DE102019125632B4 - Integrierte schaltung, system und verfahren zum ausbilden derselben - Google Patents

Integrierte schaltung, system und verfahren zum ausbilden derselben Download PDF

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Abstract

Verfahren zum Ausbilden einer integrierten Schaltung, IC, wobei das Verfahren umfasst:Generieren, durch einen Prozessor, eines ersten Standardzellen-Layoutdesigns (106a) der integrierten Schaltung, wobei das Generieren des ersten Standardzellen-Layoutdesigns (106a) umfasst:- Generieren eines ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (120), die sich in einer ersten Richtung erstrecken, auf einer ersten Metallebene angeordnet sind und einen ersten Satz von Gitterlinien (102), die sich in der ersten Richtung erstrecken, überlappen;Generieren eines zweiten Standardzellen-Layoutdesigns (106b) der integrierten Schaltung, wobei das zweite Standardzellen-Layoutdesign (106b) an dem ersten Standardzellen-Layoutdesign (106a) entlang der ersten Richtung anliegt, wobei das Generieren des zweiten Standardzellen-Layoutdesigns (106b) umfasst:- Generieren eines zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (122), die sich in der ersten Richtung erstrecken, auf der ersten Metallebene angeordnet sind und einen zweiten Satz von Gitterlinien (104) überlappen, welche sich in der ersten Richtung erstrecken, und wobei der zweite Satz von Gitterlinien (104) von dem ersten Satz von Gitterlinien (102) in einer zweiten Richtung getrennt ist, die von der ersten Richtung verschieden ist;Generieren eines ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (110a, 110b, 110c), die sich in der ersten Richtung erstrecken, wobei eine Seite einer ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur (110a, 110b, 110c) des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (110a, 110b, 110c), welche sich in der ersten Richtung erstrecken, mit einer ersten Gitterlinie (102a, 104a, 104f) des ersten Satzes von Gitterlinien (102) oder des zweiten Satzes von Gitterlinien (104) ausgerichtet ist,wobei jede Schnittmerkmal-Layoutstruktur (110a, 110b, 110c) des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (110a, 110b, 110c) in dem ersten (106a) oder dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign (106b) enthalten ist; undHerstellen der integrierten Schaltung basierend auf dem ersten Standardzellen-Layoutdesign (106a) und dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign (106b), wobeieine Mitte jeder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur (120) des ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (120) mit einer entsprechenden Gitterlinie des ersten Satzes von Gitterlinien (102) ausgerichtet ist undeine Mitte jeder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur (122) des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (122) mit einer entsprechenden Gitterlinie (104) des zweiten Satzes von Gitterlinien (104) ausgerichtet ist.

Description

  • TECHNISCHER HINTERGRUND
  • Die Branche für integrierte Halbleiterschaltungen (IC) hat eine breite Vielfalt digitaler Vorrichtungen hervorgebracht, um Probleme in einer Anzahl verschiedener Bereiche zu lösen. Manche dieser digitalen Vorrichtungen, beispielsweise Speichermakros, sind zum Speichern von Daten eingerichtet. Während ICs zusehends kleiner und komplexer werden, hat sich der Widerstand von leitfähigen Leitungen innerhalb dieser digitalen Vorrichtungen ebenfalls geändert, was sich auf die Betriebsspannungen dieser digitalen Vorrichtungen und die Leistung der ICs insgesamt auswirkt.
  • Stand der Technik zum Gegenstand der Erfindung ist beispielsweise zu finden in US 2013 / 0 207 199 A1 , US 2004 / 0 195 690 A1 , US 2018 / 0 144 082 A1 , US 2003 / 0 155 587 A1 und DE 10 2013 106 383 A1 .
  • Die Erfindung wird durch den Hauptanspruch und die nebengeordneten Patentansprüche definiert. Weitere Ausführungsformen der Erfindung werden durch die abhängigen Patentansprüche wiedergegeben.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • Aspekte der vorliegenden Offenbarung lassen sich am besten anhand der folgenden ausführlichen Beschreibung verstehen, wenn diese in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen gelesen wird. Es ist zu beachten, dass verschiedene Merkmale gemäß der branchenüblichen Praxis nicht maßstabgetreu dargestellt sind. Vielmehr können die Abmessungen der verschiedenen Merkmale zugunsten der Klarheit der Erläuterung willkürlich vergrößert oder verkleinert sein.
    • 1A-1B sind Diagramme eines Layoutdesigns gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 1C ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 2A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 2B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 3A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 3B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 4A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 4B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 5A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 5B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 6A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 6B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 7 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Ausbilden oder Herstellen einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 8 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Generieren eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 9 ist eine schematische Ansicht eines Systems zum Entwerfen und Herstellen eines IC-Layoutdesigns gemäß einigen Ausführungsformen.
    • 10 ist ein Blockdiagramm eines IC-Fertigungssystems und eines zugehörigen IC-Fertigungsablaufs gemäß mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Die nachstehende Offenbarung stellt verschiedene Ausführungsformen, oder Beispiele, zum Implementieren von Merkmalen des vorgesehenen Gegenstandes bereit. Konkrete Beispiele für Komponenten, Materialien, Werte, Schritte, Anordnungen oder dergleichen sind nachstehend beschrieben, um die vorliegende Offenbarung zu vereinfachen. Diese sind natürlich lediglich Beispiele und nicht einschränkend. Andere Komponenten, Materialien, Werte, Schritte, Anordnungen oder dergleichen werden in Erwägung gezogen. Beispielsweise kann in der folgenden Beschreibung die Ausbildung eines ersten Merkmals über oder auf einem zweiten Merkmal Ausführungsformen umfassen, bei denen das erste und das zweite Merkmal in direktem Kontakt ausgebildet sind, und auch Ausführungsformen umfassen, bei denen zusätzliche Merkmale zwischen dem ersten und dem zweiten Merkmal ausgebildet sein können, derart, dass das erste und das zweite Merkmal möglicherweise nicht in direktem Kontakt sind. Außerdem kann die vorliegende Offenbarung Bezugszahlen und/oder -buchstaben in den verschiedenen Beispielen wiederholen. Diese Wiederholung dient dem Zweck der Einfachheit und Verständlichkeit und schreibt nicht automatisch eine Beziehung zwischen den verschiedenen besprochenen Ausführungsformen und/oder Ausgestaltungen vor.
  • Ferner können in diesem Dokument räumlich relative Begriffe wie „darunter“, „unter“, „untere“, „über“, „obere“ und dergleichen zur Erleichterung der Beschreibung verwendet werden, um die Beziehung eines Elements oder Merkmals zu (einem) anderen Element(en) oder Merkmal(en), wie in den Figuren dargestellt, zu beschreiben. Die räumlich relativen Begriffe sollen zusätzlich zu der in den Figuren dargestellten Ausrichtung verschiedene Ausrichtungen der Vorrichtung bei der Verwendung oder beim Betrieb mit einschließen. Die Vorrichtung kann auf eine andere Weise ausgerichtet sein (um 90 Grad gedreht oder in anderen Ausrichtungen), und die in diesem Dokument verwendeten räumlich relativen Bezeichnungen können desgleichen dementsprechend ausgelegt werden.
  • Gemäß manchen Ausführungsformen umfasst ein Verfahren zum Ausbilden einer IC Generieren eines ersten Standardzellen-Layoutdesigns der IC, Generieren eines zweiten Standardzellen-Layoutdesigns der IC, Generieren eines ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen und Herstellen der IC-Schaltung basierend auf mindestens dem ersten Standardzellen-Layoutdesign oder dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign.
  • Bei manchen Ausführungsformen liegt das zweite Standardzellen-Layoutdesign an dem ersten Standardzellen-Layoutdesign in einer ersten Richtung an.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfasst das Generieren des ersten Standardzellen-Layoutdesigns das Generieren eines ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf einer ersten Metallebene angeordnet ist und einen ersten Satz von Gitterlinien, der sich in der ersten Richtung erstreckt, überlappt. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der erste Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines ersten Satzes von leitfähigen Strukturen.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfasst Generieren des zweiten Standardzellen-Layoutdesigns Generieren eines zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf einer ersten Metallebene angeordnet ist und einen zweiten Satz von Gitterlinien, der sich in der ersten Richtung erstreckt, überlappt. Bei manchen Ausführungsformen ist der zweite Satz von Gitterlinien von dem ersten Satz von Gitterlinien in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, getrennt. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der zweite Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines zweiten Satzes von leitfähigen Strukturen.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite einer ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen, die sich in der ersten Richtung erstreckt, mit einer ersten Gitterlinie des ersten Satzes von Gitterlinien oder des zweiten Satzes von Gitterlinien ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren der Seite der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen derart, dass sie mit entsprechenden Gitterlinien in dem ersten oder dem zweiten Satz von Gitterlinien ausgerichtet ist, die erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur ausreichend von einer Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur des ersten oder des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen getrennt, um Durchkontaktierungs-Landing-Spot-Designregeln nicht zu verletzen, und die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur ist verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur, die als zusätzliche Metallroutingbahn-Layoutstruktur in der ersten oder der zweiten Standardzellen-Layoutstruktur verwendbar ist, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • LAYOUTDESIGN EINER INTEGRIERTEN SCHALTUNG
  • 1A-1B sind Diagramme eines Layoutdesigns 100A gemäß einigen Ausführungsformen. Das Layoutdesign 100A ist ein Layoutdiagramm einer integrierten Schaltung 100C von 1C. Das Layoutdesign 100A ist verwendbar, um eine integrierte Schaltung, beispielsweise die integrierte Schaltung 100C von 1C, herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen weisen 1A-1B zusätzliche Elemente auf, die in 1A-1B nicht dargestellt sind.
  • 1B ist ein Diagramm eines entsprechenden Abschnitts 100B des Layoutdesigns 100A von 1A, das zur Vereinfachung der Darstellung vereinfacht ist. Der Abschnitt 100B weist ein oder mehrere Merkmale des Layoutdesigns 100A von 1A von der Schnittmetall-Eins(M1)-Ebene zu der Metall-Zwei(M2)-Ebene des Layoutdesigns 100A auf. Mit anderen Worten zeigt der Abschnitt 100B zur Vereinfachung der Darstellung die Metall-Eins-Ebene (M1-Ebene) des Layoutdesigns 100A nicht.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist der Abschnitt 100B auch ein oder mehrere gekennzeichnete Abmessungsmerkmale (z.B. Breiten, Abstände oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A von 1A sowie von Layoutdesign 200A (2A), Layoutdesign 300A ( 3A), Layoutdesign 400A (4A), Layoutdesign 500A (5A), Layoutdesign 600A (6A) auf, die in dem Layoutdesign 100A von 1A, dem Layoutdesign 200A (2A), dem Layoutdesign 300A (3A), dem Layoutdesign 400A (4A), dem Layoutdesign 500A ( 5A), dem Layoutdesign 600A (6A) zur Vereinfachung der Darstellung nicht gekennzeichnet sind. Allerdings versteht es sich, dass jedes von dem Layoutdesign 100A von 1A, dem Layoutdesign 200A (2A), dem Layoutdesign 300A (3A), dem Layoutdesign 400A ( 4A), dem Layoutdesign 500A (5A) oder dem Layoutdesign 600A (6A) auch eine oder mehrere gekennzeichnete Abmessungsmerkmale (z.B. Breiten, Abstände oder dergleichen) von Abschnitt 1B von 1B aufweist und daher der Kürze halber auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet wird.
  • Das Layoutdesign 100A weist Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b, 108a und 108b auf. Die Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b, 108a und 108b sind verwendbar, um entsprechende Standardzellen 106a', 106b', 108a' und 108b' der integrierten Schaltung 100C von 1C herzustellen.
  • Die Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 108a liegen an den entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 106b, 108b in einer ersten Richtung X entlang einer Zellengrenze 101a an. Die Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b liegen an den entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 108a, 108b in einer zweiten Richtung Y entlang einer Zellengrenze 101d an. Bei manchen Ausführungsformen ist die zweite Richtung Y von der ersten Richtung X verschieden. Bei manchen Ausführungsformen weist jede der Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b, 108a und 108b eine selbe entsprechende Höhe (nicht gekennzeichnet) in der zweiten Richtung Y auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind eine oder mehrere der Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b, 108a und 108b ein Layoutdesign einer Logikgatterzelle. Bei manchen Ausführungsformen umfasst eine Logikgatterzelle eine AND-, OR-, NAND-, NOR-, XOR-, INV-, AND-OR-Invert(AOI)-, OR-AND-Invert(OAI)-, MUX-, Flip-Flop-, BUFF-, Latch-, Verzögerungs- oder Takt-Zelle. Bei manchen Ausführungsformen sind eine oder mehrere der Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b, 108a oder 108b ein Layoutdesign einer Speicherzelle. Bei manchen Ausführungsformen umfasst eine Speicherzelle ein statisches Random Access Memory (SRAM), ein dynamisches Random Access Memory (DRAM), ein resistives RAM (RRAM), ein magnetoresistives RAM (MRAM) oder einen Nur-Lese-Speicher (ROM). Bei manchen Ausführungsformen umfassen eine oder mehrere der Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b, 108a oder 108b Layoutdesigns von einem oder mehreren aktiven oder passiven Elementen. Beispiele für aktive Elemente umfassen Transistoren und Dioden, sind jedoch nicht darauf beschränkt. Beispiele für Transistoren umfassen Metalloxid-Halbleiter-Feldeffekttransistoren (MOSFET), Komplementär-Metalloxid-Halbleiter(CMOS)-Transistoren, Bipolartransistoren (BJT), Hochspannungstransistoren, Hochfrequenztransistoren, p-Kanal- und/oder n-Kanal-Feldeffekttransistoren (PFETs/NFETs) usw., FinFETs und planare MOS-Transistoren mit erhöhter Source/Drain, sind jedoch nicht darauf beschränkt. Beispiele für passive Elemente umfassen Kondensatoren, Induktoren, Sicherungen und Widerstände, sind jedoch nicht darauf beschränkt.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzellen-Layoutstruktur 106a mindestens eine Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110a, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 oder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130a und 130b (nachstehend beschrieben) auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzellen-Layoutstruktur 106b mindestens Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110b und 110c, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 oder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132a und 132b (nachstehend beschrieben) auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzellen-Layoutstruktur 108a mindestens eine Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112a, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 oder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134a und 134b (nachstehend beschrieben) auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzellen-Layoutstruktur 108b mindestens Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112b und 112c, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 oder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136a und 136b (nachstehend beschrieben) auf.
  • Das Layoutdesign 100A weist ferner einen Satz von Gitterlinien 102, einen Satz von Gitterlinien 104, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132, einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 und einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 auf.
  • Jeder von dem Satz von Gitterlinien 102 und dem Satz von Gitterlinien 104 erstreckt sich in der ersten Richtung X. Der Satz von Gitterlinien 102 weist mindestens die Gitterlinie 102a, die Gitterlinie 102b, die Gitterlinie 102c, die Gitterlinie 102d, die Gitterlinie 102e oder die Gitterlinie 102f auf. Jede Gitterlinie des Satzes von Gitterlinien 102 ist von einer benachbarten Gitterlinie des Satzes von Gitterlinien 102 in der zweiten Richtung Y in einem Abstand P1 getrennt.
  • Bei manchen Ausführungsformen definiert jede Gitterlinie 102a, 102b, 102c, 102d, 102e, 102f des Satzes von Gitterlinien 102 Regionen, wo entsprechende Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120a, 120b, 120c, 12od, 120e, 120f in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 oder entsprechende Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124a, 124b, 124c, 124d, 124e, 124f in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 positioniert sind. Bei manchen Ausführungsformen ist die Gitterlinie 102a mit einer Zellengrenze 101b der Standardzellenlayouts 106a und 108a ausgerichtet.
  • Der Satz von Gitterlinien 104 weist mindestens die Gitterlinie 104a, die Gitterlinie 104b, die Gitterlinie 104c, die Gitterlinie 104d, die Gitterlinie 104e oder die Gitterlinie 104f auf. Jede Gitterlinie des Satzes von Gitterlinien 104 ist von einer benachbarten Gitterlinie des Satzes von Gitterlinien 104 in der zweiten Richtung Y in dem Abstand P1 getrennt. Der Satz von Gitterlinien 102 ist von dem Satz von Gitterlinien 104 in der zweiten Richtung Y getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist die Gitterlinie 102f von der Gitterlinie 104a in der zweiten Richtung Y in dem Abstand P1 getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist die Gitterlinie 104f mit einer Zellengrenze 101c der Standardzellenlayouts 106b und 108b ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen wird der Satz von Gitterlinien 102 auch als erster Satz von Routingbahnen bezeichnet. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der Satz von Gitterlinien 102 oder der erste Satz von Routingbahnen Metall-2-(M2-) Routingbahnen.
