DE3806079A1 - Verfahren zur erzeugung und fuehrung von intensiven, grossflaechigen ionen-, elektronen- und roentgenstrahlen - Google Patents
Verfahren zur erzeugung und fuehrung von intensiven, grossflaechigen ionen-, elektronen- und roentgenstrahlenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung und Führung
von intensiven, großflächigen Ionen-, Elektronen- und Röntgen
strahlen wobei die Strahlführung mit betriebsmäßig variierba
ren magnetischen und elektrischen Feldern und variierbaren ma
gnetischen Korrekturfeldern bereits im Strahlgenerator er
folgt.
Solche Teilchen- und Röntgenstrahlen mit wählbaren
Strahleigenschaften werden z. B. für Materialbearbeitung für
Oberflächen- und Dünnschichttechnologie und für die strahlin
duzierte lithographische Verfahrenstechnik, z. B. Röntgenli
thographie, benötigt. Ein weiteres Anwendungsgebiet ist die
Untersuchung der physikalischen Vorgänge, die in hochverdich
teter Materie ablaufen, die durch intensive Strahlen hoher En
ergiedichte gebildet wurde.
Teilchenströme hoher Intensität können mit Ionendioden erzeugt
werden, zu deren Energieversorgung die Technik leistungsfähige
Stromquellen zur Verfügung stellt. Bekannt ist ein Diodentyp,
bei dem mit einem selbsterzeugten B R -Feld die Elektronen im
Diodenspalt magnetisch isoliert werden. Mit solchen sogenann
ten B R -Dioden wurden Ionenströme bis zu 750 kA erzeugt. Es
sind noch andere Dioden-Typen mit vergleichbarer Ionenstrom-
Ergiebigkeit bekannt, die in ihrer Betriebsweise allerdings
markante Nachteile gegenüber dem B R -Typ aufweisen. Ihnen fehlt
die klare Elektroden-Struktur, die die B R -Diode auszeichnet,
mit der die physikalischen Abläufe einigermaßen zu übersehen
und zu beeinflussen sind. Ein wesentliches Merkmal dieser Di
oden sind nichtstationäre Elektroden, die sich durch veränder
liche Raumladungskonfigurationen erst ausbilden. Dadurch sind
die lokalen Beschleunigungs- und Führungsfelder kaum bestimm
bar oder gar kalkulierbar. Dies gilt insbesondere für die un
stabilen sogenannten virtuellen Kathoden, die eine klare
Strahlfokussierung nicht zulassen. Außerdem ist der Grad der
Beschädigung von Diodenstrukturteilen durch die freien La
dungsträger des Diodenplasmas und durch Ströme freier, metal
lisch nicht gebundener Elektronen so groß, daß die Diode nach
sehr kurzer Zeit (Bruchteile von Mikrosekunden) zerstört wird.
In der Regel überleben die Vertreter solcher Plasma-Typen
(Pinch-Dioden, Pinch-Reflex-Dioden etc.) nur einen kurzen
Schuß. Dann müssen sie regeneriert oder völlig ersetzt werden.
Bei der B R -Diode ist die zeitliche Belastbarkeit zwar wesent
lich höher, aber auch hier müssen nach einer effektiven Be
triebszeit von wenigen Mikrosekunden funktionswichtige Teile
ausgetauscht weren, und von einem kontinuierlichen Betrieb ist
man weit entfernt. Die Ursache sind hohe Ströme freier Elek
tronen, die über verschiedenlange Wege den Katho
den/Anodenspalt durchlaufen und die im Wege stehenden Anoden
stützen zerstören und Teile der Anodenfläche beim Aufprall be
schädigen. Ein weiterer entscheidender Nachteil aller bekann
ten Hochstromdioden, der B R -Diode einschließlich, ist die Un
möglichkeit, die den Teilchenstrahl beeinflussenden durch Kon
struktion und durch die geometrischen Daten festgelegten Fel
der im laufenden Betrieb einstellen und optimieren zu können.
Eine klare Führung des Strahls mit gewünschten Fokussierungs
eigenschaften ist somit unmöglich.
Diese geschilderten Nachteile, nämlich völlig ungenügende
zeitliche Belastbarkeit und die Unmöglichkeit einer gezielten,
klaren Strahlführung, machen die bekannten Verfahren und An
ordnungen für einen technisch nutzbaren Strahlbetrieb un
brauchbar.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Strahl gelade
ner Teilchen hoher Stromstärke zu erzeugen, dessen Eigenschaf
ten in Anpassung an den technologischen Einsatz frei bestimmt
werden können. So sollen die Strahlwinkel (Winkel, den die
Teilchenbahn mit der Strahlachse bildet) zwischen starker Di
vergenz bis zu starker Konvergenz einstellbar sein, abhängig
von dem Wunsch nach einem großflächigen Strahl oder einem fo
kussierten Strahl mit minimaler Strahlfläche und entsprechend
hoher Stromdichte. Dazwischen liegt der Zustand des Parallel
strahls, der z. B. für den Transport über größere Entfernungen
benötigt wird, falls keine zusätzlichen Strahlführungselemente
außerhalb des Strahlgenerators eingesetzt werden sollen. Für
die in den Beschleunigungsbereich des Generators gelegte
Strahlführung sollen keine externen Stromquellen benötigt wer
den.
Der erzeugte Teilchenstrahl soll den Strahlgenerator
stromneutralisiert verlassen. Für einen Protonenstrahl bedeu
tet dies, daß in einem gegebenen Zeitintervall ebensoviele
Elektronen wie Protonen im Strahl transportiert werden. Nur
für diesen Fall ist der Strahl magnetisch neutral. Damit ent
fallen selbstmagnetische Störfelder, die den Strahl in uner
wünschter Weise beeinflussen können.
Im Strahlgenerator selbst müssen jedoch freie Elektronen
unterdrückt werden. Aus zwei wichtigen Gründen muß dies gefor
dert werden. Erstens soll eine Zone geschaffen werden, in der
das azimutale magnetische Eigenfeld des Ionenstroms zur ge
zielter kalkulierbaren Selbstfokussierung genutzt wird, und
zweitens muß verhindert werden, daß hohe nicht kontrollierbare
Ströme freier Elektronen den Strahlgenerator beschädigen und
nach kurzer Zeit zerstören und außerdem den Ionenstrahl unkal
kulierbar beeinflussen.
Da die Stromquelle zum Betrieb des Strahlgenerators primär nur
einen Elektronenstrom liefern kann, der sich in einer Schleife
über den Generator schließen muß, treten im Generator zwangs
läufig auch Elektronenströme auf, die zur Sicherstellung des
kontinuierlichen Stromdurchsatzes unentbehrlich sind. Diese
Elektronen dürfen jedoch nirgend als freie Elektronen in dem
Generatorraum auftreten, d. h. sie müssen als Leitungsströme
durch den Generator geführt werden. Diese für den Langzeitbe
trieb fundamentale Forderung ist bei keiner der bekannten Di
odentypen erfüllt.
