DE102010002731A1 - Verfahren zur Entfernung von Rückständen auf Floatglasoberflächen - Google Patents

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen von Rückständen auf einer Floatglasscheibe (10), insbesondere von TFT-Scheiben, mit mindestens einem Reinigungsschritt, wobei die Floatglasscheibe (10) mindestens eine erste Oberfläche (12) und eine zweite Oberfläche (14) aufweist. In diesem Reinigungsschritt wird die Floatglasscheibe (10) auf der ersten und/oder auf der zweiten Oberfläche (12, 14) mit einer Salpetersäure (25) unter gleichzeitiger Einwirkung von Ultraschall behandelt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen von Rückständen auf einer Floatglasscheibe, insbesondere von TFT-Scheiben, mit mindestens einem Reinigungsschritt, wobei die Floatglasscheibe mindestens eine erste und eine zweite Oberfläche aufweist. Floatglasscheiben sind sehr flache Glasscheiben, die typischerweise auf einem Bad aus geschmolzenem Metall hergestellt werden, auf welches das Glas in flüssigem Zustand aufgegossen wird. Als Metall wird vorzugsweise Zinn oder eine Zinnlegierung verwendet, so dass das Bad eine höhere spezifische Dichte als das flüssige und sich verfestigende Glas aufweist. Mithilfe des so erzeugten Auftriebes gleitet das Glas weitgehend reibungsfrei auf dem Metallbad, wodurch die Floatglasscheiben mit gleichbleibender Qualität insbesondere in Bezug auf ihre Dicke hergestellt werden können.
  • Dabei können insbesondere auf der freien Oberfläche, welche nicht in Kontakt mit dem geschmolzenen Zinn steht, Zinnablagerungen entstehen, die sich zu Partikeln verfestigen. Die Zinnpartikel können beispielsweise durch Kondensation infolge einer Sättigung der Atmosphäre im Umfeld des Bades oder durch Kondensation an anderen Partikeln, beispielsweise Staubpartikeln, entstehen und fallen auf die noch flüssige freie Oberfläche der Floatglasscheibe. Durch den Sauerstoff, der sich in der Atmosphäre befindet, werden die Zinnpartikel mit einer Zinnoxid-Schicht überzogen werden. Diese Zinnpartikel oder andere vergleichbare Partikel werden auch als Top Specs bezeichnet. Auf der Oberfläche, die dem Metallbad zugewandt ist, kommt es zu keiner Bildung von Top Specs.
  • Für die weitere Bearbeitung der Floatglasscheiben sind die Top Specs störend. Sollen die Floatglasscheiben beispielsweise beschichtet werden, verdampfen die Top Specs und beschädigen die Beschichtung.
  • Aus der DE-AS 1 285 106 ist ein derartiges Verfahren zum Entfernen von Rückständen bekannt, bei dem für eine genügende Zeit bei einer ausreichenden Temperatur, die Glasoberfläche mit einem Reaktionsmittel in Form eines gasförmigen Halogens oder einer anorganischen Halogenverbindung in Dampfform behandelt wird. Dadurch sollen diese schädlichen Verunreinigungen, die in der Glasoberfläche bei der Berührung mit dem geschmolzenen Zinn eingedrungen sind, unter Aufrechterhaltung der durch die Berührung mit dem geschmolzenen Zinn enthaltenen polierten Eigenschaften der Glasoberfläche unschädlich gemacht werden. Als Reaktionsmittel kann auch Chlor verwendet werden bzw. Metallchlorid in Dampfform. Ferner kann auch Chlorwasserstoff eingesetzt werden. Die Behandlungsdauer und der Dampfdruck werden in der DE-AS 1 285 106 angegeben.
  • Diese Verfahren, bei denen Zinn als flüchtige Halogenverbindung, beispielsweise als flüchtiges Halogenid, entfernt wird, ist technisch sehr aufwendig, da die reaktiven Halogenquellen (z. B. Chlorgas) auf das heiße Gas einwirken und somit an der Produktionslinie umgesetzt werden müssen. Weiterhin muss ein hoher Aufwand für Arbeitssicherheit betrieben werden.
  • Aus der US 2006/0032842 A1 ist ein Verfahren bekannt, das mit einem gepulsten Laser arbeitet. Die Oberflächendefekte werden mit Laserstrahlung bestrahlt, so dass die Oberflächendefekte verdampfen und somit entfernt werden.