  • Bei manchen Ausführungsformen definiert jede Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e, 104f des Satzes von Gitterlinien 104 Regionen, wo entsprechende Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122a, 122b, 122c, 122d, 122e, 122f in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 oder entsprechende Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126a, 126b, 126c, 126d, 126e, 126f in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 positioniert sind. Bei manchen Ausführungsformen wird der Satz von Gitterlinien 104 auch als zweiter Satz von Routingbahnen bezeichnet. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der Satz von Gitterlinien 104 oder der zweite Satz von Routingbahnen M2-Routingbahnen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 erstreckt sich in der ersten Richtung X. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120a, 120b, 120c, 12od, 120e oder 120f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 ist auf einer ersten Layout-Ebene angeordnet. Bei manchen Ausführungsformen ist die erste Layout-Ebene eine Metall-Zwei(M2)-Layout-Ebene.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 120' (1C) einer integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120a, 120b, 120c, 12od, 120e, 120f sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 120a', 120b', 120c' 120d', 120e', 120f' (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 überlappt einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 (nachstehend beschrieben). Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo, M1 oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen weist jede Layoutstruktur 120a, 120b, 120c, 120d, 120e, 120f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 eine Breite W1 in der zweiten Richtung Y auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt jede Layoutstruktur 120a, 120b, 120c, 12od, 120e, 120f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 eine entsprechende Gitterlinie 102a, 102b, 102c, 102d, 102e, 102f des Satzes von Gitterlinien 102. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte jeder Layoutstruktur 120a, 120b, 120c, 120d, 120e, 120f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 in der ersten Richtung X mit einer entsprechenden Gitterlinie 102a, 102b, 102c, 102d, 102e, 102f des Satzes von Gitterlinien 102 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 120b, 120c, 12od, 120e und 120f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 5 M2-Routingbahnen in dem Standardzellenlayout 106a. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120a ist über der Zellengrenze 101b der Standardzellen-Layoutstruktur 106a angeordnet.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 erstreckt sich in der ersten Richtung X. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 122a, 122b, 122c, 122d, 122e oder 122f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 ist auf einer ersten Layout-Ebene angeordnet.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 122' (1C) einer integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122a, 122b, 122c, 122d, 122e, 122f sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 122a', 122b', 122c' 122d', 122e', 122f (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 überlappt einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 (nachstehend beschrieben). Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo, M1 oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen weist jede Layoutstruktur 122a, 122b, 122c, 122d, 122e, 122f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 die Breite W1 in der zweiten Richtung Y auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt jede Layoutstruktur 122a, 122b, 122c, 122d, 122e, 122f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 eine entsprechende Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e, 104f des Satzes von Gitterlinien 104. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte jeder Layoutstruktur 122a, 122b, 122c, 122d, 122e, 122f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 in der ersten Richtung X mit einer entsprechenden Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e, 104f des Satzes von Gitterlinien 104 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 122b, 122c, 122d und 122e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 4 M2-Routingbahnen in dem Standardzellenlayout 106b. Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122f und 120a über entsprechenden Zellengrenzen 101c und 101b der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 106b und 106a angeordnet und werden als innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 106b und 106a „sich Breite teilend“ bezeichnet.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120f und 122a in der zweiten Richtung Y von der Zellengrenze 101a der anliegenden Standardzellen-Layoutstrukturen 106a und 106b versetzt, und die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120f und 122a werden als innerhalb der jeweiligen Standardzellen-Layoutstrukturen 106a und 106b „sich Raum teilend“ bezeichnet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist jede von den Sätzen von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 und 122 eine regelmäßige Layoutstruktur innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 106a und 106b. Bei manchen Ausführungsformen sind regelmäßige Layoutstrukturen Layoutstrukturen, die in Bezug auf die erste Richtung X symmetrisch sind.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 erstreckt sich in der ersten Richtung X. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124a, 124b, 124c, 124d, 124e oder 124f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 ist auf der ersten Layout-Ebene angeordnet.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 124' (1C) einer integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124a, 124b, 124c, 124d, 124e, 124f sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 124a', 124b', 124c' 124d', 124e', 124f (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 überlappt einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 (nachstehend beschrieben). Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo, M1 oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen weist jede Layoutstruktur 124a, 124b, 124c, 124d, 124e, 124f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 die Breite W1 in der zweiten Richtung Y auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt jede Layoutstruktur 124a, 124b, 124c, 124d, 124e, 124f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 eine entsprechende Gitterlinie 102a, 102b, 102c, 102d, 102e, 102f des Satzes von Gitterlinien 102. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte jeder Layoutstruktur 124a, 124b, 124c, 124d, 124e, 124f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 in der ersten Richtung X mit einer entsprechenden Gitterlinie 102a, 102b, 102c, 102d, 102e, 102f des Satzes von Gitterlinien 102 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 124b, 124c, 124d, 124e und 124f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 5 M2-Routingbahnen in dem Standardzellenlayout 108a. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124a ist über der Zellengrenze 101b der Standardzellen-Layoutstruktur 108a angeordnet.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 erstreckt sich in der ersten Richtung X. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 126a, 126b, 126c, 126d, 126e oder 126f. Der Satz von
  • Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 ist auf der ersten Layout-Ebene angeordnet.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 126' (1C) einer integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126a, 126b, 126c, 126d, 126e, 126f sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 126a', 126b', 126c' 126d', 126e', 126f (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 überlappt einen Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 (nachstehend beschrieben). Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo, M1 oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen weist jede Layoutstruktur 126a, 126b, 126c, 126d, 126e, 126f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 die Breite W1 in der zweiten Richtung Y auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt jede Layoutstruktur 126a, 126b, 126c, 126d, 126e, 126f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 eine entsprechende Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e, 104f des Satzes von Gitterlinien 104. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte jeder Layoutstruktur 126a, 126b, 126c, 126d, 126e, 126f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 in der ersten Richtung X mit einer entsprechenden Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e, 104f des Satzes von Gitterlinien 104 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 126b, 126c, 126d und 126e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 4 M2-Routingbahnen in dem Standardzellenlayout 108b.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126f und 124a über entsprechenden Zellengrenzen 101c und 101b der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 108b und 108a angeordnet und werden als innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 108b und 108a „sich Breite teilend“ bezeichnet.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126f und 124a in der zweiten Richtung Y von der Zellengrenze 101a der anliegenden Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b versetzt, und die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126f und 124a werden als innerhalb der jeweiligen Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b „sich Raum teilend“ bezeichnet. Bei manchen Ausführungsformen ist jede von den Sätzen von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 und 126 eine regelmäßige Layoutstruktur innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 erstreckt sich in der zweiten Richtung Y. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 130a oder 130b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 ist auf einer zweiten Layout-Ebene angeordnet. Bei manchen Ausführungsformen ist die zweite Layout-Ebene eine Metall-Eins(M1)-Layout-Ebene. Bei manchen Ausführungsformen ist die zweite Layout-Ebene unter der ersten Layout-Ebene.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 130' (1C) der integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130a, 130b sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 130a', 130b' (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 wird durch den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 überlappt. Bei manchen Ausführungsformen werden die Layoutstrukturen 130a und 130b durch mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120b, 120c, 120d, 120e oder 120f überlappt.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt die Layoutstruktur 130a oder 130b mindestens die Gitterlinie 102b, 102c, 102d, 102e oder 102f. Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen ist jede Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 130a, 130b des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 von einer benachbarten Layoutstruktur in der ersten Richtung X getrennt.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 erstreckt sich in der zweiten Richtung Y. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 132a oder 132b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 ist auf der zweiten Layout-Ebene angeordnet.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 132' (1C) der integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132a, 132b sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 132a', 132b' (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 wird durch den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 überlappt. Bei manchen Ausführungsformen werden die Layoutstrukturen 132a und 132b durch mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 122a, 122b, 122c, 122d oder 122e überlappt.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt die Layoutstruktur 132a oder 132b mindestens die Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e oder 104f. Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen ist jede Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 132a, 132b des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 von einer benachbarten Layoutstruktur in der ersten Richtung X getrennt.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 132 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 erstreckt sich in der zweiten Richtung Y. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 134a oder 134b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 ist auf einer zweiten Layout-Ebene angeordnet.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 134' (1C) der integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134a, 134b sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 134a', 134b' (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 wird durch den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 überlappt. Bei manchen Ausführungsformen werden die Layoutstrukturen 134a und 134b durch mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124b, 124c, 124d, 124e oder 124f überlappt.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt die Layoutstruktur 134a oder 134b mindestens die Gitterlinie 102b, 102c, 102d, 102e oder 102f. Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen ist jede Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 134a, 134b des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 von einer benachbarten Layoutstruktur in der ersten Richtung X getrennt.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 erstreckt sich in der zweiten Richtung Y. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 136a oder 136b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 ist auf der zweiten Layout-Ebene angeordnet.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 136' (1C) der integrierten Schaltung 100C herzustellen. Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136a, 136b sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 136a', 136b' (1C) herzustellen.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 wird durch den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 126 überlappt. Bei manchen Ausführungsformen werden die Layoutstrukturen 136a und 136b durch mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 126a, 126b, 126c, 126d oder 126e überlappt.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt die Layoutstruktur 136a oder 136b mindestens die Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e oder 104f. Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A. Bei manchen Ausführungsformen ist jede Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 136a, 136b des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 von einer benachbarten Layoutstruktur in der ersten Richtung X getrennt.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 136 sind möglich
  • Das Layoutdesign 100A weist ferner einen Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 und einen Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 auf.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 erstreckt sich in der ersten Richtung X. Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 weist mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110a, 110b oder 110c auf. Bei manchen Ausführungsformen ist jede Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110a, 110b, 110c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 von einer benachbarten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in der zweiten Richtung Y getrennt. Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 ist auf der zweiten Layout-Ebene angeordnet.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 mindestens einen Abschnitt einer Layoutstruktur des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 oder 132. Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110b, 110c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 110a', 110b', 110c' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a', die in Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 (7) entfernt werden. Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110b, 110c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 eine Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 110a', 110b' oder 110c' von mindestens der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a'. Bei manchen Ausführungsformen ist die Breite W2 gleich der Breite W1. Bei manchen Ausführungsformen ist die Breite W2 von der Breite W1 verschieden.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110a ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110b in einem Abstand PA1 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110b ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110c in einem Abstand PA2 in der zweiten Richtung Y getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist der Abstand PA1 gleich dem Abstand PA2. Bei manchen Ausführungsformen ist der Abstand PA1 von dem Abstand PA2 verschieden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 130a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a und 110b positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 132a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110b und 110c positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite einer entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110a, 110b, 110c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Gitterlinie 102a, 104a, 104f ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine andere Seite einer Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit der Zellengrenze 101a der Standardzellen-Layoutstrukturen 106a und 106b ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110b und 110c von den entsprechenden Gitterlinien 102a, 104a und 104f um eine Strecke D1 in der zweiten Richtung Y versetzt. Bei manchen Ausführungsformen ist die Strecke D1 gleich der Hälfte der Breite W2.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110b und 110c von den entsprechenden Zellengrenzen 101b, 101a und 101c der anliegenden Standardzellen-Layoutstrukturen 106a und 106b in der zweiten Richtung Y versetzt, und die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110b und 110c werden als innerhalb der Standardzellen-Layoutstrukturen 106a und 106b „sich Raum teilend“ bezeichnet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 in zwei Standardzellen-Layoutstrukturen (z.B. den Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b) regelmäßig.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 erstreckt sich in der ersten Richtung X. Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 weist mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112a, 112b oder 112c auf. Bei manchen Ausführungsformen ist jede Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112a, 112b, 112c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 von einer benachbarten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in der zweiten Richtung Y getrennt. Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 ist auf der zweiten Layout-Ebene angeordnet.
  • Bei manchen Ausführungsformen weisen die Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 und 112 eine entsprechende Farbe A oder B auf. Die Farbe A oder B gibt an, dass der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 mit einer selben Farbe auf einer selben Maske eines Satzes von mehreren Masken auszubilden ist und der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 mit einer anderen Farbe B auf einer anderen Maske des Satzes von mehreren Masken auszubilden ist. In 1A, 2A, 3A, 4A, 5A und 6A sind als Beispiel zwei Farben A und B dargestellt. Bei manchen Ausführungsformen sind in den Layoutdesigns 100A, 200A, 300A, 400A, 500A und 600A mehr oder weniger als zwei Farben vorhanden.
  • Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 mindestens einen Abschnitt einer Layoutstruktur des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 oder 136. Bei manchen Ausführungsformen überlappt der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 andere darunterliegende Layoutstrukturen (nicht dargestellt) von anderen Layout-Ebenen (z.B. aktiv, MD, Mo oder dergleichen) des Layoutdesigns 100A.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b, 112c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 112a', 112b', 112c' der leitfähigen Struktur 134a' oder 136a', die in Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 (7) entfernt werden. Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b, 112c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 die Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 112a', 112b' oder 112c' von mindestens der leitfähigen Struktur 134a' oder 136a'.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112a ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112b in einem Abstand PA1 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112b ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112c in einem Abstand PA2 in der zweiten Richtung Y getrennt.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 134a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a und 112b positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 136a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112b und 112c positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite einer entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112a, 112b, 112c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Gitterlinie 102a, 104a, 104f ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine andere Seite einer Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit der Zellengrenze 101a der Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b und 112c von den entsprechenden Gitterlinien 102a, 104a und 104f um die Strecke D1 in der zweiten Richtung Y versetzt.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b und 112c von den entsprechenden Zellengrenzen 101b, 101a und 101c der anliegenden Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b um eine Strecke D1 in der zweiten Richtung Y versetzt, und die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b und 112c werden als innerhalb der Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b „sich Raum teilend“ bezeichnet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 in zwei Standardzellen-Layoutstrukturen (z.B. den Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b) regelmäßig.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 sind möglich
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren einer Seite von entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110b, 110c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit entsprechenden Gitterlinien 102a, 104a, 104f ausgerichtet ist, eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120f als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 106a verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren einer Seite von entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b, 112c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit entsprechenden Gitterlinien 102a, 104a, 104f ausgerichtet ist, eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124f als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 108a verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 1 ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung 100C gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Komponenten, welche gleich oder ähnlich jenen in einer oder mehreren von 1A-1B, 2A, 3A, 4A, 5A und 6A (nachstehend dargestellt) sind, erhalten dieselben Bezugszahlen, und auf eine ausführliche Beschreibung davon wird somit verzichtet.
  • Die integrierte Schaltung 100C wird mittels des Layoutdesigns 100A hergestellt. Strukturelle Beziehungen, umfassend Ausrichtung, Längen und Breiten sowie Ausgestaltungen der integrierten Schaltung 100C von 1C sind ähnlich den entsprechenden strukturellen Beziehungen und entsprechenden Ausgestaltungen des Layoutdesigns 100A von 1A oder des Abschnitts 100B von 1B, und der Kürze halber wird bei 1C, 2B, 3B, 4B, 5B und 6B auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet.
  • Die integrierte Schaltung 100C weist die Standardzellen 106a', 106b', 108a' und 108b' auf. Bei manchen Ausführungsformen sind eine oder mehrere der Standardzellen 106a', 106b', 108a' oder 108b' eine Logikgatterzelle. Bei manchen Ausführungsformen sind eine oder mehrere der Standardzellen 106a', 106b', 108a' oder 108b' eine Speicherzelle. Bei manchen Ausführungsformen weist eine oder mehrere der Standardzellen 106a', 106b', 108a' oder 108b' ein oder mehrere aktive oder passive Elemente auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzelle 106a' mindestens einen Satz von leitfähigen Strukturen 120' oder 130' auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzelle 106b' mindestens einen Satz von leitfähigen Strukturen 122' oder 132' auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzelle 108a' mindestens einen Satz von leitfähigen Strukturen 124' oder 134' auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die Standardzelle 108b' mindestens einen Satz von leitfähigen Strukturen 126' oder 136' auf.
  • Die Standardzellen 106a', 108a' liegen in der ersten Richtung X entlang einer Zellengrenze 101a' an entsprechenden Standardzellen 106b', 108b' an. Die Standardzellen 106a', 106b' liegen in der zweiten Richtung Y entlang einer Zellengrenze 101d' an entsprechenden Standardzellen 108a', 108b' an. Bei manchen Ausführungsformen weist jede der Standardzellen 106a', 106b', 108a' und 108b' eine selbe entsprechende Höhe (nicht gekennzeichnet) in der zweiten Richtung Y auf. Die Zellengrenzen 101a', 101b', 101c' und 101d' sind ähnlich den entsprechenden Zellengrenzen 101a, 101b, 101c und 101d, und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet.
  • Die integrierte Schaltung 100C weist ferner einen Satz von Gitterlinien 102' und einen Satz von Gitterlinien 104' auf. Die Sätze von Gitterlinien 102' und 104' sind ähnlich den entsprechenden Sätzen von Gitterlinien 102 und 104, und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet. Elemente des Satzes von Gitterlinien 102' sind den entsprechenden Elementen des Satzes von Gitterlinien 102 ähnlich, und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet. Elemente des Satzes von Gitterlinien 104' sind den entsprechenden Elementen des Satzes von Gitterlinien 104 ähnlich, und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet.
  • Der Satz von Gitterlinien 102' umfasst mindestens die Gitterlinie 102a', 102b', 102c', 102d', 102e' oder 102f'. Bei manchen Ausführungsformen definiert jede Gitterlinie 102a', 102b', 102c', 102d', 102e', 102f' des Satzes von Gitterlinien 102' Regionen, wo entsprechende leitfähige Strukturen 120a', 120b', 120c', 120d', 120e', 120f' in dem Satz von leitfähigen Strukturen 120' oder entsprechende leitfähige Strukturen 124a', 124b', 124c', 124d', 124e', 124f' in dem Satz von leitfähigen Strukturen 124' positioniert sind.
  • Der Satz von Gitterlinien 104' umfasst mindestens die Gitterlinie 104a', 104b', 104c', 104d', 104e' oder 104f'. Bei manchen Ausführungsformen definiert jede Gitterlinie 104a', 104b', 104c', 104d', 104e', 104f des Satzes von Gitterlinien 104' Regionen, wo entsprechende leitfähige Strukturen 122a', 122b', 122c', 122d', 122e', 122f' in dem Satz von leitfähigen Strukturen 122' oder entsprechende leitfähige Strukturen 126a', 126b', 126c', 126d', 126e', 126f' in dem Satz von leitfähigen Strukturen 126' positioniert sind.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist die integrierte Schaltung 100C nicht eine oder mehrere von dem Satz von Gitterlinien 102', dem Satz von Gitterlinien 104', Zellengrenzen 101a', der Zellengrenze 101b', der Zellengrenze 101c' oder der Zellengrenze 101d' auf. Bei manchen Ausführungsformen sind eine oder mehrere des Satzes von leitfähigen Strukturen 120', 122', 124', 126', 130', 132', 134' oder 136' nicht Teil der Standardzellen 106a', 106b', 108a' und 108b', werden jedoch in Regionen dargestellt, die durch eine oder mehrere der Standardzellen 106a', 106b', 108a' und 108b' definiert sind.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 120' umfasst mindestens die leitfähigen Strukturen 120a', 120b', 120c', 120d', 120e' oder 120f'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 122' umfasst mindestens die leitfähigen Strukturen 122a', 122b', 122c', 122d', 122e' oder 122f'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 124' umfasst mindestens die leitfähigen Strukturen 124a', 124b', 124c', 124d', 124e' oder 124f'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 126' umfasst mindestens die leitfähigen Strukturen 126a', 126b', 126c', 126d', 126e' oder 126f'. Bei manchen Ausführungsformen ist mindestens der Satz von leitfähigen Strukturen 120', 122', 124' oder 126' auf einer ersten Schicht der integrierten Schaltung 100C. Bei manchen Ausführungsformen ist die erste Schicht die M2-Schicht.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 120b', 120c', 120d', 120e' oder 120f' des Satzes von leitfähigen Strukturen 120' oder die leitfähige Struktur 124b', 124c', 124d', 124e' oder 124f' des Satzes von leitfähigen Strukturen 124' funktionelle leitfähige Strukturen.
  • Bei manchen Ausführungsformen entspricht eine funktionelle leitfähige Struktur einer leitfähigen Struktur, die in der integrierten Schaltung 100C, 200B, 300B, 400B, 500B oder 600B zum Leiten von Signalen, Energieversorgungsspannungen oder Energieversorgungsströmen verwendbar ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen weisen die Sätze von leitfähigen Strukturen 120' und 124' eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weisen die Sätze von leitfähigen Strukturen 120' und 124' 5 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 122b', 122c', 122d' oder 122e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 122' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 126b', 126c', 126d' oder 126e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 126' funktionelle leitfähige Strukturen.
  • Bei manchen Ausführungsformen weisen die Sätze von leitfähigen Strukturen 122' und 126' eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weisen die Sätze von leitfähigen Strukturen 122' und 126' 4 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind die leitfähigen Strukturen 120a', 122a', 122f, 124a', 126a' oder 126f' nichtfunktionelle oder Dummy-Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen entspricht eine nichtfunktionelle leitfähige Struktur oder Dummy-Struktur einer leitfähigen Struktur, die in der integrierten Schaltung 100C, 200B, 300B, 400B, 500B oder 600B nicht zum Leiten von Signalen, Energieversorgungsspannungen oder Energieversorgungsströmen verwendbar ist, da mindestens eine Größe der nichtfunktionellen leitfähigen Struktur in der ersten Richtung X oder der zweiten Richtung Y nicht genügend Oberflächeninhalt als „Landing-Spot“ für Durchkontaktierungen von unteren Schichten (z.B. aktiv, MD, Mo oder dergleichen) oder oberen Schichten (z.B. M2 oder dergleichen) aufweist.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 130' umfasst mindestens leitfähige Strukturen 130a' oder 130b'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 132' umfasst mindestens leitfähige Strukturen 132a' oder 132b'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 134' umfasst mindestens leitfähige Strukturen 134a' oder 134b'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 136' umfasst mindestens leitfähige Strukturen 136a' oder 136b'. Bei manchen Ausführungsformen ist mindestens der Satz von leitfähigen Strukturen 130', 132', 134' oder 136' auf einer zweiten Schicht der integrierten Schaltung 100C. Bei manchen Ausführungsformen ist die zweite Schicht die M1-Schicht.
  • Die leitfähige Struktur 130a' ist von der leitfähigen Struktur 132a' durch den entfernten Abschnitt 110b' getrennt. Die leitfähige Struktur 134a' ist von der leitfähigen Struktur 136a' durch den entfernten Abschnitt 112b' getrennt.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfasst mindestens eine Struktur des Satzes von leitfähigen Strukturen 120', 122', 124', 126', 130', 132', 134' oder 136' eine oder mehrere Schichten aus Metallmaterialien, beispielsweise Al, Cu, W, Ti, Ta, TiN, TaN, NiSi, CoSi, anderen geeigneten leitfähigen Materialien oder Kombinationen daraus.
  • Andere Ausgestaltungen, Anordnungen, Schichtenanzahlen oder Materialien des Satzes von leitfähigen Strukturen 120', 122', 124', 126', 130', 132', 134' oder 136' sind möglich
  • Bei manchen Ausführungsformen wird durch Positionieren einer Seite der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit der entsprechenden Gitterlinie 104a ausgerichtet ist, die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110b ausreichend von der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120f getrennt, um Durchkontaktierungs-Landing-Spot-Designregeln nicht zu verletzen, und die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120f ist verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 120f' herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen der leitfähigen Struktur 120f' in dem Satz von leitfähigen Strukturen 120' eine andere Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 120' und 122' zur Folge. Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen einer anderen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 120' und 122' zur Folge, dass die integrierte Schaltung 100C eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 120f' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 106a' und 106b' aufweist, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen wird durch Positionieren einer Seite der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit der entsprechenden Gitterlinie 104a ausgerichtet ist, die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 112b ausreichend von der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124f getrennt, um Durchkontaktierungs-Landing-Spot-Designregeln nicht zu verletzen, und die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124f ist verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 124f' herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen der leitfähigen Struktur 124f' in dem Satz von leitfähigen Strukturen 124' eine andere Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 124' und 126' zur Folge. Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen einer anderen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 124' und 126' zur Folge, dass die integrierte Schaltung 100C eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 124f' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 108a' und 108b' aufweist, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 2A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns 200A einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Das Layoutdesign 200A ist eine Variation des Layoutdesigns 100A (1A), und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet. Beispielsweise stellt das Layoutdesign 200A ein Beispiel dar, bei dem ein Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212 den Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112 von 1A ersetzt und bewirkt, dass Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 und 226 Spiegelbilder der Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 und 126 in Bezug auf eine Zellengrenze 101a sind.
