Ein leistungsseitiger Anschluss6 weist eine Vielzahl von Phasen eines Ausgangsanschlusses, eines positiven Elektrodenanschlusses und eines negativen Elektrodenanschlusses auf. - Das Gussharz
8 bedeckt die Leistungs-Chips2a bis2f , die Steuerungs-Chips1a und1b , eine Seite der einen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse6 und eine Seite der einen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse5 . Wie in1 und2 veranschaulicht ist, sind ferner die Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse6 und die Seite der anderen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse5 aus dem Gussharz8 freigelegt. Eine Halbleitervorrichtung, in der das Gussharz8 auch als die Isolierplatte3 dient, ist ein sogenannter Vollgusstyp, und die Halbleitervorrichtung vom Vollgusstyp enthält keine Isolierplatte3 . - Als Nächstes wird unter Bezugnahme auf
4 die Struktur eines leistungsseitigen Anschlusses6 beschrieben, die ein Merkmal der Ausführungsform 1 ist.4 ist eine vergrößerte perspektivische Ansicht des leistungsseitigen Anschlusses6 und seiner Umgebung. - Wie in
4 veranschaulicht ist, hat die Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 eine Form, die aus der seitlichen Oberfläche des Gussharzes8 horizontal vorsteht und sich am Mittelteil nach unten biegt. Das heißt, die Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 ist in einer Vorderansicht L-förmig. Obgleich nicht veranschaulicht weist auch die Seite des anderen Endes des steuerungsseitigen Anschlusses5 eine Form auf, die aus der seitlichen Oberfläche des Gussharzes8 horizontal vorsteht und sich am Mittelteil nach unten biegt. Das heißt, die Seite des anderen Endes des steuerungsseitigen Anschlusses6 ist in einer Vorderansicht L-förmig. - Um die Wärmeableitung zu verbessern, während die Verarbeitbarkeit des Produkts aufrechterhalten wird, ist von dem leistungsseitigen Anschluss
6 und dem steuerungsseitigen Anschluss5 nur auf der Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 ein Paar von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung ausgebildet. Das Paar von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung ist in einer Vorderansicht rechteckig und ist auf dem oberen Teilbereich des nach unten gebogenen Teilbereichs der Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 ausgebildet. Ferner steht das Paar von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung von beiden Enden in der Breitenrichtung des nach unten gebogenen Teilbereichs auf der Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 in der Breitenrichtung des Gussharzes8 , das heißt in der Richtung weg vom Gussharz8 , vor. - Das Paar von Teilbereichen
10 zur Wärmeableitung kann statt vom Gussharz8 weg in einer Richtung auf das Gussharz8 zu vorstehen. Überdies ist das Paar von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung auf der Seite des anderen Endes des positiven Elektrodenanschlusses oder auf der Seite des anderen Endes des negativen Elektrodenanschlusses ausgebildet, was insbesondere im Hinblick auf einen Temperaturanstieg von Bedeutung ist, wenn eine mittels einer dreiphasigen Wechselstromleistung betriebene Vorrichtung unter den leistungsseitigen Anschlüssen6 mit der Halbleitervorrichtung100 verbunden ist. - Als Nächstes wird unter Bezugnahme auf
5A bis5C ein Verfahren zum Herstellen des leistungsseitigen Anschlusses6 beschrieben.5A bis5C sind vergrößerte perspektivische Ansichten des leistungsseitigen Anschlusses6 und seiner Umgebung, die ein Verfahren zum Herstellen des leistungsseitigen Anschlusses6 veranschaulichen. - Wie in
5A veranschaulicht ist, ist die Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 so ausgebildet, dass sie vorstehende Teilbereiche10a aufweist, die sich in der horizontalen Richtung erstrecken und von beiden Enden in der Breitenrichtung des leistungsseitigen Anschlusses6 in der Breitenrichtung vorstehen. Zunächst wird das Gussharz8 so ausgebildet, dass es die Leistungs-Chips2a bis2f , die Steuerungs-Chips1a und1b , eine Seite der einen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse6 und eine Seite der einen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse5 bedeckt. - Als Nächstes werden, wie in