  • Dieses Verfahren hat den Nachteil, dass hohe Taktzeiten erforderlich sind, die nur dann erreicht werden können, wenn mehrere Laser an einer Linie eingesetzt werden. Dies bedingt entsprechend hohe Investitionskosten.
  • Das in der JP 2088445 beschriebene Verfahren zum Entfernen von zinnhaltigen Rückständen auf Glasoberflächen mittels 10 bis 30% Salpetersäure und 2 bis 10% Salzsäure umfasst keine mechanischen Bearbeitungsschritte. Die Top Specs weisen eine Zinnoxid-Schicht auf, die einen Zinnkern umgibt, oder bestehen komplett aus Zinnoxid. Das Zinnoxid oder die Zinnoxid-Schicht können aber unabhängig von der Konzentration der verwendeten Säure nicht herausgelöst werden. Folglich können ohne einen mechanischen Bearbeitungsschritt keine hohen Zinn-Entfernungsraten erzielt werden.
  • Das in der JP 9295832 beschriebene Verfahren zur Entfernung von Fremdstoffen aus einer Oberfläche eines Glassubstrats setzt Chromverbindungen ein, welche sehr toxisch und damit prozesstechnisch nur sehr aufwendig handhabbar sind.
  • In der JP 4202028 wird ein Verfahren beschrieben, nach dem Zinn mittels einer Säurebehandlung und einer mechanischen Behandlung unter Zuhilfenahme einer Bürste von einer Glasoberfläche entfernt wird. Hierbei besteht die Gefahr, dass während der mechanischen Behandlung Kratzer auf der Glasoberfläche entstehen.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, zinnhaltige Top Specs von Oberflächen von Floatglasscheiben mit einem im Vergleich zum Stand der Technik erhöhten Entfernungsraten zu entfernen, ohne die Oberflächen zu beschädigen und ohne giftige und schwer handhabbare Chemikalien einsetzen zu müssen.
  • Die Aufgabe wird mit einem Verfahren der eingangs genannten Art dadurch gelöst, dass in diesem Reinigungsschritt die Floatglasscheibe auf der ersten und/oder auf der zweiten Seite mit einer Salpetersäure unter gleichzeitiger Einwirkung von Ultraschall behandelt wird. Die ultraschallunterstützte Reinigung in einem Salpetersäurebad hat den Vorteil, dass die Top Specs nahezu vollständig in einer vertretbaren Prozesszeit entfernt werden können.
  • Die Top Specs bestehen in der Regel aus Zinn und/oder Zinnoxidpartikeln, die muldenartige Vertiefungen in den Floatglasscheiben hervorrufen. Die Ultraschallwellen, die sich im Salpetersäurebad ausbreiten, wirken mechanisch mittels Kavitation auf die Top Specs ein, so dass sie aufgebrochen und zerkleinert und folglich von der Oberfläche der Floatglasscheiben entfernt werden.
  • Im Gegensatz zu anderen mechanischen Verfahren, wir z. B. Bürsten oder dergleichen, hat die Ultraschallbehandlung den Vorteil, dass die mechanische Einwirkung, durch den Ultraschall keinen Einfluss auf die Oberfläche der Floatglasscheiben hat und diese insbesondere nicht zerkratzen.
  • Es hat sich gezeigt, dass 98% der Top Specs beseitigt werden können. Die Top Specs weisen einen Durchmesserbereich zwischen 10 und 30 μm auf. Das erfindungsgemäße Reinigungsverfahren wirkt nicht spezifisch auf einen bestimmten Durchmesserbereich, so dass die Größenverteilung der Top Specs vor und nach der Behandlung gleich bleibt. Durch die Verwendung von Ultraschall in Kombination mit Salpetersäure können die Prozesszeiten zum Entfernen der Top Specs im Vergleich zu Lösungen aus dem Stand der Technik verkürzt werden. Dass die muldenartigen Vertiefungen nach dem Reinigungsschritt zurückbleiben, stört nicht weiter.
  • Vorzugsweise weist die verwendete Salpetersäure eine Konzentration von 20 bis 50 Gew.-% auf. Es hat sich gezeigt, dass sich in diesem. Konzentrationsbereich eine Entfernungsrate von 98% bezüglich der Top Specs erreichen lässt. Eine Erhöhung der Konzentration der Salpetersäure über diesen Bereich hinaus hat keine nennenswerte Erhöhung der Entfernungsrate bezüglich der Top Specs zur Folge.