Die direkte Messung des erzeugten freien Ionenstroms wird
durch die Elektronen im neutralisierten Strom gestört. Bei
dieser für intensive Ströme erforderlichen Strahlstruktur ver
sagen die bekannten Methoden der Strombestimmung durch Messung
der Ladung, die auf ein Target, auf Drähte oder Faraday-Becher
auftrifft, da die Ladung hier integral nicht aber im Elementa
rakt gemessen wird. Auch die Strombestimmung auf induktivem
Wege, z. B. mit Rogowski-Spulen, würde zu völlig falschen Er
gebnissen führen. Auch die an sich schon nicht genaue Methode
der Spurenanalyse mit Hilfe von strahlsensiblen Meßfolien, mit
der mikroskopische Elementarreaktionen erfaßt werden können,
ist im direkten Primärstrahl nicht anwendbar, da bei den hier
technologisch bedingten hohen Stromstärken die Folien sofort
zerstört würden. Die Strahlstromstärke soll daher über
innerhalb des Strahlgenerators eindeutig meßbare
Leitungsströme bestimmt werden.
Diese Aufgabenstellung für einen selbstfokussierenden
Strahlgenerator für Langzeitbetrieb wird erfindungsgemäß durch
die im kennzeichnenden Teil des Anspruches 1 angegebenen Merk
male gelöst.
Die übrigen Ansprüche geben vorteilhafte Weiterbildungen und
Ausführungsformen der Erfindung, insbesondere auch für ein
Strahlerzeugungs- und Strahlführungssystem zur Durchführung
des Verfahrens an.
Die Erfindung wird anhand von Ausführungsbeispielen näher
erläutert.
Es zeigen
Fig. 1 einen Radialschnitt durch die Autofokus-Ionendiode
mit der Markierung der einzelnen Stromkomponenten und
der Strahlführungsfelder,
Fig. 2 ein Stromlaufbild der Steuerkreise in der Autofokus-
Ionendiode,
Fig. 3 eine justierbare Kathode der Autofokus-Ionendiode,
Fig. 4 die Herleitung der Teilchenbahn,
Fig. 5 die magnetischen Strahlführungsfelder im Beschleu
nigungsspalt,
Fig. 6 das Profil des selbstfokussierten, nach Verlassen der
Diode neutralisierten Strahls,
Fig. 7 die Strahlformung durch das Zusammenspiel: geometri
sche Divergenz mit selbstmagnetischer Konvergenz,
Fig. 8 die Separation des Elektronenstroms aus dem neutra
lisierten Strahl durch Abbremsung der Ionen,
Fig. 9 das System zur Erzeugung von Röntgen-Bremsstrahlung;
Fig. 10 die Fokussierung des Ionenstroms mit Elektroden-
Triplett und
Fig. 11 die Dreielektrodenlinse zur Fokussierung des Ionen
stroms.
In Fig. 1 ist ein Radialschnitt der Autofokus-Diode in ihrer
Positionierung am Ende der Koaxial-Ausgangsleitung eines Im
puls-Stromversorgungsgeräts dargestellt. Der über den Außen
leiter 1 zugeführte Elektronenstrom I⁻ fließt zur Kathode 2
und spaltet sich hier in die beiden Komponenten: Magnetisie
rungsstrom I M ⁻ und Neutralisationsstrom I n ⁻, deren Bedeutung
noch erklärt wird. Die Kathode 2 ist eine Lamellenkathode mit
Emissionsringen 24 gemäß Fig. 3. Die mit dem Innenleiter 3
verbundene Anode 4 ist gegenüber der Kathode 2 stark positiv
vorgespannt. Durch die hohe Feldstärke im Spalt (ca. 50 MV/m)
entsteht an der mit Plastik-Material hohen Wasserstoffgehalts
belegten organischen Oberfläche 5 der Anode ein Plasma, aus
dem die Protonen eliminiert und im Spalt beschleunigt werden,
während die bei der Plasmabildung durch Ionisation freiwer
denden Elektronen als Elektronenstrom I i ⁻ zum positiven Innen
leiter 3 abfließen. Der Protonenstrom I⁺ durchdringt die
Lamellenkathode 2 (vergl. Fig. 3) und erzeugt hier an den ne
gativen Lamellen ein hohes Raumladungspotential mit starken
Spitzenfeldern an den Lamellenkanten, die zur Feldemission von
Elektronen führen. Die hier freigesetzten Elektronen neutrali
sieren den Protonenstrom I⁺ noch in der Kathodenebene und
driften zusammen mit diesem als neutralisierter Gesamtstrom
I⁺/⁻=I⁺+I n ⁻ in den Außenraum. In ihrer Gesamtheit liefern
die feldemittierten Elektronen den Neutralisationsstrom I n ⁻,
der bei vollständiger Neutralisation gleich dem Protonenstrom
I⁺ sein muß.
Im Innenbereich der Kathode 2 wird ein negativer Teilstrom I M ⁻
mit Hilfe eines Widerstandszylinders 6 abgezweigt, über den
Kontaktring 7 auf das Innenrohr 8 übertragen und zur Anode 4
geführt. Von hier fließt er zusammen mit dem Ionisationsstrom
I i ⁻ über den Widerstandszylinder 9 und den Kontaktring 10 zum
Innenleiter 3 zurück. Die Kontaktringe 7 und 10 sind mit Hilfe
der von der Schaltstelle gesteuerten Schrittmotore 11 und 12
verschiebbar.
Die Stromaufteilung ist in Fig. 2 noch einmal prinzipiell
dargestellt. Das Potentiometer 13 entspricht in seiner Funk
tion dem Regelglied 6, 7, 8, 11 und das Potentiometer 14 dem
Regelglied 9, 10, 12 der Fig. 1. Wie der Fig. 2 sofort zu ent
nehmen ist, regelt das Potentiometer 14 den Protonenstrom I⁺
und den Elektronenstrom I M ⁻ gemeinsam, während des Potentiome
ter 13 den abgezweigten Strom I M ⁻ nahezu unabhängig von I⁺
steuert. Aus Gründen der Ladungserhaltung muß gelten: Der ne
gative Neutralisationsstrom I n ⁻ ist dem Betrag nach gleich dem
positiven Protonenstrom I, der wiederum betragsmäßig dem nega
tiven Ionisationsstrom I i ⁻ entsprechen muß, also
I n ⁺=-I⁺=I i ⁻
Dies bedeutet, daß sich der Anteil I n ⁻ des vom Impulsgenerator
gelieferten Gesamtstroms I⁻ über den Protonenstrom I⁺ im Gap
schließt und als Elektronenstrom I i ⁻ zum Generator zurück
fließt. Zusammen mit dem anderen Anteil I M ⁻, der die Diode als
reiner Leitungsstrom durchfließt, ergibt sich wieder der Ge
samtstrom I⁻ im Innenleiter 3, womit die Stromkontinuität über
das Gesamtsystem erfüllt ist.
