JPH09295832A - ガラス基板表面の異物除去方法 - Google Patents
ガラス基板表面の異物除去方法Info
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- JPH09295832A JPH09295832A JP10733096A JP10733096A JPH09295832A JP H09295832 A JPH09295832 A JP H09295832A JP 10733096 A JP10733096 A JP 10733096A JP 10733096 A JP10733096 A JP 10733096A JP H09295832 A JPH09295832 A JP H09295832A
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- Japan
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- acid
- glass substrate
- foreign matter
- aqueous solution
- glass
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
- C03C15/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching for making a smooth surface
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】フロート法により製造されたガラス表面のトッ
プスペック等の異物を除去する。 【解決手段】フロートガラス基板を２価のクロムイオン
を含む無機酸水溶液に浸漬して異物を溶解および除去す
る。好ましくは、クエン酸等の有機酸を無機酸水溶液に
添加し、２価のクロムイオンの空気酸化による失活を防
止する。
プスペック等の異物を除去する。 【解決手段】フロートガラス基板を２価のクロムイオン
を含む無機酸水溶液に浸漬して異物を溶解および除去す
る。好ましくは、クエン酸等の有機酸を無機酸水溶液に
添加し、２価のクロムイオンの空気酸化による失活を防
止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フロート法により
製造されたガラス基板表面の異物除去方法に関するもの
である。
製造されたガラス基板表面の異物除去方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】現在、ガラス基板の主要な製造方法はフ
ロート法である。 これは、溶融金属浴と呼ばれる溶融金
属錫を満たした浴面上に溶融ガラスを連続的に流してガ
ラスリボンを形成し、このガラスリボンを前記溶融金属
浴面に沿って浮かしながら前進させて成板するため、 ガ
ラスリボンの上面側には溶融金属浴の錫によるトップス
ペックが避けられない。トップスペックとは、 溶融金属
浴から蒸発した錫成分が浴上部に凝縮し、 凝縮物または
この凝縮物が金属状態に還元されたものがガラス素地上
に小粒として落下してガラスリボンの上面に数μ〜数１
０μｍの異物が生じたものである。また、 溶融錫と接す
るガラスリボンの下面側にも、錫または錫化合物からな
るボトムスペックが発生する。
ロート法である。 これは、溶融金属浴と呼ばれる溶融金
属錫を満たした浴面上に溶融ガラスを連続的に流してガ
ラスリボンを形成し、このガラスリボンを前記溶融金属
浴面に沿って浮かしながら前進させて成板するため、 ガ
ラスリボンの上面側には溶融金属浴の錫によるトップス
ペックが避けられない。トップスペックとは、 溶融金属
浴から蒸発した錫成分が浴上部に凝縮し、 凝縮物または
この凝縮物が金属状態に還元されたものがガラス素地上
に小粒として落下してガラスリボンの上面に数μ〜数１
０μｍの異物が生じたものである。また、 溶融錫と接す
るガラスリボンの下面側にも、錫または錫化合物からな
るボトムスペックが発生する。
【０００３】フロート法は平坦性の高いガラス基板を大
量に生産するための極めて優れた方法であるが、ガラス
の用途が従来の建材の分野から電子材料の分野に拡大す
るにつれ、上述のトップスペックやボトムスペック等の
異物が問題となってきた。かかる異物は、錫を主成分と
する数１０μｍの小粒としてガラス表面に存在するが、
その表面は酸化錫となっているため溶解除去が困難であ
る。限られた方法として、フッ酸により周辺のガラスを
溶解することにより異物を離脱する、あるいは、亜鉛粉
と塩酸により酸化錫を還元溶解することで除去は可能で
あるが、生産プロセスへの適用は困難であり工業レベル
でかかる異物の除去を可能とする方法は知られていな
い。
量に生産するための極めて優れた方法であるが、ガラス
の用途が従来の建材の分野から電子材料の分野に拡大す
るにつれ、上述のトップスペックやボトムスペック等の
異物が問題となってきた。かかる異物は、錫を主成分と
する数１０μｍの小粒としてガラス表面に存在するが、
その表面は酸化錫となっているため溶解除去が困難であ
る。限られた方法として、フッ酸により周辺のガラスを
溶解することにより異物を離脱する、あるいは、亜鉛粉
と塩酸により酸化錫を還元溶解することで除去は可能で
あるが、生産プロセスへの適用は困難であり工業レベル
でかかる異物の除去を可能とする方法は知られていな
い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかるトッ
プスペック等の異物を除去する方法を提供するものであ
る。
プスペック等の異物を除去する方法を提供するものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、溶融金