  • In einer bevorzugten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens wird der Ultraschall mit Ultraschallgebern bereitgestellt, die eine Frequenz von 25 bis 130 kHz erzeugen. In diesem Frequenzbereich ist die Wahrscheinlichkeit, dass, die Entfernungsrate von 98% reproduzierbar erreicht wird, am höchsten.
  • Vorteilhafterweise wird die Floatglasscheibe innerhalb einer Zeitspanne von 1 bis 10 Minuten behandelt. Innerhalb dieser Zeitspanne ist die Wahrscheinlichkeit, dass die Entfernungsrate von 98% reproduzierbar erreicht wird, am höchsten. Eine Verlängerung der Behandlungszeit führt zu keiner nennenswerten Erhöhung der Entfernungsrate der Top Specs.
  • Vorzugsweise weist die Salpetersäure eine Temperatur von 30 bis 50°C auf. Innerhalb dieses Temperaturbereichs ist die Wahrscheinlichkeit, dass die Entfernungsrate von 98% reproduzierbar erreicht wird, am höchsten. Eine Erhöhung der Temperatur der Salpetersäure führt zu keiner nennenswerten Erhöhung der Entfernungsrate der Top Specs.
  • In einer bevorzugten Ausbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Floatglasscheibe in die Salpetersäure eingetaucht. Hiermit ist gewährleistet, dass beide Oberflächen der Floatglasscheibe mit der Salpetersäure in Kontakt treten und die Top Specs entsprechend der oben dargelegten Entfernungsrate beseitigt werden können. Ferner wird die mechanische Reinigungswirkung des Ultraschalls gut genutzt, der sich in Flüssigkeiten wie der Salpetersäure gut ausbreiten kann. Weiterhin durchdringt der Ultraschall die Floatglasscheibe, so dass auch andere Partikel als die Top Specs, die sich auf der Oberfläche befinden, die den Ultraschallgebern abgewandt ist, gelöst werden. Es findet somit auch eine Reinigung der den Ultraschallgebern abgewandten Seite statt.
  • Vorzugsweise wird die Floatglasscheibe im Wesentlichen horizontal oder vertikal in die Salpetersäure eingetaucht. Das horizontale Eintauchen hat prozesstechnische Vorteile, da die Floatglasscheibe einfacher geführt werden kann. insbesondere lässt sich die Überführung der Floatglasscheibe in benachbarte Bäder einfach realisieren, so dass die Floatglasscheibe weitgehend kontinuierlich durch verschiedene Behandlungsbäder geführt werden kann.
  • Beim vertikalen Eintauchen hingegen ist es unwesentlich, auf welcher der beiden Oberflächen sich die Top Specs befinden. Die Floatglasscheibe muss nicht mit einer bestimmten Ausrichtung in die Salpetersäure eingetaucht werden, was die Prozessflexibilität erhöht.
  • Vorteilhafterweise wird die Floatglasscheibe während des Reinigungsschrittes durch die Salpetersäure bewegt. Top Specs, die durch die chemische und mechanische Reinigung bereits von der Floatglasscheibe gelöst wurden, aber immer noch auf den Oberflächen der Floatglasscheibe haften, werden somit beseitigt.
  • Vorzugsweise folgen nach diesem Behandlungsschritt weitere Behandlungsschritte, die zu einer Erhöhung der Entfernungsrate führen. Diese weiteren Behandlungsschritte können mindestens ein Spülschritt, ein weiterer Reinigungsschritt mit einer Tensidlösung, ein weiterer Spülschritt und ein Trocknungsschritt sein, die sich dem Behandlungsschritt anschließen. Beim weiteren Reinigungsschritt wird die Salpetersäure neutralisiert (alkalische Reinigung). Insbesondere wird hierdurch sichergestellt, dass die abgelösten Top Specs auch tatsächlich von den Oberflächen entfernt werden und nicht an ihnen haften bleiben. Hierzu kann der weitere Reinigungsschritt optional auch noch eine mechanische Reinigung mit Bürsten umfassen, wobei die Bürsten nur sehr sanft angedrückt werden müssen, da die Top Specs bereits von der Floatglasscheibe gelöst worden sind und allenfalls noch an ihr haften. Kratzer in der Oberfläche der Floatglasscheibe können dadurch verhindert werden. Nach Abschluss dieser Behandlungsschritte kann die Floatglasscheibe beispielsweise beschichtet werden.
