DE102015110638B4

DE102015110638B4 - Bildpunktstruktur und Verfahren zum Herstellen derselben, Anzeigetafel und Anzeigevorrichtung

Info

Publication number: DE102015110638B4
Application number: DE102015110638.8A
Authority: DE
Inventors: Tinghai Wang; Zhaokeng CAO; Yao Lin; Dandan QIN
Original assignee: Tianma Microelectronics Co Ltd; Shanghai AVIC Optoelectronics Co Ltd
Current assignee: Tianma Microelectronics Co Ltd; Shanghai AVIC Optoelectronics Co Ltd
Priority date: 2014-10-10
Filing date: 2015-07-02
Publication date: 2019-06-06
Anticipated expiration: 2035-07-03
Also published as: US9563095B2; CN104317115A; US20160103350A1; DE102015110638A1; CN104317115B

Abstract

Eine Bildpunktstruktur, welche aufweist:
eine Mehrzahl von Datenleitungen (21);
eine Mehrzahl von Abtastleitungen (22);
eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten (23), die durch Überschneiden oder Überkreuzen der Mehrzahl von Datenleitungen (21) mit der Mehrzahl von Abtastleitungen (22) ausgebildet sind, wobei eine Bildpunkteinheit (23) einer der Datenleitungen (21) und einer der Abtastleitungen (22) entspricht;
einen TFT (24) und eine Bildpunktelektrode (25), die in jeder der Bildpunkteinheiten (23) angeordnet sind, wobei die Bildpunktelektrode (25) eine Mehrzahl von Schlitzen (251) aufweist, wobei wenigstens einer der Schlitze (251) wenigstens einen Abwinkelungsbereich (A2) an einem Ende hiervon aufweist;
wobei die Bildpunktelektrode (25) in einer Bildpunkteinheit (23) mit einem TFT (24) in einer benachbarten Bildpunkteinheit (23) in der gleichen Reihe elektrisch verbunden ist und mit der Datenleitung (21), die zwischen der Bildpunkteinheit (23) und der benachbarten Bildpunkteinheit (23) in der gleichen Reihe angeordnet ist, teilweise überlappt, und wobei wenigstens ein Abwinkelungsbereich (A2) der Bildpunktelektrode (25) sich in Richtung des mit der Bildpunktelektrode (25) elektrisch verbundenen TFT (24) erstreckt.

