DE102018207308A1 - Halbleiterbauteil mit integriertem shunt-widerstand und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 222
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 18
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
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- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49517—Additional leads
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49503—Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
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- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49517—Additional leads
- H01L23/4952—Additional leads the additional leads being a bump or a wire
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- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49537—Plurality of lead frames mounted in one device
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- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
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- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/40247—Connecting the strap to a bond pad of the item
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/71—Means for bonding not being attached to, or not being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/72—Detachable connecting means consisting of mechanical auxiliary parts connecting the device, e.g. pressure contacts using springs or clips
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73221—Strap and wire connectors
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73227—Wire and HDI connectors
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
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- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73271—Strap and wire connectors
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- H01L27/0924—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors including transistors with a horizontal current flow in a vertical sidewall of a semiconductor body, e.g. FinFET, MuGFET
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- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
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- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
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Abstract
Ein Halbleiterbauteil umfasst ein erstes Chippad, einen Leistungshalbleiterchip, der auf dem ersten Chippad angeordnet ist und zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist, und einen Clip, der mit der ersten Leistungselektrode verbunden ist. Dabei bildet ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand und ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands ist integral mit dem Clip ausgebildet.
Description
- TECHNISCHES GEBIET
- Die vorliegende Offenbarung betrifft ein Halbleiterbauteil mit integriertem Shunt-Widerstand sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils mit integriertem Shunt-Widerstand.
- HINTERGRUND
- Halbleiterbauteile können Leistungshalbleiterchips enthalten, die dazu ausgebildet sind, hohe Ströme zu schalten. Für zahlreiche Anwendung kann es erforderlich sein, die Stärke eines einen solchen Leistungshalbleiterchip durchfließenden Stroms zu bestimmen. Eine solche Bestimmung des Stromflusses kann üblicherweise extern stattfinden, z.B. kann das Halbleiterbauteil auf einer Platine angebracht und elektrisch mit dieser verbunden sein und auf der Platine kann eine Messvorrichtung zur Messung des Stroms durch den Leistungshalbleiterchip vorhanden sein. Zwecks einer optimierten Integrationsdichte des Halbleiterbauteils kann es jedoch von Vorteil sein, den Strom intern, d.h. innerhalb des Halbleiterbauteils selbst zu bestimmen, z.B. mittels eines integrierten Shunt-Widerstands.
- Eine Aufgabe der Erfindung kann somit darin gesehen werden, ein Halbleiterbauteil mit einem verbesserten integrierten Shunt-Widerstand bereitzustellen. Ferner zielt die Erfindung darauf ab, ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils mit einem verbesserten integrierten Shunt-Widerstand anzugeben.
- Diese Aufgabe wird durch die Merkmale der unabhängigen Ansprüche gelöst. Die abhängigen Ansprüche stellen vorteilhafte Ausgestaltungen der Offenbarung dar.
- KURZFASSUNG
- Ein Aspekt der Offenbarung betrifft ein Halbleiterbauteil, aufweisend ein erstes Chippad, einen Leistungshalbleiterchip, der auf dem ersten Chippad angeordnet ist und zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist und einen Clip, der mit der ersten Leistungselektrode verbunden ist, wobei ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand bildet und wobei ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Ein weiterer Aspekt der Offenbarung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils, das Verfahren aufweisend das Anbringen eines Leistungshalbleiterchips auf einem Chippad, wobei der Leistungshalbleiterchip zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist, und das Anbringen eines Clips an der ersten Leistungselektrode, wobei ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand bildet und wobei ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Figurenliste
- Ein Halbleiterbauteil sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils gemäß der Offenbarung werden im Folgenden anhand von Zeichnungen näher erläutert. Die in den Zeichnungen gezeigten Elemente sind nicht notwendigerweise maßstabsgetreu relativ zueinander wiedergegeben. Identische Bezugszeichen können identische Komponenten bezeichnen.