5B veranschaulicht ist, nachdem das Gussharz8 ausgebildet ist, die Teilbereiche10 zur Wärmeableitung gebildet, indem die vorstehenden Teilbereiche10a des leistungsseitigen Anschlusses6 nach oben oder unten gebogen werden. Wie in5C veranschaulicht ist, wird als Nächstes die Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 am Mittelteil so nach unten gebogen, dass die Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 in einer Vorderansicht eine L-Form aufweist. - Als Nächstes wird ein Verfahren zum Herstellen des steuerungsseitigen Anschlusses
5 unter Bezugnahme auf6A und6B beschrieben.6A und6B sind vergrößerte perspektivische Ansichten des steuerungsseitigen Anschlusses5 und seiner Umgebung, die ein Verfahren zum Herstellen des steuerungsseitigen Anschlusses5 veranschaulichen. - Der steuerungsseitige Anschluss
5 wird in gleichen Prozessen wie jenen des leistungsseitigen Anschlusses6 hergestellt. Das heißt, der in6A veranschaulichte Prozess wird in dem in5A veranschaulichten Prozess durchgeführt, und der in6B veranschaulichte Prozess wird in dem in5C veranschaulichten Prozess durchgeführt. - Wie oben beschrieben wurde, enthält die Halbleitervorrichtung
100 gemäß der Ausführungsform 1 die Leistungs-Chips2a bis2f , die Steuerungs-Chips1a und1b , die die Leistungs-Chips2a bis2f steuern, die leistungsseitigen Anschlüsse6 , die mit den Leistungs-Chips2a bis2f verbunden sind, die steuerungsseitigen Anschlüsse5 , die mit den Steuerungs-Chips1a und1b verbunden sind, und das Gussharz8 , das die Leistungs-Chips2a bis2f , die Steuerungs-Chips1a und1b , eine Seite der einen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse6 und eine Seite der einen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse5 bedeckt. Die Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse6 und die Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse5 stehen aus der seitlichen Oberfläche des Gussharzes8 horizontal vor und biegen sich an den Mittelteilen nach unten, und von den leistungsseitigen Anschlüssen6 und den steuerungsseitigen Anschlüssen5 sind nur auf der Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse6 die Teilbereiche10 zur Wärmeableitung ausgebildet, die von nach unten gebogenen Teilbereichen in einer Richtung auf das Gussharz8 zu oder von ihm weg vorstehen. - Die Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses
6 weist ferner vorstehende Teilbereiche10a auf, die von beiden Enden in der Breitenrichtung des leistungsseitigen Anschlusses6 aus in der Breitenrichtung vorstehen. Das Verfahren zum Herstellen der Halbleitervorrichtung100 umfasst einen Schritt (a), um die Teilbereiche10 zur Wärmeableitung auszubilden, indem nach einem Ausbilden des Gussharzes8 die vorstehenden Teilbereiche10a des leistungsseitigen Anschlusses6 gebogen werden, und einen Schritt (b), um die Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 an seinem Mittelteil zu biegen. - Die Teilbereiche
10 zur Wärmeableitung sind von den leistungsseitigen Anschlüssen6 und den steuerungsseitigen Anschlüssen5 nur auf der Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse6 ausgebildet; daher wird die Wärmeableitungseigenschaft der Halbleitervorrichtung100 verbessert. Die Teilbereiche10 zur Wärmeableitung sind auf den steuerungsseitigen Anschlüssen5 mit einer feinen Anschlussbreite nicht ausgebildet; daher wird in der Halbleitervorrichtung100 sichergestellt, dass die Verarbeitbarkeit des Produkts aufrechterhalten wird. - Der leistungsseitige Anschluss
6 umfasst einen positiven Elektrodenanschluss und einen negativen Elektrodenanschluss, und die Teilbereiche10 zur Wärmeableitung sind auf der Seite des anderen Endes des positiven Elektrodenanschlusses oder der Seite des anderen Endes des negativen Elektrodenanschlusses ausgebildet. Falls eine mittels einer dreiphasigen Wechselstromleistung betriebene Vorrichtung mit der Halbleitervorrichtung100 verbunden ist, sind die Teilbereiche10 zur Wärmeableitung auf der Seite des anderen Endes des positiven Elektrodenanschlusses oder auf der Seite des anderen Endes des negativen Elektrodenanschlusses am anderen Ende ausgebildet; daher sind in der Halbleitervorrichtung100 sowohl die Aufrechterhaltung der Verarbeitbarkeit als auch eine Verbesserung der Wärmeableitung des Produkts erreichbar. - <Ausführungsform 2>