  • Das Layoutdesign 200A ist verwendbar, um eine der integrierten Schaltung 200B von 2B ähnliche integrierte Schaltung herzustellen.
  • Das Layoutdesign 200A weist Standardzellen-Layoutstrukturen 106a, 106b, 208a und 208b auf. Verglichen mit dem Layoutdesign 100A von 1A ersetzen die Standardzellen-Layoutstrukturen 208a und 208b entsprechende Standardzellen-Layoutstrukturen 108a und 108b, und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet.
  • Das Layoutdesign 200A weist ferner die Sätze von Gitterlinien 102 und 104, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 und 122, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130 und 132, den Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 und 226, Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 234 und 236 und einen Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212 auf.
  • Verglichen mit dem Layoutdesign 100A von 1A ersetzen die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 und 226 die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124 und 126, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 234 und 236 ersetzen die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 134 und 136, und der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212 ersetzt den entsprechenden Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112, und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212a, 212b oder 212c. Die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b, 212c ersetzen die entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b, 112c von 1A, und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet. Verglichen mit den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 112a, 112b, 112c von 1A sind die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b, 212c in der zweiten Richtung Y um einen halben Gitterlinienabstand (z.B. P1/2) verschoben.
  • Bei manchen Ausführungsformen bewirkt Verschieben der Position des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen um einen halben Gitterlinienabstand (z.B. P1/2), dass, verglichen mit entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124f und 126a von 1A, die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224f und 226a in der ersten Richtung X verschiedene Längen aufweisen.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b, 212c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 212a', 212b', 212c' der leitfähigen Struktur 234a' oder 236a', die in Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 (7) entfernt werden. Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b, 212c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212 die Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 212a', 212b' oder 212c' von mindestens der leitfähigen Struktur 234a' oder 236a'.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212a ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b in dem Abstand PA2 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212c in dem Abstand PA1 in der zweiten Richtung Y getrennt.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 234a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a und 212b positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 236a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212b und 212c positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite 212a1, 212b2, 212c1 einer entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212a, 212b, 212c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Gitterlinie 102a, 102f, 104f ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine andere Seite 212b1 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit der Zellengrenze 101a der Standardzellen-Layoutstrukturen 208a und 208b ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b und 212c von den entsprechenden Gitterlinien 102a, 102f und 104f in der zweiten Richtung Y um die Strecke D1 versetzt.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b und 212c in der zweiten Richtung Y von den entsprechenden Zellengrenzen 101b, 101a und 101c der anliegenden Standardzellen-Layoutstrukturen 208a und 208b um die Strecke D1 versetzt, und die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b und 212c werden als innerhalb der Standardzellen-Layoutstrukturen 208a und 208b „sich Raum teilend“ bezeichnet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212 in zwei Standardzellen-Layoutstrukturen (z.B. den Standardzellen-Layoutstrukturen 208a und 208b) regelmäßig.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 124a, 124b, 124c, 124d, 1240 oder 224f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 224' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 224f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 224f' des Satzes von leitfähigen Strukturen 224' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 224f' ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124f von 1A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124f von 1A weist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 224f' aufgrund der Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b in der ersten Richtung X eine kürzere Länge auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 124b, 124c, 124d und 124e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 4 M2-Routingbahnen in dem Standardzellenlayout 208a.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 226 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 226a, 126b, 126c, 126d, 126e oder 126f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 226 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 226' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 226a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 226 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 226a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 226' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 226a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 126a von 1A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 126a von 1A weist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 226a aufgrund der Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b in der ersten Richtung X eine längere Länge auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 226a, 126b, 126c, 126d und 126e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 226 5 M2-Routingbahnen in dem Standardzellenlayout 208b.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 234 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 234a oder 134b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 234 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 234' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 234a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 234 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 234a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 234' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 234a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 134a von 1A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 134a von 1A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 234a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a und 212b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 236 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 236a oder 136b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 236 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 236' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 236a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 236 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 236a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 236' (2B) der integrierten Schaltung 200B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 236a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 136a von 1A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 136a von 1A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 236a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212b und 212c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in den Sätzen von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224, 226, 234 und 236 sind möglich
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren einer Seite von entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212b, 212c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit entsprechenden Gitterlinien 102a, 102f, 104f ausgerichtet ist, eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 226a als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 208b verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die in dem Layoutdesign 200A effizienter genutzt werden als andere Lösungen.
  • 2B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung 200B gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Die integrierte Schaltung 200B wird durch das Layoutdesign 200A hergestellt. Strukturelle Beziehungen umfassend Ausrichtung, Längen und Breiten sowie Ausgestaltungen der integrierten Schaltungen 200B, 300B, 400B, 500B, 600B der entsprechenden 2B, 3B, 4B, 5B, 6B sind den strukturellen Beziehungen und Ausgestaltungen der entsprechenden Layoutdesigns 200A, 300A, 400A, 500A, 600A der entsprechenden 2A, 3A, 4A, 5A, 6A ähnlich, und der Kürze halber wird daher bei 1C, 2B, 3B, 4B, 5B und 6B auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet.
  • Die integrierte Schaltung 200B ist eine Variation der integrierten Schaltung 100C (1C), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt die integrierte Schaltung 200B ein Beispiel dar, bei dem die Sätze von leitfähigen Strukturen 224' und 226' Spiegelbilder der Sätze von leitfähigen Strukturen 124' und 126' von 1C in Bezug auf die Zellengrenze 101a' sind.
  • Die integrierte Schaltung 200B weist die Standardzellen 106a', 106b', 208a' und 208b' auf. Verglichen mit der integrierten Schaltung 100C von 1C ersetzen die Standardzellen 208a' und 208b' die entsprechenden Standardzellen 108a' und 108b', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Ferner weist die integrierte Schaltung 200B die Sätze von Gitterlinien 102' und 104', die Sätze von leitfähigen Strukturen 120 und 122, die Sätze von leitfähigen Strukturen 130 und 132, Sätze von leitfähigen Strukturen 224' und 226' und Sätze von leitfähigen Strukturen 234' und 236' auf.
  • Verglichen mit der integrierten Schaltung 100C von 1C ersetzen die Sätze von leitfähigen Strukturen 224' und 226' die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 124' und 126', und die Sätze von leitfähigen Strukturen 234' und 236' ersetzen die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 134' und 136', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 224' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 124a', 124b', 124c', 124d', 124e' oder 224f. Die leitfähige Struktur 224f ersetzt die leitfähige Struktur 124f' von 1C, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 124f' von 1C weist die leitfähige Struktur 224f aufgrund des entfernten Abschnitts 212b' der leitfähigen Struktur 234a' oder 236a' eine kürzere Länge in der ersten Richtung X auf, was bewirkt, dass die leitfähige Struktur 226f' eine nichtfunktionelle oder eine Dummy-Struktur ist. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 124b', 124c', 124d' oder 124e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 224' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 224' eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 224' 4 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 226' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 226a', 126b', 126c', 126d', 126e' oder 226f'. Die leitfähige Struktur 226f' ersetzt die leitfähige Struktur 126f' von 1C, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 126a' von 1C weist die leitfähige Struktur 226a' eine längere Länge in der ersten Richtung X auf, da der entfernte Abschnitt 212b' der leitfähigen Struktur 234a' oder 236a' um einen halben Gitterlinienabstand (z.B. P1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben ist. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Erhöhen der Länge der leitfähigen Struktur 226a' bewirkt, dass die leitfähige Struktur 226a' eine funktionelle Struktur ist. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 226a', 126b', 126c', 126d' oder 126e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 226' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 226' eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 226' 5 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 234' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 234a' oder 134b'. Die leitfähige Struktur 234a' ersetzt die leitfähige Struktur 134a' von 1C, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 134a' von 1C ist die leitfähige Struktur 234a' der Position nach aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 212a', 212b' und 212c' in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 236' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 236a' oder 136b'. Die leitfähige Struktur 236a' ersetzt die leitfähige Struktur 136a' von 1C, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 136a' von 1C ist die leitfähige Struktur 236a' der Position nach aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 212a', 212b' und 212c' in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren einer Seite 212b2 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit der entsprechenden Gitterlinie 102f ausgerichtet ist, die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b ausreichend von der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 226a getrennt, um Durchkontaktierungs-Landing-Spot-Designregeln nicht zu verletzen, und die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 226a ist verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 226a' herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen der leitfähigen Struktur 226a' in dem Satz von leitfähigen Strukturen 226' eine andere Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in dem Satz von leitfähigen Strukturen 224' und 226' zur Folge. Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen einer anderen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in dem Satz von leitfähigen Strukturen 224' und 226' zur Folge, dass die integrierte Schaltung 200B eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 224a' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 108a' und 108b' aufweist, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 3A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns 300A einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Das Layoutdesign 300A ist eine Variation des Layoutdesigns 200A (1A), und daher wird auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung verzichtet. Beispielsweise stellt das Layoutdesign 300A ein Beispiel dar, bei dem ein Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 und 312 den entsprechenden Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 und 212 von 2A ersetzt, was bewirkt, dass Schnittmerkmal-Layoutstrukturen innerhalb des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 oder 312 in verschiedenen Abständen (z.B. Abstand PB1 und PC1) getrennt sind.
  • Das Layoutdesign 300A ist verwendbar, um die integrierte Schaltung 300B von 3B herzustellen.
  • Das Layoutdesign 300A weist Standardzellen-Layoutstrukturen 306a, 306b, 308a und 308b auf. Verglichen mit dem Layoutdesign 200A von 1A ersetzen die Standardzellen-Layoutstrukturen 306a, 306b, 308a und 308b die entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 108a, 108b, 208a und 208b, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Ferner weist das Layoutdesign 300A die Sätze von Gitterlinien 102 und 104, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120, 122, 224 und 226, Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 330, 332, 334 und 336 und Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 und 312 auf.
  • Verglichen mit dem Layoutdesign 200A von 2A ersetzen die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 330, 332, 334 und 336 die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130, 132, 234 und 236, und die Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 und 312 umfassen die entsprechenden Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110 und 212, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a, 110b oder 310c. Die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 310c ersetzen die entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110c von 1A oder 2A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110a, 110c von 2A sind entsprechende Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 310c um eine Strecke D1 in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Verschieben der Position der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 310c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 um eine Strecke D1 der Abstand PB1 und PC1 verändert.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 110b, 310c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 310a', 110b', 310c' der leitfähigen Struktur 330a' oder 332a', die in Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 (7) entfernt werden. Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 110b, 310c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 die Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 310a', 110b' oder 310c' von mindestens der leitfähigen Struktur 330a' oder 332a'.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310b in einem Abstand PB1 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110b ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310c in einem Abstand PC1 in der zweiten Richtung Y getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist der Abstand PB1 von dem Abstand PC1 verschieden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 330a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a und 110b positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 332a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110b und 310c positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite 310a1, 310a2 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Seite 120a1, 120a2 der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite 310c1, 310c2 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Seite 122f1, 122f2 der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 122f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a und 310c in der ersten Richtung X mit den entsprechenden Gitterlinien 102a und 104f oder den entsprechenden Zellengrenzen 101b und 101c ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 in zwei Standardzellen-Layoutstrukturen (z.B. Standardzellen-Layoutstruktur 306a und 306b) regelmäßig.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 sind möglich
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312a, 212b oder 312c. Die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a, 312c ersetzen die entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212c von 2A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212a, 212c von 2A sind entsprechende Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a, 312c um eine Strecke D1 in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Verschieben der Position der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a, 312c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312 um eine Strecke D1 der Abstand PB1 und PC1 verändert.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a, 212b, 312c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 312a', 212b', 312c' der leitfähigen Struktur 334a' oder 336a', die in Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 (7) entfernt werden. Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a, 212b, 312c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312 die Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 312a', 212b' oder 312c' von mindestens der leitfähigen Struktur 334a' oder 336a'.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312a ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312b in einem Abstand PC1 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312c in einem Abstand PB1 in der zweiten Richtung Y getrennt.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 334a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a und 212b positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 336a zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212b und 312c positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite 312a1, 312a2 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312a des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Seite 124a1, 124a2 der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 124a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 224 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite 312c1, 312c2 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Seite 126f1, 126f2 der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 126f' des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 226 ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a und 312c in der ersten Richtung X mit den entsprechenden Gitterlinien 102a und 104f oder den entsprechenden Zellengrenzen 101b und 101c ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312 in zwei Standardzellen-Layoutstrukturen (z.B. Standardzellen-Layoutstruktur 308a und 308b) regelmäßig.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 330 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 330a oder 130b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 330 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 330' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 330a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 330 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 330a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 330' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 330a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 130a von 1A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 130a von 1A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 330a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a und 110b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 332 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 332a oder 132b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 332 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 332' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 332a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 332 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 332a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 332' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 332a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 132a von 1A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 132a von 1A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 332a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110b und 310c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 334 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 334a oder 134b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 334 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 334' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 334a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 334 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 334a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 334' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 334a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 234a von 2A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 234a von 2A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 334a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a und 212b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 336 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Struktur 336a oder 136b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 336 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 336' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 336a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 336 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 336a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 336' (3B) der integrierten Schaltung 300B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 336a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 236a von 2A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 236a von 2A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 336a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 212b und 312c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 330, 332, 334 und 336 sind möglich
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren einer Seite 110b1 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 110b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit der Gitterlinie 102f ausgerichtet ist, eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120f als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 308a verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die in dem Layoutdesign 300A effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren einer Seite 212b2 der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 212b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit der Gitterlinie 102f ausgerichtet ist, eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 226a als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 308b verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die in dem Layoutdesign 300A effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 3B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung 300C gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Die integrierte Schaltung 300B ist eine Variation der integrierten Schaltung 200B (2B), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt die integrierte Schaltung 300B ein Beispiel dar, bei dem eine Länge der entsprechenden leitfähigen Struktur 330a', 334a' von einer Länge der entsprechenden leitfähigen Struktur 332a', 336a' von verschiedenen Abständen (z.B. Abstand PB1 und PC1) verschieden ist.
  • Die integrierte Schaltung 300B weist die Standardzellen 306a', 306b', 308a' und 308b' auf. Verglichen mit der integrierten Schaltung 200B von 2B ersetzen die Standardzellen 306a', 306b', 308a' und 308b' die entsprechenden Standardzellen 106a', 106b', 208a' und 208b', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Ferner weist die integrierte Schaltung 300B die Sätze von Gitterlinien 102' und 104', die Sätze von leitfähigen Strukturen 120', 122', 224' und 226', und Sätze von leitfähigen Strukturen 330', 332', 334' und 336' auf.
  • Verglichen mit der integrierten Schaltung 200B von 2B ersetzen die Sätze von leitfähigen Strukturen 330', 332', 334' und 336' die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 130', 132', 234' und 236', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 330' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 330a' oder 130b'. Die leitfähige Struktur 330a' ersetzt die leitfähige Struktur 130a' von 2B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 130a' von 2B ist die leitfähige Struktur 330a' aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 310a', 110b' und 310c' der Position nach in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 332' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 332a' oder 132b'. Die leitfähige Struktur 332a' ersetzt die leitfähige Struktur 132a' von 2B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 132a' von 2B ist die leitfähige Struktur 332a' aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 310a', 110b' und 310c' der Position nach in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 334' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 334a' oder 134b'. Die leitfähige Struktur 334a' ersetzt die leitfähige Struktur 234a' von 2B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 234a' von 2B ist die leitfähige Struktur 334a' aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 312a', 212b' und 312c' der Position nach in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 336' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 336a' oder 136b'. Die leitfähige Struktur 336a' ersetzt die leitfähige Struktur 236a' von 2B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 236a' von 2B ist die leitfähige Struktur 336a' aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 312a', 212b' und 312c' der Position nach in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen einer anderen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 120' und 122' zur Folge, dass die integrierte Schaltung 300B eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 120f und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 306a' und 306b' aufweist, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen einer anderen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 224' und 226' zur Folge, dass die integrierte Schaltung 300B eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 224a' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 308a' und 308b' aufweist, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 4A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns 400A einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Das Layoutdesign 400A ist eine Variation des Layoutdesigns 300A (3A), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt das Layoutdesign 400A ein Beispiel dar, bei dem ein Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420, 422, 424, 426 den entsprechenden Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120, 122, 224, 226 von 3A ersetzt und bewirkt, dass der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420, 422, 424, 426 um die Hälfte einer Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben wird.
  • Das Layoutdesign 400A ist verwendbar, um die integrierte Schaltung 400B von 4B herzustellen.
  • Das Layoutdesign 400A weist die Standardzellen-Layoutstrukturen 406a, 406b, 408a und 408b auf. Verglichen mit dem Layoutdesign 300A von 3A ersetzen die Standardzellen-Layoutstrukturen 406a, 406b, 408a und 408b die entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 308a, 308b, 308a und 308b, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Ferner weist das Layoutdesign 400A die Sätze von Gitterlinien 102 und 104, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420, 422, 424 und 426, Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 430, 432, 434 und 436 und Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 und 412 auf.