  • Ferner wird das erfindungsgemäße Verfahren dadurch weitergebildet, dass dem Reinigungsschritt ein Befeuchtungsschritt voraus geht. Dies kann beispielsweise durch Sprühen geschehen. Hierdurch wird die Benetzung der Floatglasscheibe im Salpetersäurebad verbessert und eine Vorreinigung bewirkt.
  • Die Erfindung wird nun anhand von bevorzugten Ausführungsbeispielen in Bezug auf die anhängenden Zeichnungen im Detail beschrieben. Es zeigen:
  • 1 einen Abschnitt einer Floatglasscheibe in einer Querschnittsdarstellung,
  • 2 eine schematische Darstellung zur Verdeutlichung einer. ersten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens, und
  • 3 eine schematische Darstellung zur Verdeutlichung einer zweiten Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens.
  • In 1 ist ein Abschnitt einer Floatglasscheibe 10 dargestellt, die eine erste Oberfläche 12 und eine zweite Oberfläche 14 umfasst. Die Floatglasscheibe 10 ist gemäß einem üblicherweise angewandten Floatverfahren auf einem nicht dargestellten Bad aus geschmolzenem Zinn hergestellt worden und weist daher eine bestimmte Anzahl von Top Specs 16 auf. Diese Top Specs 16 befinden sich nur auf der Oberfläche der Floatglasscheibe 10, die nicht mit dem geschmolzenen Zinn in Kontakt gestanden hat. Im Beispiel, welches in 1 dargestellt ist, ist dies die erste Oberfläche 12. Der Herstellungsprozess der Floatglasscheibe 10 auf dem Bad aus geschmolzenem Zinn und der Reinigungsschritt müssen sich nicht notwendigerweise direkt aneinander anschließen. Es ist vielmehr üblich, die Floatglasscheiben 10 nach dem Herstellungsprozess zu portionieren und zwischenzulagern. Ferner können sich die Reinigungsbäder räumlich getrennt vom Bad aus geschmolzenem Zinn befinden. Eine Drehung der Floatglasscheibe 10 um 180° ist daher kein Problem.
  • Die Top Specs 16 umfassen typischerweise einen Kern 18 aus Zinn und eine Zinnoxid-Schicht 20, welche durch den im geschmolzenen Zinn enthaltenen und dem sich in der Umgebung der Floatglasscheibe befindenden Sauerstoff entsteht. Alternativ kann auch der gesamte Top Spec 16 aus Zinnoxid bestehen. Beim Auftreffen von Zinn-Partikeln auf die erste Oberfläche 12 der noch verformbaren Floatglasscheibe können sich muldenartige Vertiefungen 22 bilden. Werden die Top Specs 16 gemäß dem erfindungsgemäßen Verfahren entfernt, so bleiben die muldenartige Vertiefungen 22 zurück, was sich aber nicht störend auf die weitere Verwendung der Floatglasscheibe 10 auswirkt.
  • In 2 ist eine erste Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens schematisch dargestellt. Die Top Specs 16 sind in 2 vereinfacht dargestellt. Die Floatglasscheibe 10 wird über eine nicht näher dargestellte Zuführeinrichtung 40 im Wesentlichen horizontal in ein Bad 24 eingebracht, welches mit Salpetersäure 25 gefüllt ist. Die Floatglasscheibe 10 wird dabei mittels einer Tragevorrichtung 26 gehalten, die im dargestellten Beispiel erste Rollen 28 umfasst, die mit der ersten Oberfläche 12 der Floatglasscheibe 10 in Kontakt treten. Weiterhin weist das Bad 24' eine Haltevorrichtung 32 auf, die zweite Rollen 34 umfasst. Die zweiten Rollen 34 stehen in Kontakt mit der zweiten Oberfläche 14 der Floatglasscheibe 10 und sorgen dafür, dass sie vollständig in die Salpetersäure 25 eintaucht. Folglich wird die Floatglasscheibe 10 sowohl auf der ersten Oberfläche 12 als auch auf der zweiten Oberfläche 14 von der Salpetersäure 25 benetzt. Somit wird auch die zweite Oberfläche 14 denselben chemischen Behandlungsschritten unterzogen, auch wenn sich dort keine Top Specs 16 befinden.