- Anschließend wird eine Halbleitervorrichtung
100 gemäß einer Ausführungsform 2 beschrieben.7 ist eine vergrößerte Vorderansicht eines leistungsseitigen Anschlusses6 , der in der Halbleitervorrichtung100 gemäß der Ausführungsform 2 enthalten ist, und seiner Umgebung. In der Ausführungsform 2 sind die gleichen Komponenten wie jene, die in der Ausführungsform 1 beschrieben sind, mit den gleichen Bezugsziffern bezeichnet, und deren Beschreibung wird unterlassen. - Wie in
7 veranschaulicht ist, sind in der Ausführungsform 2 drei Durchgangslöcher11 in jedem Teilbereich10 zur Wärmeableitung ausgebildet, um die Oberfläche eines Paars von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung zu vergrößern. Die drei Durchgangslöcher11 sind so ausgebildet, dass sie sich in der vertikalen Richtung ausgerichtet in jedem Teilbereich10 zur Wärmeableitung in der Dickenrichtung erstrecken. Die drei Durchgangslöcher11 werden zu der Zeit gebildet, zu der der leistungsseitige Anschluss6 hergestellt wird. - In
7 kann, obgleich das Paar von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung in einer Richtung auf das Gussharz8 zu vorsteht, das Paar von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung in einer Richtung weg vom Gussharz8 ausgebildet sein. Überdies ist die Anzahl an Durchgangslöchern11 nicht auf drei beschränkt und muss nur eins oder mehr betragen. - Wie oben beschrieben wurde, sind die Durchgangslöcher
11 in der Halbleitervorrichtung100 gemäß der Ausführungsform 2 ausgebildet. Dementsprechend wird die Oberfläche des Teilbereichs10 zur Wärmeableitung vergrößert; daher wird die Eigenschaft einer Wärmeableitung der Halbleitervorrichtung100 weiter verbessert. - <Ausführungsform 3>
- Anschließend wird eine Halbleitervorrichtung
100 gemäß einer Ausführungsform 3 beschrieben.8 ist eine vergrößerte Vorderansicht eines leistungsseitigen Anschlusses, der in der Halbleitervorrichtung100 gemäß der Ausführungsform 3 enthalten ist, und seiner Umgebung. In der Ausführungsform 3 sind die gleichen Komponenten wie jene, die in den Ausführungsformen 1 und 2 beschrieben sind, mit den gleichen Bezugsziffern bezeichnet, und deren Beschreibung wird unterlassen. - Wie in
8 veranschaulicht ist, ist in der Ausführungsform 3 jeder Teilbereich10 zur Wärmeableitung an dem Teilbereich am Spitzenende auf der Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 ausgebildet. Konkret ist jeder Teilbereich10 zur Wärmeableitung vom unteren Ende des nach unten gebogenen Teilbereichs bis zu einem den oberen Endteilbereich des leistungsseitigen Anschlusses6 ausschließenden Teilbereich ausgebildet. Der Teilbereich am Spitzenende (unterer Endteilbereich) jedes Teilbereichs10 zur Wärmeableitung ist zur Verbesserung der Einsetzbarkeit des leistungsseitigen Anschlusses6 zu der Zeit, zu der die Halbleitervorrichtung100 auf das Substrat montiert wird, in einer spitz zulaufenden Form ausgebildet. Die spitz zulaufende Form wird zu der Zeit gebildet, zu der der leistungsseitige Anschluss6 hergestellt wird. - Obgleich das Paar von Teilbereichen
10 zur Wärmeableitung in8 in einer Richtung auf das Gussharz8 zu vorsteht, kann das Paar von Teilbereichen10 zur Wärmeableitung in einer Richtung weg vom Gussharz8 ausgebildet sein. - Wie oben beschrieben wurde, ist in der Halbleitervorrichtung
100 gemäß der Ausführungsform 3 der Teilbereich10 zur Wärmeableitung am Teilbereich am Spitzenende der Seite des anderen Endes des leistungsseitigen Anschlusses6 ausgebildet, und der Endteilbereich am Spitzenende des wärmeabstrahlenden Teilbereichs10 hat eine spitz zulaufende Form. Folglich wird die Einsetzbarkeit des leistungsseitigen Anschlusses6 zu der Zeit, zu der die Halbleitervorrichtung100 auf das Substrat montiert wird, verbessert. - Ausführungsformen können beliebig kombiniert werden und können geeignet modifiziert oder weggelassen werden.