Description

Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Gebiet von Anzeigetechnologien, insbesondere eine Bildpunktstruktur und ein Herstellungsverfahren hierfür, ein Matrixsubstrat, eine Anzeigetafel und eine Anzeigevorrichtung.
Hintergrund
Mit der Entwicklung von Anzeigetechnologien sind Flüssigkristallanzeige-(LCD - Liquid Cristal Display)-Vorrichtungen zunehmend einer breiten Verwendung zugeführt worden, und die Anzeigewirkung hiervon wird konstant verbessert.
Eine Bildpunktstruktur, die auf einem Dünnschichttransistor-(TFT - Thin Film Transistor)-Matrixsubstrat angeordnet ist, ist ein wichtiger Teil einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung, und aus unterschiedlichen Bildpunktstrukturen können unterschiedliche Anzeigewirkungen der Flüssigkristallanzeigevorrichtung verwirklicht werden. 1 ist eine schematische Darstellung, welche eine Bildpunktstruktur in dem Stand der Technik zeigt. Wie in 1 gezeigt, weist eine Bildpunktstruktur einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung in dem Stand der Technik eine Mehrzahl von Datenleitungen 11, eine Mehrzahl von Abtastleitungen 12, eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten 13, die durch Überschneiden bzw. Überkreuzen der Datenleitungen 11 mit den Abtastleitungen 12 ausgebildet sind, TFTs 14 und Bildpunktelektroden 15, die in Bildpunkteinheiten 13 angeordnet sind, auf, wobei jede der Bildpunktelektroden 15 eine Mehrzahl von Schlitzen 151 aufweist und jeder Schlitz 151 zwei Abwinkelungsbereiche A1 an beiden Enden hiervon (z. B. einem oberen Ende und einem unteren Ende des Schlitzes gemäß der Darstellung in 1) aufweist.
Wie in 1 gesehen, ist eine Länge des Abwinkelungsbereichs A1 durch die Größe der Bildpunkteinheit 13 begrenzt, und eine übermäßige Länge des Abwinkelungsbereichs A1 wird wahrscheinlich die Beschädigung der Bildpunktelektrode 15 bewirken. Aufgrund der begrenzten Länge des Abwinkelungsbereichs A1 kann nach Anbringen eines Farbfiltersubstrats an dem Matrixsubstrat ein Ende des Abwinkelungsbereichs A1 nicht durch eine Schwarzmatrix in dem Farbfiltersubstrat bedeckt werden, in diesem Fall steuert ein elektrisches Feld, das an dem Ende des Abwinkelungsbereichs A1 ausgebildet wird, Flüssigkristallmoleküle unterschiedlich im Vergleich mit einem elektrischen Feld, das an dem restlichen Teil des Schlitzes 151 ausgebildet wird, weshalb während der Anzeige durch die Flüssigkristallanzeigevorrichtung von dem an dem Ende des Abwinkelungsbereichs A1 ausgebildeten elektrischen Feld im Vergleich mit dem an dem restlichen Teil des Schlitzes ausgebildeten elektrischen Feld eine Verringerung in einer Lichtdurchlässigkeit bewirkt wird.
Die US 2012127409A1 offenbart eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung mit einem Dünnfilmtransistorsubstrat, einem Gegensubstrat und einer Flüssigkristallschicht, die zwischen den beiden Substraten angeordnet ist. Das Dünnfilmtransistorsubstrat umfasst: Abtastsignalleitungen, Videosignalleitungen und Pixelbereiche, die in einer Matrixanordnung angeordnet und durch die Abtastsignalleitungen und die Videosignalleitungen definiert sind. Jeder Pixelbereich umfasst eine Pixelelektrode, eine gemeinsame Elektrode und einen Dünnfilmtransistor an einer Ecke des Pixelbereichs. 9 ist eine vergrößerte Draufsicht eines Pixelbereichs. Die gemeinsame Elektrode CT hat eine plane Form und ist auf einer Seite unterhalb der Pixelelektrode PX angeordnet. Die Pixelelektrode PX umfasst eine Vielzahl von Streifenabschnitten PB, die sich in einer vorbestimmten Richtung streifenförmig erstrecken, gebogene Abschnitte PN1, PN2, die sich von den jeweiligen Streifenabschnitten PB in gebogener Form erstrecken, und einen Verbindungsabschnitt PS, der mit dem Dünnfilmtransistor, der sich im gleichen Pixelbereich befindet, elektrisch verbunden ist. Wie in 9 gezeigt, befindet sich ein Schlitz zwischen zwei benachbarten gebogenen Abschnitten PN1. Typischerweise ist der Dünnfilmtransistor durch eine schwarze Matrix auf dem Gegensubstrat abgeschirmt und ist der Nichtanzeigebereich des Pixelbereichs. Der Schlitz befindet sich jedoch im Anzeigebereich des Pixelbereichs. Am Spitzenende des Schlitzes weist das zwischen der Pixelelektrode PX und der gemeinsamen Elektrode CT ausgebildete elektrische Feld eine Vielzahl von Richtungen auf, die die Leistung der Anzeigevorrichtung beeinträchtigen.
Kurzfassung der Erfindung
In Anbetracht dessen stellen Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung eine Bildpunktstruktur und ein Herstellungsverfahren hierfür, ein Matrixsubstrat, eine Anzeigetafel und eine Anzeigevorrichtung bereit, wodurch ein technisches Problem der in dem Stand der Technik durch die begrenzte Länge eines Abwinkelungsbereichs des Schlitzes in der Bildpunktelektrode verursachten Verringerung in der Lichtdurchlässigkeit gelöst wird.
Die vorliegende Erfindung stellt eine Pixelstruktur, ein Herstellungsverfahren für die Pixelstruktur, eine Anzeigetafel und eine Anzeigevorrichtung bereit, wie sie in den beigefügten unabhängigen Ansprüchen definiert ist. Weitere Verbesserungen sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.
In einem ersten Gesichtspunkt stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Bildpunktstruktur bereit, welche aufweist:

eine Mehrzahl von Datenleitungen;
eine Mehrzahl von Abtastleitungen;
eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten, die durch Überschneiden bzw. Überkreuzen der Mehrzahl von Datenleitungen mit der Mehrzahl von Abtastleitungen ausgebildet sind, wobei eine Bildpunkteinheit einer der Datenleitungen und einer der Abtastleitungen entspricht;
ein TFT und eine Bildpunktelektrode, die in jeder der Bildpunkteinheiten angeordnet sind, wobei die Bildpunktelektrode eine Mehrzahl von Schlitzen aufweist, von denen wenigstens einer wenigstens einen Abwinkelungsbereich an einem Ende hiervon aufweist;
wobei die Bildpunktelektrode mit einem TFT in einer Bildpunkteinheit, welche in der gleichen Reihe wie und angrenzend an eine Seite einer Bildpunkteinheit, welche die Bildpunktelektrode aufweist, elektrisch verbunden ist und wenigstens ein Abwinkelungsbereich der Bildpunktelektrode sich in Richtung des mit der Bildpunktelektrode elektrisch verbundenen TFT erstreckt bzw. verlängert ist.

In einem zweiten Gesichtspunkt stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein Herstellungsverfahren für eine Bildpunktstruktur bereit, welches die nachstehenden Schritte aufweist:

Ausbilden einer Mehrzahl von TFTs;
Ausbilden einer Mehrzahl von Datenleitungen und einer Mehrzahl von Abtastleitungen, wobei eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten durch Überschneiden bzw. Überkreuzen der Mehrzahl von Datenleitungen mit der Mehrzahl von Abtastleitungen ausgebildet wird, und eine Bildpunkteinheit einer der Datenleitungen und einer der Abtastleitungen entspricht und einen der TFTs aufweist; und
Ausbilden einer Mehrzahl von Bildpunktelektroden, wobei eine Bildpunktelektrode in einer Bildpunkteinheit angeordnet ist und eine Mehrzahl von Schlitzen aufweist, von denen wenigstens einer wenigstens einen Abwinkelungsbereich an einem Ende hiervon aufweist, und die Bildpunktelektrode mit einem TFT in einer Bildpunkteinheit, die in der gleichen Reihe wie und angrenzend an eine Seite einer Bildpunkteinheit, welche die Bildpunktelektrode aufweist, elektrisch verbunden ist, und wenigstens ein Abwinkelungsbereich der Bildpunktelektrode sich in Richtung des mit der Bildpunktelektrode verbundenen TFT erstreckt bzw. verlängert ist.