属浴面上に溶融ガラスを連続的に流してガラスリボンを
形成し、このガラスリボンを前記溶融金属浴面に沿って
前進させて成板されたフロートガラス基板の表面に存在
する微小な異物を、該フロートガラス基板を２価のクロ
ムイオンを含む無機酸水溶液に浸漬することにより溶
解、除去することを特徴とするフロートガラス基板表面
の異物除去方法を提供するものである。
属浴面上に溶融ガラスを連続的に流してガラスリボンを
形成し、このガラスリボンを前記溶融金属浴面に沿って
前進させて成板されたフロートガラス基板の表面に存在
する微小な異物を、該フロートガラス基板を２価のクロ
ムイオンを含む無機酸水溶液に浸漬することにより溶
解、除去することを特徴とするフロートガラス基板表面
の異物除去方法を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明における無機酸水溶液とし
ては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、およびフッ化水素酸
から選ばれた少なくとも１種の酸を含む水溶液が挙げら
れる。本発明においては、無機酸水溶液中の２価のクロ
ムイオンにより、トップスペック等の異物の表面の酸化
錫が還元されて金属錫となり、無機酸により溶解し、ガ
ラス表面から除去される。この際２価のクロムイオンは
酸化され３価のクロムイオンとなる。２価のクロムイオ
ンの空気酸化による失活は長期にわたる安定的な異物除
去操作を阻害するため、クエン酸等の有機酸を無機酸水
溶液に添加して、失活速度を低減するのが好ましい。
ては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、およびフッ化水素酸
から選ばれた少なくとも１種の酸を含む水溶液が挙げら
れる。本発明においては、無機酸水溶液中の２価のクロ
ムイオンにより、トップスペック等の異物の表面の酸化
錫が還元されて金属錫となり、無機酸により溶解し、ガ
ラス表面から除去される。この際２価のクロムイオンは
酸化され３価のクロムイオンとなる。２価のクロムイオ
ンの空気酸化による失活は長期にわたる安定的な異物除
去操作を阻害するため、クエン酸等の有機酸を無機酸水
溶液に添加して、失活速度を低減するのが好ましい。
【０００７】あるいは、イオン交換膜を用いた電解反応
によって、前記２価のクロムイオンの酸化により生成し
た３価のクロムイオンを還元し２価に戻すことにより安
定化を図るのがよい。具体的には、希塩酸中で形成され
たＣｒ2+／Ｃｒ3+レドックス系を含む槽とレドックス系
を含まない希硫酸溶液の槽を陽イオン交換膜で分離し、
両槽に炭素電極を挿入し、レドックス槽電極に負、希硫
酸槽の電極に正の電荷を印加した電解槽を用いて、レド
ックス系槽にトップスペック（およびボトムスペック）
を有するフロートガラス基板を浸漬し、トップスペック
等を除去するのが好ましい。
によって、前記２価のクロムイオンの酸化により生成し
た３価のクロムイオンを還元し２価に戻すことにより安
定化を図るのがよい。具体的には、希塩酸中で形成され
たＣｒ2+／Ｃｒ3+レドックス系を含む槽とレドックス系
を含まない希硫酸溶液の槽を陽イオン交換膜で分離し、
両槽に炭素電極を挿入し、レドックス槽電極に負、希硫
酸槽の電極に正の電荷を印加した電解槽を用いて、レド
ックス系槽にトップスペック（およびボトムスペック）
を有するフロートガラス基板を浸漬し、トップスペック
等を除去するのが好ましい。
【０００８】
【実施例】６規定塩酸１０００ミリリットルにクエン酸
３００ｍｇを溶解し、その後６０ｇのクロムを液温を５
０℃に保ちながら溶解した。この液に、１０μｍから６
０μｍのトップスペックを２０個表面に有するフロート
ガラス基板を浸漬したところ、１０分間ですべてのトッ
プスペックが溶解した。
３００ｍｇを溶解し、その後６０ｇのクロムを液温を５
０℃に保ちながら溶解した。この液に、１０μｍから６
０μｍのトップスペックを２０個表面に有するフロート
ガラス基板を浸漬したところ、１０分間ですべてのトッ
プスペックが溶解した。
【０００９】
【発明の効果】本発明によれば、フロート法により製造
されたガラス基板表面に存在するトップスペック等の異
物を、ガラスの光学的性質や表面性状を損なうことなく
除去できる。
されたガラス基板表面に存在するトップスペック等の異
物を、ガラスの光学的性質や表面性状を損なうことなく
除去できる。
Claims (4)
- 【請求項１】溶融金属浴面上に溶融ガラスを連続的に流
してガラスリボンを形成し、このガラスリボンを前記溶
融金属浴面に沿って前進させて成板されたフロートガラ
ス基板の表面に存在する微小な異物を、該フロートガラ
ス基板を２価のクロムイオンを含む無機酸水溶液に浸漬
することにより溶解、除去することを特徴とするフロー
トガラス基板表面の異物除去方法。 - 【請求項２】前記無機酸水溶液が、塩酸、硝酸、硫酸、
リン酸、およびフッ化水素酸から選ばれた少なくとも１
種の酸を含むことを特徴とする請求項１のフロートガラ
ス基板表面の異物除去方法。 - 【請求項３】前記無機酸水溶液が、有機酸を含むことを
特徴とする請求項１または２のフロートガラス基板表面
の異物除去方法。 - 【請求項４】イオン交換膜を用いた電解反応により、前
記２価のクロムイオンの酸化により生成した３価のクロ
ムイオンを還元し２価に戻すことを特徴とする請求項１