- Obgleich die Erfindung im Detail dargestellt und beschrieben wurde, ist die vorgehende Beschreibung in allen Aspekten veranschaulichend und nicht einschränkend. Es versteht sich daher, dass zahlreiche Modifikationen und Variationen konzipiert werden können, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- JP 2006080180 [0003, 0004]
Claims (5)
- Halbleitervorrichtung (100), aufweisend: Leistungs-Chips (2a bis 2f); Steuerungs-Chips (1a, 1b), die dafür konfiguriert sind, die Leistungs-Chips (2a bis 2f) zu steuern; leistungsseitige Anschlüsse (6), die mit den Leistungs-Chips (2a bis 2f) verbunden sind; steuerungsseitige Anschlüsse (5), die mit den Steuerungs-Chips (1a, 1b) verbunden sind; und ein Gussharz (8), das die Leistungs-Chips (2a bis 2f), die Steuerungs-Chips (1a, 1b) eine Seite der einen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) und eine Seite der einen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse (5) bedeckt, wobei eine Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) und eine Seite der anderen Enden der steuerungsseitigen Anschlüsse (5) aus einer seitlichen Oberfläche des Gussharzes (8) horizontal vorstehen und sich an deren Mittelteilen nach unten biegen und von den leistungsseitigen Anschlüssen (6) und den steuerungsseitigen Anschlüssen (5) nur auf der Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) Teilbereiche (10) zur Wärmeableitung ausgebildet sind, die von nach unten gebogenen Teilbereichen in einer Richtung auf das Gussharz (8) zu oder von ihm weg vorstehen.
- Halbleitervorrichtung (100) nach
Anspruch 1 , wobei die leistungsseitigen Anschlüsse (6) einen positiven Elektrodenanschluss und einen negativen Elektrodenanschluss umfassen und die Teilbereiche (10) zur Wärmeableitung auf einer Seite des anderen Endes des positiven Elektrodenanschlusses oder einer Seite des anderen Endes des negativen Elektrodenanschlusses ausgebildet sind. - Halbleitervorrichtung (100) nach
Ansprüchen 1 oder2 , wobei ein Durchgangsloch (11) auf den Teilbereichen (10) zur Wärmeableitung ausgebildet ist. - Halbleitervorrichtung (100) nach einem der
Ansprüche 1 bis3 , wobei die Teilbereiche (10) zur Wärmeableitung an Teilbereichen am Spitzenende der Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) ausgebildet sind und Teilbereiche am Spitzenende der Teilbereiche (10) zur Wärmeableitung in einer spitz zulaufenden Form ausgebildet sind. - Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung (100), das die Halbleitervorrichtung (100) nach einem der
Ansprüche 1 bis4 herstellt, wobei die Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) vorstehende Teilbereiche (10a) aufweist, die von beiden Enden in einer Breitenrichtung der leistungsseitigen Anschlüsse (6) in einer Breitenrichtung vorstehen, wobei das Verfahren aufweist: (a) ein Ausbilden der Teilbereiche (10) zur Wärmeableitung, indem die vorstehenden Teilbereiche (10a) der leistungsseitigen Anschlüsse (6) gebogen werden, nachdem das Gussharz (8) ausgebildet ist; und (b) ein Biegen der Seite der anderen Enden der leistungsseitigen Anschlüsse (6) an deren Mittelteilen.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020-057299 | 2020-03-27 | ||
JP2020057299A JP7316968B2 (ja) | 2020-03-27 | 2020-03-27 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102021102445A1 true DE102021102445A1 (de) | 2021-09-30 |
Family
ID=77658995
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102021102445.5A Pending DE102021102445A1 (de) | 2020-03-27 | 2021-02-03 | Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11462451B2 (de) |
JP (1) | JP7316968B2 (de) |
CN (1) | CN113451243A (de) |
DE (1) | DE102021102445A1 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116705748B (zh) * | 2023-08-08 | 2023-10-17 | 山东隽宇电子科技有限公司 | 一种半导体大面积冷却引线框架 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006080180A (ja) | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Seiko Epson Corp | 電子部品、圧電発振器および電子機器 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH073848B2 (ja) * | 1984-09-28 | 1995-01-18 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