  • Verglichen mit dem Layoutdesign 300A von 3A ersetzen die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420, 422, 424 und 426 die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120, 122, 224 und 226, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 430, 432, 434 und 436 ersetzen die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 330, 332, 334 und 336, und die Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 und 412 ersetzen die entsprechenden Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310 und 312, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 420a, 420b, 420c, 420d, 420e oder 420f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 420' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420a, 420b, 420c, 420d, 420c, 420f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420 verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 420a', 420b', 420c', 420d', 420e', 420f' des Satzes von leitfähigen Strukturen 420' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420a, 420b, 420c, 420d, 420e, 420f' ersetzen die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120a, 120b, 120c, 120d, 120e, 120f von 3A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit den Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120a, 120b, 120c, 120d, 120e, 120f von 3A sind die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420a, 420b, 420c, 420d, 420e, 420f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Verschieben der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420a, 420b, 420c, 420d, 420e, 420f' um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y eine Seite 420a1, 420b1, 420c1, 420d1, 420e1, 420f1 der entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420a, 420b, 420c, 420d, 420c, 420f, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Gitterlinie 102a, 102b, 102c, 102d, 102e, 102f in der ersten Richtung X ausgerichtet.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 120f von 3A weisen die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420f aufgrund der Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 410b eine kürzere Länge in der ersten Richtung X auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 420b, 420c, 420d und 420e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420 4 M2-Routingbahnen im Standardzellenlayout 406a.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 422a, 422b, 422c, 422d, 422e oder 422f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 422' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a, 422b, 422c, 422d, 422e, 422f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422 verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 422a', 422b', 422c', 422d', 422e', 422f des Satzes von leitfähigen Strukturen 422' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a, 422b, 422c, 422d, 422e, 422f ersetzen die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122a, 122b, 122c, 122d, 122e, 122f von 3A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit den Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 122a, 122b, 122c, 122d, 122e, 122f von 3A sind die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a, 422b, 422c, 422d, 422e, 422f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Verschieben der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a, 422b, 422c, 422d, 422e, 422f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y eine Seite 422a1, 422b1, 422c1, 422d1, 422e1, 422f1 der entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a, 422b, 422c, 422d, 422e, 422f, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Gitterlinie 104a, 104b, 104c, 104d, 104e, 104f in der ersten Richtung X ausgerichtet.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 122a von 3A weisen die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a eine längere Länge in der ersten Richtung X auf, da die Positionen von jeder von den Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a und der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 410b in der zweiten Richtung Y voneinander weg verschoben sind.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 422a, 422b, 422c, 422d und 422e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422 5 M2-Routingbahnen im Standardzellenlayout 406b. Bei manchen Ausführungsformen sind die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420 und 422 zusammen regelmäßige Layoutstrukturen innerhalb der Standardzellen-Layoutstrukturen 406a und 406b.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 424a, 424b, 424c, 424d, 424e oder 424f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 424' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424a, 424b, 424c, 424d, 424e, 424f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424 verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 424a', 424b', 424c', 424b', 424e', 424f des Satzes von leitfähigen Strukturen 424' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424a, 424b, 424c, 424d, 424e, 424f ersetzen die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 124a, 124b, 124c, 124d, 124e, 224f von 3A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit den Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120a, 120b, 120c, 120d, 120e, 224f von 3A sind die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424a, 424b, 424c, 424d, 424e, 424f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Verschieben der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424a, 424b, 424c, 424d, 424e, 424f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y eine Seite 424a1, 424b1, 424c1, 424d1, 424e1, 424f1 der entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424a, 424b, 424c, 424d, 424e, 424f, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Gitterlinie 102a, 102b, 102c, 102d, 102e, 102f in der ersten Richtung X ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 424b, 424c, 424d und 424e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424 4 M2-Routingbahnen im Standardzellenlayout 408a.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 426a, 426b, 426c, 426d, 426e oder 426f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 426' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426a, 426b, 426c, 426d, 426e, 426f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426 verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 426a', 426b', 426c', 426b', 426e', 426f des Satzes von leitfähigen Strukturen 426' (4B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426a, 426b, 426c, 426d, 426e, 426f ersetzen die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 226a, 126b, 126c, 126d, 126e, 126f von 3A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit den Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 226a, 126b, 126c, 126d, 126e, 126f' von 3A sind die entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426a, 426b, 426c, 426d, 426e, 426f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Verschieben der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426a, 426b, 426c, 426d, 426e, 426f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y eine Seite 426a1, 426b1, 426c1, 426d1, 426c1, 426f1 der entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426a, 426b, 426c, 426d, 426e, 426f, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, mit einer entsprechenden Gitterlinie 104a, 104b, 1040, 104d, 104e, 104f in der ersten Richtung X ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 426a, 426b, 426c, 426d und 426e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426 5 M2-Routingbahnen im Standardzellenlayout 408b. Bei manchen Ausführungsformen sind die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 424 und 426 zusammen regelmäßige Layoutstrukturen innerhalb der Standardzellen-Layoutstrukturen 408a und 408b.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 426 sind möglich
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a, 410b oder 310c.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 412 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312a, 412b oder 312c.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410b, 412b ersetzen die entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110b, 212b von 3A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110b, 212b von 3A werden entsprechende Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410b, 412b jeweils um eine halbe Schnittbreite W2 (z.B. W2/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen wird durch Verschieben der Position von entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410b, 412b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 um eine halbe Schnittbreite W2 (z.B. W2/2) der Abstand der Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 und 412 derart verändert, dass er der Abstand PA3 und PA4 ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 410b, 310c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 410a', 410b', 410c' von leitfähigen Strukturen 430a' oder 432a', die in Arbeitsgang 706 von Verfahren 700 (7) entfernt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a, 412b, 312c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 412a', 412b', 412c' von leitfähigen Strukturen 434a' oder 436a', die in Arbeitsgang 706 von Verfahren 700 (7) entfernt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 410b, 310c, 312a, 412b oder 312c die Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 310a', 410b', 310c', 312a', 412b' oder 312c' von mindestens der leitfähigen Struktur 430a', 432a', 434a' oder 436a'.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a, 312a ist von der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 410b, 412b in einem Abstand PA3 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 410b, 412b ist von der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310c, 312c in einem Abstand PA4 in der zweiten Richtung Y getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist mindestens einer der Abstände PA3, PA4, PA1 oder PA2 derselbe wie mindestens ein anderer der Abstände PA3, PA4, PA1 oder PA2.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 330a, 334a zwischen der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a, 312a und der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 410b, 412b positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 332a, 336a zwischen der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 410b, 412b und der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310c, 312c positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410b und 412b in der ersten Richtung X mit der Zellengrenze 101a ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 oder 412 in einer einzigen Standardzellen-Layoutstruktur (z.B. Standardzellen-Layoutstrukturen 406a und 406b) regelmäßig. Bei manchen Ausführungsformen ist, mit anderen Worten, der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 406a und 406b regelmäßig, und der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 412 ist innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 408a und 408b regelmäßig.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 oder 412 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 430 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 430a oder 130b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 432 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 432a oder 132b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 434 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 434a oder 134b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 436 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 436a oder 136b.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 430, 432, 434,436 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 430', 432', 434', 436' ( 3B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 430a, 432a, 434a, 436a verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 430a', 432a', 434a', 436a' des entsprechenden Satzes von leitfähigen Strukturen 430', 432', 434', 436' (3B) der integrierten Schaltung 400B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 430a, 432a, 434a, 436a ersetzt die entsprechende Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 330a, 332a, 334a, 336a von 3A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 330a von 3A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 430a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a und 410b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 332a von 3A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 432a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410b und 310c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 334a von 3A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 434a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a und 412b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 336a von 3A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 436a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 412b und 312c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 430, 332, 334 und 336 sind möglich
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren von mindestens einer Seite 422a1, 422b1, 422c1, 422d1, 422e1, 422f1 von mindestens einer entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 422a, 422b, 422c, 422d, 422e, 422f, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit einer entsprechenden Gitterlinie 104a, 104b, 1040, 104d,104e, 104f in der ersten Richtung X ausgerichtet ist, eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 422a als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 406b verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die in dem Layoutdesign 400A effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Positionieren von mindestens einer Seite 426a1, 426b1, 426c1, 426d1, 426c1, 426f1 von mindestens einer entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 426a, 426b, 426c, 426d, 426e, 426f, die sich in der ersten Richtung X erstreckt, derart, dass sie mit einer entsprechenden Gitterlinie 104a, 104b, 1040, 104d,104e, 104f in der ersten Richtung X ausgerichtet ist, eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 426a als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 408b verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die in dem Layoutdesign 400A effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 4B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung 400B gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Die integrierte Schaltung 400B ist eine Variation der integrierten Schaltung 300B (3B), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt die integrierte Schaltung 400B ein Beispiel dar, bei dem ein Satz von leitfähigen Strukturen 420', 422', 424', 426' den entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 120', 122', 224', 226' von 3A ersetzt, was bewirkt, dass der Satz von leitfähigen Strukturen 420', 422', 424', 426' um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung verschoben wird.
  • Die integrierte Schaltung 400B weist die Standardzellen 406a', 406b', 408a' und 408b' auf. Verglichen mit der integrierten Schaltung 300Bvon 3B ersetzen die Standardzellen 406a', 406b', 408a' und 408b' die entsprechenden Standardzellen 306a', 306b', 308a' und 308b', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Ferner weist die integrierte Schaltung 400B die Sätze von Gitterlinien 102' und 104', die Sätze von leitfähigen Strukturen 420', 422', 424' und 426' und Sätze von leitfähigen Strukturen 430', 432', 434' und 436' auf.
  • Verglichen mit der integrierten Schaltung 300Bvon 3B ersetzen die Sätze von leitfähigen Strukturen 420', 422', 424' und 426' die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 120', 122', 224' und 226', die Sätze von leitfähigen Strukturen 430', 432', 434' und 436' ersetzen die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 330', 332', 334' und 336', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 420' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 420a', 420b', 420c', 420d', 420e' oder 420f . Die leitfähigen Strukturen 420a', 420b', 420c', 420d', 420e', 420f ersetzen die entsprechenden leitfähigen Strukturen 120a', 120b', 120c', 120d', 120e', 120f von 3B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit den leitfähigen Strukturen 120a', 120b', 120c', 120d', 120e', 120f von 3B sind die leitfähigen Strukturen 420a', 420b', 420c', 420d', 420e', 420f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen bewirkt Verschieben der leitfähigen Strukturen 420a', 420b', 420c', 420d', 420c', 420f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y, dass die leitfähige Struktur 420f aufgrund der Nähe zu dem entfernten Abschnitt 410b' der leitfähigen Struktur 430a' oder 432a' in der ersten Richtung X eine kürzere Länge aufweist, was bewirkt, dass die leitfähige Struktur 420f eine nichtfunktionelle oder eine Dummy-Struktur ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 420b', 420c', 420d' oder 420e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 420' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 420' eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 420' 4 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 422' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 422a', 422b', 422c', 422d', 422e' oder 422f . Die leitfähigen Strukturen 422a', 422b', 422c', 422d', 422e', 422f ersetzen die entsprechenden leitfähigen Strukturen 122a', 122b', 122c', 122d', 122e', 124f von 3B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit den leitfähigen Strukturen 122a', 122b', 122c', 122d', 122e', 124f von 3B sind die leitfähigen Strukturen 422a', 422b', 422c', 422d', 422c', 422f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen kann durch Verschieben der leitfähigen Strukturen 422a', 422b', 422c', 422d', 422c', 422f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1j2) in der zweiten Richtung Y die Anzahl von funktionellen oder nichtfunktionellen leitfähigen Strukturen basierend auf der Nähe der leitfähigen Strukturen 422a', 422b', 422c', 422d', 422e', 422f zu entfernten Abschnitten 410a', 410b', 410c' der leitfähigen Struktur 430a' oder 432a' eingestellt werden.
  • Verglichen mit der leitfähigen Struktur 122a' von 3B weist die leitfähige Struktur 422a' eine längere Länge in der ersten Richtung X auf, da der entfernte Abschnitt 410b' der leitfähigen Struktur 430a' oder 432a' um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben ist. Bei manchen Ausführungsformen bewirkt Erhöhen der Länge der leitfähigen Struktur 422a', dass die leitfähige Struktur 422a' eine funktionelle Struktur ist. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 422a', 422b', 422c', 422d' oder 422e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 422' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 422' eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 422' 5 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 424' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 424a', 424b', 424c', 424d', 424e' oder 424f. Die leitfähigen Strukturen 424a', 424b', 424c', 424d', 424e', 424f ersetzen die entsprechenden leitfähigen Strukturen 124a', 124b', 124c', 124d', 124e', 224f von 3B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit den leitfähigen Strukturen 124a', 124b', 124c', 124d', 124e', 224f von 3B sind die leitfähigen Strukturen 424a', 424b', 424c', 424d', 424e', 424f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen kann durch Verschieben der leitfähigen Strukturen 424a', 424b', 424c', 424d', 424e', 424f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1j2) in der zweiten Richtung Y die Anzahl von funktionellen oder nichtfunktionellen leitfähigen Strukturen basierend auf der Nähe der leitfähigen Strukturen 424a', 424b', 424c', 424b', 424e', 424f zu entfernten Abschnitten 410a', 410b', 410c' der leitfähigen Struktur 434a' oder 436a' eingestellt werden. Die leitfähige Struktur 424f weist eine in der ersten Richtung X kürzere Länge als die leitfähigen Strukturen 424b', 424c', 424d', 424e' auf, und die leitfähige Struktur 424f ist daher eine nichtfunktionelle oder eine Dummy-Struktur.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 424b', 424c', 424d' oder 424e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 424' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 424' eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 424' 4 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 426' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 426a', 426b', 426c',426b', 426e' oder 426f. Die leitfähigen Strukturen 426a', 426b', 426c', 426b', 426e', 426f ersetzen die entsprechenden leitfähigen Strukturen 226a', 126b', 126c', 126d', 126e', 126f von 3B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit den leitfähigen Strukturen 226a', 126b', 126c', 126d', 126e', 126f von 3B sind die leitfähigen Strukturen 426a', 426b', 426c',426b', 426e', 426f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen kann durch Verschieben der leitfähigen Strukturen 426a', 426b', 426c',426b', 426e', 426f um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1j2) in der zweiten Richtung Y die Anzahl von funktionellen oder nichtfunktionellen leitfähigen Strukturen basierend auf der Nähe der leitfähigen Strukturen 426a', 426b', 426c',426d', 426e', 426f zu entfernten Abschnitten 410a', 410b', 410c' der leitfähigen Struktur 434a' oder 436a' eingestellt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 426a', 426b', 426c',426d' oder 426e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 426' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 426' eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 426' 5 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 430' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 430a' oder 130b'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 432' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 432a' oder 132b'. Die leitfähige Struktur 430a', 432a' ersetzt die entsprechende leitfähige Struktur 330a', 330a' von 3B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 330a', 332a' von 3B ist die entsprechende leitfähige Struktur 430a', 432a' aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 310a', 410b' und 310c' in der entsprechenden Position in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 434' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 434a' oder 134b'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 436' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 436a' oder 136b'. Die leitfähige Struktur 434a', 436a' ersetzt die entsprechende leitfähige Struktur 334a', 336a' von 3B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 334a', 336a' von 3B ist die entsprechende leitfähige Struktur 434a', 436a' aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 312a', 412b' und 312c' in der entsprechenden Position in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Bei manchen Ausführungsformen werden durch Verschieben der Position des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420, 422, 424, 426, die um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y zu verschieben ist, die entsprechenden Seiten der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420, 422, 424, 426, die sich in der ersten Richtung X erstrecken, mit entsprechenden Gitterlinien in den Sätzen von Gitterlinien 102 und 104 ausgerichtet, was bewirkt, dass mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 422a, 426a ausreichend von der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 410b, 412b getrennt ist, um Durchkontaktierungs-Landing-Spot-Designregeln nicht zu verletzen, und die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 422a und 426a sind verwendbar, um entsprechende leitfähige Strukturen 422a' und 426a' herzustellen, welche zusätzliche funktionelle leitfähige Strukturen in dem entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 422' und 426' sind.
  • Bei manchen Ausführungsformen ergibt Verschieben der Position des Satzes von leitfähigen Strukturen 420', 422', 424', 426', die um die Hälfte der Breite W1 (z.B. W1/2) in der zweiten Richtung Y zu verschieben ist, eine andere Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 420' und 422' oder eine andere Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 424' und 426'. Bei manchen Ausführungsformen hat Aufweisen einer anderen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 420' und 422' oder einer anderen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 424' und 426' zur Folge, dass die integrierte Schaltung 400B eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 422a' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 406a' und 406b' und eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 426a' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 408a' und 408b' aufweist, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 5A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns 500A einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Das Layoutdesign 500A ist eine Variation des Layoutdesigns 400A (4A), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt das Layoutdesign 500a ein Beispiel dar, bei dem ein Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 den entsprechenden Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 von 4A ersetzt, was bewirkt, dass der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 um eine Breite W1 in der zweiten Richtung Y verschoben wird.
  • Das Layoutdesign 500A ist verwendbar, um die integrierte Schaltung 500B von 4B herzustellen.
  • Das Layoutdesign 500A weist die Standardzellen-Layoutstrukturen 506a, 506b, 408a und 408b auf. Verglichen mit dem Layoutdesign 400A von 4A ersetzen die Standardzellen-Layoutstrukturen 506a und 506b die entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 406a und 406b, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Ferner weist das Layoutdesign 500A die Sätze von Gitterlinien 102 und 104, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520, 522, 424 und 426, Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 530, 532,434 und 436 und die Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 und 412 auf.
  • Verglichen mit dem Layoutdesign 400A von 4A ersetzen die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520 und 522 die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420 und 422, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 530 und 532 ersetzen die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 430 und 432, und der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 ersetzt den entsprechenden Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510a,510b oder 510c. Die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510a, 510b, 510c ersetzen die entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 410b, 310c von 4A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 410b, 310c von 4A sind die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510a,510b, 510c um eine Breite W1 in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen bewirkt Verschieben der Position des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen um eine Breite W1, dass Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520a und 522e von den entsprechenden Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 420a und 422e von 4A verschiedene entsprechende Längen in der ersten Richtung X aufweisen.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510a,510b, 510c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 510a', 510b', 510c' der leitfähigen Struktur 530a' oder 530a', die in Arbeitsgang 706 von Verfahren 700 (7) entfernt werden. Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510a,510b, 510c des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 die Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 510a', 510b' oder 510c' von mindestens der leitfähigen Struktur 530a' oder 532a'.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510a ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510b in dem Abstand PA4 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510b ist von der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510c in dem Abstand PA3 in der zweiten Richtung Y getrennt.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510a und 510b eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 530a positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist zwischen den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510b und 510c eine Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 532a positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510b in der zweiten Richtung Y von der Zellengrenze 101a um die Hälfte eines Abstands (z.B. P1/2) versetzt. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510b in der ersten Richtung X mit der Gitterlinie 102f ausgerichtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510a,510c in der zweiten Richtung Y von der entsprechenden Zellengrenze 101b, 101c um die Breite W1 versetzt. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510c in der zweiten Richtung Y von der Gitterlinie 104e um die Breite W1 versetzt. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 in einer einzigen Standardzellen-Layoutstruktur (z.B. den Standardzellen-Layoutstrukturen 506a und 506b) regelmäßig. Bei manchen Ausführungsformen ist, mit anderen Worten, der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 410 innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 406a und 406b regelmäßig, und der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 412 ist innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 408a und 408b regelmäßig.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 520a, 420b, 420c, 420d, 420e oder 420f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 520' (5B) der integrierten Schaltung 500B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 520a des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520 verwendbar, um die entsprechende leitfähige Struktur 520a' des Satzes von leitfähigen Strukturen 520' (5B) der integrierten Schaltung 500B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 520a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 420a von 4A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 420a von 4A weist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 520a eine längere Länge in der ersten Richtung X auf, da die Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510a in der zweiten Richtung Y von der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 520a weg verschoben ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 520a, 420b, 420c, 420d und 420e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520 5 M2-Routingbahnen im Standardzellenlayout 506a.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 522 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 422a, 422b, 422c, 422d, 522e oder 422f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 522 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 522' (5B) der integrierten Schaltung 500B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 522e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 522 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 522e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 522' (5B) der integrierten Schaltung 500B her-zustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 522e ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 422e von 4A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 422e von 4A weist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 522e eine kürzere Länge in der ersten Richtung X auf, da die Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510c in der zweiten Richtung Y in Richtung der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 522e verschoben ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 422a, 422b, 422c und 422d des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 522 4 M2-Routingbahnen im Standardzellenlayout 506b.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 522 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 530 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 530a oder 130b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 532 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 532a oder 132b.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 530, 532 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 530', 532' (5B) der integrierten Schaltung 500B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 530a, 532a verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 530a', 532a' des entsprechenden Satzes von leitfähigen Strukturen 530', 532' (5B) der integrierten Schaltung 500B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 530a, 532a ersetzt die entsprechende Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 430a, 432a von 4A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 430a von 4A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 530a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510a und 510b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 432a von 4A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 532a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510b und 510c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in den Sätzen von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 530 und 532 sind möglich
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Verschieben der Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 510a in der zweiten Richtung Y weg von der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 520a eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 520a als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 506a verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die in dem Layoutdesign 500A effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 5B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung 500B gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Die integrierte Schaltung 500B ist eine Variation der integrierten Schaltung 400B (4B), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt die integrierte Schaltung 500B ein Beispiel dar, bei dem leitfähige Strukturen 520a' und 522e' die entsprechenden leitfähigen Strukturen 420a' und 422e' von 4A ersetzen und die leitfähigen Strukturen 520a' und 522e' andere entsprechende Längen in der ersten Richtung X als die entsprechenden leitfähigen Strukturen 420a' und 422e' von 4A aufweisen.
  • Die integrierte Schaltung 500B weist die Standardzellen 506a', 506b', 408a' und 408b' auf. Verglichen mit der integrierten Schaltung 400B von 4B ersetzen die Standardzellen 506a' und 506b' die entsprechenden Standardzellen 406a' und 406b', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der integrierten Schaltung 400B von 4B ersetzen die Sätze von leitfähigen Strukturen 520' und 522' die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 420' und 422', die Sätze von leitfähigen Strukturen 530' und 532' ersetzen die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 430' und 432', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 520' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 520a', 420b', 420c', 420d', 420e' oder 420f' . Die leitfähige Struktur 520a' ersetzt die leitfähige Struktur 420a' von 4B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der leitfähigen Struktur 420a' von 4B weist die leitfähige Struktur 520a' eine längere Länge in der ersten Richtung X auf, da der entfernte Abschnitt 510a' der leitfähigen Struktur 530a um eine Breite W1 in der zweiten Richtung Y verschoben ist. Bei manchen Ausführungsformen bewirkt Erhöhen der Länge der leitfähigen Struktur 520a', dass die leitfähige Struktur 520a' eine funktionelle leitfähige Struktur ist. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 520a', 420b', 420c', 420d' oder 420e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 520' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 520' eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 520' 5 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 522' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 422a', 422b', 422c', 422d', 522e' oder 422f'. Die leitfähige Struktur 522e' ersetzt die leitfähige Struktur 422e' von 4B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der leitfähigen Struktur 422e' von 4B weist die leitfähige Struktur 522e' eine kürzere Länge in der ersten Richtung X auf, da der entfernte Abschnitt 510c' der leitfähigen Struktur 532a' um eine Breite W1 in der zweiten Richtung Y in Richtung der leitfähigen Struktur 522e' verschoben ist. Bei manchen Ausführungsformen kann durch Verschieben der Position des entfernten Abschnitts 510a', 510b', 510c' der leitfähigen Struktur 530a oder 532a in der zweiten Richtung Y die Anzahl von funktionellen oder nichtfunktionellen leitfähigen Strukturen basierend auf der Nähe der leitfähigen Strukturen 422a', 422b', 422c', 422d', 522e', 422f' zu dem entfernten Abschnitt 510a', 510b', 510c' der leitfähigen Struktur 530a oder 532a eingestellt werden.