  • Im Bad 24' ist eine Anzahl von Ultraschallgebern 30 angeordnet, die Ultraschall mit der gewünschten Frequenz in die Salpetersäure 25 einbringen, welche den Ultraschall auf die Floatglasscheibe 10 überträgt. Die Ultraschallgeber 30 sind so ausgerichtet, dass der Anteil der von ihnen ausgesandten Ultraschallwellen, der im Wesentlichen normal auf die erste Oberfläche 12 trifft, maximiert wird. Insbesondere wird die Abschattung durch die ersten Rollen 28 minimiert. Die Hauptrichtung, entlang der sich die Ultraschallwellen auf die erste Oberfläche 12 zubewegen, ist mittels der Pfeile P1 angedeutet. Die mittels der Salpetersäure 25 angelösten und gelockerten Top Specs 16 werden nun durch den Ultraschall mechanischen Belastungen insbesondere infolge von Kavitation ausgesetzt, so dass sie sich von der Floatglasscheibe 10 ablösen.
  • Mittels der ersten Rollen 28 kann die Floatglasscheibe 10 bewegt werden. Hierdurch kann die Floatglasscheibe 10 kontinuierlich durch das Bad 24' geführt werden, so dass das Bad 24' in einen kontinuierlichen Gesamtprozess eingebunden werden kann. Hierzu kann die Floatglasscheibe über eine nicht näher dargestellte Abführeinrichtung aus dem Bad 24 abgeführt werden. Die ersten und die zweiten Rollen 28, 32 können die Floatglasscheibe 10 in zwei Richtungen bewegen. Diese Richtungen sind durch den Pfeil P2 angedeutet. Dies kann dann hilfreich sein, wenn sich eine prozesstechnische Störung ergeben hat, welche einen Abbruch oder zumindest eine Unterbrechung des Reinigungsschrittes erforderlich macht.
  • In 3 ist eine weitere Variante des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt. Die Floatglasscheibe 10 wird hier mithilfe eines Trägergestells 36, welches an einer nicht näher dargestellten Haltevorrichtung 38 aufgehängt ist, im Wesentlichen vertikal in das Bad 24'' eingebracht. Durch diese Anordnung der Floatglasscheibe 10 im Bad 24'' können sowohl die erste als auch die zweite Oberfläche 12, 14 mit Ultraschall beaufschlagt werden. Wiederum sind die Ultraschallgeber 30 so angeordnet, dass der Anteil der von ihnen ausgesandten Ultraschallwellen, der im Wesentlichen normal auf die erste und die zweite Oberfläche 12, 14 auftrifft, maximiert wird. In dieser Variante werden die erste und die zweite Oberfläche 12, 14 auf die gleiche Weise behandelt. in dieser Variante ist es unerheblich, welche der Oberflächen 12, 14 welche Ausrichtung hat, wodurch der Herstellungsprozess der Floatglasscheibe 10 flexibler gestaltet werden kann.
  • Bezugszeichenliste
    • 10
    Floatglasscheibe
    12
    erste Oberfläche
    14
    zweite Oberfläche
    16
    Top Spec
    18
    Kern
    20
    Zinnoxid-Schicht
    22
    muldenartige Vertiefung
    24', 24''
    Bad
    25
    Salpetersäure
    26
    Tragevorrichtung
    28
    erste Rollen
    30
    Ultraschallgeber
    32
    Haltevorrichtung
    34
    zweite Rollen
    36
    Trägergestell
    38
    Haltevorrichtung
    40
    Zuführeinrichtung
    42
    Abführeinrichtung
    P1
    Pfeil
    P2
    Pfeil
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 1285106 [0004, 0004]
    • US 2006/0032842 A1 [0006]
    • JP 2088445 [0008]
    • JP 9295832 [0009]
    • JP 4202028 [0010]

Claims (11)

  1. Verfahren zum Entfernen von Rückständen auf einer Floatglasscheibe (10), insbesondere von TFT-Scheiben, mit mindestens einem Reinigungsschritt, wobei die Floatglasscheibe (10) mindestens eine erste Oberfläche (12) und eine zweite Oberfläche (14) aufweist, dadurch gekennzeichnet, dass in diesem Reinigungsschritt die Floatglasscheibe (10) auf der ersten und/oder auf der zweiten Oberfläche (12, 14) mit einer Salpetersäure (25) unter gleichzeitiger Einwirkung von Ultraschall behandelt wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die verwendete Salpetersäure (25) eine Konzentration von 20- bis 50 Gew.-% aufweist.