-
1 zeigt eine skizzenhafte Draufsicht auf ein Halbleiterbauteil mit integriertem Shunt-Widerstand gemäß der Offenbarung. -
2 zeigt einen Schaltplan, welcher z.B. durch das Halbleiterbauteil von1 realisiert werden kann. -
3A-3C zeigen skizzenhafte Draufsichten weiterer Halbleiterbauteile gemäß der Offenbarung, bei welchen ein oder mehrere Kontaktfinger des integrierten Shunt-Widerstands unterschiedliche Anordnungen aufweisen. -
4A-4C zeigen skizzenhafte Draufsichten weiterer Halbleiterbauteile gemäß der Offenbarung, welche ferner eine integrierte Halbleiter-Spannungsmesseinheit aufweisen, welche mit den Kontaktfingern des integrierten Shunt-Widerstands elektrisch verbunden ist. -
5 zeigt eine skizzenhafte Draufsicht auf ein weiteres Halbleiterbauteil gemäß der Offenbarung, bei welchem der integrierte Shunt-Widerstand integral mit äußeren Anschlüssen des Halbleiterbauteils ausgebildet ist. -
6 zeigt eine skizzenhafte Draufsicht auf ein weiteres Halbleiterbauteil gemäß der Offenbarung, bei welchem der Clip, welcher den integrierten Shunt-Widerstand bildet, zur Bereitstellung einer Halbbrückenschaltung genutzt wird. -
7 zeigt ein beispielhaftes Flussdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung eines Halbleiterbauteils mit integriertem Shunt-Widerstand. - AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
- In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die Zeichnungen und die in diesen gezeigten Beispiele Bezug genommen. Es können die Begriffe „anbringen“, „befestigen“ und „verbinden“ nebst Ableitungen davon verwendet werden. Diese Begriffe können dazu verwendet werden, anzuzeigen, dass zwei Elemente zusammenwirken oder miteinander interagieren, wobei es unerheblich ist, ob sie in direktem physischem oder elektrischem Kontakt miteinander stehen oder nicht in direktem Kontakt miteinander stehen; es können Zwischenelemente oder -lagen zwischen den „angebrachten“, „befestigten“ oder „verbundenen“ Elementen vorgesehen sein oder die Elemente können direkten Kontakt zueinander haben.
-
1 zeigt ein Beispiel eines Halbleiterbauteils100 mit einem Clip10 , einem Leistungshalbleiterchip20 und einem Chippad30 . Der Leistungshalbleiterchip20 weist zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode auf, wobei der Clip10 mit der ersten Leistungselektrode elektrisch verbunden ist. Das Halbleiterbauteil100 kann ferner eine Verkapselung40 und äußere Anschlüsse50 aufweisen, die an der Verkapselung40 freiliegen. Der Clip10 kann vollständig von der Verkapselung40 eingekapselt sein. - Das Halbleiterbauteil
100 kann für die kundenseitige Anbringung an einer Platine ausgelegt sein, z.B. als oberflächenmontiertes Bauteil („surface mounted device“) oder als Bauteil für die Durchsteckmontage („through hole device“). Das Halbleiterbauteil100 kann ein Halbleitergehäuse („semiconductor package“) sein. Die Verkapselung40 kann ein spritzgussgeformter Körper oder ein laminierter Körper sein. Die äußeren Anschlüsse50 können, wie in den1 und3A bis6 , gezeigt nicht über einen Grundriss der Verkapselung herausragend ausgebildet sein („no leads package“) oder sie können über den Grundriss herausragen („leaded package“). - Gemäß einem Beispiel ist die erste Leistungselektrode auf einer oberen Hauptfläche des Leistungshalbleiterchips
20 angeordnet und die zweite Leistungselektrode ist auf einer gegenüberliegenden unteren Hauptfläche des Leistungshalbleiterchips20 angeordnet, d.h. der Leistungshalbleiterchip20 ist für einen vertikalen Stromfluss ausgelegt. Die zweite Leistungselektrode kann mit dem Chippad30 elektrisch verbunden sein. Gemäß einem Beispiel kann die erste Leistungselektrode eine Source-Elektrode sein und die zweite Leistungselektrode kann eine Drain-Elektrode sein. Gemäß einem weiteren Beispiel können Source- und Drain-Elektrode vertauscht sein. - Der Leistungshalbleiterchip
20 kann eine Steuerelektrode21 , z.B. eine Gate-Elektrode aufweisen, die konfiguriert ist, einen Stromfluss zwischen den Leistungselektroden zu steuern. Die Steuerelektrode21 kann auf der oberen Hauptfläche des Leistungshalbleiterchips20 angeordnet sein. Die Steuerelektrode kann durch einen elektrischen Verbinder60 mit einem äußeren Anschluss50 des Halbleiterbauteils100 verbunden sein. Der elektrische Verbinder60 kann einen Bonddraht oder einen Clip aufweisen oder daraus bestehen. - Der Clip