または２のフロートガラス基板表面の異物除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10733096A JPH09295832A (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | ガラス基板表面の異物除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10733096A JPH09295832A (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | ガラス基板表面の異物除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09295832A true JPH09295832A (ja) | 1997-11-18 |
Family
ID=14456328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10733096A Pending JPH09295832A (ja) | 1996-04-26 | 1996-04-26 | ガラス基板表面の異物除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09295832A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004069760A1 (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-19 | Asahi Glass Company, Limited | ガラス基板表面の異物除去方法 |
| DE102004045666A1 (de) * | 2004-09-18 | 2006-04-06 | Schott Ag | Gefloatetes Spezialglas sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE102010002731A1 (de) | 2010-03-10 | 2011-09-15 | Schott Ag | Verfahren zur Entfernung von Rückständen auf Floatglasoberflächen |
| EP2371776A1 (en) | 2010-03-30 | 2011-10-05 | Linde Aktiengesellschaft | Method for producing flat glass |
| KR20150099508A (ko) | 2012-12-19 | 2015-08-31 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 유리 기판 표면의 이물질 제거 방법 |
| KR20160004275A (ko) | 2013-04-24 | 2016-01-12 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 플로트 판유리 제조 방법 |
| KR20160046737A (ko) | 2014-10-21 | 2016-04-29 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 플로트 판유리의 제조 방법 및 플로트 판유리 |
-
1996
- 1996-04-26 JP JP10733096A patent/JPH09295832A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004069760A1 (ja) * | 2003-02-04 | 2004-08-19 | Asahi Glass Company, Limited | ガラス基板表面の異物除去方法 |
| US7767929B2 (en) | 2003-02-04 | 2010-08-03 | Asahi Glass Company, Limited | Method for removing foreign matter on glass substrate surface |
| DE102004045666A1 (de) * | 2004-09-18 | 2006-04-06 | Schott Ag | Gefloatetes Spezialglas sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE102004045666B4 (de) * | 2004-09-18 | 2007-04-19 | Schott Ag | Gefloatetes Spezialglas sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| DE102010002731A1 (de) | 2010-03-10 | 2011-09-15 | Schott Ag | Verfahren zur Entfernung von Rückständen auf Floatglasoberflächen |
| EP2371776A1 (en) | 2010-03-30 | 2011-10-05 | Linde Aktiengesellschaft | Method for producing flat glass |
| KR20150099508A (ko) | 2012-12-19 | 2015-08-31 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 유리 기판 표면의 이물질 제거 방법 |
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| KR20160046737A (ko) | 2014-10-21 | 2016-04-29 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 플로트 판유리의 제조 방법 및 플로트 판유리 |
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