  3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Ultraschall mit einem oder mehreren Ultraschallgebern (30) bereitgestellt wird, die eine Frequenz von 25 bis 130 kHz erzeugen.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Floatglasscheibe (10) innerhalb einer Zeitspanne von 1 bis 10 Minuten behandelt wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Salpetersäure (25) eine Temperatur von 30 bis 50°C aufweist.
  6. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Floatglasscheibe (10) in die Salpetersäure (25) eingetaucht wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Floatglasscheibe (10) im Wesentlichen horizontal oder vertikal in die Salpetersäure (25) eingetaucht wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Floatglasscheibe (10) während des Reinigungsschrittes durch die Salpetersäure (25) bewegt wird.
  9. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach diesem Reinigungsschritt weitere Behandlungsschritte folgen.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass sich an den Reinigungsschritt mindestens ein Spülschritt, ein zweiter Reinigungsschritt mit einer Tensidlösung, ein weiterer Spülschritt und ein Trocknungsschritt anschließen.
  11. Verfahren nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeichnet, dass dem Reinigungsschritt ein Befeuchtungsschritt voraus geht.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2719673C1 (ru) * 2019-08-14 2020-04-21 Акционерное общество "Обнинское научно-производственное предприятие "Технология" им. А.Г. Ромашина" Способ ультразвуковой обработки изделий из стеклокерамики
CN113333338A (zh) * 2021-04-21 2021-09-03 蔡宏亮 一种电力柜专用玻璃钢面板制备辅助装置

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107030059A (zh) * 2016-12-27 2017-08-11 上海子创镀膜技术有限公司 一种全自动13槽玻璃清洗浸镀生产线

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1285106B (de) 1964-06-23 1968-12-12 Pilkington Brothers Ltd Verfahren zur Herstellung von Flachglas
GB1211225A (en) * 1966-05-26 1970-11-04 Ford Motor Co Manufacture of glass
JPH0288445A (ja) 1988-09-26 1990-03-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラスの洗浄方法
JPH04202028A (ja) 1990-11-30 1992-07-22 Central Glass Co Ltd 板ガラスの洗浄法
JPH09295832A (ja) 1996-04-26 1997-11-18 Asahi Glass Co Ltd ガラス基板表面の異物除去方法
JPH09295833A (ja) * 1996-04-26 1997-11-18 Seimi Chem Co Ltd フロートガラス基板の平坦化方法
GB2401362A (en) * 2003-04-28 2004-11-10 Noel Warner Method for eliminating top speck on float glass
US20060032842A1 (en) 2003-02-04 2006-02-16 Kuniaki Hiromatsu Method for removing foreign matter on glass substrate surface
DE102006058488A1 (de) * 2006-12-12 2008-06-19 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von zinnhaltigen Oberflächenverunreinigungen von einem Glasprodukt sowie Glasprodukt

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1285106B (de) 1964-06-23 1968-12-12 Pilkington Brothers Ltd Verfahren zur Herstellung von Flachglas
GB1211225A (en) * 1966-05-26 1970-11-04 Ford Motor Co Manufacture of glass
JPH0288445A (ja) 1988-09-26 1990-03-28 Nippon Sheet Glass Co Ltd ガラスの洗浄方法
JPH04202028A (ja) 1990-11-30 1992-07-22 Central Glass Co Ltd 板ガラスの洗浄法
JPH09295832A (ja) 1996-04-26 1997-11-18 Asahi Glass Co Ltd ガラス基板表面の異物除去方法
JPH09295833A (ja) * 1996-04-26 1997-11-18 Seimi Chem Co Ltd フロートガラス基板の平坦化方法
US20060032842A1 (en) 2003-02-04 2006-02-16 Kuniaki Hiromatsu Method for removing foreign matter on glass substrate surface
GB2401362A (en) * 2003-04-28 2004-11-10 Noel Warner Method for eliminating top speck on float glass
DE102006058488A1 (de) * 2006-12-12 2008-06-19 Schott Ag Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von zinnhaltigen Oberflächenverunreinigungen von einem Glasprodukt sowie Glasprodukt

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2719673C1 (ru) * 2019-08-14 2020-04-21 Акционерное общество "Обнинское научно-производственное предприятие "Технология" им. А.Г. Ромашина" Способ ультразвуковой обработки изделий из стеклокерамики
CN113333338A (zh) * 2021-04-21 2021-09-03 蔡宏亮 一种电力柜专用玻璃钢面板制备辅助装置

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