In einem dritten Gesichtspunkt stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein Matrixsubstrat mit der vorstehend beschriebenen Bildpunktstruktur bereit.
In einem vierten Gesichtspunkt stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Anzeigetafel mit dem in dem dritten Gesichtspunkt beschriebenen Matrixsubstrat bereit.
In einem fünften Gesichtspunkt stellt eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Anzeigevorrichtung mit der in dem vierten Gesichtspunkt beschriebenen Anzeigetafel bereit.
Mit der Bildpunktstruktur und dem Herstellungsverfahren hierfür, dem Matrixsubstrat, der Anzeigetafel und der Anzeigevorrichtung gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist eine Bildpunktelektrode mit einem TFT in einer Bildpunkteinheit, die sich in der gleichen Reihe wie und angrenzend an eine Seite der die Bildpunktelektrode aufweisenden Bildpunkteinheit befindet, elektrisch verbunden, und erstreckt sich wenigstens ein Abwinkelungsbereich der Bildpunktelektrode bzw. ist verlängert in Richtung des mit der Bildpunktelektrode elektrisch verbundenen TFT, so dass eine Länge des verlängerten Abwinkelungsbereichs vergrößert ist, und dementsprechend ein Ende des Abwinkelungsbereichs nahe an dem TFT, der mit der den Abwinkelungsbereich aufweisenden Bildpunktelektrode elektrisch verbundenen ist, angeordnet ist, weshalb das Ende des Abwinkelungsbereichs durch eine Schwarzmatrix eines Farbfiltersubstrats nach Anbringen des Farbfiltersubstrats an dem Matrixsubstrat gut bedeckt werden kann, wodurch die Lichtdurchlässigkeit verbessert ist.
Figurenliste
Mit den unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen beschriebenen, ausführlichen, aber nicht einschränkenden Ausführungsformen werden andere Merkmale, Aufgaben und Vorteile der vorliegenden Erfindung ersichtlicher werden.

1 ist eine schematische Darstellung, welche eine Bildpunktstruktur in dem Stand der Technik zeigt;
2A ist eine schematische Darstellung, welche eine Bildpunktstruktur gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
2B ist eine schematische Darstellung, welche eine andere Bildpunktstruktur gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
3A ist eine schematische Darstellung, welche eine noch andere Bildpunktstruktur gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
3B ist eine schematische Ansicht, welche eine weitere andere Bildpunktstruktur gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
4 ist eine schematische Darstellung, welche eine noch weitere andere Bildpunktstruktur gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
5 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Bildpunktelektrode gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
6 ist eine schematische Darstellung, welche ein Matrixsubstrat gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
7 ist eine schematische Darstellung, welche eine Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt;
8 ist eine schematische Darstellung, welche eine Bildpunktvorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt; und
9 ist eine vergrößerte Draufsicht, welche einen Bildpunktbereich eines Dünnfilmtransistorsubstras im Stand der Technik zeigt.