Diese geschilderte Stromverteilung und die mit den Potentiome
tern 13 und 14 (Fig. 2) einstellbaren Teilströme sind erfin
dungsgemäß so konzipiert, daß im Kathoden/Anoden-Spalt azimu
tale Magnetfelder erzeugt werden, die den Teilchenstrahl I B in
der gewünschten Weise führen, die also das Strahlprofil, den
Strahlwinkel, die Fokuslänge und die Emittanz (Strahlqualität)
festlegen. Die im Spalt 2/4 noch nicht neutralisierten Proto
nen werden beeinflußt:
- 1. vom elektrischen Feld E z , das die Energie bestimmt,
- 2. vom azimutalen Magnetfeld B R (I M ⁻), das der durch die Innen rohre 6/8 fließende Elektronenstrom I M ⁻ erzeugt,
- 3. vom azimutalen Magnetfeld B R (I⁺), das der Protonenstrom I⁺ selbst erzeugt.
- 4. von der Dauer der Beeinflussung durch diese Magnetfelder, d. h. von der Laufzeit durch den Spalt, bei gegebener Beschleunigungsspannung also von der Spaltlänge.
Die Spaltlänge, der Kathoden-Anoden-Abstand G, ist erfindungs
gemäß im laufenden Betrieb einstellbar. Ein hierfür geeigneter
Mechanismus als Beispiel für eine Kathodenverstellung in z-
Richtung ist in Fig. 1 dargestellt: Der Stellring 15 ist um
die z-Achse drehbar in einer Nut des Kathodenführungsrohres 16
eingepaßt. Am Stellring 15 sind kurze, radiale Stifte 17 ange
bracht, die in schräg gestellte Nuten 18 des Außenleiters 1
eingreifen, wie auch aus der Teilzeichnung "Schnitt A-B" er
sichtlich ist. Da die Nutführung eine z-Komponente enthält,
bewirkt die Drehung des Stellrings 15 um die z-Achse eine Ver
schiebung des Führungsrohres 16 und der von ihm getragenen Ka
thode 2 in z-Richtung. Der Antrieb für diese Drehbewegung er
folgt durch einen Schrittmotor 19, der über ein Ritzel 20 in
eine periphäre Verzahnung 21 am Stellring 15 eingreift. Siehe
Teilzeichnung "Antrieb für Kathoden-Verstellung" und Fig. 3.
Wie in einer noch folgenden Rechnung gezeigt werden wird, läßt
sich mit dem auf diese Weise eingestellten K/A-Abstand G die
Brennweite des Systems bestimmen.
Für das azimutale vom Elektronenstrom erregte Magnetfelder im
Spalt gilt im Gebiet außerhalb des zentralen Leitungsstroms
I M ⁻ nach dem Durchflutungsgesetz:
H(I M -) = I M -/2 R π (1)
Das vom freien Ionenstrom I⁺ erzeugte Magnetfeld H(I⁺) erhält
man unter der Annahme homogener Quelldichte i⁺ über der An
odenfläche aus der 1. Maxwellgleichung für einen beliebigen
Radius R im Spaltvolumen, R i RR a :
H(I⁺) = (i⁺/2) ((R²-R i ²)/R) (2)
Führt man den Gesamtionenstrom I⁺ ein, der aus der Messung be
stimmt werden kann, so beträgt die resultierende magnetische
Induktion im Spalt:
Die Ströme I⁺ und I M ⁻ sind bei gegebenem Durchmesserverhältnis
R 1/R a nun so zu wählen, daß B R mit dem für die gewünschten
Strahleigenschaften erforderlichen magnetischen Sollfelder B R
übereinstimmt. Dieses für die geometrisch einfachste, planare
Diode benötigte Führungsfeld soll nun anhand der Fig. 4 ermit
telt werden: Gegeben sei die Beschleunigungsspannung U D und
die Spaltlänge G. Dann beträgt die Geschwindigkeit v z für ein
bei A startendes Ion:
v z = b E · t
Vom Azimutalfeld B R wird das Ion radial nach innen abgelenkt
mit der Geschwindigkeit
Damit wird das azimutale Sollfeld B R :
Gleichung (3) gibt an, welches Magnetfeld B R mit den Strömen
I⁺ und I M ⁻ bei gegebenen Diodenabmessungen R i und R a am Radius
R entsteht. Gleichung (5) legt fest, welches Sollfeld B R S bei
den gegebenen Betriebsdaten und der gewünschten Fokuslänge Z F
am Radius R benötigt wird. Die Aufgabe lautet nun, das Strom
verhältnis I⁺/I M ⁻ so zu wählen und die Stromwerte so einzu
stellen, daß auf der gesamten Strahlfläche die von I⁺/I M ⁻ er
zeugten Magnetfelder mit dem Sollfeld übereinstimmen, daß also
radiusinvariant gilt
B R (I⁺/I M -) = B R S (6)
Mit Gleichung (3), (5) und (6) ergibt sich der Ansatz:
Z F = Fokuslänge,
R = Radius des Quellpunktes auf der Anode,
m = Masse des Ions,
U D = Beschl. Spannung am Spalt,
G = Kathoden-Anodenabstand (Spaltlänge),
R i /R a → Innen-/Außendurchmesser der Anode,
I⁺ = gesamter Ionenstrom,
I M - = Elektronen-Leitungsstrom.
R = Radius des Quellpunktes auf der Anode,
m = Masse des Ions,
U D = Beschl. Spannung am Spalt,
G = Kathoden-Anodenabstand (Spaltlänge),
R i /R a → Innen-/Außendurchmesser der Anode,
I⁺ = gesamter Ionenstrom,
I M - = Elektronen-Leitungsstrom.
Das Stromverhältnis wird konstant gesetzt, eine Forderung, die
sich ohnehin aus der Betriebspraxis ergibt. Man erhält für den
Ionenstrom I⁺ eine Beziehung, die für jeden Radius die
Übereinstimmung der Felder gemäß (6) erfüllt:
Damit hat man den Absolutwert von I⁺. Der Absolutwert von I M -
ergibt sich aus:
und damit für I⁺ die vollständige Gleichung
Damit läßt sich der Ionenstrom bei gegebener Geometrie und dem
gewünschten Fokus berechnen.
Der Verlauf der magnetischen Teilfelder B R (I⁺) und B R (I M -) und
das effektive Summenfeld Σ B R ist in Fig. 5 für ein Beispiel
mit den folgenden Daten wiedergegeben:
R a = 18 cm, R i = 6 cm, G = 2 cm, Z F = 0,5 cm, U D = 10⁶ V
Aus den vorstehend hergeleiteten Beziehungen ergeben sich
I⁺ = 1,04 · 10⁶ A
λ = I⁺/I n - = 8
I M - = I⁺/λ = 1,30 · 10⁵ A
λ = I⁺/I n - = 8
I M - = I⁺/λ = 1,30 · 10⁵ A
Der radiale Verlauf von B R (R) ergibt sich aus der Gleichung
(5) und übereinstimmend aus Gleichung (3) mit den berechneten
Werten von I⁺ und I M ⁻. Die Grenzwerte von B R am Innen- und
Außenradius sind
B R (R i ) = 0,434 Tesla; B R (R a ) = 1,3 Tesla.
Zwischen diesen Grenzwerten verläuft das Summenfeld linear mit
R, wie es für das Sollfeld gemäß (5) zu fordern ist.