10 kann dazu ausgebildet sein, die erste Leistungselektrode des Halbleiterchips20 elektrisch mit einem weiteren Element des Halbleiterbauteils100 zu verbinden, z.B. mit einem äußeren Anschluss50 oder einem weiteren Chippad (in1 nicht gezeigt) . Der Clip10 kann ein beliebiges elektrisch leitfähiges Material, z.B. ein Metall oder eine Metalllegierung aufweisen oder daraus bestehen. Der Clip10 kann z.B. Al, Cu oder Fe aufweisen oder daraus bestehen. Der Clip10 kann einstückig, d.h. aus einem einzigen zusammenhängenden Stück ausgebildet sein. - Der Clip
10 weist einen integralen Teil11 auf, welcher einen Shunt-Widerstand oder Messwiderstand bildet. Der Shunt-Widerstand ist dazu ausgelegt, dass ein Stromfluss durch den Clip10 über den zum Stromfluss proportionalen Spannungsabfall am Shunt-Widerstand gemessen werden kann. - Der integrale Teil
11 kann zwischen einer ersten Kontaktfläche12 und einer zweiten Kontaktfläche13 des Clips10 angeordnet sein, welche sich an gegenüberliegenden Enden des Clips10 befinden können. An der ersten Kontaktfläche12 ist der Clip10 mit der ersten Leistungselektrode des Leistungshalbleiterchips20 verbunden, z.B. auf diese aufgelötet. An der zweiten Kontaktfläche13 kann der Clip10 mit einem äußeren Anschluss50 oder mit einem weiteren Chippad des Halbleiterbauteils100 verbunden sein. Alternativ kann der Clip10 auch selbst einen äußeren Anschluss50 des Halbleiterbauteils100 bilden, in diesem Fall liegt keine zweite Kontaktfläche13 vor. - Der Clip
10 weist zumindest einen ersten Kontaktfinger14 des Shunt-Widerstands auf, wobei der erste Kontaktfinger14 integral (einstückig) mit dem Clip10 ausgebildet ist. Der erste Kontaktfinger14 kann z.B. seitlich aus Rest des Clips10 herausragen. Ein distales Ende des ersten Kontaktfingers14 kann mit einem äußeren Anschluss50 des Halbleiterbauteils100 verbunden sein oder einen äußeren Anschluss50 bilden. - Gemäß einem Beispiel kann der Clip
10 ferner einen zweiten Kontaktfinger15 des Shunt-Widerstands aufweisen, wobei der zweite Kontaktfinger15 integral (einstückig) mit dem Clip10 ausgebildet ist. Ein distales Ende des zweiten Kontaktfingers15 kann mit einem äußeren Anschluss50 des Halbleiterbauteils100 verbunden sein oder einen äußeren Anschluss50 bilden. - Gemäß einem Beispiel kann die Messung eines Stromflusses durch den Clip
10 derart erfolgen, dass der dem Stromfluss zugehörige Spannungsabfall am Shunt-Widerstand an den Kontaktfingern14 und15 abgegriffen und gemessen wird. Gemäß einem anderen Beispiel, etwa wenn der Clip nur den ersten Kontaktfinger14 , nicht aber den zweiten Kontaktfinger15 aufweist, kann die Messung des Stromflusses auch derart erfolgen, dass der Spannungsabfall am Shunt-Widerstand an dem Kontaktfinger14 und an demjenigen äußeren Anschluss50 abgegriffen und gemessen wird, mit dem die zweite Kontaktfläche13 des Clips10 verbunden ist. - Der Clip
10 kann derart ausgestaltet sein, dass der integrale Teil11 einen Shunt-Widerstand mit einem derartigen Widerstandswert aufweist, dass ein Stromfluss durch den Clip10 mit der anwendungsspezifisch gewünschten Genauigkeit gemessen werden kann. Zum Beispiel kann die Länge und/oder die Dicke und/oder die Breite des Clips10 derart gewählt sein, dass der durch den integralen Teil11 gebildete Shunt-Widerstand den für die gewünschte Genauigkeit erforderlichen Widerstandswert aufweist. Gemäß einem Beispiel kann ein Spannungsabfall an dem Shunt-Widerstand ca. 1mV betragen. -
2 zeigt ein elektrisches Schaltbild200 , welches eine mögliche elektrische Schaltung des Halbleiterbauteils100 darstellt. Das Schaltbild200 umfasst einen Transistor210 und einen Shunt-Widerstand220 , der mit einer Leistungselektrode des Transistors, z.B. einer Source-Elektrode, verbunden ist. Der Shunt-Widerstand220 weist Messkontakte221 ,222 auf, um einen Spannungsabfall am Shunt-Widerstand220 und damit einen Stromfluss durch den Transistor210 bestimmen zu können. Im Halbleiterbauteil100 kann der Transistor210 durch den Leistungshalbleiterchip20 realisiert sein, der Shunt-Widerstand220 kann durch den integralen Teil11 des Clips10 realisiert sein und die Messkontakte221 ,222 können durch die Kontaktfinger14 ,15 realisiert sein. Alternativ, in dem Fall, dass nur der erste Messkontakt221 (d.h. der erste Kontaktfinger14 ), nicht aber der zweite Messkontakt222 (d.h. der zweite Kontaktfinger15 ) vorhanden ist, kann ein z.B. dem äußeren Anschluss50 entsprechender Leistungskontakt230 , z.B. ein Source-Kontakt, des Transistors210 zugleich als zweiter Messkontakt des Shunt-Widerstands220 fungieren. - In den folgenden
3A bis6 werden weitere Beispiele von Halbleiterbauteilen gezeigt, die abgesehen von den gezeigten oder beschriebenen Unterschieden mit dem Halbleiterbauteil100 identisch sein können. Insbesondere haben alle Halbleiterbauteile gemäß der Offenbarung gemein, dass ein integraler Teil des Clips10 einen Shunt-Widerstand bildet, der Shunt-Widerstand zumindest einen Kontaktfinger aufweist und der zumindest eine Kontaktfinger integral mit dem Clip10 ausgebildet ist. Gleiche Bezugszeichen können identische Komponenten bezeichnen. - Die
3A bis3C zeigen verschiedene Möglichkeiten, Kontaktfinger des Shunt-Widerstands mit äußeren Anschlüssen des Halbleiterbauteils zu verbinden. -
3A zeigt ein Halbleiterbauteil300 , in welchem der Shunt-Widerstand nur einen einzelnen Kontaktfinger14 aufweist. Ein distales Ende des Kontaktfingers14 ist mit einem ersten äußeren Anschluss50.1 des Halbleiterbauteils300 verbunden. Ein distales Ende des Clips10 ist mit einem zweiten äußeren Anschluss50.2 verbunden, wobei der zweite Anschluss50 . 2 einen gemeinsamen Leistungsanschluss des Leistungshalbleiterchips20 und Messanschluss zur Messung eines Spannungsabfalls am Shunt-Widerstand bildet. -
3B zeigt ein Halbleiterbauteil310 , in welchem der Shunt-Widerstand zwei Kontaktfinger14 ,15 aufweist. Die Kontaktfinger14 ,15 sind mit äußeren Anschlüssen50 verbunden, welche auf gegenüberliegenden Seiten des Halbleiterbauteils liegen. -
3C zeigt ebenfalls ein Halbleiterbauteil320 , in welchem der Shunt-Widerstand zwei Kontaktfinger14 ,15 aufweist. Ein Ende des Clips10 ist mit einem äußeren Anschluss50.2 des Halbleiterbauteils320 verbunden. Die Kontaktfinger14 ,15 sind mit äußeren Anschlüssen50 . 3, 50. 4 verbunden, die auf einer Seite des Halbleiterbauteils320 angeordnet sind, welche der Seite mit dem äußeren Anschluss50.2 gegenüber liegt. - In den
1 und3A bis3C werden Halbleiterbauteile gezeigt, in welchen der Kontaktfinger14 bzw. die Kontaktfinger14 ,15 mit äußeren Anschlüssen des Halbleiterbauteils verbunden sind. Das bedeutet, dass in den beispielhaften Halbleiterbauteilen der1 und3A bis3C der Spannungsabfall am Shunt-Widerstand und damit der Stromfluss durch den Clip10 extern gemessen wird. Gemäß einem weiteren Aspekt der Offenbarung ist es jedoch auch möglich, dass diese Messung intern stattfindet. Zu diesem Zweck kann eine Halbleiter-Spannungsmesseinheit in dem Halbleiterbauteil angeordnet und die Kontaktfinger14 ,15 mit der Halbleiter-Spannungsmesseinheit verbunden sein. - Die
4A bis4C zeigen Beispiele von Halbleiterbauteilen mit einer integrierten Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 . Gemäß einem Beispiel kann die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 mit äußeren Anschlüssen des Halbleiterbauteils verbunden sein (in4 nicht gezeigt), z.B. um den gemessenen Spannungsabfall zu übermitteln. Die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 kann vollständig von der Verkapselung40 eingekapselt sein. - Gemäß einem Beispiel kann die Halbleiter-Spannungsmesseinheit
70 ein Logikhalbleiterbauelement umfassen. Die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 kann einen Bipolartransistor umfassen. Die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 kann durch CMOS-Technologie realisiert sein. -
4A zeigt ein Halbleiterbauteil400 , in welchem die in das Halbleiterbauteil400 integrierte Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 monolithisch mit dem Leistungshableiterchip20 ausgebildet ist (dies ist in4A durch die gestrichelte Linie dargestellt). - Gemäß einem Beispiel kann der Leistungshalbleiterchip
20 ein p-Kanal-MOSFET sein. Gemäß einem anderen Beispiel kann der Leistungshalbleiterchip20 ein n-Kanal-MOSFET sein. -
4B zeigt ein Halbleiterbauteil410 , in welchem die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 einen eigenen Halbleiterchip aufweist, welcher seitlich neben dem Halbleiterleistungschip20 auf dem Chippad30 angeordnet ist. Die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 kann z.B. mittels einer Lotverbindung oder mittels eines Klebers, etwa mittels eines nichtleitenden Klebers, an dem Chippad30 befestigt sein. -