Ausführliche Beschreibung der bevorzugten Ausführungsform
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf die begleitenden Zeichnungen und die Ausführungsformen in weiteren Einzelheiten beschrieben werden. Es wird verstanden werden, dass die hierin beschriebenen spezifischen Ausführungsformen nur zur Erläuterung der vorliegenden Erfindung, nicht jedoch zur Einschränkung der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Es ist ferner festzuhalten, dass zur Erleichterung der Beschreibung in den begleitenden Zeichnungen nur ein Teil, nicht jedoch der gesamt Inhalt gezeigt wird, wobei sich der Teil auf die vorliegende Erfindung bezieht.
Eine Bildpunktstruktur wird durch eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bereitgestellt. 2A ist eine schematische Darstellung, welche eine Bildpunktstruktur gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 2A gezeigt, weist die Bildpunktstruktur auf: Eine Mehrzahl von Datenleitungen 21, eine Mehrzahl von Abtastleitungen 22, eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten 23, die durch Überschneiden bzw. Überkreuzen der Datenleitungen 21 mit den Abtastleitungen 22 ausgebildet sind, wobei eine Bildpunkteinheit 23 einer Datenleitung 21 und einer Abtastleitung 22 entspricht; ein TFT 24 und eine Bildpunktelektrode 25, die in jeder der Mehrzahl von Bildpunkteinheiten 23 ausgebildet sind, wobei die Bildpunktelektrode 25 eine Mehrzahl von Schlitzen 251 aufweist, von denen wenigstens einer wenigstens einen Abwinkelungsbereich A2 an einem Ende hiervon aufweist, und die Bildpunktelektrode 25 in einer Reihe mit einem TFT 24 einer Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden ist, die Bildpunkteinheit 23 in der gleichen Reihe wie und angrenzend an die Bildpunkteinheit 23, welche die Bildpunktelektrode 25 aufweist (z. B., an der linken Seite hiervon gemäß der Darstellung in 2A) angeordnet ist, und der wenigstens eine Abwinkelungsbereich A2 der Bildpunktelektrode 25 sich in Richtung des mit der Bildpunktelektrode 25 elektrisch verbundenen TFT 24 erstreckt bzw. verlängert ist.
Es ist festzuhalten, dass die Anzeige der Bildpunkteinheit durch die Bildpunktelektrode in der Bildpunkteinheit und den TFT, der zur Steuerung der Bildpunktelektrode mit der Bildpunktelektrode elektrisch verbunden ist, verwirklicht wird. Durch Steuern der Bildpunktelektrode steuert der TFT die Bildpunkteinheit, in welcher die Bildpunktelektrode angeordnet ist. Der TFT kann durch eine Abtastleitung, die mit einer Gate-Elektrode des TFT elektrisch verbunden ist, gesteuert werden, um ein- oder auszuschalten, und eine Datenleitung, welche mit einer Source-Elektrode des TFT elektrisch verbunden ist, kann der Bildpunktelektrode, die mit dem TFT elektrisch verbunden ist, ein Datensignal bereitstellen, wenn der TFT eingeschaltet ist. In Anbetracht dessen bezieht sich der vorstehende Fall, in welchem eine Bildpunkteinheit 23 einer Datenleitung 21 und einer Abtastleitung 22 entspricht, darauf, dass die Datenleitung 21, die der Bildpunkteinheit 23 entspricht, die mit dem TFT 24 zum Steuern der Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbundene Datenleitung 21 ist und die Abtastleitung 22, die der Bildpunkteinheit 23 entspricht, die mit dem TFT 24 zum Steuern der Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbundene Abtastleitung 22 ist.
Insbesondere ist gemäß der Darstellung in 2A mittels einer leitfähigen Überbrückungsleitung 252, welche aus dem gleichen transparenten leitfähigen Material wie die Bildpunktelektrode 25, wie etwa Indium-Zinn-Oxid (ITO) oder Indium-Zink-Oxid (IZO), hergestellt sein kann, die Bildpunktelektrode 25 in einer Reihe mit einem TFT 24 einer Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden, wobei die Bildpunkteinheit 23 in der gleichen Reihe wie und angrenzend an die Bildpunkteinheit 23, welche die Bildpunktelektrode 25 aufweist (z.B. an der linken Seite hiervon gemäß der Darstellung in 2A), angeordnet ist. Aufgrund des Vorhandenseins der leitfähigen Überbrückungsleitung 252 kann sich wenigstens ein Abwinkelungsbereich A2 der Bildpunktelektrode 25 entlang der leitfähigen Überbrückungsleitung 252 in Richtung des TFT 24, der mit der Bildpunktelektrode 25 elektrisch verbunden ist, erstrecken bzw. verlängern. Im Vergleich mit der Bildpunktstruktur in dem Stand der Technik ist eine Länge des verlängerten Abwinkelungsbereichs A2 vergrößert und befindet sich ein Ende des verlängerten Abwinkelungsbereichs A2 nahe an dem TFT, der mit der den verlängerten Abwinkelungsbereich A2 aufweisenden Bildpunktelektrode 25 elektrisch verbunden ist, weshalb das Ende des Abwinkelungsbereichs A2 durch eine Schwarzmatrix in einem Farbfiltersubstrat nach Anbringen des Farbfiltersubstrats an dem Matrixsubstrat gut bedeckt sein kann, wodurch die Lichtdurchlässigkeit verbessert ist.