Die Spaltlänge G ist für das von den Strömen I⁺ und I M ⁻ er
zeugte Magnetfeld ohne Einfluß, wie dies auch Gleichung (3)
belegt. Bei dem magnetischen Sollfeld bleibt der mit R lineare
Verlauf bei Änderung von G erhalten. Der Wert von G beeinflußt
lediglich die Steilheit der Magnetisierungskurve (Fig. 5). Bei
Konstanz des Produktes Z F × G in Gleichung (5) ist bei gegebenen
Betriebsdaten die Fokussierung sichergestellt. Die Ströme I⁺
und I M ⁻ ändern sich hierbei nicht, was die Gleichung (9) und
10) belegen. Hieraus folgt, daß man durch Verkürzen der Spalt
länge G und entsprechende Reduzierung der Spaltspannung U D die
Strahlleistung und damit auch den Leistungsbedarf der Strom
versorgungs-Einrichtung verkleinern kann. Für die Ladungsträ
ger-Emission auf der Anode ist die elektrische Feldstärke
E Z = U D /G
maßgebend und die bleibt mit dem Quotienten U D /G
voraussetzungsgemäß konstant. Die Teilchenenergie
W = G · E Z · e = U D · e
kann indessen mit G bei hoher Strahlstromdichte beliebig klein
gehalten werden, was für manche Anwendungsgebiete, z. B. für
die Dünnschichttechnologie und für lithographische Verfahren
von großer Bedeutung sein kann.
Ausgegangen wird also zusammenfassend von einem Strahlgenera
tor vom Diodentyp mit der denkbar einfachsten, klar überschau
baren Geometrie, nämlich mit einem ebenen, planparallelen Ka
thoden-Anodensystem, gemäß Fig. 1. Die Ströme für die das
Strahlprofil und die Fokuslänge bestimmenden Magnetfelder wer
den erfindungsgemäß direkt gemessen, und zwar der Gesamtelek
tronenstrom I⁻ mit der Rogowski-Spule 22 und der Magnetisie
rungsstrom I M ⁻ mit der Rogowski-Spule 23.
Zur Ermittlung und Justierung des Ionenstromes I⁺ und des für
die Fokussierung maßgebenden Stromverhältnisse λ=I⁺/I M ⁻ be
dient man sich der bereits diskutierten einfachen Beziehung
für die Beträge der Ströme:
Bei dem der Fig. 5 zugrundeliegenden Beispiele mit R a =18 cm
und R i =6 cm ergibt sich der Sollwert 9 für das Verhältnis
der direkt meßbaren Ströme I M ⁻ und I⁻. Weicht der tatsächlich
gemessene Wert hiervon ab, dann kann mit dem Pot. 13 der Fig.
2 (Regelglied 6, 7, 8, 11, Fig. 1) das Stromverhältnis auf den
Sollwert - im vorliegenden Beispiel 9 - nachgeregelt werden.
Der tatsächlich vorliegende Ionenstrom ergibt sich mit den
gemessenen I⁻ und I M ⁻ nach (20) zu
I⁺ = I --I M -
Bei einer Abweichung von dem durch Gleichung (10) definierten
Sollwert kann I⁺ nun mit dem Pot. 14 der Fig. 2 (Regelglied 9,
10, 12, Fig. 1) auf den Sollwert (10) nachgeregelt werden. Es
besteht aber auch die Möglichkeit, die Diode mit einem techno
logisch optimalen mit der Strahlführung jedoch zunächst nicht
verträglichen Strom zu justieren. Die aus der gewünschten Fo
kuslänge Z F resultierende Forderung an das magnetische Füh
rungsfeld kann dann mit einer Einstellung der Spaltlänge G er
füllt werden. Dies wird klar bei Betrachtung der Gleichungen
(3) und (5). Das aus Gleichung (3) mit dem technologisch
geforderten Soll-Ionenstrom I⁺ erhaltene Magnetfeld B R wird in
die nach G aufgelöst Gleichung (5) eingesetzt,
und die mit der gewünschten Fokuslänge Z F sich ergebende
Spaltbreite G kann nun erfindungsgemäß an der Diode mit dem
Schrittmotor 19 und zugehörigem Antrieb 20, 21 (Fig. 1 und 3)
eingestellt werden. Das erfindungsgemäß einmal eingestellte
Stromverhältnis I⁺/I M ⁻ wird bei dieser Spaltregulierung nicht
gestört, da gemäß Gleichung (9) nur vom Anodenradius ab
hängt und somit invariant gegenüber den Werten G, U D , I⁺ und
B R ist.
Für das Radiusverhältnis (R a /R i )=C und das Stromverhältnis
(I⁺/I M ⁻)=λ gilt folgender einfacher Zusammenhang
Die Auslegung einer einfachen planparallelen Diode mit gängi
gen geometrischen Werten kann man nun in bequemer Weise der
folgenden aus Gleichung (12) erhaltenen Tabelle entnehmen:
Gleichung (12) gilt natürlich auch für beliebig gebrochene
Werte von R a , R i und C.
Von der Kathode startende vom elektrischen Feld E Z in Richtung
Anode beschleunigte Elektronen werden im zunächst als stromlos
angenommenen Spalt vom azimutalen Magnetfeld B R nach wenigen
Millimetern in radialer Richtung nach innen abgelenkt und am
direkten Durchlauf zur Anode gehindert (Fig. 1). Dieser Effekt
der Elektronenisolation durch das Magnetfeld wird unterstützt
durch die vom Ionenstrom ausgehenden Raumladungskräfte. Erfin
dungsgemäß werden die aus den Kathodenringen 24 in Fig. 3 aus
tretenden Elektronen sofort von dem zur magnetischen Kraft
richtung parallelen elektrischen Raumladungsfeld erfaßt und in
den Ionenstrom hineingespült und von diesem weggeschwemmt, was
zur Ladungsneutralisation des Ionenstroms führt. Durch dieses
Zusammenwirken des azimutalen Magnetfeldes mit dem elektri
schen positiven Raumladungsfeld des Ionenstroms werden die
Elektronen am Eindringen in den Kathoden-Anodenraum gehindert.
Die bei bekannten Diodentypen (sog. B R -Diode, Pinch-Reflex-Di
ode u. a.) aus anderen Strukturbereichen austretenden, den
Stromkreis durch die Diode schließenden, freien Elektronen
werden erfindungsgemäß dadurch unterdrückt, daß der Elektro
nenstrom durch die Diode als gebundener Leitungsstrom geführt
wird. Die unkontrollierte Expansion freier Elektronen durch
die eigenen abstoßenden Raumladungskräfte wird dadurch verhin
dert. Diese Stromaufblähung ist sehr schädlich, da Struktur
teile der Diode von energiereichen Elektronen getroffen und
nach kurzer Zeit zerstört werden. Dies ist einer der Gründe,
weshalb einige bekannte Diodentypen nur einen einzigen Schuß
überleben.