4C zeigt ein Halbleiterbauteil420 , in welchem die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 auf der oberen Hauptfläche des Halbleiterleistungschips20 angeordnet ist („chip-on-chip“). Die Halbleiter-Spannungsmesseinheit70 kann z.B. mittels einer Lotverbindung oder mittels eines Klebers, etwa mittels eines nichtleitenden Klebers, an der oberen Hauptfläche des Leistungshalbleiterchips20 befestigt sein. - In den
1 ,3A bis3C und4A bis4C sind Halbleiterbauteile gezeigt, in welchen der Clip10 und der elektrische Verbinder60 nicht integral mit dem jeweiligen äußeren Anschluss50 ausgebildet sind. Es ist jedoch auch möglich, dass der Clip10 , der Kontaktfinger14 bzw. die Kontaktfinger14 ,15 und/oder der elektrische Verbinder60 integral mit dem jeweiligen äußeren Anschluss50 ausgebildet sind. Mit anderen Worten können der Clip10 , der jeweilige Kontaktfinger14 bzw.14 ,15 und/oder der elektrische Verbinder60 selbst den jeweiligen äußeren Anschluss50 bilden. -
5 zeigt ein Halbleiterbauteil500 , in welchem der Clip10 und der Kontaktfinger14 integral mit dem jeweiligen äußeren Anschluss50 ausgebildet sind. Ferner ist der elektrische Verbinder60 als ein weiterer Clip ausgestaltet, der ebenfalls selbst einen äußeren Anschluss50 bildet. - Gemäß einem Beispiel kann ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils umfassen, dass der Clip
10 und/oder der als weiterer Clip ausgebildete elektrische Verbinder60 durch einen Bestückungsprozess („pick and place“) auf dem Leistungshalbleiterchip20 aufgebracht werden. - Gemäß einem anderen Beispiel kann ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils umfassen, dass das Chippad
20 Teil eines ersten (unteren) Leadframes ist und der Clip10 und/oder der als weiterer Clip ausgebildete elektrische Verbinder60 Teil eines zweiten (oberen) Leadframes sind. Das obere Leadframe kann auf der oberen Hauptfläche des Leistungshalbleiterchips20 angeordnet werden und der Clip10 und/oder der elektrische Verbinder60 können aus dem oberen Leadframe vereinzelt werden. - Eine solche Aufbauweise, die ein erstes (unteres) Leadframe und ein weiteres oberes Leadframe (umfassend den Clip
10 mit integralem Kontaktfinger14 bzw. integralen Kontaktfingern14 ,15 und z.B. den elektrischen Verbinder60 ) verwendet, kann bei allen hier beschriebenen Halbleiterbauteilen eingesetzt werden, d.h. insbesondere auch bei den Halbleiterbauteilen, bei welchen die äußeren Anschlüsse50 teilweise oder vollständig durch das untere Leadframe realisiert werden (siehe1 und3A bis4C ). - In den Halbleiterbauteilen der
1 und3A bis5 ist der Clip10 zur elektrischen Verbindung der ersten Leistungselektrode des Leistungshalbleiterchips20 mit einem äußeren Anschluss50 ausgebildet. Es ist jedoch auch möglich, dass der Clip10 eine interne elektrische Verbindung im Halbleiterbauteil bereitstellt. -
6 zeigt ein Halbleiterbauteil600 mit einem ersten Leistungshalbleiterchip20 und einem zweiten Leistungshalbleiterchip610 , wobei der erste Leistungshalbleiterchip20 auf einem ersten Chippad30 und der zweite Leistungshalbleiterchip610 auf einem zweiten Chippad620 angeordnet und damit elektrisch verbunden sind. Der Clip10 verbindet die erste Leistungselektrode des ersten Leistungshalbleiterchips20 (intern) mit dem zweiten Chippad620 in einer Halbbrückenschaltung. - Gemäß einem Beispiel kann einer der Leistungshalbleiterchips
20 ,610 ein n-Kanal-MOSFET sein und der andere der Leistungshalbleiterchips20 ,610 ein p-Kanal-MOSFET sein. Das erste Chippad30 und das zweite Chippad620 können als ein „aufgetrenntes“ Leadframe (engl. „splitted leadframe“) bezeichnet werden. - Gemäß einem Beispiel sind die Kontaktfinger
14 ,15 mit einer (in6 nicht gezeigten) internen Halbleiter-Spannungsmesseinheit verbunden. Gemäß einem anderen Beispiel sind die Kontaktfinger14 ,15 mit (in6 nicht gezeigten) äußeren Anschlüssen des Halbleiterbauteils600 verbunden. - Das Halbleiterbauteil
600 kann ebenfalls unter Verwendung eines ersten (unteres) Leadframes und eines weiteren oberen Leadframes (umfassend den Clip10 mit integralem Kontaktfinger14 bzw. integralen Kontaktfingern14 ,15 und z.B. ein oder mehrere elektrische Verbinder (in6 nicht gezeigt) zur Kontaktierung der Steuerelektrode(n) des ersten Leistungshalbleiterchips20 und gegebenenfalls des zweiten Leistungshalbleiterchip610 ) aufgebaut werden. - Bei sämtlichen Halbleiterbauteilen kann der integrale Teil