  • Die leitfähige Struktur 522e' weist eine kürzere Länge in der ersten Richtung X als die leitfähigen Strukturen 422e' auf und ist daher eine nichtfunktionelle oder eine Dummy-Struktur. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 422a', 422b', 422c' oder 422d' des Satzes von leitfähigen Strukturen 522' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 522' eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 522' 4 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 530' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 530a' oder 130b'. Der Satz von leitfähigen Strukturen 532' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 532a' oder 132b'. Die leitfähige Struktur 530a', 532a' ersetzt die entsprechende leitfähige Struktur 430a', 432a' von 4B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der leitfähigen Struktur 430a', 432a' von 4B ist die entsprechende leitfähige Struktur 530a', 532a' aufgrund der neuen Positionen der entfernten Abschnitte 510a', 510b' und 510c' in der entsprechenden Position in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Bei manchen Ausführungsformen sind die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 522a' verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 522a' herzustellen, die eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur in dem entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 522' ist, was eine verschiedene Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 520' und 522' bewirkt. Bei manchen Ausführungsformen weist durch Aufweisen einer verschiedenen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 520' und 522' die integrierte Schaltung 500B eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 522a' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 506a' und 506b' auf, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 6A ist ein Diagramm eines Layoutdesigns 600A einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Das Layoutdesign 600A ist eine Variation des Layoutdesigns 500A (5A), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt das Layoutdesign 600A ein Beispiel dar, bei dem Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 und 612 die entsprechenden Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 und 412 von 5A ersetzen, was bewirkt, dass Schnittmerkmal-Layoutstrukturen innerhalb der Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 oder 612 in verschiedenen Abständen (z.B. Abstand PB3 und PC2) getrennt sind.
  • Das Layoutdesign 600A ist verwendbar, um die integrierte Schaltung 600B von 6B herzustellen.
  • Das Layoutdesign 600A weist die Standardzellen-Layoutstrukturen 606a, 606b, 608a und 608b auf. Verglichen mit dem Layoutdesign 500A von 5A ersetzen die Standardzellen-Layoutstrukturen 606a, 606b, 608a und 608b die entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 506a, 506b, 408a und 408b, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit dem Layoutdesign 500A von 5A ersetzen die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 620 und 622 die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 520 und 522, die Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 630, 632, 634 und 636 ersetzen die entsprechenden Sätze von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 530, 532, 534 und 536, und die Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 und 612 ersetzen die entsprechenden Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510 und 412, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a, 610b oder 310c.
  • Der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 612 umfasst mindestens die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 312a, 612b oder 312c.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610b, 612b ersetzen die entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510b, 412b von 5A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit den Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 510b, 412b von 5A sind die entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610b, 612b jeweils um einen Abstand P1 in der zweiten Richtung Y verschoben. Bei manchen Ausführungsformen ändert Verschieben der Position der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610b, 612b des Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 um einen Abstand P1 den Abstand der Sätze von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 und 612 derart, dass er Abstand PC2 und PC2 ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 610b, 310c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 610a', 610b', 610c' der leitfähigen Struktur 630a' oder 632a', die in Arbeitsgang 706 von Verfahren 700 (7) entfernt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen identifizieren die Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a, 612b, 312c entsprechende Positionen von entsprechenden Abschnitten 612a', 612b', 612c' der leitfähigen Struktur 634a' oder 636a', die in Arbeitsgang 706 von Verfahren 700 (7) entfernt werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist mindestens eine der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a, 610b, 310c, 312a, 612b oder 312c die Breite W2 in der zweiten Richtung Y auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Breite W2 einer Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) von mindestens dem Abschnitt 310a', 610b', 310c', 312a', 612b' oder 312c' von mindestens der leitfähigen Struktur 630a', 632a', 634a' oder 636a'.
  • Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a, 312c, ist von der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 610b, 612b in einem Abstand PB2 in der zweiten Richtung Y getrennt. Die Schnittmerkmal-Layoutstruktur 610b, 612b ist von der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310c, 312a in einem Abstand PC2 in der zweiten Richtung Y getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist mindestens einer der Abstände PB1, PB2, PC1 oder PC2 von mindestens einem anderen der Abstände PB1, PB2, PC1 oder PC2 verschieden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 630a, 634a zwischen der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310a, 312a und der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 610b, 612b positioniert. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 632a, 636a zwischen der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 610b, 612b und der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstruktur 310c, 312c positioniert.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte der entsprechenden Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610b und 612b in der ersten Richtung X mit den entsprechenden Gitterlinien 104a und 102f ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 606a und 606b regelmäßig, und der Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 612 ist innerhalb der entsprechenden Standardzellen-Layoutstrukturen 608a und 608b regelmäßig.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in den Sätzen von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610 oder 612 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 620 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 420a, 420b, 420c, 420d, 420e oder 620f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 620 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 620' (6B) der integrierten Schaltung 500B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 620f des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 620 verwendbar, um eine entsprechende leitfähige Struktur 620f' des Satzes von leitfähigen Strukturen 620' (6B) der integrierten Schaltung 600B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 62of ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 420f von 5A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 420f von 5A weist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 620f eine längere Länge in der ersten Richtung X auf, da die Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 610b von der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 620f in der zweiten Richtung Y weg verschoben ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 420b, 420c, 402d, 420e und 6206 des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 620 5 M2-Routingbahnen in dem Standardzellenlayout 506a.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 620 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 622 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 622a, 422b, 422c, 422d, 422e oder 422f. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 622 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 622' (6B) der integrierten Schaltung 600B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 622e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 622 verwendbar, um die entsprechende leitfähige Struktur 622e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 622' (6B) der integrierten Schaltung 600B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 622a ersetzt die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 422a von 5A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 422a von 5A weist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 622a eine kürzere Länge in der ersten Richtung X auf, da die Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 610b in Richtung der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 622a in der zweiten Richtung Y verschoben ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen entsprechen die Layoutstrukturen 422b, 422c, 422d und 422e des Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 622 4 M2-Routingbahnen in der Standardzellenstruktur 606b.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 622 sind möglich
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 630 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 630a oder 130b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 632 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 632a oder 132b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 634 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 634a oder 134b. Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 636 umfasst mindestens die Leitfähigkeitsmerkmalstruktur 636a oder 136b.
  • Der Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 630, 632, 634, 636 ist verwendbar, um einen entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 630', 632', 634', 636' ( 6B) der integrierten Schaltung 600B herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 630a, 632a, 634a, 636a verwendbar, um die entsprechende leitfähige Struktur 630a', 632a', 634a', 636a' des entsprechenden Satzes von leitfähigen Strukturen 630', 632', 634', 636' (6B) der integrierten Schaltung 600B herzustellen.
  • Die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 630a, 632a, 634a, 636a ersetzt die entsprechende Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 530a, 532a, 434a, 436a von 5A, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 530a von 5A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 630a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 310a und 610b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 532a von 5A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 632a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 610b und 310c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 434a von 5A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 634a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 312a und 612b in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Verglichen mit der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 436a von 5A ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 636a aufgrund der Positionen der Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 612b und 312c in der zweiten Richtung Y verschoben.
  • Andere Ausgestaltungen oder Mengen von Strukturen in dem Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 630, 632, 634 und 636 sind möglich
  • Bei manchen Ausführungsformen ist durch Verschieben der Position der Schnittmerkmal-Layoutstruktur 610b in der zweiten Richtung Y weg von der Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 620f eine zusätzliche Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 620f als zusätzliche Routingbahn-Layoutstruktur in der Standardzellen-Layoutstruktur 606a verwendbar, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die in dem Layoutdesign 600A effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • 6B ist ein Diagramm einer Draufsicht einer integrierten Schaltung 600B gemäß einigen Ausführungsformen.
  • Die integrierte Schaltung 600B ist eine Variation der integrierten Schaltung 500B (5B), und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet. Beispielsweise stellt die integrierte Schaltung 600B ein Beispiel dar, bei dem leitfähige Strukturen 620f' und 622a' die entsprechenden leitfähige Strukturen 420f' und 422a' von 5A ersetzen und die leitfähigen Strukturen 620f' und 622a' von den entsprechenden leitfähigen Strukturen 420f' und 422a' von 5A verschiedene entsprechende Längen in der ersten Richtung X aufweisen. Bei manchen Ausführungsformen stellt die integrierte Schaltung 600B auch ein Beispiel dar, bei dem eine Länge der entsprechenden leitfähigen Struktur 630a', 634a' von einer Länge einer entsprechenden leitfähigen Struktur 632a', 636a' von verschiedenen Abständen (z.B. Abstand PB2 und PC2) verschieden ist.
  • Die integrierte Schaltung 600B weist die Standardzellen 606a', 606b', 608a' und 608b' auf. Verglichen mit der integrierten Schaltung 500B von 5B ersetzen die Standardzellen 606a', 606b', 608a' und 608b' die entsprechenden Standardzellen 506a', 506b', 408a' und 408b', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der integrierten Schaltung 500B von 5B ersetzen die Sätze von leitfähigen Strukturen 620' und 622' die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 520' und 522', die Sätze von leitfähigen Strukturen 630', 632', 634' und 636' ersetzen die entsprechenden Sätze von leitfähigen Strukturen 530', 532', 434' und 436', und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 620' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 420a', 420b', 420c', 420d', 420e' oder 620f'. Die leitfähige Struktur 620f' ersetzt die leitfähige Struktur 420f' von 5B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der leitfähigen Struktur 420f' von 5B weist die leitfähige Struktur 620f' eine längere Länge in der ersten Richtung X auf, da der entfernte Abschnitt 610b' der leitfähigen Struktur 630a oder 632a von der leitfähigen Struktur 620f' in der zweiten Richtung Y um den Abstand P1 weg verschoben ist. Bei manchen Ausführungsformen bewirkt Erhöhen der Länge der leitfähigen Struktur 620f', dass die leitfähige Struktur 620f eine funktionelle leitfähige Struktur ist. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 420b', 420c', 420d', 420e' oder 620f' des Satzes von leitfähigen Strukturen 620' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 620' eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 620' 5 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Der Satz von leitfähigen Strukturen 622' umfasst mindestens die leitfähige Struktur 622a', 422b', 422c', 422d', 422e' oder 422f'. Die leitfähige Struktur 622a' ersetzt die leitfähige Struktur 422a' von 5B, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Verglichen mit der leitfähigen Struktur 422a' von 5B weist die leitfähige Struktur 622a' eine kürzere Länge in der ersten Richtung X auf, da der entfernte Abschnitt 610b' der leitfähigen Struktur 630a' oder 632a' in der zweiten Richtung Y um den Abstand P1 in Richtung der leitfähigen Struktur 622a' verschoben ist. Bei manchen Ausführungsformen kann durch Verschieben der Position des entfernten Abschnitts 310a', 610b', 310c' der leitfähigen Struktur 630a' oder 632a' in der zweiten Richtung Y die Anzahl von funktionellen oder nichtfunktionellen leitfähigen Strukturen basierend auf der Nähe der leitfähigen Strukturen 622a', 422b', 422c', 422d', 422e', 422f' zu dem entfernten Abschnitt 310a', 610b', 310c' der leitfähigen Struktur 630a oder 632a eingestellt werden.
  • Die leitfähige Struktur 622a' weist eine in der ersten Richtung X kürzere Länge als die leitfähigen Strukturen 422' auf und ist daher eine nichtfunktionelle oder eine Dummy-Struktur. Bei manchen Ausführungsformen sind mindestens die leitfähige Struktur 422b', 4220', 422d' oder 422e' des Satzes von leitfähigen Strukturen 622' funktionelle leitfähige Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 622' eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen und entsprechenden Routingbahnen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist der Satz von leitfähigen Strukturen 622' 4 funktionelle leitfähige Strukturen und entsprechende Routingbahnen auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist die Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur 620f verwendbar, um die entsprechende leitfähige Struktur 520f' herzustellen, die eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur in dem entsprechenden Satz von leitfähigen Strukturen 620' ist, was eine verschiedene Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 620' und 622' zur Folge hat. Bei manchen Ausführungsformen weist durch Aufweisen einer verschiedenen Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen in den Sätzen von leitfähigen Strukturen 620' und 622' die integrierte Schaltung 600B eine zusätzliche funktionelle leitfähige Struktur 622f' und entsprechende Routingbahn in den Standardzellen 606a' und 606b' auf, was zusätzliche Routing-Ressourcen ergibt, die effizienter als bei anderen Lösungen genutzt werden.
  • VERFAHREN
  • 7 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens 700 zum Ausbilden oder Herstellen einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen. Es versteht sich, dass vor, während und/oder nach dem in 7 dargestellten Verfahren 700 zusätzliche Arbeitsgänge durchgeführt werden können und dass einige andere Arbeitsgänge in diesem Dokument eventuell nur kurz beschrieben werden. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 verwendbar, um integrierte Schaltungen, beispielsweise mindestens die integrierte Schaltung 100C (1C), die integrierte Schaltung 200B (2B), die integrierte Schaltung 400B (4B), die integrierte Schaltung 500B (5B) oder die integrierte Schaltung 600B (6B), auszubilden. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 verwendbar, um integrierte Schaltungen, die ähnliche strukturelle Beziehungen wie eines oder mehrere von dem Layoutdesign 100A (1A), dem Layoutdesign 200A (2A), dem Layoutdesign 300A (3A), dem Layoutdesign 400A (4A), dem Layoutdesign 500A (5A), dem Layoutdesign 600A (6A) aufweisen, auszubilden.
  • In Arbeitsgang 702 des Verfahrens 700 wird ein Layoutdesign einer integrierten Schaltung generiert. Bei manchen Ausführungsformen weist das Layoutdesign des Verfahrens 700 eines oder mehrere von dem Layoutdesign 100A (1A), dem Layoutdesign 200A ( 2A), dem Layoutdesign 300A (3A), dem Layoutdesign 400A (4A), dem Layoutdesign 500A (5A), dem Layoutdesign 600A (6A) auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die integrierte Schaltung des Verfahrens 700 eine oder mehrere von der integrierten Schaltung 100C (1C), der integrierten Schaltung 200B (2B), der integrierten Schaltung 300B (3B), der integrierten Schaltung 400B (4B), der integrierten Schaltung 500B ( 5B) oder der integrierten Schaltung 600B (6B) auf.
  • Der Arbeitsgang 702 wird durch eine Verarbeitungsvorrichtung (z.B. Prozessor 902 (9)) durchgeführt, welche dazu eingerichtet ist, Anweisungen zum Generieren eines Layoutdesigns auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen ist das Layoutdesign ein Grafikdatenbanksystem(GDSII)-Dateiformat.
  • In Arbeitsgang 704 des Verfahrens 700 wird die integrierte Schaltung basierend auf dem Layoutdesign hergestellt. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der Arbeitsgang 704 des Verfahrens 700 Herstellen von mindestens einer Maske basierend auf dem Layoutdesign und Herstellen der integrierten Schaltung basierend auf der mindestens einen Maske.
  • Das Verfahren 700 setzt mit dem Arbeitsgang 706 fort, wo ein Abschnitt 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a' entfernt wird und dadurch die leitfähige Struktur 130a' oder 132a' der integrierten Schaltung 100C ausgebildet wird.
  • Bei manchen Ausführungsformen wird der entfernte Abschnitt 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a' durch eine Schnittregion identifiziert (z.B. Metallschnittmerkmal-Layoutstruktur 110b (1A-1B)). Bei manchen Ausführungsformen wird der Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 als Schnittmetall-Eins-Verfahren („Cut-Metal-One-Process“) bezeichnet. Bei manchen Ausführungsformen führt der Arbeitsgang 706 zu der Ausbildung der IC 100A (1A).
  • Bei manchen Ausführungsformen wird der Abschnitt 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a', der in dem Arbeitsgang 706 entfernt wird, in dem Layoutdesign 100A durch die Metallschnittmerkmal-Layoutstruktur 110b' (1A-1B) identifiziert. Bei manchen Ausführungsformen identifiziert die Metallschnittmerkmal-Layoutstruktur 110b' eine Position des entfernten Abschnitts 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a' der integrierten Schaltung 100C.
  • Bei manchen Ausführungsformen weist der entfernte Abschnitt 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a' eine Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) in der zweiten Richtung Y und eine Schnittlänge (nicht gekennzeichnet) in der ersten Richtung X auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die Metallschnittmerkmal-Layoutstruktur 110b (1A-1B) eine Strukturbreite (nicht gekennzeichnet) in der zweiten Richtung Y und eine Strukturlänge (nicht gekennzeichnet) in der ersten Richtung X auf. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Strukturbreite (nicht gekennzeichnet) der Metallschnittmerkmal-Layoutstruktur 110b der Schnittbreite (nicht gekennzeichnet) des entfernten Abschnitts 110b'. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die Strukturlänge (nicht gekennzeichnet) der Metallschnittmerkmal-Layoutstruktur 110b der Schnittlänge (nicht gekennzeichnet) des entfernten Abschnitts 110b'.
  • Bei manchen Ausführungsformen wird der Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 an leitfähigen Strukturen in der integrierten Schaltung 100C durchgeführt, die nicht ausreichend in der zweiten Richtung Y voneinander getrennt sind, um eine einheitliche Fertigungsausbeute sicherzustellen. Beispielsweise sind bei diesen Ausführungsformen, wenn der Abstand zwischen der leitfähigen Struktur 130a' und der entsprechenden leitfähigen Struktur 132a' in der zweiten Richtung Y kleiner als ein Mindestabstand (z.B. abhängig von dem Herstellungsprozess) ist, die leitfähige Struktur 130a' und die entsprechende leitfähige Struktur 132a' nicht ausreichend voneinander getrennt, um eine einheitliche Fertigungsausbeute sicherzustellen, und daher wird der Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 angewandt, um eine geeignete Trennung zwischen der leitfähigen Struktur 130a' und der entsprechenden leitfähigen Struktur 132a' sicherzustellen. Der Mindestabstand ist die Mindestbeabstandung zwischen hergestellten leitfähigen Strukturen, um eine einheitliche Ausbeute sicherzustellen. Bei manchen Ausführungsformen wird, wenn der Abstand zwischen der leitfähigen Struktur 130a' und der entsprechenden leitfähigen Struktur 132a' in der zweiten Richtung Y größer als ein Mindestabstand (z.B. von dem Herstellungsprozess abhängig) ist, der Arbeitsgang 706 des Verfahrens 700 nicht an der leitfähigen Struktur 130a' und der entsprechenden leitfähigen Struktur 132a' durchgeführt.
  • Bei manchen Ausführungsformen wird der Arbeitsgang 706 durch einen Entfernungsprozess durchgeführt. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der Entfernungsprozess einen oder mehrere Ätzprozesse, die geeignet sind, einen Abschnitt 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a' zu entfernen. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der Ätzprozess des Arbeitsgangs 706 Identifizieren eines Abschnitts 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a', welcher zu entfernen ist, und Ätzen des Abschnitts 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a', welcher zu entfernen ist. Bei manchen Ausführungsformen wird eine Maske verwendet, um den Abschnitt 110b' der leitfähigen Struktur 130a' oder 132a', der zu schneiden oder zu entfernen ist, zu spezifizieren. Bei manchen Ausführungsformen ist die Maske eine Hartmaske. Bei manchen Ausführungsformen ist die Maske eine Weichmaske. Bei manchen Ausführungsformen entspricht Ätzen Plasmaätzen, reaktivem Ionenätzen, chemischem Ätzen, Trockenätzen, Nassätzen, anderen geeigneten Prozessen, jedweder Kombination daraus oder dergleichen. Bei manchen Ausführungsformen sind Arbeitsgang 704 und 706 des Verfahrens 700 verwendbar, um eine oder mehrere integrierte Schaltungen herzustellen, die einen oder mehrere der in 1A-1C, 2A-2B, 3A-3B, 4A-4B, 5A-5B oder 6A-6B beschriebenen Vorteile aufweisen, und auf eine ähnliche ausführliche Beschreibung wird daher verzichtet.