Der Strahlverlauf einer Diode ohne äußere Strahlführungsele
mente ist in Fig. 6 maßstäblich dargestellt mit den Elektro
den-Abmessungen R i =6 cm, R a =18 cm und den Betriebsdaten
des durchgerechneten Beispiels, die dem in Fig. 5 gezeigten
Feldverlauf zugrunde liegen. Der Bereich der Fokussierung ist
erfindungsgemäß konzentriert und scharf begrenzt im klar defi
nierten Anoden/Kathoden-Spalt. In der Lamellenring-Kathode er
folgt die Neutralisierung des Protonenstrahls I⁺, der als la
dungskompensierter Strahl I n ⁺/⁻ die Diode verläßt. Da die bei
den Anteile Protonenstrahl I⁺ und Elektronenstrahl I n ⁻ (vergl.
Fig. 1) entgegengesetzte azimutale Magnetfelder erzeugen, ver
schwindet auch das resultierende Magnetfeld, so daß der in der
Diode geformte Strahl im elektrisch und magnetisch feldfreien
Driftraum geometrisch erhalten bleibt. Ohne Ladungskompensa
tion würde sich der Ionenstrahl explosionsartig aufblähen.
Zwischen den Kathodenlamellen und den positiven Ladungen eines
500 KA-Ionenstrahls treten Feldstärken in der Größenordnung
von MV/cm auf, die die ladungskompensierende Feldemission von
Elektronen auslösen. Dieser Mechanismus wird von der experi
mentell festgestellten Strahlneutralisation und Strahlerhal
tung bestätigt.
Die in Fig. 6 im Brennpunkt Z F zusammenlaufenden Strahlen kann
man als Radiusstrahlen betrachten, die orthogonal von einer
virtuellen Kugelfläche ausgehen. Bei der in Fig. 7 geometrisch
vorgegebenen entgegengesetzten kugelförmigen Krümmung des An
oden/Kathoden-Spalts wird der geometrisch bedingte Diver
genzwinkel des Strahls vom azimutalen Magnetfeld gerade kom
pensiert, wenn die Betriebsdaten mit denen der Fig. 6 überein
stimmen. Durch diese Kombination von Geometrie und Magnet
feldern läßt sich ein für den Transport über große Entfernun
gen geeigneter Parallelstrahl formen. Durch Variation der Be
triebsdaten und/oder der Krümmung des Spalt-Systems kann der
Strahlwinkel im weiten Bereich zwischen kurzer Fokuslänge Z F
und starker Divergenz eingestellt werden.
Auf Fig. 8 wird eine Elektroden-Anordnung gezeigt, mit der
sich die neutralisierenden mit den Ionen driftenden Elektronen
zu einem separaten Elektronenstrom abtrennen lassen. Diese La
dungstrennung arbeitet in der vorliegenden beispielhaften An
ordnung folgendermaßen:
Mit einer Diode mit gekrümmten Spalt gemäß Fig. 7 wird ein
neutralisierter Parallelstrahl I n ⁺/⁻=I⁺+I⁻ erzeugt. Bei
gleicher Driftgeschwindigkeit ist die Elektronenenergie W - um
das Massenverhältnis m⁻/m⁺ kleiner als die Ionenenergie, also
Bei 1 MeV-Protonen und m -/m⁺ = 1/1837 beträgt die
Elektronenenergie somit nur 544 eV.
An den Elektroden 24 und 25, die wie die Lamellenkathode der
Diode ausgebildet sind, liegt die Spannung U. Wird nun in der
Diode in Abstimmung mit dem speisenden Generator die Anode mit
Masse verbunden, dann ist die Strecke Kathode 2/Elektrode 24
in der dargestellten Polung feldfrei, wenn an den Elektroden
24/25 die gleiche Spannung wie an der Diode anliegt. Im Spalt
24/25 werden die Ionen gestoppt (Kraft K(+)) und die Elektro
nen beschleunigt (Kraft K(-)). Solange sich die Ionen noch in
gleicher Richtung bewegen, bleibt der Gesamtstrom I⁺/⁻
stromneutralisiert und er verhält sich damit magnetisch neu
tral. Die Elektronen werden somit im Spalt 24/25 nicht wie im
Anoden/Kathoden-Spalt der Diode isoliert. Wird die Spannung im
Spalt 24/25 etwas niedriger gehalten als im Be
schleunigungsspalt 4/2, dann können die Ionen das Bremsfeld
24/25 überwinden und mit geringer Energie zusammen mit den
beschleunigten Elektronen weiter driften. Da die Stromstärken
beider Teilströme aus Kontinuitätsgründen konstant und gleich
bleiben müssen, bleibt der Gesamtstrom auch nach Verlassen des
Spalts 24/25 stromneutralisiert. In diesem Fall muß die Elek
trode 25 um die Differenzspannung Δ U=U (4/2)-U (24/25) gegen
über Masse angehoben werden, um die Strecke 2/24 feldfrei zu
halten.
Die beschriebene Situation des Elektronenstroms I⁻ ist analog
durchführbar, wenn die Kathode 2 und die Elektrode 24 mit
Masse verbunden (⟂) und die Anode 4 und die Elektrode 25
"hoch" gelegt werden. Dann kann man das - nicht eingezeichnete
- Elektronentarget positiv vorspannen, um die äußere Drift
strecke feldfrei zu halten.
Falls ein reiner Elektronenstrom gefordert wird, kann durch
Erhöhung der Spaltspannung der Ionenstrom vollständig gestoppt
werden. Eine weitere Möglichkeit, den Elektronenstrom von den
Ionen zu befreien, ist eine Fig. 8 nicht eingezeichnete Brems
folie, die an geeigneter Stelle in den Spalt eingesetzt wird.
Wegen der gegenüber Elektronen wesentlich geringeren Reich
weite der Protonen, kann die Bremsfolie entsprechend dünn ge
halten werden, so daß sie für die Elektronen praktisch kein
Hindernis darstellt.
In der vorstehenden Beschreibung wurde von einem Parallel
strahl als Primärstrahl ausgegangen. Im Prinzip ist dieses
Elektronen-Trennverfahren für jede der Aufgabenstellung ange
paßte Strahlgeometrie anwendbar. In der Ausführung nach Fig. 8
ist der Strahlungskonverter eine großflächige "Elektronendu
sche".
Die Anordnung auf Fig. 9 enthält einen Wandler zur Erzeugung
eines großflächigen Röntgenstrahls. Zunächst wird der Elektro
nenstrahl nach dem mit Fig. 8 beschriebenen Verfahren abge
trennt. Anstelle der Lamellenelektrode 25 wird jedoch erfin
dungsgemäß eine als "Antikathode" dienende Prallplatte 26 aus
geeignetem Material, z. B. Wolfram, eingesetzt, an der die mit
hoher Energie auftreffenden Elektronen Bremsstrahlung mit dem
bekannten, breiten Energiespektrum erzeugen, dessen Maximal
energie der primären Elektronenenergie entspricht. Dieser
breite, den primären Strahlquerschnitt ausfüllende Röntgen
strahl kann nun z. B. für die Oberflächentechnologie und
Röntgenlithographie genutzt werden. So können hinter der als
Röntgenquelle operierenden Antikathode 26 Strahlmasken einge
bracht werden, die auf dem nachfolgenden Bestrahlungsobjekt
nach dem jeweils vorgegebenen Muster Teile der Objektfläche
abdecken. In Verbindung mit einem speziellen, chemischen Ätz
verfahren lassen sich auf diese Weise Oberflächenstrukturen
als Träger verschiedener Halbleiter- und Metallschichten her
stellen, ein Verfahren, das in der Technologie zur Herstellung
von elektronischen Bauelementen wie Leiterplatten, IC′s-Chips
etc. große Bedeutung hat.
Wenn parallele Röntgenstrahlen oder Strahlen mit vorgegebenen
Winkeln zur Hauptsache benötigt werden, lassen sich mit auf
Abstand gesetzte Kollimatorplatten definierte Partialstrahlen
ausblenden, deren Schärfe durch das Verhältnis der Blendenöff
nungen zum Plattenabstand bestimmt werden kann. Bei besonders
hohen Ansprüchen kann man sich durch eine, ggf. mehrere Zwi
schenplatten oder durch in Achsenrichtung verlaufende Verbin
dungskanäle gegen Überlappung der Partialstrahlen, also gegen
"Ordnungsfehler", schützen. Solche Verbindungskanäle sind bei
spielsweise durch Mikrowabenstrukturen in Achsenrichtung eines
langgestreckten Kollimators darstellbar. Durch Vorgabe der
Spannung U am Spalt 24/26 ist die Energie der Röntgenstrahlung
in Anpassung an das Bestrahlungsobjekt einstellbar. In Fig. 9
ist das Bestrahlungsobjekt mit der vom Röntgenstrahl beauf
schlagten Platte 27 prinzipiell symbolisiert. Die Neu
tralisation und Isolation im Spalt 24/26 verläuft in gleicher
Weise wie bei Fig. 8 beschrieben. Das Gleiche gilt für die
Austauschbarkeit des Massenanschlusses ⟂/(⟂).
Das mit den erfindungsgemäß nachbeschleunigten Neutralisati
ons-Elektronen erzeugte Röntgenspektrum beginnt praktisch bei
Null und liefert als Maximalwert die Energie, die die Elektro
nen nach Durchlauf des Spaltes 24/26 gewonnen haben. Die ge
wünschte Röntgenenergie läßt sich somit mit der Spaltspannung
im Bereich von ultraweicher (eV-Bereich) bis zur sehr harten
Röntgenstrahlung (MeV-Bereich) einstellen.
Falls gemäß Aufgabenstellung monoenergetische Röntgenstrahlen
benötigt werden, dann ist diese Forderung durch Wahl eines ge
eigneten Materials als Antikathode erfüllbar. Bei der Verwen
dung von Wolfram beispielsweise wird die kontinuierliche
Strahlung durch zwei intensive Linien von 59 und 67 KeV über
lagert, nämlich der charakteristischen Strahlung des K α - und
K β -Überganges. Aus der Vielfalt der bekannten Röntgenspektren
dürfte für alle praktischen Anwendungsfälle die geeignete cha
rakteristische Röntgenstrahlung zur Verfügung stehen.
Bei der Anordnung auf Fig. 10 wird der Strahlungswandler nach
Fig. 9 zu einer Elektronenpendeldusche erweitert, die erfin
dungsgemäß nach folgendem Prinzip arbeitet:
Der im vorliegenden Beispiel als Parallelstrahl gewählte,
intensive neutralisierte Strahl I n ⁺/⁻ wird wie bei den Anord
nungen nach Fig. 8 und 9 zunächst in einem Bremsfeld zwischen
den Lamellenelektroden 31 und 32 in die Elektronen und positi
ven Ionen aufgespaltet. Die beschleunigten Elektronen werden
im nachfolgenden umgekehrt gepolten Feld im Spalt 32/33 wieder
abgebremst und nach ihrer Umkehr in entgegengesetzter Richtung
beschleunigt. Sie werden also reflektiert. Nach Rückkehr in
den Spalt 31/32 läuft der gleiche Reflexionsvorgang ab und so
fort. Die Elektronen führen somit in diesem Triplett 31/32/33
eine hochfrequente Pendelbewegung aus. Bei Spaltlängen von 1
cm, und einer Spaltspannung von 1 MV beträgt die Pendelfre
quenz ca. 5 GHz.
In diese pendelnde Elektronendusche wird nun eine dünne, als
Antikathode operierende Scheibe 34 eingebracht. Je nach ihrer
Dicke wird diese Antikathodenscheibe mehrfach von den Elektro
nen durchdrungen, wobei bei jedem Durchlauf Bremsstrahlung mit
der materialbedingten charakteristischen Röntgenstrahlung er
zeugt wird. Die pendelnden Elektronen werden auf diese Weise
gebremst, bis ihre Energie aufgebraucht ist. Die mittlere En
ergie des Röntgenspektrums kann mit der Position der Antika
thode im Spalt und dem mit R 35 einstellbaren Potential in An
passung an die Aufgabenstellung gewählt werden.
Die Frequenz der charakteristischen Strahlung indessen ist von
der Position der Antikathode 34 unabhängig. Erst wenn die
Elektronenenergie die Energie einer charakteristischen Linie
unterschreitet erlischt diese Linie: Durch Einsetzen sehr dün
ner Antikathoden ist die Rate der Eigenabsorption der Röntgen
strahlung im Target äußerst gering. Sekundärreaktionen wie
Photoeffekt, Comptoneffekt und Paarbildung entfallen nahezu,
so daß die Röntgenstrahlung praktisch ungestreut in die theo
retisch bestimmbare Richtung austreten kann. Dadurch wird ein
wesentlich höherer Wirkungsgrad diese Pendel-Strahlungswand
lers gegenüber denjenigen bekannter Röntgenquellen erreicht.
Gegenüber den mit hoher Frequenz pendelnden, leichten Elektro
nen treten die einige tausendmal schweren Ionen zwischen den
Elektroden nahezu "auf der Stelle". Sie bleiben nach der Ab
bremsung im Spalt 31/32 bereits im ersten Anlauf in der Anti
kathode 34 stecken und rekombinieren hier mit den ausgependel
ten Elektronen. Das resultierende Magnetfeld der inkohärent
pendelnden Elektronen ist Null. Damit entfallen die Vorausset
zungen für eine Elektronen-Isolation, die die Elektronenbewe
gung stören würde.
Zur Fokussierung eines neutralisierten Ionenstrahls dient ein
Elektroden-Triplett, wie es in Fig. 11 für ein Beispiel mit
primärem Parallelstrahl dargestellt ist. Das elektrische Feld
im Spalt zwischen den Lamellenelektroden 28 und 29 separiert
die niederenergetischen Neutralisations-Elektronen von den Io
nen. Die Elektronen werden durch die Kraft K(-) gestoppt und
die Ionen durch K(+) beschleunigt. Der jetzt nicht mehr neu
tralisierte Strahl ist magnetisch aktiv und durch das
strahleigene azimutale Magnetfeld B R wird der Strahl fokus
siert, wie dies auch in der Diode selbst geschieht. In der La
mellen-Elektrode 29 wird der Strahl wieder neutralisiert,
ebenfalls nach dem Verlauf der Kathoden-Neutralisation in der
Diode, der mit Fig. 1 beschrieben wurde.
Im nachfolgenden Spalt 29/30 ist der Strahl I⁺/⁻ wieder
neutralisiert und damit magnetisch inaktiv und er bleibt geo
metrisch konserviert. Dies gilt auch für die folgende Drift
strecke des fokussierten Strahls. Zur Erzielung einer speziel
len, gewünschten Strahlgeometrie kann die magnetische Strahl
formung im Spalt 28/29 erfindungsgemäß durch eine geeignete
geometrische Form des Spalts 28/29 beeinflußt werden. Vergl.
Fig. 7. Die Driftstrecken vor und hinter dem Fokussierungstri
plett sind feldfrei, wenn wie im Ausführungsbeispiel auf Fig.
11 die Außenelektroden 28 und 30 mit Masse verbunden sind.
In Analogie zur Funktion einer "Sammellinse" läßt sich mit dem
Triplett auch ein Parallelstrahl formen, wenn es im divergen
ten Strahl hinter einer Strahltaille eingesetzt wird. Grund
sätzlich läßt sich in Verbindung mit geometrischen Korrekturen
aus einem konvergenten, divergenten oder achsenparallelen
Strahl jede gewünschte Strahlform herstellen.
Claims (30)
1. Verfahren zur repetierbaren Erzeugung und Führung von
intensiven, großflächigen Ionen-, Elektronen- und Röntgen
strahlen wobei die Strahlführung mit betriebsmäßig variier
baren magnetischen und elektrischen Feldern und variierba
ren magnetischen Korrekturfeldern bereits im Strahlgenera
tor erfolgt, dadurch gekennzeichnet, daß die
Strahlführungsfelder vom Strahlstrom selbst und die Kor
rekturfelder von der dem Strahlgenerator zugeordneten
Stromquelle erzeugt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Strahlführungsfelder und die Korrekturfelder örtlich so
zusammenwirken, daß sich die resultierende Führungsfeldkon
figuration scharf begrenzt im Beschleunigungsbereich des
Strahlgenerators aufbaut und nur hier den Strahl definiert
beeinflußt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Gebiet der Strahlbeschleunigung und Strahlführung innerhalb
des Strahlgenerators von freien Elektronen freigehalten
wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die magnetischen Korrekturfelder von in Intensität und
Führung klar definierten, einstellbaren Leitungsströmen er
zeugt werden.
5. Verfahren nach Anspruch 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß der Strahl unmittelbar nach Durchlauf des klar defi
nierten Beschleunigungs- und Strahlführungsbereichs neutra
lisiert wird und auf dem weiteren Strahlweg von Eigen
feldern unbeeinflußt bleibt.
6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeich
net, daß bei dem durch gezielte Einstellung des Führungs-
und Korrekturfeldes fokussierten Strahl die Brennweite
durch betriebsmäßige Variierbarkeit bestimmter geometri
schen Parameter des Strahlgenerators frei wählbar ist.
7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeich
net, daß bei fest eingestellten geometrischen Parametern
die Brennweite durch Einstellung der Führungs- und Korrek
turfelder frei wählbar ist.
8. Verfahren nach Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet,
daß durch das Zusammenwirken der einstellbaren Führungs-
und Korrekturfelder mit der Formgebung des Beschleunigungs
bereichs des Strahlgenerators die Strahleigenschaften in
nerhalb der Grenzen von starker Konvergenz bis starker Di
vergenz mit dem Spezialfall Parallelstrahl frei wählbar
sind.
9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 8, dadurch gekennzeich
net, daß die Intensität des erzeugten Strahls geladener
Teilchen über eindeutig meßbare Leitungsströme ermittelt
wird, unabhängig vom Neutralisationsgrad und frei von Stö
rungseinflüssen durch geladene Teilchen anderer als der zu
messenden Polarität.
10. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Kathode (2) der Diode mit Emissionsringen
(24) versehen ist, aus denen die Elektronen unter der Ein
wirkung des azimutalen Magnetfeldes B R ungehindert in ra
diale Richtung zum Zentrum der Diode austreten.
11. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die radial abgelenkten Elektronen von
den in gleicher Richtung wirkenden elektrischen Raumla
dungskräften des durch die Kathode (2) laufenden Ionen
stroms I⁺ sofort erfaßt und zur Stromneutralisation in den
Ionenstrom I⁺ hineingespült und somit am Eindringen in den
Kathoden-Anodenraum (2/4) und am Aufbau einer die Dioden
geometrie ändernden virtuellen Kathode gehindert werden.
12. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einstellung des magnetischen Kor
rekturfeldes über einen vom Diodenstrom I⁻ abgezweigten
Magnetisierungsstrom I n ⁻ erfolgt, der als gebundener Lei
tungsstrom über ohmsche, induktive, kapazitive Widerstände
oder eine hieraus gebildete Kombination während des Betrie
bes regelbar ist.
13. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 12, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einstellung des vom Strahlstrom I⁺
erzeugten magnetischen Hauptfeldes durch betriebsmäßige Re
gelung des rückfließenden gebundenen Ionisations-Leitungs
stroms I i ⁻ über ohmsche, induktive, kapazitive oder eine
hieraus gebildete Kombination erfolgt.
14. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß die Einstellung der Spaltlänge (G)
durch axiale Verrückung der in einem Führungsrohr (16)
befestigten Kathode (2) erfolgt, das durch einen in
Schrägnuten (18) eingreifenden, um die Hauptachse (Z) dreh
baren Stellring (15) während des Betriebs axial schiebbar
ist.
15. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß die Autofokus-Diode geometrisch so ge
staltet ist, daß bei gegebenem Verhältnis des Außendurch
messers R a zum Innendurchmesser R i der Elektroden mit einem
festen, während des Betriebs einstellbaren Verhältnis des
Ionenstroms I⁺ zum Magnetisierungsstrom I n ⁻ Ionen-Partial
strahlen von jedem beliebigen Quellpunkt der Anode (5) die
Strahlachse (2) im selben Punkt schneiden.
16. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß durch das Zusammenwirken von gegebenen
magnetischen Führungsfeldern mit geometrischen Merkmalen,
die die Wirkung der gegebenen Felder aufheben, ein Paral
lelstrahl erzeugt wird.
17. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß durch das Zusammenwirken von gegebenen
magnetischen Führungsfeldern mit geometrischen Merkmalen,
die mehr oder weniger gegen die Wirkung der gegebenen Fel
der gerichtet sind, Strahlgeometrien zwischen kurzer Fokus
länge und starker Divergenz herstellbar sind.
18. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß aus dem Vorrat der Neutralisationselek
tronen durch Separation dieser Elektronen mit geeigneten
Brems- und Beschleunigungsfeldern großflächige Elektronen
ströme I⁻ mit beliebiger Strahlgeometrie erzeugt werden.
19. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 18, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Herstellung eines reinen Elektro
nenstrahls I⁻ mitdriftende Ionen durch dünne Absorberschei
ben gestoppt werden.
20. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 19, dadurch
gekennzeichnet, daß durch Einsetzen einer Prallplatte (26)
als Antikathode in den Elektronenstrahl eine großflächige
Röntgenbremsstrahlung erzeugt wird.
21. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Durchführung strahlungsinduzierter
Oberflächen-Technologie geeignete Packungen, zum Beispiel
bestehend aus Antikathode, Strahlmaske und Bestrahlungsob
jekt, in den Elektronenstrahl eingesetzt werden.
22. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 21, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Herstellung großflächiger, paralle
ler Röntgenstrahlen oder Röntgenstrahlen mit bestimmten
Strahlwinkeln Kollimatorplatten mit geeigneten Lochstruktu
ren in den gewünschten Auflösungsvermögen entsprechenden
Abständen in den Elektronenstrahl I⁻ eingesetzt werden.
23. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 22, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Vermeidung von Überlappungen und
Ordnungsfeldern zwischen den ausgeblendeten Partialstrahlen
Scharen dünner Verbindungskanäle, z. B. in Gestalt eines
gestreckten Kollimators mit Mikrowabenstruktur, in den
Elektronenstrahl I⁻ eingesetzt werden.
24. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 23, dadurch
gekennzeichnet, daß die Härte des Röntgenbremsstrahlungs-
Spektrums durch Einstellung der Beschleunigungsspannung am
Separationsspalt (24/26) bestimmt wird.
25. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 24, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Erzeugung großflächiger charakteri
stischer Röntgenstrahlung der gewünschten Frequenz Antika
thoden-Scheiben geeigneten Materials in den Elektronen
strahl eingesetzt werden.
26. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 25, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Erzeugung einer hochfrequenten
Elektronen-Pendeldusche die nachbeschleunigten Elektronen
in einem Bremsfeld reflektiert werden.
27. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 26, dadurch
gekennzeichnet, daß zur Erzeugung eines großflächigen, in
tensiven Röntgenstrahls eine Antikathodenscheibe (34) in
die Elektronen-Pendeldusche eingesetzt wird.
28. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 27, dadurch
gekennzeichnet, daß durch Einsatz sehr dünner Antikathoden
scheiben Streuung und Eigenabsorbtion in der Röntgenquelle
praktisch vermieden und deren Wirkungsgrad weiter verbes
sert wird.
29. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 28, dadurch
gekennzeichnet, daß mit einem Elektroden-Triplett (28, 29,
30) als Sammellinse in einem ersten Schritt die Elektronen
des neutralisierten Strahls I n ⁺/⁻ gestoppt werden, der ex
trahierte Ionenstrom I⁺ im magnetischen Eigenfeld fokus
siert und in einem zweiten Schritt der Ionenstrom I⁺ wieder
zu I⁺/- neutralisiert und damit geometrisch wieder konser
viert wird.
30. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 29, dadurch
gekennzeichnet, daß durch das Zusammenwirken des magneti
schen Eigenfeldes mit geometrischen Merkmalen des Elektro
den-Tripletts jede gewünschte Strahlgeometrie darstellbar
ist.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3806079A DE3806079A1 (de) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | Verfahren zur erzeugung und fuehrung von intensiven, grossflaechigen ionen-, elektronen- und roentgenstrahlen |
JP1043344A JPH02148549A (ja) | 1988-02-26 | 1989-02-27 | 大面積にわたる強いイオン―,電子―およびレントゲンビームを発生して案内する方法 |
US07/315,579 US4904873A (en) | 1988-02-26 | 1989-02-27 | Method of producing and guiding intensive, large-area ion, electron and x-ray beams |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3806079A DE3806079A1 (de) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | Verfahren zur erzeugung und fuehrung von intensiven, grossflaechigen ionen-, elektronen- und roentgenstrahlen |
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DE3806079A Withdrawn DE3806079A1 (de) | 1988-02-26 | 1988-02-26 | Verfahren zur erzeugung und fuehrung von intensiven, grossflaechigen ionen-, elektronen- und roentgenstrahlen |
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Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998048287A1 (fr) * | 1997-04-21 | 1998-10-29 | Liaisons Electroniques-Mecaniques Lem S.A. | Dispositif de mesure, a large bande passante, de l'intensite du courant electrique dans un conducteur |
US6330516B1 (en) * | 2000-03-27 | 2001-12-11 | Power Distribution, Inc. | Branch circuit monitor |
US7348284B2 (en) * | 2004-08-10 | 2008-03-25 | Intel Corporation | Non-planar pMOS structure with a strained channel region and an integrated strained CMOS flow |
US7453267B2 (en) * | 2005-01-14 | 2008-11-18 | Power Measurement Ltd. | Branch circuit monitor system |
JP7296274B2 (ja) * | 2019-08-20 | 2023-06-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画装置および偏向器 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4240007A (en) * | 1979-06-29 | 1980-12-16 | International Business Machines Corporation | Microchannel ion gun |
DE3205057A1 (de) * | 1982-02-12 | 1983-09-08 | Bayerische Motoren Werke AG, 8000 München | Sicherheitsgurtanordnung fuer einen kraftfahrzeugruecksitz |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU1275795A1 (ru) * | 1985-01-22 | 1986-12-07 | Научно-Исследовательский Институт Ядерной Физики,Электроники И Автоматики При Томском Ордена Октябрьской Революции И Ордена Трудового Красного Знамени Политехническом Институте Им.С.М.Кирова | Ионна пушка |
US4721889A (en) * | 1986-04-11 | 1988-01-26 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Uniform insulation applied-B ion diode |
-
1988
- 1988-02-26 DE DE3806079A patent/DE3806079A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-02-27 JP JP1043344A patent/JPH02148549A/ja active Pending
- 1989-02-27 US US07/315,579 patent/US4904873A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4240007A (en) * | 1979-06-29 | 1980-12-16 | International Business Machines Corporation | Microchannel ion gun |
DE3205057A1 (de) * | 1982-02-12 | 1983-09-08 | Bayerische Motoren Werke AG, 8000 München | Sicherheitsgurtanordnung fuer einen kraftfahrzeugruecksitz |
Non-Patent Citations (6)
Title |
---|
D.J. Johnson et al. in J. Appl. Phys. Bd. 53(7) (1982) S. 4579-4596 * |
M.A. Greenspan et al. in Appl Phys. Lett, Bd. 37 (2) (1980) S. 248-250 * |
Nucl.Instr.a.Meth.Phys. Research, Bd. 228 (1984) S. 161-168 * |
R. Pal et al in J. Appl. Phys Bd. 53(10)(1982) S. 6655-6662 * |
S. Humphries, Jr. in Nucl. Fusion, Bd. 20, No. 12(1980) S. 1549-1572 * |
W. Bauer et.al. in Digest of Technical Papers, 6-th IEEE Pulsed Power Conf. in Anlington/Virginia(1987) S. 244-247 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4904873A (en) | 1990-02-27 |
JPH02148549A (ja) | 1990-06-07 |
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