In der vorliegenden Ausführungsform ist zur elektrischen Verbindung der Bildpunktelektrode 25 in einer Reihe mit dem TFT 24 in einer Bildpunkteinheit 23 die Bildpunkteinheit 23 in der gleichen Reihe wie und angrenzend an die linke Seite der Bildpunkteinheit, welche die Bildelektrode 25 aufweist, angeordnet, ist der TFT 24 vorzugsweise nahe an der mit dem TFT 24 elektrisch verbundenen Bildpunktelektrode 25 angeordnet, wodurch eine elektrische Verbindung zwischen dem TFT 24 und der mit dem TFT 24 elektrisch verbundenen Bildpunktelektrode 25 in bequemer Weise verwirklicht wird und jedwede Interferenz zwischen der mit dem TFT 24 elektrisch verbundenen Bildpunktelektrode 25 und einer Bildpunktelektrode 25 in einer Bildpunkteinheit 23, welche den TFT 24 aufweist, vermieden wird.
In der vorliegenden Ausführungsform ist ein Abschnitt der Datenleitung 21, der sich innerhalb der den TFT 24 aufweisenden Bildpunkteinheit 23 befindet, derart gebogen, dass er einer Position des TFT 24 entspricht. Nachdem der TFT 24 nahe an der mit dem TFT 24 elektrisch verbundenen Bildpunktelektrode 25 angeordnet ist, ist es vorteilhaft, wenn der Abschnitt der entsprechenden Datenleitung 21 innerhalb der dem TFT 24 aufweisenden Bildpunkteinheit 23 einen gebogenen Verlauf aufweist, um die Datenleitung 21 mit dem TFT 24 elektrisch zu verbinden, ohne die Bildpunktelektrode 25 abzuschirmen, wie in 2A gezeigt. Die gebogene Datenleitung 21 in 2A ist nur ein spezifisches Beispiel, und die Datenleitung 21 kann auf andere Weise nach den tatsächlichen Erfordernissen angeordnet sein, solange die Datenleitung 21 mit dem entsprechenden TFT 24 elektrisch verbunden ist, ohne die Bildpunktelektrode 25 abzuschirmen, was hierin nicht beschränkt ist.
Zusätzlich zu dem vorstehenden Fall, in welchem die Bildpunktelektrode 25 in einer Reihe mit einem TFT 24 in einer Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden ist, wobei die Bildpunktelektrode 23 in der gleichen Reihe wie und angrenzend an die linke Seite der Bildpunkteinheit 23, welche die Bildpunktelektrode 25 aufweist, angeordnet ist, wie es in 2A gezeigt ist, kann die Bildpunktelektrode 25 wahlweise mit einem TFT 24 in einer Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden sein, welche in der gleichen Reihe wie und angrenzend an die rechte Seite der Bildpunkteinheit 23, welche die Bildpunktelektrode 25 aufweist, angeordnet sein, wie es in 2B gezeigt ist. Für die Position des TFT 24 und die Anordnung einer Datenleitung in der Bildpunkteinheit 23, welche den TFT 24 in 2B enthält, kann auf die hier nicht noch einmal wiederholte Beschreibung der 2A Bezug genommen werden.
In der vorstehenden Ausführungsform ist eine Source-Elektrode des TFT 24 mit der einer Bildpunkteinheit 23 entsprechenden Datenleitung 21 elektrisch verbunden, wobei die Bildpunkteinheit 23 eine mit dem TFT 24 elektrisch verbundene Bildpunktelektrode 25 aufweist; und ist die Gate-Elektrode des TFT 24 mit der der Bildelektrode 23 entsprechenden Abtastleitung 22 elektrisch verbunden, wobei die Bildpunkteinheit 23 die mit dem TFT 24 elektrisch verbundene Bildpunktelektrode 25 aufweist. Wie in 2A gezeigt, ist die Source-Elektrode des TFT 24 mit der Datenleitung 21, welche sich an der linken Seite der den TFT 24 aufweisenden Bildpunkteinheit 23 befindet, elektrisch verbunden und ist konfiguriert, um der Bildpunktelektrode 25, die mit dem TFT 24 elektrisch verbunden ist, ein Datensignal bereitzustellen; und ist die Gate-Elektrode des TFT 24 mit der Abtastleitung 22 unterhalb der den TFT 24 aufweisenden Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden und konfiguriert, um das Einschalten oder Ausschalten der Bildpunkteinheit 23, in welcher die mit dem TFT 24 elektrisch verbundene Bildelektrode 25 angeordnet ist, zu steuern. Wie in 2B gezeigt, ist die Source-Elektrode des TFT 24 mit der Datenleitung 21, welche sich an der rechten Seite der den TFT 24 aufweisenden Bildpunkteinheit 23 befindet, elektrisch verbunden und konfiguriert, um der Bildpunktelektrode 25, welche mit dem TFT 24 elektrisch verbunden ist, ein Datensignal bereitzustellen, und ist die Gate-Elektrode des TFT 24 mit der Abtastleitung 22 unterhalb der den TFT 24 aufweisenden Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden und konfiguriert, um das Einschalten oder Ausschalten der Bildpunkteinheit 23, in welcher die mit dem TFT 24 elektrisch verbundene Bildpunktelektrode 25 angeordnet ist, zu steuern.
Wie in 2A und 2B gezeigt, sind die Bildpunkteinheiten 23 in einer Matrix angeordnet. Wahlweise können die Bildpunkteinheiten 23 gemäß der Darstellung in 3A und 3B in einer versetzten Weise angeordnet sein. Die genaue Beschreibung der Bildpunktstruktur, die in einer versetzten Weise gemäß der Darstellung in 3A und 3B angeordnet ist, kann auf die relevante Beschreibung von 2A und 2B, die hierin nicht erneut wiederholt werden wird, Bezug nehmen.
