DE102010047419B4 - Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von EUV-Strahlung aus einem Gasentladungsplasma - Google Patents
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102010047419A DE102010047419B4 (de) | 2010-10-01 | 2010-10-01 | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von EUV-Strahlung aus einem Gasentladungsplasma |
| US13/239,564 US8426834B2 (en) | 2010-10-01 | 2011-09-22 | Method and apparatus for the generation of EUV radiation from a gas discharge plasma |
| NL2007473A NL2007473C2 (en) | 2010-10-01 | 2011-09-26 | Method and apparatus for the generation of euv radiation from a gas discharge plasma. |
| JP2011210468A JP5534613B2 (ja) | 2010-10-01 | 2011-09-27 | 気体放電プラズマからeuv光を発生させる方法と装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102010047419A DE102010047419B4 (de) | 2010-10-01 | 2010-10-01 | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von EUV-Strahlung aus einem Gasentladungsplasma |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102010047419A1 DE102010047419A1 (de) | 2012-04-05 |
| DE102010047419B4 true DE102010047419B4 (de) | 2013-09-05 |
Family
ID=44993840
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102010047419A Expired - Fee Related DE102010047419B4 (de) | 2010-10-01 | 2010-10-01 | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von EUV-Strahlung aus einem Gasentladungsplasma |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8426834B2 (https=) |
| JP (1) | JP5534613B2 (https=) |
| DE (1) | DE102010047419B4 (https=) |
| NL (1) | NL2007473C2 (https=) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8881526B2 (en) | 2009-03-10 | 2014-11-11 | Bastian Family Holdings, Inc. | Laser for steam turbine system |
| WO2014127151A1 (en) | 2013-02-14 | 2014-08-21 | Kla-Tencor Corporation | System and method for producing an exclusionary buffer gas flow in an euv light source |
| CN115119373B (zh) * | 2022-05-31 | 2025-12-05 | 广东省智能机器人研究院 | 极紫外光产生方法及装置 |
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| DE102005039849B4 (de) | 2005-08-19 | 2011-01-27 | Xtreme Technologies Gmbh | Vorrichtung zur Strahlungserzeugung mittels einer Gasentladung |
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| WO2011013779A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 株式会社小松製作所 | 極端紫外光源装置、極端紫外光源装置の制御方法、およびそのプログラムを記録した記録媒体 |
-
2010
- 2010-10-01 DE DE102010047419A patent/DE102010047419B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-09-22 US US13/239,564 patent/US8426834B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-09-26 NL NL2007473A patent/NL2007473C2/en not_active IP Right Cessation
- 2011-09-27 JP JP2011210468A patent/JP5534613B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL2007473A (en) | 2012-04-03 |
| DE102010047419A1 (de) | 2012-04-05 |
| JP2012079693A (ja) | 2012-04-19 |
| JP5534613B2 (ja) | 2014-07-02 |
| US20120080619A1 (en) | 2012-04-05 |
| US8426834B2 (en) | 2013-04-23 |
| NL2007473C2 (en) | 2013-07-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: PATENTANWAELTE OEHMKE UND KOLLEGEN, DE Representative=s name: PATENTANWAELTE OEHMKE UND KOLLEGEN, 07743 JENA, DE |
|
| R016 | Response to examination communication | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
| R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA, JP Free format text: FORMER OWNER: XTREME TECHNOLOGIES GMBH, 52074 AACHEN, DE Effective date: 20131114 Owner name: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA, JP Free format text: FORMER OWNER: XTREME TECHNOLOGIES GMBH, 37077 GOETTINGEN, DE Effective date: 20110712 |
|
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: PATENTANWAELTE OEHMKE UND KOLLEGEN, DE Effective date: 20131114 Representative=s name: PATENTANWAELTE OEHMKE UND KOLLEGEN, DE Effective date: 20110712 |
|
| R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20131206 |
|
| R082 | Change of representative |
Representative=s name: GLEIM PETRI PATENT- UND RECHTSANWALTSPARTNERSC, DE Representative=s name: GLEIM PETRI OEHMKE PATENT- UND RECHTSANWALTSPA, DE |
|
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |