SU1275795A1 - Ионна пушка - Google Patents

Ионна пушка Download PDF

Info

Publication number
SU1275795A1
SU1275795A1 SU853846102A SU3846102A SU1275795A1 SU 1275795 A1 SU1275795 A1 SU 1275795A1 SU 853846102 A SU853846102 A SU 853846102A SU 3846102 A SU3846102 A SU 3846102A SU 1275795 A1 SU1275795 A1 SU 1275795A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
cathode
diodes
gun
anode
holes
Prior art date
Application number
SU853846102A
Other languages
English (en)
Inventor
Виталий Михайлович Быстрицкий
Яков Евсеевич Красик
Василий Михайлович Матвиенко
Original Assignee
Научно-Исследовательский Институт Ядерной Физики,Электроники И Автоматики При Томском Ордена Октябрьской Революции И Ордена Трудового Красного Знамени Политехническом Институте Им.С.М.Кирова
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Научно-Исследовательский Институт Ядерной Физики,Электроники И Автоматики При Томском Ордена Октябрьской Революции И Ордена Трудового Красного Знамени Политехническом Институте Им.С.М.Кирова filed Critical Научно-Исследовательский Институт Ядерной Физики,Электроники И Автоматики При Томском Ордена Октябрьской Революции И Ордена Трудового Красного Знамени Политехническом Институте Им.С.М.Кирова
Priority to SU853846102A priority Critical patent/SU1275795A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1275795A1 publication Critical patent/SU1275795A1/ru

Links

Landscapes

  • Particle Accelerators (AREA)

Abstract

ИОННАЯ ПУШКА, содержаща  размещенные в общем корпусе катод выполненный в виде замкнутого с од ного конца плоского витка с отверсти ми дл  вывода ионного пучка. плоский анод, расположенный внутри катода и выполнеиньй со скруглени ми на торцах и диэлектрическими участками, размещенными напротив отверстий в катоде, источник тока, подключенньй к разомкнутым концам катода, и два цилиндрических провод щих экрана, установленных симметрично аноду между электродами катода и имеющих контакт с ними, о тличающа с  тем, что, с целью увеличени  однородности генерируемых пучков в их поперечном сечении , повышени  надежности и снижени  габаритов пушки, в нее введены полупроводниковые диоды, которые размещены между корпусом и катодом равномерно по его .длине, при этом аноды диодов подключены к катоду пушки , а катоды диодов - к корпусу пушки .

Description

Изобретение относитс  к ускорительной технике и может быть использовано дл  генерации мощных ионных пучков с большим поперечным сечением и с высокой однородностью тока и энергии по сечению пучка.
Целью изобретени   вл етс  увеличение однородности генерируемых пучков в их поперечном сеченИи, повышение надежности и снижение габаритов пушки путем шунтировани  с помощью диодов неоднородностей напр жени  на катоде пушки, возникающих за счет емкостной св зи между катодом и анодом, нагрузки пр мым ионным и обратным электронным токами и индуктивности катода.
.На чертеже приведена предлагаема  iионна  пушка.
Устройство содержит катод 1, выполненный в виде плоского витка с прорез ми 2 в верхней половине катодного витка, через которые выводитс  ионный пучок, плоский анод 3, имеющий округлени  на своих торцах, диэлектрические участки 4 на поверхности анода, служащие источником плазмы , цилиндрические провод щие экраны 5 и 6, имеющие электрический контакт с верхним и нижним электродамп-i виткового катода, источник 7 тока, подклю .ченный своими выводами к витково1.чу катоду, диоды 8, подключенные сво ки анодами к витковому катоду 1 и к корпусу 9 ионной пушки своими катодами.
V
Параметры диодов выбираютс  такими , чтобы во врем  нарастани  изолирующего магнитного пол  до максимальной величины диоды 6binvt надежно заперты и не проводили, а цри поступлении положительного высоковольтного импульса на анод диоды были бы открыты и соедин ли катод равномерно по всей длине с корпусом.
Устройство работает следующим образом .
Включаетс  источник 7 тока, под ключенный. своими выводами к электродам катода 1, и по катоду 1 протекает ток, создающий в анод-катодном зазоре изолирующее магнитное поле. Поскольку диоды 8 подключены к катоду 1 своими анодами, а к корпусу ион .ной пушки 9 - катодами, то дл  напр жени , по вл ющегос  между нижним и верхним электродом виткового катода из-за индуктивности его И; большой скорости нарастани  тока от источника 7
диоды оказываютс  включенными ); ;-ечно . Поэтому диоды не провод т ток при любой пол рности источника 7 тока .
Поскольку емкость обратносмещенных переходов диодов на несколько пор дков меньше емкости источника 7 тока (в случае использовани  емкостной батареи в качестве источника тока), ток катода в момент достижени  своего максимума по всей поверхности катода одинаков, одинаково и магнитное поле по всей длине анодкатодного промежутка. В момент максимума магнитного пол  на анод 3 от генератора высоковольтных импульсов подаетс  импульс напр жени  положительной пол рности. Происходит поверхностный пробой диэлектрических участков 4 на поверхности анода и образующа с  плотна  плазма служит источником ионов. Ионы, ускор  сь в анод-катодном промежутке, проход т через прорезь 2 в катоде. При поступ5 лении фронта положительного напр жени  на анод происходит первоначально зар д вакуумной емкости анод катод . Ток зар да этой емкости  вл етс  отпирающим дл  диодов 8, поскольку ток зар да замыкаетс  на кор-, пус пушки. Отпирающ1П4и токами дл  диодов  вл ютс  и ток образующего сло  электронов, и ток части иОнного пучка, попадающий на поверхность катода 1. Напр жение на пр мосмещенных диодах составл ет единицы-дес тки вольт, поэтому напр жение на анодкатодном зазоре одинаково с большой степенью по в-сей его длине.
Образующийс  слой взрывоэмиссионньк электронов начинает, дрейфовать в скрещенных, высокооднородных магнитном и электрическом пол х вдоль поверхности катода 1 . ПосколькУ скорость дрейфа электронного сло  с весьма большой степенью точности  вл етс  посто нной величиной в этом устройстве, накоплени  пространственного зар да электронов вдоль ускор ющего зазора не происходит, что обеспечивает высокую однородность сформированного ионного пучка. Этот пучок, нейтрализованный холодными электронами , из стенок прорезей 2 катода 1 может эффективно транспортироватьс  к месту использовани . Большие величины защитного показател  у современных силовых диодов позвол ют реа3 12757 лизовать предложенное устройство. отличающеес  весьма высокой надежкостью при любых режимах работы ионной пушки. В случае, когда возможны рассо-5 гласовки ионной пушки с генератором высоковольтных импульсов и на анод в течение длительного времени поступают разнопол рные импульсы значительной величины, целесообразно10 использовать диоды лавинного типа или ограничивать обратное напр жение на диодах с помощью параллельно подключенных полупроводниковых ограничителей напр жени , например,типа15 КСОЙЗ или КСОНЮ. 954 По сравнению с известным предлагаемое устройство позволит повысить однородность ионного пучка до уровн , определ емого, в основном, неоднородностью анодной плазмы. Значительно увеличиваетс  надежность ионной пушки, поскольку по сравнению с известной (при прочих равных услови х ) количество диодов, необходимых дл  работы пушки меньше на пор док и больше чем количество конденсаторов и диоды работают с кногократным запасом по току. Расшир етс  диапазон длительностей генерируемых , пучков до микросекундного диапазона. Уменьшаютс  габариты пушки.