Insbesondere ist gemäß der Darstellung in 2A und 3A die Bildpunktelektrode 25 in einer Reihe mit dem TFT 24 in einer Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden, wobei die Bildpunkteinheit 23 in der gleichen Reihe wie und angrenzend an die linke Seite der Bildpunkteinheit 23, welche die Bildpunktelektrode 25 aufweist, derart angeordnet, dass diese Bildpunktelektrode 25 teilweise mit der Datenleitung 21 zwischen der Bildpunktelektrode 25 und ihrer links angrenzenden Bildpunktelektrode 25 überlappt; und wie in 2B und 3B gezeigt, ist die Bildpunktelektrode 25 in einer Reihe mit dem TFT 24 in einer Bildpunkteinheit 23 elektrisch verbunden, wobei die Bildpunkteinheit 23 in der gleichen Reihe wie und angrenzend an die rechte Seite der Bildpunkteinheit 23, welche die Bildpunktelektrode 25 aufweist, derart angeordnet, dass die Bildpunktelektrode 25 teilweise mit der Datenleitung 21 zwischen der Bildpunktelektrode 25 und ihrer rechts angrenzenden Bildpunktelektrode 25 überlappt.
Basierend auf der vorstehend beschriebenen Bildpunktstruktur weist gemäß der Darstellung in 4 die Bildpunktstruktur ferner eine zwischen der Bildpunktelektrode 25 und einer Filmschicht, in welcher eine Source-Elektrode 242 und eine Drain-Elektrode 243 des mit der Bildpunktelektrode 25 elektrisch verbundenen TFT 24 angeordnet sind, angeordnete gemeinsame Elektrode 26 auf und ist die gemeinsame Elektrode 26 durch eine dritte Isolationsschicht 273 von der Bildpunktelektrode 25 elektrisch isoliert, und ist die gemeinsame Elektrode 26 durch eine zweite Isolationsschicht 272 von der Source-Elektrode 242 und der Drain-Elektrode 243 elektrisch isoliert. Zusätzlich ist gemäß der Darstellung in 4 eine Gate-Elektrode 241 des TFT 24 durch die erste Isolationsschicht 271 bedeckt und ist eine aktive Schicht 244 oberhalb der ersten Isolationsschicht 271 angeordnet. Die Source-Elektrode 242 und die Drain-Elektrode 243 sind an zwei Seiten der aktiven Schicht 244 angeordnet und jeweils mit der aktiven Schicht 244 elektrisch verbunden. Die Source-Elektrode 242, die Drain-Elektrode 243 und die aktive Schicht 244 sind durch die erste Isolationsschicht 271 von der Gate-Elektrode 241 elektrisch isoliert, und die Source-Elektrode 243 ist mit der Bildpunktelektrode 25 elektrisch verbunden.
Aufgrund der Überlappung zwischen der Bildpunktelektrode 25 und der Datenleitung 21 kann während eines Betriebs ein Einfluss auf elektrische Signale erzeugt werden. Daher ist die gemeinsame Elektrode 26 zwischen der Bildpunktelektrode 25 und der Source-Elektrode 242 wie auch der Gate-Elektrode 243 des TFT 24 angeordnet, wodurch die elektrischen Signale an der Überlappung zwischen der Bildpunktelektrode 25 und der Datenleitung 21 abgeschirmt werden.
Es ist festzuhalten, dass die Gate-Elektrode 241 gemäß der Darstellung in 4 unterhalb der Source-Elektrode 242 und der Drain-Elektrode 243 in dem TFT 24 angeordnet sind, eine solche Anordnung allerdings lediglich ein spezifisches Beispiel der Anordnung der Gate-Elektrode 241 ist. In anderen Ausführungsformen kann die Gate-Elektrode 241 oberhalb der Source-Elektrode 242 und der Drain-Elektrode 243 angeordnet sein, was hierin nicht eingeschränkt ist.
Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Herstellungsverfahren zum Herstellen einer Bildpunktstruktur bereitgestellt. 5 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Bildpunktstruktur gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Wie in 5 gezeigt, weist das Verfahren zum Herstellen einer Bildpunktstruktur die nachstehenden Schritte 301 bis 303 auf.
In Schritt 301 wird eine Mehrzahl von TFTs ausgebildet.
Insbesondere weist jeder der ausgebildeten TFTs eine Gate-Elektrode, eine Source-Elektrode, eine Drain-Elektrode und einen aktiven Bereich, der zwischen der Drain-Elektrode und der Source-Elektrode angeordnet ist, auf, wobei die Gate-Elektrode des TFT oberhalb der Source-Elektrode und der Drain-Elektrode angeordnet sein kann (wie in einem TFT mit einer Struktur eines oben liegenden Gate - Top-Gate-Struktur) oder unterhalb der Source-Elektrode und der Drain-Elektrode angeordnet sein kann (wie in einem TFT mit einer Struktur eines unten liegenden Gate - Bottom-Gate-Struktur), was hierin nicht beschränkt ist.
In Schritt 302 werden eine Mehrzahl von Datenleitungen und eine Mehrzahl von Abtastleitungen ausgebildet, wobei eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten durch Überschneiden bzw. Überkreuzen der Datenleitungen mit den Abtastleitungen ausgebildet wird, wobei eine Bildpunkteinheit einer Datenleitung und einer Abtastleitung entspricht und ein TFT aufweist.