11 des Clips10 , welcher den Shunt-Widerstand bildet, eine besondere Formgebung aufweisen. Beispielsweise kann der integrale Teil11 in seitlicher Dimension schmäler und/oder mit geringerer Dicke als die erste und/oder zweite Kontaktfläche12 ,13 des Clips10 ausgeführt sein, um die Querschnittsfläche des Clips10 im integralen Teil11 zu verringern und dadurch den Spannungsabfall zwischen den Kontaktfingern14 ,15 zu erhöhen. -
7 zeigt ein Verfahren700 zur Herstellung eines Halbleiterbauteils. Das Verfahren700 umfasst bei 701 das Anbringen eines Leistungshalbleiterchips auf einem Chippad, wobei der Leistungshalbleiterchip zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist. Das Verfahren700 umfasst bei 702 das Anbringen eines Clips an der ersten Leistungselektrode, wobei ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand bildet und wobei ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist. - Gemäß einem Beispiel kann das Chippad Teil eines unteren Leadframes sein und der Clip kann Teil eines oberen Leadframes sein. Ferner kann das Verfahren
700 das Anbringen eines zweiten Clips an einer Steuerelektrode des Leistungshalbleiterchips umfassen, wobei der zweite Clip Teil des oberen Leadframes ist. - BEISPIELE
- Im Folgenden werden das Halbleiterbauteil und das Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauteils anhand von Beispielen näher erläutert.
- Beispiel 1 ist ein Halbleiterbauteil, aufweisend ein erstes Chippad, einen Leistungshalbleiterchip, der auf dem ersten Chippad angeordnet ist und zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist und einen Clip, der mit der ersten Leistungselektrode verbunden ist, wobei ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand bildet und wobei ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Beispiel 2 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 1, wobei ein zweiter Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Beispiel 3 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 1 oder 2, wobei ein distales Ende des ersten Kontaktfingers mit einem ersten externen Anschluss des Halbleiterbauteils verbunden ist oder diesen bildet.
- Beispiel 4 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 2, wobei ein distales Ende des zweiten Kontaktfingers mit einem zweiten externen Anschluss des Halbleiterbauteils verbunden ist oder diesen bildet.
- Beispiel 5 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 1, wobei ein distales Ende des ersten Kontaktfingers mit einer ersten Messelektrode einer Halbleiter-Spannungsmesseinheit verbunden ist, welche in dem Halbleiterbauteil angeordnet ist.
- Beispiel 6 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 2, wobei ein distales Ende des zweiten Kontaktfingers mit einer zweiten Messelektrode einer Halbleiter-Spannungsmesseinheit verbunden ist, welche in dem Halbleiterbauteil angeordnet ist.
- Beispiel 7 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 5 oder 6, wobei die Halbleiter-Spannungsmesseinheit monolithisch mit dem Leistungshalbleiterchip ausgebildet ist.
- Beispiel 8 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 5 oder 6, wobei die Halbleiter-Spannungsmesseinheit einen Halbleiterchip umfasst, der auf einer Hauptfläche des Leistungshalbleiterchips angeordnet ist.
- Beispiel 9 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 5 oder 6, wobei die Halbleiter-Spannungsmesseinheit einen Halbleiterchip umfasst, der seitlich neben dem Leistungshalbleiterchip angeordnet ist.
- Beispiel 10 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 1, wobei ein distales Ende des Clips mit einem äußeren Anschluss des Halbleiterbauteils verbunden ist oder diesen bildet.
- Beispiel 11 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 10, wobei der äußere Anschluss einen gemeinsamen Leistungsanschluss des Leistungshalbleiterchips und Messanschluss zur Messung eines Spannungsabfalls am Shunt-Widerstand bildet.
- Beispiel 12 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 1, ferner aufweisend einen zweiten Leistungshalbleiterchip, der auf einem zweiten Chippad angeordnet ist, das von dem ersten Chippad getrennt ist.