  • Wenngleich der Arbeitsgang 706 mit Bezug auf die leitfähige Struktur 130a' und 132a' und den Abschnitt 110b' beschrieben wurde, versteht es sich, dass der Arbeitsgang 706 auch auf einen oder mehrere andere Abschnitte der integrierten Schaltung 100C, 200B, 300B, 400B, 500B oder 600B, umfassend mindestens die leitfähige Struktur 130b', 132b', 134a', 134b', 136a', 136b', 234a', 236a', 430a', 432a', 434a', 436a', 530a', 532a', 630a', 632a', 634a' oder 636a', den Abschnitt 110b', 212b', 410b', 412b', 510b', 610b' oder 612b' oder dergleichen, oder andere Abschnitte der integrierten Schaltung 100C, 200B, 400B, 500B oder 600B, die durch eine oder mehrere Schnittmerkmal-Layoutstrukturen in dem Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, 112, 212, 310, 312, 410, 412, 510, 610 oder 612 identifiziert werden, anwendbar ist.
  • 8 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens 800 zum Generieren eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung gemäß einigen Ausführungsformen. Es versteht sich, dass vor, während und/oder nach dem Verfahren 800, das in 8 dargestellt ist, zusätzliche Arbeitsgänge durchgeführt werden können und dass einige andere Prozesse in diesem Dokument eventuell nur kurz beschrieben werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 800 verwendbar, um eine oder mehrere Layoutstrukturen eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung zu generieren. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 800 verwendbar, um ein oder mehrere Layoutdesigns, beispielsweise das Layoutdesign 100A (1A), das Layoutdesign 200A (2A), das Layoutdesign 300A (3A), das Layoutdesign 400A (4A), das Layoutdesign 500A ( 5A), das Layoutdesign 600A (6A), zu generieren. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 800 verwendbar, um eine oder mehrere Layoutstrukturen eines Layoutdesigns einer integrierten Schaltung, beispielsweise mindestens der integrierten Schaltung 100C (1C), der integrierten Schaltung 200B (2B), der integrierten Schaltung 300B (3B), der integrierten Schaltung 400B (4B), der integrierten Schaltung 500B (5B) oder der integrierten Schaltung 600B (6B), zu generieren.
  • In Arbeitsgang 802 des Verfahrens 800 wird ein erster Satz von Gitterlinien generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der erste Satz von Gitterlinien auf einem Layoutdesign platziert. Bei manchen Ausführungsformen weist das Layoutdesign des Verfahrens 800 mindestens das Layoutdesign 100A (1A), das Layoutdesign 200A (2A), das Layoutdesign 300A (3A), das Layoutdesign 400A (4A), das Layoutdesign 500A ( 5A) oder das Layoutdesign 600A (6A) auf. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der erste Satz von Gitterlinien des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Gitterlinien 102 oder 104.
  • In dem Arbeitsgang 804 des Verfahrens 800 wird ein zweiter Satz von Gitterlinien generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der zweite Satz von Gitterlinien auf dem Layoutdesign platziert. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der zweite Satz von Gitterlinien des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Gitterlinien 102 oder 104.
  • In dem Arbeitsgang 806 des Verfahrens 800 wird ein erster Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der erste Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 auf einer ersten Layout-Ebene platziert. Bei manchen Ausführungsformen ist die erste Layout-Ebene die M2-Layout-Ebene. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der erste Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120, 122, 124, 126, 224, 226, 420, 422, 424, 426, 520, 522, 620 oder 622.
  • In dem Arbeitsgang 808 des Verfahrens 800 wird ein zweiter Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der zweite Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 auf der ersten Layout-Ebene platziert. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der zweite Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 120, 122, 124, 126, 224, 226, 420, 422, 424, 426, 520, 522, 620 oder 622.
  • In dem Arbeitsgang 810 des Verfahrens 800 wird ein erster Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der erste Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 auf einer zweiten Layout-Ebene platziert, die von der ersten Layout-Ebene verschieden ist. Bei manchen Ausführungsformen ist die zweite Layout-Ebene die M1-Layout-Ebene. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der erste Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, 112, 212, 310, 312, 410, 412, 510, 610 oder 612.
  • In dem Arbeitsgang 812 des Verfahrens 800 wird ein zweiter Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der zweite Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 auf der zweiten Layout-Ebene platziert. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der zweite Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen 110, 112, 212, 310, 312, 410, 412, 510, 610 oder 612.
  • In dem Arbeitsgang 814 des Verfahrens 800 wird ein dritter Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der dritte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 auf der zweiten Layout-Ebene platziert. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der dritte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130, 132, 134, 136, 234, 236, 330, 332, 334, 336, 430, 432, 434, 436, 530, 532, 630, 632, 634 oder 636.
  • In dem Arbeitsgang 814 des Verfahrens 800 wird ein vierter Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen generiert oder platziert. Bei manchen Ausführungsformen wird der vierte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 auf der zweiten Layout-Ebene platziert. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der vierte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen des Verfahrens 800 mindestens den Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen 130, 132, 134, 136, 234, 236, 330, 332, 334, 336, 430, 432, 434, 436, 530, 532, 630, 632, 634 oder 636.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfassen einer oder mehrere der Arbeitsgänge 806, 808, 810, 812, 814, 816 ferner Generieren oder Platzieren eines ersten Satzes von Standardzellen-Layoutdesigns. Bei manchen Ausführungsformen umfassen einer oder mehrere der Arbeitsgänge 806, 808, 810, 812, 814, 816 ferner Generieren oder Platzieren eines zweiten Satzes von Standardzellen-Layoutdesigns. Bei manchen Ausführungsformen umfassen einer oder mehrere der Arbeitsgänge 806, 808, 810, 812, 814, 816 ferner Generieren oder Platzieren eines dritten Satzes von Standardzellen-Layoutdesigns. Bei manchen Ausführungsformen umfassen einer oder mehrere der Arbeitsgänge 806, 808, 810, 812, 814, 816 ferner Generieren oder Platzieren eines vierten Satzes von Standardzellen-Layoutdesigns.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfasst mindestens der erste Satz von Standardzellen-Layoutdesigns, der zweite Satz von Standardzellen-Layoutdesigns, der dritte Satz von Standardzellen-Layoutdesigns oder der vierte Satz von Standardzellen-Layoutdesigns des Verfahrens 800 eines oder mehrere der Standardzellen-Layoutdesigns 106a, 106b, 108a, 108b, 208a, 208b, 306a, 306b, 308a, 308b, 406a, 406b, 408a, 408b, 506a, 506b, 606a, 606b, 608a oder 608b.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist mindestens eines der Layoutdesigns, beispielsweise das Layoutdesign 100A, 200A, 300, 400A, 500A oder 600A, der vorliegenden Offenbarung eines Standardzelle. Bei manchen Ausführungsformen werden einer oder mehrere der Arbeitsgänge, beispielsweise der Arbeitsgang 802, 804, 806, 808, 810, 812 oder 814, des Verfahrens 800 nicht durchgeführt.
  • Einer oder mehrere der Arbeitsgänge der Verfahren 700-800 werden durch eine Verarbeitungsvorrichtung durchgeführt, die dazu eingerichtet ist, Anweisungen zum Herstellen einer integrierten Schaltung, beispielsweise der integrierten Schaltung 100C, 200B, 400B, 500B oder 600B, auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen werden ein oder mehrere Arbeitsgänge der Verfahren 700-800 durch Verwendung einer selben Verarbeitungsvorrichtung wie jener durchgeführt, die in einem oder mehreren anderen Arbeitsgängen der Verfahren 700-800 verwendet wird. Bei manchen Ausführungsformen wird eine andere Verarbeitungsvorrichtung als jene, die verwendet wird, um einen oder mehrere andere Arbeitsgänge der Verfahren 700-800 durchzuführen, verwendet, um einen oder mehrere Arbeitsgänge der Verfahren 700-800 durchzuführen.
  • Die beschriebenen Verfahren umfassen beispielhafte Arbeitsgänge, jedoch müssen diese nicht unbedingt in der dargestellten Reihenfolge durchgeführt werden. Arbeitsgänge können gemäß Wesensart von Ausführungsformen der Offenbarung gegebenenfalls hinzugefügt, ausgetauscht, der Reihenfolge nach geändert und/oder entfernt werden. Ausführungsformen, welche verschiedene Merkmale und/oder verschiedene Ausführungsformen kombinieren, sind möglich
  • 9 ist eine schematische Ansicht eines Systems 900 zum Entwerfen und Herstellen eines IC-Layoutdesigns gemäß einigen Ausführungsformen. Bei manchen Ausführungsformen erzeugt oder platziert das System 900 ein oder mehrere in diesem Dokument beschriebene IC-Layoutdesigns. Bei manchen Ausführungsformen stellt das System 900 eine oder mehrere ICs basierend auf dem einen oder den mehreren in diesem Dokument beschriebenen IC-Layoutdesigns her. Das System 900 weist einen Hardwareprozessor 902 und ein nichtflüchtiges, computerlesbares Speichermedium 904 auf, das mit dem Computerprogrammcode 906, d.h. einem Satz von ausführbaren Anweisungen, kodiert ist, d.h. diesen speichert. Das computerlesbare Speichermedium 904 ist zum Zusammenwirken mit Fertigungsmaschinen zum Herstellen der integrierten Schaltung ausgebildet. Der Prozessor 902 ist durch einen Bus 908 mit dem computerlesbaren Speichermedium 904 elektrisch gekoppelt. Der Prozessor 902 ist durch den Bus 908 auch mit einer I/O-Schnittstelle 910 elektrisch gekoppelt. Durch den Bus 908 ist auch eine Netzwerkschnittstelle 912 mit dem Prozessor 902 elektrisch verbunden. Die Netzwerkschnittstelle 912 ist mit einem Netzwerk 914 verbunden, so dass der Prozessor 902 und das computerlesbare Speichermedium 904 in der Lage sind, über das Netzwerk 914 eine Verbindung zu externen Elementen herzustellen. Der Prozessor 902 ist dazu eingerichtet, den Computerprogrammcode 906, der in dem computerlesbaren Speichermedium 904 kodiert ist, auszuführen, um zu bewirken, dass das System 900 zum Durchführen eines Teils der oder aller Arbeitsgänge, wie sie in dem Verfahren 700 oder 800 beschrieben sind, verwendbar ist.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor 902 eine Zentraleinheit (CPU), ein Multiprozessor, ein verteiltes Verarbeitungssystem, eine anwendungsspezifische integrierte Schaltung (ASIC) und/oder eine geeignete Verarbeitungseinheit.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist das computerlesbare Speichermedium 904 ein elektronisches, magnetisches, optisches, elektromagnetisches, Infrarot- und/oder Halbleiter-System (oder -Einrichtung oder -Vorrichtung). Beispielsweise weist das computerlesbare Speichermedium 904 einen Halbleiter- oder Festkörperspeicher, ein Magnetband, eine austauschbare Computerdiskette, ein Random Access Memory (RAM), einen Nur-Lese-Speicher (ROM), eine magnetische Festplatte und/oder eine optische Platte auf. Bei manchen Ausführungsformen, die sich optischer Platten bedienen, weist das computerlesbare Speichermedium 904 einen Compact-Disk-Nur-Lese-Speicher (CD-ROM), eine wiederbeschreibbare Compact Disk (CD-R/W) und/oder eine digitale Video Disc (DVD) auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen speichert das Speichermedium 904 den Computerprogrammcode 906, der dazu eingerichtet ist, zu bewirken, dass das System 900 das Verfahren 700 oder 800 durchführt. Bei manchen Ausführungsformen speichert das Speichermedium 904 auch Informationen, die zum Durchführen des Verfahrens 700 oder 800 benötigt werden, sowie Informationen, die während des Durchführens des Verfahrens 700 oder 800 generiert werden, beispielsweise Layoutdesign 916, Benutzeroberfläche 918 und Fabrikationseinheit 920, und/oder einen Satz von ausführbaren Anweisungen, um den Betrieb des Verfahrens 700 oder 800 durchzuführen. Bei manchen Ausführungsformen weist das Layoutdesign 916 eine oder mehrere Layoutstrukturen des Layoutdesigns 100A (1A), des Layoutdesigns 200A ( 2A), des Layoutdesigns 300A (3A), des Layoutdesigns 400A (4A), des Layoutdesigns 500A (5A), des Layoutdesigns 600A (6A) auf.
  • Bei manchen Ausführungsformen speichert das Speichermedium 904 Anweisungen (z.B. den Computerprogrammcode 906) zum Zusammenwirken mit Fertigungsmaschinen. Die Anweisungen (z.B. der Computerprogrammcode 906) ermöglichen es, dass der Prozessor 902 Fertigungsanweisungen generiert, die von den Fertigungsmaschinen gelesen werden können, um das Verfahren 700 oder 800 während eines Fertigungsprozesses effektiv zu implementieren.
  • Das System 900 weist die I/O-Schnittstelle 910 auf. Die I/O-Schnittstelle 910 ist mit externen Schaltungen gekoppelt. Bei manchen Ausführungsformen weist die I/O-Schnittstelle 910 eine Tastatur, ein Tastenfeld, eine Maus, einen Trackball, ein Trackpad und/oder Cursor-Richtungspfeiltasten zum Übermitteln von Informationen und Befehlen zu dem Prozessor 902 auf.
  • Das System 900 weist auch die Netzwerkschnittstelle 912, die mit dem Prozessor 902 gekoppelt ist, auf. Die Netzwerkschnittstelle 912 ermöglicht es dem System 900, mit dem Netzwerk 914 zu kommunizieren, mit dem ein oder mehrere andere Computersysteme verbunden sind. Die Netzwerkschnittstelle 912 weist drahtlose Netzwerkschnittstellen wie etwa BLUE-TOOTH, WIFI, WIMAX, GPRS oder WCDMA oder eine drahtgebundene Schnittstelle wie etwa ETHERNET, USB oder IEEE-1394 auf. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 oder 800 in zwei oder mehreren Systemen 900 implementiert, und Informationen wie etwa Layoutdesign, Benutzeroberfläche und Fabrikationseinheit werden durch das Netzwerk 914 zwischen verschiedenen Systemen 900 ausgetauscht.
  • Das System 900 ist dazu eingerichtet, Informationen, die sich auf ein Layoutdesign beziehen, durch die I/O-Schnittstelle 910 oder die Netzwerkschnittstelle 912 zu empfangen. Die Informationen werden durch den Bus 908 zu dem Prozessor 902 übertragen, um ein Layoutdesign zum Herstellen einer IC (z.B. der integrierten Schaltung 100C (1C), der integrierten Schaltung 200B (2B), der integrierten Schaltung 400B (4B), der integrierten Schaltung 500B (5B) oder der integrierten Schaltung 600B (6B)) festzulegen. Das Layoutdesign wird dann in dem computerlesbaren Medium 904 als Layoutdesign 916 gespeichert. Das System 900 ist dazu eingerichtet, Informationen, die sich auf eine Benutzeroberfläche beziehen, durch die I/O-Schnittstelle 910 oder die Netzwerkschnittstelle 912 zu empfangen. Die Informationen werden in dem computerlesbaren Medium 904 als Benutzeroberfläche 918 gespeichert. Das System 900 ist dazu eingerichtet, Informationen, die sich auf eine Fabrikationseinheit beziehen, durch die I/O-Schnittstelle 910 oder die Netzwerkschnittstelle 912 zu empfangen. Die Informationen werden in dem computerlesbaren Medium 904 als Fabrikationseinheit 920 gespeichert. Bei manchen Ausführungsformen weist die Fabrikationseinheit 920 Fertigungsinformationen auf, die von dem System 900 verwendet werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 oder 800 als eigenständige Softwareanwendung zur Ausführung durch einen Prozessor implementiert. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 oder 800 als Softwareanwendung implementiert, die Teil einer zusätzlichen Softwareanwendung ist. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 oder 800 als Plug-in für eine Softwareanwendung implementiert. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 oder 800 als Softwareanwendung implementiert, die Teil eines EDA-Tools ist. Bei manchen Ausführungsformen ist das Verfahren 700 oder 800 als Softwareanwendung implementiert, die durch ein EDA-Tool verwendet wird. Bei manchen Ausführungsformen wird das EDA-Tool verwendet, um ein Layoutdesign der integrierten Schaltungsvorrichtung zu generieren. Bei manchen Ausführungsformen ist das Layoutdesign auf einem nichtflüchtigen computerlesbaren Medium gespeichert. Bei manchen Ausführungsformen wird das Layoutdesign durch Verwendung eines Tools wie etwa dem bei CADENCE DESIGN SYSTEMS, Inc. erhältlichen VIRTUOSO® oder eines anderen geeigneten Layouterstellungs-Tools generiert. Bei manchen Ausführungsformen wird das Layoutdesign basierend auf einer Netzliste, die basierend auf dem schematischen Design erstellt wird, generiert. Bei manchen Ausführungsformen wird das Verfahren 700 oder 800 durch eine Fertigungsvorrichtung implementiert, um eine integrierte Schaltung durch Verwendung eines Satzes von Masken herzustellen, die basierend auf einem oder mehreren durch das System 900 generierten Layoutdesigns hergestellt werden. Bei manchen Ausführungsformen ist das System 900 eine Fertigungsvorrichtung, um eine integrierte Schaltung durch Verwendung eines Satzes von Masken herzustellen, die basierend auf einem oder mehreren Layoutdesign der vorliegenden Offenbarung hergestellt werden. Bei manchen Ausführungsformen generiert das System 900 von 9 Layoutdesigns einer IC, die kleiner als andere Lösungen sind. Bei manchen Ausführungsformen generiert das System 900 von 9 Layoutdesigns einer IC-Struktur, die weniger Fläche als andere Lösungen belegen. Bei manchen Ausführungsformen weist die IC oder die IC-Struktur von 9 eine IC (z.B. die integrierte Schaltung 100C (1C), die integrierte Schaltung 200B (2B), die integrierte Schaltung 300B (3B) die integrierte Schaltung 400B (4B), die integrierte Schaltung 500B (5B) oder die integrierte Schaltung 600B (6B)) der vorliegenden Beschreibung auf.
  • 10 ist ein Blockdiagramm eines Fertigungssystems 1000 für integrierte Schaltungen (ICs) und eines zugehörigen IC-Fertigungsablaufs gemäß mindestens einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
  • In 10 weist das IC-Fertigungssystem 1000 Entitäten, beispielsweise ein Designhaus 1020, ein Maskenhaus 1030 und einen IC-Hersteller/Fabrikator („Fab“) 1040, auf, die miteinander in den Design-, Entwicklungs- und Fertigungszyklen und/oder -diensten, die mit der Fertigung einer IC-Vorrichtung 1060 in Zusammenhang stehen, zusammenwirken. Die Entitäten in dem System 1000 sind durch ein Kommunikationsnetzwerk verbunden. Bei manchen Ausführungsformen ist das Kommunikationsnetzwerk ein einziges Netzwerk. Bei manchen Ausführungsformen ist das Kommunikationsnetzwerk eine Vielfalt verschiedener Netzwerke, beispielsweise ein Intranet und das Internet. Das Kommunikationsnetzwerk weist drahtgebundene und/oder drahtlose Kommunikationskanäle auf. Jede Entität wirkt mit einer oder mehreren der anderen Entitäten zusammen und erbringt Dienste für und/oder bezieht Dienste von eine(r) oder mehrere(n) der anderen Entitäten. Bei manchen Ausführungsformen sind zwei oder mehrere von dem Designhaus 1020, dem Maskenhaus 1030 und dem IC-Fab 1040 Eigentum eines einzigen größeren Unternehmens. Bei manchen Ausführungsformen bestehen zwei oder mehrere von dem Designhaus 1020, dem Maskenhaus 1030 und dem IC-Fab 1040 nebeneinander in einer gemeinsamen Anlage und nutzen gemeinsame Ressourcen.