In Schritt 303 wird eine Mehrzahl von Bildpunktelektroden ausgebildet, wobei eine Bildpunktelektrode in einer Bildpunkteinheit angeordnet ist und eine Mehrzahl von Schlitzen aufweist, von welchen jeder wenigstens einen Abwinkelungsbereich an einem Ende hiervon aufweist, die Bildpunktelektrode in einer Reihe mit einem TFT in einer Bildpunkteinheit elektrisch verbunden ist, wobei die Bildpunkteinheit in der gleichen Reihe wie und angrenzend an eine Seite derjenigen Bildpunkteinheit, welche die Bildpunktelektrode aufweist, angeordnet ist, und wenigstens ein Abwinkelungsbereich der Bildpunktelektrode sich in Richtung des mit der Bildpunktelektrode elektrisch verbundenen TFT erstreckt bzw. verlängert ist.
Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein Matrixsubstrat bereitgestellt. 6 ist eine schematische Darstellung, welche ein Matrixsubstrat gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 6 gezeigt, weist das Matrixsubstrat ein Glassubstrat 41 und eine Bildpunktstruktur 42 auf, und die Bildpunktstruktur 42 kann jedwede Bildpunktstruktur sein, die in den vorstehenden vielfältigen Ausführungsformen beschrieben wurde.
Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ferner eine Anzeigetafel bereitgestellt. 7 ist eine schematische Darstellung, welche eine Anzeigetafel gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 7 gezeigt, weist die Anzeigetafel ein Matrixsubstrat 51, ein gegenüber dem Matrixsubstrat 51 angeordnetes Farbfiltersubstrat 52 und eine zwischen dem Matrixsubstrat 51 und dem Farbfiltersubstrat 52 angeordnete Flüssigkristallschicht 53 auf, wobei die Flüssigkristallschicht 53 aus Flüssigkristallmolekülen 531 gebildet wird. Das Matrixsubstrat 51 gemäß der vorliegenden Ausführungsform kann jedwedes Matrixsubstrat sein, das in den vorstehenden vielfältigen Ausführungsformen beschrieben wurde.
Es ist festzuhalten, dass die vorstehende Anzeigetafel eine Berührungssensierungsfunktion in Abhängigkeit von spezifischen Bedürfnissen in der Praxis aufweisen kann oder nicht aufweisen kann. Die Berührungssensierungsfunktion kann eine elektromagnetische Berührungssensierungsfunktion, eine kapazitive Berührungssensierungsfunktion, eine elektromagnetisch-kapazitive Berührungssensierungsfunktion oder dergleichen sein.
Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ferner eine Anzeigevorrichtung bereitgestellt. 8 ist eine schematische Darstellung, welche eine Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt. Wie in 8 gezeigt, weist die Anzeigevorrichtung 60 eine Anzeigetafel 61 auf und kann ferner eine Ansteuerungsschaltung und andere Komponenten zum Unterstützen eines normalen Betriebs der Anzeigevorrichtung 60 aufweisen. Die Anzeigetafel 61 kann jedwede Anzeigetafel sein, die in den vorstehenden vielfältigen Ausführungsformen beschrieben wurde. Die vorstehende Anzeigevorrichtung kann eine eines Mobiltelefons, eines Desktop-Computers, eines Notebook-Computers, eines Tablet-Computers und eines elektronischen Papiers sein.
Mit der Bildpunktstruktur und dem Herstellungsverfahren hiervon, dem Matrixsubstrat, der Anzeigetafel und der Anzeigevorrichtung gemäß Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist eine Bildpunktelektrode in einer Reihe mit einem TFT in einer Bildpunkteinheit elektrisch verbunden, wobei die Bildpunkteinheit in der gleichen Reihe wie und angrenzend an eine Seite einer Bildpunkteinheit, welche die Bildpunktelektrode aufweist, angeordnet ist, und erstreckt sich wenigstens ein Abwinkelungsbereich der Bildpunktelektrode bzw. ist verlängert in Richtung des mit der Bildpunktelektrode elektrisch verbundenen TFT, so dass eine Länge des verlängerten Abwinkelungsbereichs vergrößert ist und demgemäß ein Ende des Abwinkelungsbereichs nahe an dem mit der Bildpunktelektrode, die den Abwinkelungsbereich aufweist, elektrisch verbundenen TFT angeordnet ist, weshalb das Ende des Abwinkelungsbereichs durch eine Schwarzmatrix eines Farbfiltersubstrats nach Anbringen des Farbfiltersubstrats an dem Matrixsubstrat gut bedeckt werden kann, wodurch die Lichtdurchlässigkeit verbessert ist.
Es ist festzuhalten, dass die bevorzugten Ausführungsformen und die angewendeten technologischen Prinzipien der vorliegenden Erfindung nur wie oben beschrieben sind. Es sollte für den Fachmann zu verstehen sein, dass die vorliegende Erfindung nicht auf bestimmte hierin beschriebene Ausführungsformen beschränkt ist. Vielfältige ersichtliche Änderungen, Anpassungen und Alternativen können durch den Fachmann ohne Abweichen vom Schutzumfang der vorliegenden Erfindung vorgenommen werden. Daher ist, obschon die vorliegende Erfindung durch die vorstehenden Ausführungsformen ausführlich dargestellt wurde, die vorliegende Erfindung nicht nur durch die vorstehenden Ausführungsformen beschränkt, sondern kann ferner mehrere von anderen äquivalenten Ausführungsformen umfassen, ohne von der Konzeption der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung ist Gegenstand der beigefügten Ansprüche.