Claims (1)

  1. ИОННАЯ ПУШКА, содержащая размещенные в общем корпусе катод, выполненный в виде замкнутого с одного конца плоского витка с отверстиями для вывода ионного пучка, плоский анод, расположенный внутри катода и выполненный со скруглениями на торцах и диэлектрическими участками, размещенными напротив отверстий в катоде, источник тока, подключенный к разомкнутым концам катода, и два цилиндрических проводящих экрана, установленных симметрично аноду между электродами катода и имеющих контакт с ними, о тличающаяся тем, что, с целью увеличения однородности генерируемых пучков в их поперечном сечении, повышения надежности и снижения габаритов пушки, в нее введены полупроводниковые диоды, которые размещены между корпусом и катодом равномерно по его длине, при этом аноды диодов подключены к катоду пушки, а катоды диодов - к корпусу пушки.
    м СЛ
    СЛ
SU853846102A 1985-01-22 1985-01-22 Ионна пушка SU1275795A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU853846102A SU1275795A1 (ru) 1985-01-22 1985-01-22 Ионна пушка

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU853846102A SU1275795A1 (ru) 1985-01-22 1985-01-22 Ионна пушка

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1275795A1 true SU1275795A1 (ru) 1986-12-07

Family

ID=21159422

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU853846102A SU1275795A1 (ru) 1985-01-22 1985-01-22 Ионна пушка

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1275795A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4904873A (en) * 1988-02-26 1990-02-27 Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh Method of producing and guiding intensive, large-area ion, electron and x-ray beams

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Авторское свидетельство СССР № 1102474, кл. Н 05 Н 5/00, 1983. Авторское свидетельство СССР № 1184424, кл. Н 05 Н 5/08, 1984. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4904873A (en) * 1988-02-26 1990-02-27 Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh Method of producing and guiding intensive, large-area ion, electron and x-ray beams

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Bloess et al. The triggered pseudo-spark chamber as a fast switch and as a high-intensity beam source
US5502356A (en) Stabilized radial pseudospark switch
US3015745A (en) Apparatus for ionising a gas to obtain high intensity pulsed ions or electrons
SU1275795A1 (ru) Ионна пушка
RU2711180C1 (ru) Устройство формирования низкотемпературной магнитоактивной плазмы в больших объемах
Kovalchuk et al. Electron-beam accelerator for pumping of a Xe2 lamp
RU187270U1 (ru) Импульсный генератор нейтронов
US3207947A (en) Triggered spark gap
US3678289A (en) Magnetic field control circuit for crossed field switching devices
Golden et al. Magnetic insulation of an intense relativistic electron beam
RU2297117C1 (ru) Устройство для получения импульсного рентгеновского и нейтронного излучения
SU766048A1 (ru) Импульсна нейтронна трубка
US3739227A (en) Gas discharge switching device
Harjes et al. Electron‐beam tetrode for multiple, submicrosecond pulse operation
SU1415475A1 (ru) Ускоритель ионов
RU2123243C1 (ru) Плазменный прерыватель тока
US3890520A (en) Continuous electron injector for crossed-field switch tubes
RU209936U1 (ru) Импульсный нейтронный генератор
RU2773038C1 (ru) Импульсный нейтронный генератор
USH878H (en) High voltage insulators for long, linear switches
Bieniosek et al. MEDEA II two‐pulse generator development
RU2119208C1 (ru) Устройство для получения пучка ионов
SU493180A1 (ru) Резонаторный ускоритель положительных ионов
Lindenbaum et al. A pulsed plasma gun for intense ion beam injectors
RU2165684C2 (ru) Плазменный прерыватель тока