  • Das Designhaus (oder Designteam) 1020 generiert ein IC-Designlayout 1022. Das IC-Designlayout 1022 weist verschiedene geometrische Strukturen auf, die für eine IC-Vorrichtung 1060 entworfen werden. Die geometrischen Strukturen entsprechen Strukturen aus Metall-, Oxid- oder Halbleiterschichten, welche die verschiedenen Komponenten der herzustellenden IC-Vorrichtung 1060 bilden. Die verschiedenen Schichten bilden in Kombination verschiedene IC-Merkmale aus. Beispielsweise weist ein Abschnitt des IC-Designlayouts 1022 verschiedene IC-Merkmale, beispielsweise eine aktive Region, eine Gate-Elektrode, eine Source-Elektrode und eine Drain-Elektrode, Metallleitungen oder -durchkontaktierungen einer Zwischenschichtverbindung und Öffnungen für Bonding-Pads, die in einem Halbleitersubstrat (beispielweise einem Silizium-Wafer) und verschiedenen auf dem Halbleitersubstrat angeordneten Materialschichten auszubilden sind, auf. Das Designhaus 1020 implementiert eine geeignete Designprozedur, um das IC-Designlayout 1022 auszubilden. Die Designprozedur umfasst eines oder mehrere von Logikdesign, physischem Design oder „Place und Route“. Das IC-Designlayout 1022 wird in einer oder mehreren Datendateien mit Informationen über die geometrischen Strukturen bereitgestellt. Beispielsweise kann das IC-Designlayout 1022 in einem GDSII-Dateiformat oder einem DFII-Dateiformat ausgedrückt werden.
  • Das Maskenhaus 1030 umfasst Datenvorbereitung 1032 und Maskenherstellung 1034. Das Maskenhaus 1030 bedient sich des IC-Designlayouts 1022, um eine oder mehrere Masken herzustellen, die zum Herstellen der verschiedenen Schichten der IC-Vorrichtung 1060 gemäß dem IC-Designlayout 1022 zu verwenden sind. Das Maskenhaus 1030 führt die Maskendatenvorbereitung 1032 durch, wobei das IC-Designlayout 1022 in eine repräsentative Datendatei („RDF“) übersetzt wird. Die Maskendatenvorbereitung 1032 führt die RDF der Maskenherstellung 1034 zu. Die Maskenherstellung 1034 umfasst einen Maskenschreiber. Ein Maskenschreiber konvertiert die RDF in ein Bild auf einem Substrat, beispielsweise eine Maske (Retikel) oder ein Halbleiter-Wafer. Das Designlayout wird durch die Maskendatenvorbereitung 1032 derart bearbeitet, dass es bestimmten Eigenschaften des Maskenschreibers und/oder Erfordernissen des IC-Fab 1040 entspricht. In 10 sind die Maskendatenvorbereitung 1032 und die Maskenherstellung 1034 als getrennte Elemente dargestellt. Bei manchen Ausführungsformen können die Maskendatenvorbereitung 1032 und die Maskenherstellung 1034 gemeinsam als Maskendatenvorbereitung bezeichnet werden.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfasst die Maskendatenvorbereitung 1032 optische Nahbereichskorrektur (OPC = Optical Proximity Correction), welche sich Lithografieverbesserungsmethoden bedient, um Bildfehler, beispielsweise jene, die aus Beugung, Interferenz, anderen Prozesseffekten und dergleichen entstehen können, zu kompensieren. OPC stellt das IC-Designlayout 1022 ein. Bei manchen Ausführungsformen umfasst die Maskendatenvorbereitung 1032 weitere Auflösungsverbesserungsmethoden (RET), beispielsweise Schrägbeleuchtung, Subauflösungshilfsmerkmale, Phasenverschiebungsmasken, andere geeignete Methoden und dergleichen oder Kombinationen daraus. Bei manchen Ausführungsformen kommt auch inverse Lithografietechnologie (ILT) zur Anwendung, welche OPC als Inversbilddarstellungsaufgabe betrachtet.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfasst die Maskendatenvorbereitung 1032 einen Maskenregelprüfer (MRC), der das IC-Designlayout, welches Prozesse in OPC durchlaufen hat, mit einem Satz von Maskenerstellungsregeln überprüft, welche bestimmte geometrische und/oder konnektivitätsbezogene Einschränkungen enthalten, um bestimmte Spielräume zu gewährleisten, um Variabilität bei Halbleiterfertigungsprozessen Rechnung zu tragen und dergleichen. Bei manchen Ausführungsformen modifiziert der MRC das IC-Designlayout, um Einschränkungen während der Maskenherstellung 1034 zu kompensieren, was eventuell einen Teil der durch OPC durchgeführten Modifikationen, um Maskenerstellungsregeln zu erfüllen, rückgängig macht.
  • Bei manchen Ausführungsformen umfasst die Maskendatenvorbereitung 1032 eine Lithografieprozessprüfung („LPC“ = Lithography Process Checking), welche die Verarbeitung simuliert, die von dem IC-Fab 1040 implementiert wird, um die IC-Vorrichtung 1060 herzustellen. Die LPC simuliert diese Verarbeitung basierend auf dem IC-Designlayout 1022, um eine simulierte hergestellte Vorrichtung, beispielsweise die IC-Vorrichtung 1060, zu schaffen. Die Verarbeitungsparameter bei der LPC-Simulation können Parameter, die verschiedenen Prozessen des IC-Herstellungszyklus zugeordnet sind, Parameter, die Tools zugeordnet sind, welche zum Herstellen der IC verwendet werden, und/oder andere Aspekte des Herstellungsprozesses umfassen. Die LPC berücksichtigt verschiedene Faktoren, beispielsweise Luftbildkontrast, Tiefenschärfe („DOF“ = Depth of Focus), Maskenfehlerverstärkungsfaktor („MEEF“ = Mask Error Enhancement Factor), andere geeignete Faktoren und dergleichen oder Kombinationen daraus. Bei manchen Ausführungsformen sind, nachdem eine simulierte hergestellte Vorrichtung mittels LPC geschaffen ist(sind), wenn die simulierte Vorrichtung der Gestalt nicht ausreichend entspricht, um Designregeln zu erfüllen, OPC und/oder MRC zu wiederholen, um das IC-Designlayout 1022 weiter zu verbessern.
  • Es sollte sich verstehen, dass die oben stehende Beschreibung der Maskendatenvorbereitung 1032 der Übersichtlichkeit halber vereinfacht wurde. Bei manchen Ausführungsformen umfasst die Datenvorbereitung 1032 zusätzliche Merkmale, beispielsweise eine Logikoperation (LOP), um das IC-Designlayout gemäß Herstellungsregeln zu modifizieren. Darüber hinaus können die Prozesse, die während der Datenvorbereitung 1032 auf das IC-Designlayout 1022 angewandt werden, in einer Vielfalt verschiedener Reihenfolgen ausgeführt werden.
  • Nach der Maskendatenvorbereitung 1032 und während der Maskenherstellung 1034 wird eine Maske oder eine Gruppe von Masken basierend auf dem modifizierten IC-Designlayout hergestellt. Bei manchen Ausführungsformen wird ein Elektronenstrahl (E-Strahl) oder ein Mechanismus von mehreren E-Strahlen verwendet, um eine Struktur auf einer Maske (Fotomaske oder Retikel) basierend auf dem modifizierten IC-Designlayout auszubilden. Die Maske kann mittels verschiedener Technologien ausgebildet werden. Bei manchen Ausführungsformen wird die Maske durch Verwendung von binärer Technologie ausgebildet. Bei manchen Ausführungsformen weist eine Maskenstruktur undurchsichtige Regionen und durchsichtige Regionen auf. Ein Strahlungsstrahl, beispielsweise ein ultravioletter (UV) Strahl, der verwendet wird, um die bildempfindliche Materialschicht (z.B. Fotolack), die auf einen Wafer aufgetragen wurde, zu belichten, wird durch die undurchsichtige Region blockiert und durch die durchsichtigen Regionen durchgelassen. Bei einem Beispiel weist eine binäre Maske ein durchsichtiges Substrat (z.B. Quarzglas) und ein undurchsichtiges Material (z.B. Chrom), das in den undurchsichtigen Regionen der Maske aufgebracht ist, auf. Bei einem anderen Beispiel wird die Maske durch Verwendung einer Phasenverschiebungstechnologie ausgebildet. Bei der Phasenverschiebungsmaske (PSM) sind verschiedene Merkmale in der auf der Maske ausgebildeten Struktur dazu eingerichtet, eine geeignete Phasendifferenz aufzuweisen, um die Auflösung und Bilddarstellungsqualität zu verbessern. Bei verschiedenen Beispielen kann die Phasenverschiebungsmaske eine gedämpfte PSM oder eine alternierende PSM sein. Die durch die Maskenherstellung 1034 generierte(n) Maske(n) wird in einer Vielfalt von Prozessen verwendet. Beispielsweise wird(werden) (eine) derartige Maske(n) in einem Ionenimplantationsprozess, um verschiedene dotierte Regionen in dem Halbleiter-Wafer auszubilden, in einem Ätzprozess, um verschiedene Ätzregionen in dem Halbleiter-Wafer auszubilden, und/oder in anderen geeigneten Prozessen verwendet.
  • Der IC-Fab 1040 ist eine IC-Herstellungsentität, welche eine oder mehrere Herstellungsanlagen zur Herstellung einer Vielfalt verschiedener IC-Produkte aufweist. Bei manchen Ausführungsformen ist der IC-Fab 1040 eine Halbleiter-Foundry. Beispielsweise kann eine Herstellungsanlage für die Front-End-Fertigung mehrerer IC-Produkte (Front-End-of-Line(FEOL)-Fertigung) vorhanden sein, während eine zweite Herstellungsanlage die Back-End-Fertigung für die Zusammenschaltung und Einhausung der IC-Produkte (Back-End-of-Line(BEOL)-Fertigung) bereitstellen kann und eine dritte Herstellungsanlage andere Dienste für die Foundry-Entität bereitstellen kann.
  • Der IC-Fab 1040 bedient sich der Maske (oder der Masken), die durch das Maskenhaus 1030 hergestellt werden, um die IC-Vorrichtung 1060 herzustellen. Somit bedient sich der IC-Fab 1040 mindestens indirekt des IC-Designlayouts 1022, um die IC-Vorrichtung 1060 herzustellen. Bei manchen Ausführungsformen wird von dem IC-Fab 1040 ein Halbleiter-Wafer 1042 durch Verwendung der Maske (oder Masken) hergestellt, um die IC-Vorrichtung 1060 auszubilden. Der Halbleiter-Wafer 1042 weist ein Siliziumsubstrat oder ein anderes geeignetes Substrat, das darauf ausgebildet Materialschichten aufweist, auf. Der Halbleiter-Wafer weist ferner eine oder mehrere von verschiedenen dotierten Regionen, dielektrischen Merkmalen, Mehrebenen-Zusammenschaltungen und dergleichen (die bei nachfolgenden Herstellungsschritten ausgebildet werden) auf.
  • Das System 1000 ist als das Design-Haus 1020, das Maskenhaus 1030 oder den IC-Fab 1040 als getrennte Komponenten oder Entitäten aufweisend dargestellt. Allerdings versteht es sich, dass eines oder mehrere von dem Design-Haus 1020, dem Maskenhaus 1030 oder dem IC-Fab 1040 Teil derselben Komponente oder Entität sind.
  • Details betreffend ein System zur Herstellung integrierter Schaltungen (IC) (z.B. das System 1000 aus 10) und einen zugehörigen IC-Herstellungsablauf gehen z.B. aus US-Patent US 9 256 709 B2 erteilt am 9. Februar 2016, der US-Vorveröffentlichung US 2015 / 0 278 429 A1 veröffentlicht am 1. Oktober 2015, der US-Vorveröffentlichung US 2014 / 0 040 838 A1 veröffentlicht am 6. Februar 2014, und aus US-Patent US 7 260 442 B2 erteilt am 21. August 2007, hervor.
  • Ein Aspekt dieser Beschreibung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer integrierten Schaltung (IC). Bei manchen Ausführungsformen umfasst das Verfahren Generieren, durch einen Prozessor, eines ersten Standardzellen-Layoutdesigns der integrierten Schaltung, Generieren eines zweiten Standardzellen-Layoutdesigns der integrierten Schaltung, Generieren eines ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in einer ersten Richtung erstreckt, und Herstellen der integrierten Schaltung basierend auf mindestens dem ersten Standardzellen-Layoutdesign oder dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign. Bei manchen Ausführungsformen liegt das zweite Standardzellen-Layoutdesign in der ersten Richtung an dem ersten Standardzellen-Layoutdesign an. Bei manchen Ausführungsformen erstreckt sich eine Seite einer ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen in der ersten Richtung und ist mit einer ersten Gitterlinie des ersten Satzes von Gitterlinien oder des zweiten Satzes von Gitterlinien ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen umfasst das Generieren des ersten Standardzellen-Layoutdesigns Generieren eines ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf einer ersten Metallebene angeordnet ist und einen ersten Satz von Gitterlinien, der sich in der ersten Richtung erstreckt, überlappt. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der erste Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines ersten Satzes von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen umfasst das Generieren des zweiten Standardzellen-Layoutdesigns Generieren eines zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf der ersten Metallebene angeordnet ist und einen zweiten Satz von Gitterlinien, der sich in der ersten Richtung erstreckt, überlappt. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der zweite Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines zweiten Satzes von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen ist der zweite Satz von Gitterlinien von dem ersten Satz von Gitterlinien in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte jeder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen mit einer entsprechenden Gitterlinie des ersten Satzes von Gitterlinien ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Mitte jeder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen mit einer entsprechenden Gitterlinie des zweiten Satzes von Gitterlinien ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der erste Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen die erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur, eine zweite Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem ersten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist, und eine dritte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem zweiten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist. Bei manchen Ausführungsformen umfasst Generieren des ersten Standardzellen-Layoutdesigns ferner Generieren einer ersten Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur, die sich in der zweiten Richtung erstreckt. Bei manchen Ausführungsformen ist die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur auf einer zweiten Metallebene unter der ersten Metallebene angeordnet. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur dem Herstellen einer ersten leitfähigen Struktur. Bei manchen Ausführungsformen ist die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur zwischen der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur und der zweiten Schnittmerkmal-Layoutstruktur positioniert. Bei manchen Ausführungsformen umfasst Generieren des zweiten Standardzellen-Layoutdesigns ferner Generieren einer zweiten Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur, die sich in der zweiten Richtung erstreckt. Bei manchen Ausführungsformen ist die zweite Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur auf der zweiten Metallebene angeordnet. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die zweite Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur dem Herstellen einer zweiten leitfähigen Struktur. Bei manchen Ausführungsformen ist die zweite Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur zwischen der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur und der dritten Schnittmerkmal-Layoutstruktur positioniert. Bei manchen Ausführungsformen entspricht die erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur dem Identifizieren einer Position eines entfernten Abschnitts der ersten leitfähigen Struktur oder der zweiten leitfähigen Struktur. Bei manchen Ausführungsformen umfasst das Verfahren ferner Generieren eines dritten Standardzellen-Layoutdesigns der integrierten Schaltung. Bei manchen Ausführungsformen liegt das dritte Standardzellen-Layoutdesign in der zweiten Richtung an dem ersten Standardzellen-Layoutdesign an. Bei manchen Ausführungsformen umfasst Generieren des dritten Standardzellen-Layoutdesigns Generieren eines dritten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf der ersten Metallebene angeordnet ist und den ersten Satz von Gitterlinien überlappt. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der dritte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines dritten Satzes von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen umfasst das Verfahren ferner Generieren eines vierten Standardzellen-Layoutdesigns der integrierten Schaltung. Bei manchen Ausführungsformen liegt das vierte Standardzellen-Layoutdesign in der ersten Richtung an dem dritten Standardzellen-Layoutdesign an und liegt an dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign in der zweiten Richtung an. Bei manchen Ausführungsformen umfasst Generieren des vierten Standardzellen-Layoutdesigns Generieren eines vierten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf der ersten Metallebene angeordnet ist und den zweiten Satz von Gitterlinien überlappt. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der vierte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines vierten Satzes von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen umfasst Generieren des vierten Standardzellen-Layoutdesigns Generieren eines zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der erste Satz von leitfähigen Strukturen eine ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen, der zweite Satz von leitfähigen Strukturen umfasst eine gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen, der dritte Satz von leitfähigen Strukturen umfasst die ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen, und der vierte Satz von leitfähigen Strukturen umfasst die gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der erste Satz von leitfähigen Strukturen eine ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen, der zweite Satz von leitfähigen Strukturen umfasst eine gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen, der dritte Satz von leitfähigen Strukturen umfasst die gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen, und der vierte Satz von leitfähigen Strukturen umfasst die ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen umfasst der zweite Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen eine vierte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, eine fünfte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der vierten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem dritten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist, und eine sechste Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der vierten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem vierten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist. Bei manchen Ausführungsformen ist der erste Abstand gleich dem dritten Abstand, und der zweite Abstand ist gleich dem vierten Abstand. Bei manchen Ausführungsformen sind alle von dem ersten Abstand, dem zweiten Abstand, dem dritten Abstand und dem vierten Abstand gleich.
  • Ein weiterer Aspekt dieser Beschreibung betrifft ein System zum Entwerfen einer integrierten Schaltung. Bei manchen Ausführungsformen weist das System ein nichtflüchtiges computerlesbares Medium auf, das dazu eingerichtet ist, ausführbare Anweisungen zu speichern, und einen Prozessor, der mit dem nichtflüchtigen computerlesbaren Medium gekoppelt ist. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, die Anweisungen zum Generieren eines ersten Satzes von Routingbahnen und eines zweiten Satzes von Routingbahnen, die sich in einer ersten Richtung erstrecken, auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen ist der zweite Satz von Routingbahnen von dem ersten Satz von Routingbahnen in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, getrennt. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor ferner dazu eingerichtet, die Anweisungen zum Generieren eines ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt und auf einer ersten Metallebene angeordnet ist, auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der erste Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines ersten Satzes von leitfähigen Strukturen, der eine ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen aufweist. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite von jeder Layoutstruktur des ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des ersten Satzes von Routingbahnen ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor ferner dazu eingerichtet, die Anweisungen zum Generieren eines zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt und auf der ersten Metallebene angeordnet ist, auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der zweite Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines zweiten Satzes von leitfähigen Strukturen, der eine gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen aufweist. Bei manchen Ausführungsformen ist eine Seite von jeder Layoutstruktur des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des zweiten Satzes von Routingbahnen ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor ferner dazu eingerichtet, die Anweisungen zum Generieren eines dritten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der zweiten Richtung erstreckt und auf einer von der ersten Metallebene verschiedenen zweiten Metallebene angeordnet ist, auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der dritte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines dritten Satzes von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, die Anweisungen zum Generieren eines vierten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt und auf der ersten Metallebene angeordnet ist, auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der vierte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines vierten Satzes von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Seite jeder Layoutstruktur des ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Seite jeder Layoutstruktur des vierten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen zum Generieren eines fünften Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt und auf der ersten Metallebene angeordnet ist, auszuführen. Bei manchen Ausführungsformen entspricht der fünfte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen dem Herstellen eines fünften Satzes von leitfähigen Strukturen. Bei manchen Ausführungsformen ist die Seite jeder Layoutstruktur des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Seite jeder Layoutstruktur des fünften Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen ausgerichtet. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen zum Generieren eines ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auszuführen, wobei eine erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen eine erste Position eines ersten entfernten Abschnitts einer ersten leitfähigen Struktur des dritten Satzes von leitfähigen Strukturen der integrierten Schaltung identifiziert. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen zum Generieren eines zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auszuführen, wobei eine zweite Schnittmerkmal-Layoutstruktur des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen eine zweite Position eines zweiten entfernten Abschnitts einer zweiten leitfähigen Struktur des dritten Satzes von leitfähigen Strukturen der integrierten Schaltung identifiziert. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen zum Generieren des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen auszuführen, wobei eine Mitte jeder Schnittmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des ersten Satzes von Routingbahnen ausgerichtet ist. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen zum Generieren des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen auszuführen, wobei eine Mitte jeder Schnittmerkmal-Layoutstruktur des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des zweiten Satzes von Routingbahnen ausgerichtet ist. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen zum Generieren des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen auszuführen, was Generieren des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen umfasst, der die erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur, eine dritte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem ersten Abstand in der zweiten Richtung entfernt ist, und eine vierte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem zweiten Abstand in der zweiten Richtung entfernt ist, umfasst. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen zum Generieren des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen auszuführen, was Generieren des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen umfasst, der die zweite Schnittmerkmal-Layoutstruktur, eine fünfte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der zweiten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem dritten Abstand in der zweiten Richtung entfernt ist, und eine sechste Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der zweiten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem vierten Abstand in der zweiten Richtung entfernt ist, umfasst. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen auszuführen, wo der erste Abstand gleich dem dritten Abstand ist und der zweite Abstand gleich dem vierten Abstand ist. Bei manchen Ausführungsformen ist der Prozessor dazu eingerichtet, Anweisungen auszuführen, wo alle von dem ersten Abstand, dem zweiten Abstand, dem dritten Abstand und dem vierten Abstand gleich sind.