Claims

Eine Bildpunktstruktur, welche aufweist: eine Mehrzahl von Datenleitungen (21); eine Mehrzahl von Abtastleitungen (22); eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten (23), die durch Überschneiden oder Überkreuzen der Mehrzahl von Datenleitungen (21) mit der Mehrzahl von Abtastleitungen (22) ausgebildet sind, wobei eine Bildpunkteinheit (23) einer der Datenleitungen (21) und einer der Abtastleitungen (22) entspricht; einen TFT (24) und eine Bildpunktelektrode (25), die in jeder der Bildpunkteinheiten (23) angeordnet sind, wobei die Bildpunktelektrode (25) eine Mehrzahl von Schlitzen (251) aufweist, wobei wenigstens einer der Schlitze (251) wenigstens einen Abwinkelungsbereich (A2) an einem Ende hiervon aufweist; wobei die Bildpunktelektrode (25) in einer Bildpunkteinheit (23) mit einem TFT (24) in einer benachbarten Bildpunkteinheit (23) in der gleichen Reihe elektrisch verbunden ist und mit der Datenleitung (21), die zwischen der Bildpunkteinheit (23) und der benachbarten Bildpunkteinheit (23) in der gleichen Reihe angeordnet ist, teilweise überlappt, und wobei wenigstens ein Abwinkelungsbereich (A2) der Bildpunktelektrode (25) sich in Richtung des mit der Bildpunktelektrode (25) elektrisch verbundenen TFT (24) erstreckt.
Die Bildpunktstruktur von Anspruch 1, wobei der TFT (24) nahe an der hiermit elektrisch verbundenen Bildpunktelektrode (25) angeordnet ist.
Die Bildpunktstruktur von Anspruch 1 oder 2, wobei ein Abschnitt einer Datenleitung (21) in der Bildpunkteinheit (23), wo der TFT (24) angeordnet ist, gebogen ist, um einer Position des TFT (24) zu entsprechen.
Die Bildpunktstruktur eines der vorstehenden Ansprüche, weiter aufweisend eine gemeinsame Elektrode (26), welche zwischen der Bildpunktelektrode (25) und einer Filmschicht angeordnet ist, wobei eine Source-Elektrode (242) und eine Drain-Elektrode (243) des mit der Bildpunktelektrode (25) elektrisch verbundenen TFT (24) in der Filmschicht angeordnet sind, wobei die gemeinsame Elektrode (26) von der Bildpunktelektrode (25) und der Filmschicht elektrisch isoliert ist.
Die Bildpunktstruktur eines der vorstehenden Ansprüche, wobei eine Source-Elektrode (242) des TFT (24) mit der der Bildpunkteinheit (23), welche der mit dem TFT (24) elektrisch verbundenen Bildpunktelektrode (25) entspricht, entsprechenden Datenleitung (21) elektrisch verbunden ist; und eine Gate-Elektrode (241) des TFT (24) mit der der Bildpunkteinheit (23), welche die mit dem TFT (24) elektrisch verbundene Bildpunktelektrode (25) aufweist, entsprechenden Abtastleitung (22) elektrisch verbunden ist.
Die Bildpunktstruktur eines der vorstehenden Ansprüche, wobei die Bildpunkteinheiten (23) in einer versetzten Weise oder als eine Matrix angeordnet sind.
Ein Herstellungsverfahren für eine Bildpunktstruktur, aufweisend: Ausbilden einer Mehrzahl von TFTs (24); Ausbilden einer Mehrzahl von Datenleitungen (21) und einer Mehrzahl von Abtastleitungen (22), wobei eine Mehrzahl von Bildpunkteinheiten (23) durch Überschneiden oder Überkreuzen der Mehrzahl von Datenleitungen (21) mit der Mehrzahl von Abtastleitungen (22) ausgebildet wird und eine Bildpunkteinheit (23) einer der Datenleitungen (21) und einer der Abtastleitungen (22) entspricht und einen der TFTs (24) aufweist; und Ausbilden einer Mehrzahl von Bildpunktelektroden (25), von denen jede sich in einer jeweiligen der Mehrzahl von Bildpunkteinheiten (23) befindet, wobei jede der Mehrzahl von Bildpunktelektroden (25) eine Mehrzahl von Schlitzen (251) aufweist, wenigstens einer der Mehrzahl von Schlitzen (251) wenigstens einen Abwinkelungsbereich (A2) an einem Ende hiervon aufweist, und wobei die Bildpunktelektrode (25) in einer Bildpunkteinheit (23) mit einem TFT (24) in einer benachbarten Bildpunkteinheit (23) in der gleichen Reihe elektrisch verbunden ist und mit der Datenleitung (21), die zwischen der Bildpunkteinheit (23) und der benachbarten Bildpunkteinheit (23) in der gleichen Reihe teilweise überlappt, und wobei wenigstens ein Abwinkelungsbereich (A2) der Bildpunktelektrode (25) sich in Richtung des mit der Bildpunktelektrode (25) elektrisch verbundenen TFT (24) erstreckt.
Eine Anzeigetafel mit einem Matrixsubstrat, welches die Bildpunktstruktur gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6 aufweist.
Eine Anzeigevorrichtung mit einer Anzeigetafel gemäß Anspruch 8.