JPH01183840A (ja) * | 1988-01-19 | 1989-07-21 | Hitachi Ltd | 半導体装置 |
US5157480A (en) * | 1991-02-06 | 1992-10-20 | Motorola, Inc. | Semiconductor device having dual electrical contact sites |
JP4833795B2 (ja) | 2006-10-31 | 2011-12-07 | 新日本製鐵株式会社 | 半導体素子の接続リード |
JP5145596B2 (ja) | 2008-04-15 | 2013-02-20 | 三菱電機株式会社 | 半導体装置 |
WO2009150995A1 (ja) * | 2008-06-12 | 2009-12-17 | 三菱電機株式会社 | 電力半導体回路装置およびその製造方法 |
JP6345583B2 (ja) | 2014-12-03 | 2018-06-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP6633859B2 (ja) * | 2015-07-31 | 2020-01-22 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2017069352A (ja) * | 2015-09-29 | 2017-04-06 | サンケン電気株式会社 | 半導体装置 |
JP6939392B2 (ja) * | 2017-10-17 | 2021-09-22 | 三菱電機株式会社 | パワーモジュール |
-
2020
- 2020-03-27 JP JP2020057299A patent/JP7316968B2/ja active Active
- 2020-12-08 US US17/115,322 patent/US11462451B2/en active Active
-
2021
- 2021-02-03 DE DE102021102445.5A patent/DE102021102445A1/de active Pending
- 2021-03-22 CN CN202110301774.8A patent/CN113451243A/zh active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006080180A (ja) | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Seiko Epson Corp | 電子部品、圧電発振器および電子機器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11462451B2 (en) | 2022-10-04 |
JP2021158229A (ja) | 2021-10-07 |
CN113451243A (zh) | 2021-09-28 |
US20210305110A1 (en) | 2021-09-30 |
JP7316968B2 (ja) | 2023-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10221891B4 (de) | Leistungshalbleitervorrichtung | |
DE112012007339B3 (de) | Halbleitermodul und Verfahren zur Herstellung des Halbleitermoduls | |
DE112020006524T5 (de) | Halbleitermodul | |
DE102017205116B4 (de) | Halbleitervorrichtung und Fertigungsverfahren derselben | |
DE102016219126A1 (de) | Halbleitervorrichtung und dessen Herstellungsverfahren | |
DE102015221590A1 (de) | Halbleitermodul und Halbleitervorrichtung | |
DE102015215133A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE112015007169T5 (de) | Halbleitermodul | |
DE112019005303T5 (de) | Halbleitermodul, leistungsumsetzungsvorrichtung und herstellungsverfahren für das halbleitermodul | |
DE102017213288B4 (de) | Halbleitermodul, Halbleitervorrichtung und elektrische Leistungsvorrichtung | |
DE102011082781A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE102018208437A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE102020122125A1 (de) | Halbleitermodul | |
DE102015103897A1 (de) | Leitungsrahmen mit Kühlerplatte, Verfahren zur Herstellung eines Leitungsrahmens mit Kühlerplatte, Halbleitervorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung | |
DE102020204406A1 (de) | Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung | |
DE102020109692A1 (de) | Quad-gehäuse mit an anschlüssen an der oberseite eines halbleiterchips angebrachten leitenden clips | |
DE102017212186A1 (de) | Mit Gießharz versiegelte Leistungshalbleiter-Einrichtung | |
DE112020000344T5 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE102021102445A1 (de) | Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung | |
DE112017003073T5 (de) | Stromwandlungsvorrichtung | |
DE102018126311A1 (de) | Leistungshalbleitermodul | |
DE112020006455T5 (de) | Halbleitervorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Halbleitervorrichtung | |
DE102018216399B4 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Leistungs-Halbleitermoduls und Leistungs-Halbleitermodul | |
DE102017203030A1 (de) | Leistungshalbleitergehäuse mit leistungshalbleiternacktchip in einem trägersubstrat mit stabförmigen durchkontaktierungen | |
DE112019002345T5 (de) | Leistungs-halbleiterbauelement, verfahren zur herstellung von leistungshalbleiterbauelementen und leistungswandler |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R012 | Request for examination validly filed | ||
R016 | Response to examination communication | ||
R084 | Declaration of willingness to licence |