- Beispiel 13 ist ein Halbleiterbauteil nach Beispiel 12, wobei der Clip die erste Leistungselektrode des ersten Leistungshalbleiterchips mit dem zweiten Chippad elektrisch verbindet.
- Beispiel 14 ist ein Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils, das Verfahren aufweisend das Anbringen eines Leistungshalbleiterchips auf einem Chippad, wobei der Leistungshalbleiterchip zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist und das Anbringen eines Clips an der ersten Leistungselektrode, wobei ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand bildet und wobei ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Beispiel 15 ist ein Verfahren nach Beispiel 14, wobei ein zweiter Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Beispiel 16 ist ein Verfahren nach Beispiel 14 oder 15, ferner aufweisend das Vorsehen einer Halbleiter-Spannungsmesseinheit in dem Halbleiterbauteil und das Anbringen des ersten Kontaktfingers an einem Messanschluss der Halbleiter-Spannungsmesseinheit.
- Beispiel 17 ist ein Verfahren nach den Beispiel 15 und 16, ferner aufweisend das Anbringen des zweiten Kontaktfingers an einem weiteren Messanschluss der Halbleiter-Spannungsmesseinheit.
- Beispiel 18 ist ein Verfahren nach Beispiel 14 oder 15, ferner aufweisend das Anbringen des ersten Kontaktfingers an einem externen Anschluss des Halbleiterbauteils.
- Beispiel 19 ist ein Verfahren nach einem der Beispiele 14 bis 18, wobei das Chippad Teil eines unteren Leadframes ist und der Clip Teil eines oberen Leadframes ist.
- Beispiel 20 ist ein Verfahren nach Beispiel 19, ferner aufweisend das Anbringen eines zweiten Clips an einer Steuerelektrode des Leistungshalbleiterchips, wobei der zweite Clip Teil des oberen Leadframes ist.
- Bezugszeichenliste
-
- 10
- Clip
- 11
- integraler Teil des Clips
- 12
- erste Kontaktfläche
- 13
- zweite Kontaktfläche
- 14
- erster Kontaktfinger
- 15
- zweiter Kontaktfinger
- 20
- Leistungshalbleiterchip
- 21
- Steuerelektrode
- 30
- Chippad
- 40
- Verkapselung
- 50
- äußere Anschlüsse
- 50.1
- äußerer Anschluss
- 50.2
- äußerer Anschluss
- 50.3
- äußerer Anschluss
- 50.4
- äußerer Anschluss
- 60
- elektrischer Verbinder
- 70
- Halbleiter-Spannungsmesseinheit
- 100
- Halbleiterbauteil
- 200
- Schaltbild
- 210
- Transistor
- 220
- Shunt-Widerstand
- 221
- Messkontakt
- 222
- Messkontakt
- 230
- Leistungskontakt
- 300
- Halbleiterbauteil
- 310
- Halbleiterbauteil
- 320
- Halbleiterbauteil
- 400
- Halbleiterbauteil
- 410
- Halbleiterbauteil
- 420
- Halbleiterbauteil
- 500
- Halbleiterbauteil
- 600
- Halbleiterbauteil
- 610
- zweiter Leistungshalbleiterchip
- 620
- zweites Chippad
- 700
- Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils
- 701
- Anbringen eines Leistungshalbleiterchips
- 702
- Anbringen eines Clips
Claims (20)
- Halbleiterbauteil, aufweisend: ein erstes Chippad; einen Leistungshalbleiterchip, der auf dem ersten Chippad angeordnet ist und zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist; und einen Clip, der mit der ersten Leistungselektrode verbunden ist; wobei ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand bildet; und wobei ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Halbleiterbauteil nach
Anspruch 1 , wobei ein zweiter Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 1 oder2 , wobei ein distales Ende des ersten Kontaktfingers mit einem ersten externen Anschluss des Halbleiterbauteils verbunden ist oder diesen bildet. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 2 , wobei ein distales Ende des zweiten Kontaktfingers mit einem zweiten externen Anschluss des Halbleiterbauteils verbunden ist oder diesen bildet. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 1 , wobei ein distales Ende des ersten Kontaktfingers mit einer ersten Messelektrode einer Halbleiter-Spannungsmesseinheit verbunden ist, welche in dem Halbleiterbauteil angeordnet ist. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 2 , wobei ein distales Ende des zweiten Kontaktfingers mit einer zweiten Messelektrode einer Halbleiter-Spannungsmesseinheit verbunden ist, welche in dem Halbleiterbauteil angeordnet ist. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 5 oder6 , wobei die Halbleiter-Spannungsmesseinheit monolithisch mit dem Leistungshalbleiterchip ausgebildet ist. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 5 oder6 , wobei die Halbleiter-Spannungsmesseinheit einen Halbleiterchip umfasst, der auf einer Hauptfläche des Leistungshalbleiterchips angeordnet ist. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 5 oder6 , wobei die Halbleiter-Spannungsmesseinheit einen Halbleiterchip umfasst, der seitlich neben dem Leistungshalbleiterchip angeordnet ist. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 1 , wobei ein distales Ende des Clips mit einem äußeren Anschluss des Halbleiterbauteils verbunden ist oder diesen bildet. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 10 , wobei der äußere Anschluss einen gemeinsamen Leistungsanschluss des Leistungshalbleiterchips und Messanschluss zur Messung eines Spannungsabfalls am Shunt-Widerstand bildet. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 1 , ferner aufweisend: einen zweiten Leistungshalbleiterchip, der auf einem zweiten Chippad angeordnet ist, das von dem ersten Chippad getrennt ist. - Halbleiterbauteil nach
Anspruch 12 , wobei der Clip die erste Leistungselektrode des ersten Leistungshalbleiterchips mit dem zweiten Chippad elektrisch verbindet. - Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils, das Verfahren aufweisend: Anbringen eines Leistungshalbleiterchips auf einem Chippad, wobei der Leistungshalbleiterchip zumindest eine erste und eine zweite Leistungselektrode aufweist; und Anbringen eines Clips an der ersten Leistungselektrode, wobei ein integraler Teil des Clips einen Shunt-Widerstand bildet und wobei ein erster Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist.
- Verfahren nach
Anspruch 14 , wobei ein zweiter Kontaktfinger des Shunt-Widerstands integral mit dem Clip ausgebildet ist. - Verfahren nach
Anspruch 14 oder15 , ferner aufweisend: Vorsehen einer Halbleiter-Spannungsmesseinheit in dem Halbleiterbauteil; und Anbringen des ersten Kontaktfingers an einem Messanschluss der Halbleiter-Spannungsmesseinheit. - Verfahren nach den
Ansprüchen 15 und16 , ferner aufweisend: Anbringen des zweiten Kontaktfingers an einem weiteren Messanschluss der Halbleiter-Spannungsmesseinheit. - Verfahren nach
Anspruch 14 oder15 , ferner aufweisend: Anbringen des ersten Kontaktfingers an einem externen Anschluss des Halbleiterbauteils. - Verfahren nach einem der
Ansprüche 14 bis18 , wobei das Chippad Teil eines unteren Leadframes ist und der Clip Teil eines oberen Leadframes ist. - Verfahren nach
Anspruch 19 , ferner aufweisend: Anbringen eines zweiten Clips an einer Steuerelektrode des Leistungshalbleiterchips, wobei der zweite Clip Teil des oberen Leadframes ist.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102018207308.2A DE102018207308B4 (de) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | Halbleiterbauteil mit integriertem shunt-widerstand und verfahren zu dessen herstellung |
US16/399,603 US10950509B2 (en) | 2018-05-09 | 2019-04-30 | Semiconductor device with integrated shunt resistor |
CN201910380123.5A CN110473860A (zh) | 2018-05-09 | 2019-05-08 | 具有集成分流电阻器的半导体器件及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102018207308.2A DE102018207308B4 (de) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | Halbleiterbauteil mit integriertem shunt-widerstand und verfahren zu dessen herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102018207308A1 true DE102018207308A1 (de) | 2019-11-14 |
DE102018207308B4 DE102018207308B4 (de) | 2020-07-02 |
Family
ID=68336744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102018207308.2A Active DE102018207308B4 (de) | 2018-05-09 | 2018-05-09 | Halbleiterbauteil mit integriertem shunt-widerstand und verfahren zu dessen herstellung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10950509B2 (de) |
CN (1) | CN110473860A (de) |
DE (1) | DE102018207308B4 (de) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20220040000A (ko) * | 2020-09-23 | 2022-03-30 | 주식회사 엘엑스세미콘 | 반도체 장치와 그의 검사 장치 및 방법 |
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-
2018
- 2018-05-09 DE DE102018207308.2A patent/DE102018207308B4/de active Active
-
2019
- 2019-04-30 US US16/399,603 patent/US10950509B2/en active Active
- 2019-05-08 CN CN201910380123.5A patent/CN110473860A/zh active Pending
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CN110473860A (zh) | 2019-11-19 |
DE102018207308B4 (de) | 2020-07-02 |
US20190348333A1 (en) | 2019-11-14 |
US10950509B2 (en) | 2021-03-16 |
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R012 | Request for examination validly filed | ||
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R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
R020 | Patent grant now final | ||
R082 | Change of representative |