  • Ein weiterer Aspekt dieser Beschreibung betrifft eine integrierte Schaltung. Bei manchen Ausführungsformen weist die integrierte Schaltung eine erste Region, eine zweite Region, eine dritte Region und eine vierte Region auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die erste Region der integrierten Schaltung einen ersten Satz von leitfähigen Strukturen auf, der sich in einer ersten Richtung erstreckt, auf einer ersten Metallschicht angeordnet ist und eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen aufweist. Bei manchen Ausführungsformen weist die zweite Region der integrierten Schaltung einen zweiten Satz von leitfähigen Strukturen auf, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf der ersten Metallschicht angeordnet ist und eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen aufweist. Bei manchen Ausführungsformen ist der zweite Satz von leitfähigen Strukturen von dem ersten Satz von leitfähigen Strukturen in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, getrennt. Bei manchen Ausführungsformen weist die dritte Region der integrierten Schaltung einen dritten Satz von leitfähigen Strukturen auf, der sich in der ersten Richtung erstreckt, auf der ersten Metallschicht angeordnet ist und die ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen aufweist. Bei manchen Ausführungsformen weist die vierte Region der integrierten Schaltung einen vierten Satz von leitfähigen Strukturen auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die erste Region der integrierten Schaltung ferner eine erste leitfähige Struktur auf, die sich in der zweiten Richtung erstreckt und auf einer zweiten Metallschicht unter der ersten Metallschicht angeordnet ist. Bei manchen Ausführungsformen weist die zweite Region der integrierten Schaltung ferner eine zweite leitfähige Struktur auf, die sich in der zweiten Richtung erstreckt, auf der zweiten Metallschicht angeordnet ist und von der ersten leitfähigen Struktur in der zweiten Richtung getrennt ist. Bei manchen Ausführungsformen weist die dritte Region der integrierten Schaltung ferner eine dritte leitfähige Struktur auf, die sich in der zweiten Richtung erstreckt und auf der zweiten Metallschicht angeordnet ist. Bei manchen Ausführungsformen weist die vierte Region der integrierten Schaltung ferner eine vierte leitfähige Struktur auf, die sich in der zweiten Richtung erstreckt, auf der zweiten Metallschicht angeordnet ist und von der dritten leitfähigen Struktur in der zweiten Richtung getrennt ist. Bei manchen Ausführungsformen weist die erste Region der integrierten Schaltung eine erste Höhe in der zweiten Richtung auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die zweite Region der integrierten Schaltung eine zweite Höhe in der zweiten Richtung auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die dritte Region der integrierten Schaltung eine dritte Höhe in der zweiten Richtung auf. Bei manchen Ausführungsformen weist die vierte Region der integrierten Schaltung eine vierte Höhe in der zweiten Richtung auf. Bei manchen Ausführungsformen sind alle von der ersten Höhe, der zweiten Höhe, der dritten Höhe und der vierten Höhe gleich.

Claims (18)

  1. Verfahren zum Ausbilden einer integrierten Schaltung, IC, wobei das Verfahren umfasst: Generieren, durch einen Prozessor, eines ersten Standardzellen-Layoutdesigns (106a) der integrierten Schaltung, wobei das Generieren des ersten Standardzellen-Layoutdesigns (106a) umfasst: - Generieren eines ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (120), die sich in einer ersten Richtung erstrecken, auf einer ersten Metallebene angeordnet sind und einen ersten Satz von Gitterlinien (102), die sich in der ersten Richtung erstrecken, überlappen; Generieren eines zweiten Standardzellen-Layoutdesigns (106b) der integrierten Schaltung, wobei das zweite Standardzellen-Layoutdesign (106b) an dem ersten Standardzellen-Layoutdesign (106a) entlang der ersten Richtung anliegt, wobei das Generieren des zweiten Standardzellen-Layoutdesigns (106b) umfasst: - Generieren eines zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (122), die sich in der ersten Richtung erstrecken, auf der ersten Metallebene angeordnet sind und einen zweiten Satz von Gitterlinien (104) überlappen, welche sich in der ersten Richtung erstrecken, und wobei der zweite Satz von Gitterlinien (104) von dem ersten Satz von Gitterlinien (102) in einer zweiten Richtung getrennt ist, die von der ersten Richtung verschieden ist; Generieren eines ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (110a, 110b, 110c), die sich in der ersten Richtung erstrecken, wobei eine Seite einer ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur (110a, 110b, 110c) des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (110a, 110b, 110c), welche sich in der ersten Richtung erstrecken, mit einer ersten Gitterlinie (102a, 104a, 104f) des ersten Satzes von Gitterlinien (102) oder des zweiten Satzes von Gitterlinien (104) ausgerichtet ist, wobei jede Schnittmerkmal-Layoutstruktur (110a, 110b, 110c) des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (110a, 110b, 110c) in dem ersten (106a) oder dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign (106b) enthalten ist; und Herstellen der integrierten Schaltung basierend auf dem ersten Standardzellen-Layoutdesign (106a) und dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign (106b), wobei eine Mitte jeder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur (120) des ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (120) mit einer entsprechenden Gitterlinie des ersten Satzes von Gitterlinien (102) ausgerichtet ist und eine Mitte jeder Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur (122) des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (122) mit einer entsprechenden Gitterlinie (104) des zweiten Satzes von Gitterlinien (104) ausgerichtet ist.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der erste Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (110a, 110b, 110c) umfasst: die erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur; eine zweite Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem ersten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist; und eine dritte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem zweiten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Generieren des ersten Standardzellen-Layoutdesigns (106a) ferner umfasst: - Generieren einer ersten Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur, die sich in der zweiten Richtung erstreckt, wobei die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur (130a) auf einer zweiten Metallebene unter der ersten Metallebene angeordnet ist, wobei die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur dem Herstellen einer ersten leitfähigen Struktur entspricht, wobei die erste Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur zwischen der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur und der zweiten Schnittmerkmal-Layoutstruktur positioniert ist; und wobei das Generieren des zweiten Standardzellen-Layoutdesigns (106b) ferner umfasst: - Generieren einer zweiten Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur (132a) die sich in der zweiten Richtung erstreckt, wobei die zweite Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur auf der zweiten Metallebene angeordnet ist, wobei die zweite Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur dem Herstellen einer zweiten leitfähigen Struktur entspricht, wobei die zweite Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstruktur zwischen der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur und der dritten Schnittmerkmal-Layoutstruktur positioniert ist, und wobei die erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur dem Identifizieren einer Position eines entfernten Abschnitts der ersten leitfähigen Struktur oder der zweiten leitfähigen Struktur entspricht.
  4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, ferner umfassend: Generieren eines dritten Standardzellen-Layoutdesigns (108a) der integrierten Schaltung, wobei das dritte Standardzellen-Layoutdesign (108a) an dem ersten Standardzellen-Layoutdesign (106a) entlang der zweiten Richtung anliegt, wobei das Generieren des dritten Standardzellen-Layoutdesigns (108a) umfasst: - Generieren eines dritten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (124), die sich in der ersten Richtung erstrecken, auf der ersten Metallebene angeordnet sind und den ersten Satz von Gitterlinien (102) überlappen; Generieren eines vierten Standardzellen-Layoutdesigns (108b) der integrierten Schaltung, wobei das vierte Standardzellen-Layoutdesign (108b) an dem dritten Standardzellen-Layoutdesign (108a) entlang der ersten Richtung anliegt und an dem zweiten Standardzellen-Layoutdesign (106b) entlang der zweiten Richtung anliegt, wobei das Generieren des vierten Standardzellen-Layoutdesigns (108b) umfasst: - Generieren eines vierten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (126), die sich in der ersten Richtung erstrecken, auf der ersten Metallebene angeordnet sind und den zweiten Satz von Gitterlinien überlappen; und Generieren eines zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (112a, 112b, 112c), der sich in der ersten Richtung erstreckt.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei der erste Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (120) dem Herstellen eines ersten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der erste Satz von leitfähigen Strukturen eine ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst; der zweite Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (122) dem Herstellen eines zweiten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der zweite Satz von leitfähigen Strukturen eine gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst; der dritte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (124) dem Herstellen eines dritten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der dritte Satz von leitfähigen Strukturen die ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst; und der vierte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (126) dem Herstellen eines vierten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der vierte Satz von leitfähigen Strukturen die gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst.
  6. Verfahren nach Anspruch 4, wobei der erste Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (120) dem Herstellen eines ersten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der erste Satz von leitfähigen Strukturen eine ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst; der zweite Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (122) dem Herstellen eines zweiten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der zweite Satz von leitfähigen Strukturen eine gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst; der dritte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (124) dem Herstellen eines dritten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der dritte Satz von leitfähigen Strukturen die gerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst; und der vierte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (126) dem Herstellen eines vierten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, wobei der vierte Satz von leitfähigen Strukturen die ungerade Anzahl von leitfähigen Strukturen umfasst.
  7. Verfahren nach einem beliebigen der vorhergehenden Ansprüche 4 bis 6, wobei der zweite Satz von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (112a, 112b, 112c) umfasst: eine vierte Schnittmerkmal-Layoutstruktur; eine fünfte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der vierten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem dritten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist; und eine sechste Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der vierten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem vierten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei der erste Abstand gleich dem dritten Abstand ist, und der zweite Abstand gleich dem vierten Abstand ist.
  9. Verfahren nach Anspruch 7, wobei alle von dem ersten Abstand, dem zweiten Abstand, dem dritten Abstand und dem vierten Abstand gleich sind.
  10. System zum Entwerfen einer integrierten Schaltung, wobei das System aufweist: ein nichtflüchtiges computerlesbares Medium, das dazu eingerichtet ist, ausführbare Anweisungen zu speichern; einen Prozessor, der mit dem nichtflüchtigen computerlesbaren Medium gekoppelt ist, wobei der Prozessor dazu eingerichtet ist, die Anweisungen auszuführen zum: - Generieren eines ersten Satzes von Routingbahnen (102) und eines zweiten Satzes von Routingbahnen (104), die sich in einer ersten Richtung erstrecken, wobei der zweite Satz von Routingbahnen (104) von dem ersten Satz von Routingbahnen (102) in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, getrennt ist; - Generieren eines ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (420), die sich in der ersten Richtung erstrecken und auf einer ersten Metallebene angeordnet sind, wobei eine Seite jeder Layoutstruktur des ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (420) in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des ersten Satzes von Routingbahnen (102) in Linie gebracht ist; - Generieren eines zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (422), die sich in der ersten Richtung erstrecken und auf der ersten Metallebene angeordnet sind, wobei eine Seite jeder Layoutstruktur des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (422) in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des zweiten Satzes von Routingbahnen (104) in Linie gebracht ist; - Generieren eines dritten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (430a, 432a, 434a, 436a, 630a, 632a, 634a, 636a), die sich in der zweiten Richtung erstrecken, wobei der dritte Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (430a, 432a, 434a, 436a, 630a, 632a, 634a, 636a) auf einer zweiten Metallebene, die von der ersten Metallebene verschieden ist, angeordnet ist; und - Generieren eines ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (310a, 312a, 612b), die sich in der ersten Richtung erstrecken, wobei eine Mitte jeder Schnittmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen Layoutstrukturen (310a, 312a, 612b) in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des ersten Satzes von Routingbahnen (102) ausgerichtet ist.
  11. System nach Anspruch 10, wobei der Prozessor ferner eingerichtet ist zur Ausführung von Anweisungen zum: Generieren eines vierten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (424), die sich in der ersten Richtung erstrecken und auf der ersten Metallebene angeordnet sind, wobei die Seite jeder Layoutstruktur des ersten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (420) in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Seite jeder Layoutstruktur des vierten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (424) ausgerichtet ist; und Generieren eines fünften Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (426), die sich in der ersten Richtung erstrecken und auf der ersten Metallebene angeordnet sind, wobei die Seite jeder Layoutstruktur des zweiten Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (422) in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Seite jeder Layoutstruktur des fünften Satzes von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (426) ausgerichtet ist.
  12. System nach Anspruch 11, wobei der Prozessor eingerichtet ist zur Ausführung von Anweisungen für: - den ersten Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (420), der dem Herstellen eines ersten Satzes von leitfähigen Strukturen mit einer ungeraden Anzahl von leitfähigen Strukturen entspricht, - den zweiten Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (422), der dem Herstellen eines zweiten Satzes von leitfähigen Strukturen mit einer geraden Anzahl von leitfähigen Strukturen entspricht, - den dritten Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (430a, 432a, 130b, 132b), der dem Herstellen eines dritten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, - den vierten Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (424), der dem Herstellen eines vierten Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht, und - den fünften Satz von Leitfähigkeitsmerkmal-Layoutstrukturen (426), der dem Herstellen eines fünften Satzes von leitfähigen Strukturen entspricht; - wobei eine erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (310a, 312a, 612b) eine erste Position eines ersten entfernten Abschnitts einer ersten leitfähigen Struktur (430a, 434a, 630a, 634a, 636a) des dritten Satzes von leitfähigen Strukturen (430a, 432a, 434a, 436a, 630a, 632a, 634a, 636a) der integrierten Schaltung identifiziert; und der Prozessor ferner eingerichtet ist zur Ausführung von Anweisungen zum: - Generieren eines zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (410b, 310e, 412b, 312c, 610b), die sich in der ersten Richtung erstrecken, wobei eine zweite Schnittmerkmal-Layoutstruktur des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (410b, 310c, 412b, 312c, 610b) eine zweite Position eines zweiten entfernten Abschnitts einer zweiten leitfähigen Struktur (430a, 432a, 434a, 436a, 630a, 632a, 636a) des dritten Satzes von leitfähigen Strukturen (430a, 432a, 434a, 436a, 630a, 632a, 634a, 636a) der integrierten Schaltung identifiziert.
  13. System nach Anspruch 12, wobei der Prozessor eingerichtet ist zur Ausführung von Anweisungen zum: Generieren des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (410b, 310c, 412b, 312c, 610b), wobei eine Mitte jeder Schnittmerkmal-Layoutstruktur des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen (410b, 310c, 412b, 312c, 610b) in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Routingbahn des zweiten Satzes von Routingbahnen (104) ausgerichtet ist.
  14. System nach Anspruch 12 oder 13, wobei der Prozessor eingerichtet ist zur Ausführung von Anweisungen zum: Generieren des ersten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen, umfassend: - die erste Schnittmerkmal-Layoutstruktur; - eine dritte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem ersten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist; und - eine vierte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der ersten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem zweiten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist; und Generieren des zweiten Satzes von Schnittmerkmal-Layoutstrukturen, umfassend: - die zweite Schnittmerkmal-Layoutstruktur; - eine fünfte Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der zweiten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem dritten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist; und - eine sechste Schnittmerkmal-Layoutstruktur, die von der zweiten Schnittmerkmal-Layoutstruktur in einem vierten Abstand in der zweiten Richtung getrennt ist.
  15. System nach Anspruch 14, wobei der Prozessor zur Ausführung von Anweisungen eingerichtet, wobei der erste Abstand gleich dem dritten Abstand und der zweite Abstand gleich dem vierten Abstand ist.
  16. System nach Anspruch 14, wobei der Prozessor zur Ausführung von Anweisungen eingerichtet ist, wobei der erste Abstand, der zweite Abstand, der dritte Abstand und der vierte Abstand alle gleich groß sind.
  17. Integrierte Schaltung, aufweisend: eine erste Region der integrierten Schaltung, aufweisend: - einen ersten Satz von leitfähigen Strukturen (120'), die sich in einer ersten Richtung erstrecken, auf einer ersten Metallschicht angeordnet sind und eine ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen aufweisen; und eine zweite Region der integrierten Schaltung, aufweisend: - einen zweiten Satz von leitfähigen Strukturen (122'), die sich in der ersten Richtung erstrecken, auf der ersten Metallschicht angeordnet sind und eine gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen aufweisen, wobei der zweite Satz von leitfähigen Strukturen (122') von dem ersten Satz von leitfähigen Strukturen (120') in einer zweiten Richtung, die von der ersten Richtung verschieden ist, getrennt ist; eine dritte Region der integrierten Schaltung, aufweisend: - einen dritten Satz von leitfähigen Strukturen (124'), die sich in der ersten Richtung erstrecken, auf der ersten Metallschicht angeordnet sind und die ungerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen aufweisen; eine vierte Region der integrierten Schaltung, aufweisend: - einen vierten Satz von leitfähigen Strukturen (126'), die sich in der ersten Richtung erstrecken, auf der ersten Metallschicht angeordnet sind und die gerade Anzahl von funktionellen leitfähigen Strukturen aufweisen, wobei der vierte Satz von leitfähigen Strukturen (126') von dem dritten Satz von leitfähigen Strukturen (124') in der zweiten Richtung getrennt ist; und einen ersten Satz von Gitterlinien (102'), die sich in der ersten Richtung erstrecken, und einen zweiten Satz von Gitterlinien (104'), die sich in der ersten Richtung erstrecken, wobei der zweite Satz von Gitterlinien (104') von dem ersten Satz von Gitterlinien (102') in der zweiten Richtung getrennt ist, wobei eine Mitte jeder leitfähigen Struktur des ersten Satz von leitfähigen Strukturen (120') in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Gitterlinie des ersten Satz von Gitterlinien (102') ausgerichtet ist, eine Mitte jeder leitfähigen Struktur des zweiten Satz von leitfähigen Strukturen (122') in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Gitterlinie des zweiten Satz von Gitterlinien (104') ausgerichtet ist, eine Mitte jeder leitfähigen Struktur des dritten Satz von leitfähigen Strukturen (124') in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Gitterlinie des ersten Satz von Gitterlinien (102') ausgerichtet ist und eine Mitte jeder leitfähigen Struktur des vierten Satz von leitfähigen Strukturen (126') in der ersten Richtung mit einer entsprechenden Gitterlinie des zweiten Satz von Gitterlinien (104') ausgerichtet ist, wobei die erste Region der integrierten Schaltung ferner aufweist: - eine erste leitfähige Struktur (130a'), die sich in der zweiten Richtung erstreckt und auf einer zweiten Metallschicht unter der ersten Metallschicht angeordnet ist, wobei die zweite Region der integrierten Schaltung ferner aufweist: - eine zweite leitfähige Struktur (132a'), die sich in der zweiten Richtung erstreckt, auf der zweiten Metallschicht angeordnet ist, und von der ersten leitfähigen Struktur (130a') in der zweiten Richtung durch eine erste Lücke (110b') getrennt ist, wobei die erste Lücke (110b') sich in der ersten Richtung erstreckt und eine erste Seite aufweist, die mit einer Gitterlinie (104a') des zweiten Satz von Gitterlinien (104') ausgerichtet ist, die dritte Region der integrierten Schaltung ferner aufweist: - eine dritte leitfähige Struktur (134a'), die sich in der zweiten Richtung erstreckt und auf der zweiten Metallschicht angeordnet ist und die vierte Region der integrierten Schaltung ferner aufweist: - eine vierte leitfähige Struktur (136a'), die sich in der zweiten Richtung erstreckt, auf der zweiten Metallschicht angeordnet ist, und von der dritten leitfähigen Struktur in der zweiten Richtung durch eine zweite Lücke (112b') getrennt ist, wobei die zweite Lücke (112b') sich in der ersten Richtung erstreckt und eine zweite Seite aufweist, die mit der Gitterlinie (104a') des zweiten Satz von Gitterlinien (104') ausgerichtet ist.
  18. Integrierte Schaltung nach Anspruch 17, wobei die erste Region der integrierten Schaltung eine erste Höhe in der zweiten Richtung aufweist, die zweite Region der integrierten Schaltung eine zweite Höhe in der zweiten Richtung aufweist, die dritte Region der integrierten Schaltung eine dritte Höhe in der zweiten Richtung aufweist, die vierte Region der integrierten Schaltung eine vierte Höhe in der zweiten Richtung aufweist, und die erste Höhe, die zweite Höhe, die dritte Höhe und die vierte Höhe alle gleich groß sind.
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