DE102009020512B4

DE102009020512B4 - Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage

Info

Publication number: DE102009020512B4
Application number: DE102009020512.8A
Authority: DE
Inventors: Matthias KLOOSS; Andrej WOLF; Dr. Strümpfel Johannes; Steffen Lessmann; Matthias Zindler; Reinhard Jaeger
Original assignee: Von Ardenne GmbH
Current assignee: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date: 2009-05-08
Filing date: 2009-05-08
Publication date: 2017-07-27
Anticipated expiration: 2029-05-09
Also published as: WO2010128129A1; DE102009020512A1

Abstract

Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage mit mindestens zwei miteinander verbundenen benachbarten Anlagenkammern gleicher Gestaltung, wobei die Anlagenkammern statisch bestimmte Versteifungselemente umfassen, mit denen Wandungen, bestehend aus Kammerboden, Kammerwänden und Kammerdecke, verbunden sind, die einen Vakuumraum einschließen, mit Prozesssektionen und mit einer Substrate auf einer Transportebene in Längserstreckung der Vakuumbeschichtungsanlage durch die Prozesssektionen hindurch bewegenden Transportvorrichtung, wobei die Versteifungselemente (4) außerhalb des Vakuumraumes (8) angeordnet und mit der Außenseite (2) des Vakuumraumes (8) stoffschlüssig verbunden sind und an beiden Enden einer Anlagenkammer (1; 3) die Versteifungselemente (4) als Flansche (12) ausgebildet sind, über die eine Anlagenkammer (1) mit einer benachbarten Anlagenkammer (3) gleicher Gestaltung verbunden ist, wobei die Flansche an der Außenseite (2) der den Vakuumraum (8) umschließenden Anlagenkammer (1) mit einer zum jeweiligen Ende weisenden Dichtfläche (26) angeordnet sind, so dass der Vakuumraum (8) vor einer Bestückung als ein über die Längserstreckung (9) der Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage glatter Hohlraum ausgebildet ist und der Vakuumraum (8) mittels nicht aussteifenden und quer zur Längserstreckung (9) befestigten Schottwänden (15; 17; 19) in Prozesssektionen (16) geteilt ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage mit einer Anlagenkammer, die statisch bestimmte Versteifungselemente umfasst. Mit den Versteifungselementen sind Wandungen, bestehend aus Kammerboden, Kammerwänden und Kammerdecke, verbunden. Diese schließen einen Vakuumraum ein. Diese Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage weist Prozesssektionen auf und ist mit einer Substrate auf einer Transportebene in Längserstreckung der Vakuumbeschichtungsanlage durch die Prozesssektionen hindurch bewegenden Transportvorrichtung versehen.
Es ist bekannt, Vakuumbeschichtungsanlagen funktional in Kammern und diese in Kompartments oder physisch in Anlagenkammern und Sektionen zu teilen.
Eine Kammer ist eine funktionale Einheit mit einer oder mehreren zusammenwirkenden Funktionen in den Grenzen einer oder mehrerer verbundener physischer Anlagenkammern.
Als Anlagenkammer einer Vakuumbeschichtungsanlage wird eine stoffschlüssig verbundene Baueinheit bezeichnet, die Versteifungselemente beinhaltet. Mit den Versteifungselementen sind Wandungen wie Kammerboden, Kammerwände und Kammerdecke verbunden, die einen Vakuumraum einschließen.
Als Sektion wird ein durch Wände, die quer zur Längserstreckung der Vakuumbeschichtungsanlage in dem Vakuumraum befestigt werden, begrenzter Abschnitt innerhalb eines Vakuumraumes bezeichnet.
Sofern in einer Sektion im Wesentlichen eine Funktion ausgeübt wird, können auch mit der Bezeichnung dieser Funktion, der sie hauptsächlich dienen, bezeichnet werden, wie Prozesssektion, Pumpsektion, Beschichtungssektion o.ä.
Die Anlagenkammer muss hohen mechanischen Anforderungen genügen, bedingt durch die hohen Druckdifferenzen zwischen dem atmosphärischen Luftdruck und dem Hochvakuum. Ursprüngliche Anlagenkammerkonzepte nutzen hier fest eingeschweißte Schottwände zur Versteifung, die ihrerseits die Prozesssektionen vorgeben.
In einer Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage, beispielsweise zum Beschichten von Glas, ist es erforderlich, Prozesssektionen wie Beschichtungssektionen mit Magnetron-Beschichtungsquellen oder andere Prozesssektionen mit Ionenquellen, Meissnerfallen, Heizeranordnungen oder andere technologische Komponenten mit ihrer zugehörigen Vakuumpumpausrüstung in unterschiedlicher technologisch vorgegebener Anordnung und Reihenfolge auszurüsten. Diese Prozesssektionen können jedoch aber auch gleichermaßen mit sehr stark voneinander abweichenden Anforderungen an die jeweilige Prozessumgebung verbunden sein. So stehen z.B. Prozessbedingungen der TCO-Beschichtung bei Temperaturen von bis zu 350 °C gegensätzlich den moderaten Anforderungen von Metallisierungsprozessen bei Raumtemperatur gegenüber.
Bei derartigen Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlagen werden Substrate auf einer Transportvorrichtung, zumeist auf einer Transportebene oder -fläche, d.h. einer Ebene oder Fläche, die alle Transportelemente der Transportvorrichtung verbindet, durch verschiedenen Prozesssektionen hindurch bewegt. In Transportrichtung hintereinander liegende Prozesssektionen können voneinander vakuumtechnisch getrennt sein, um so verschiedene Prozessparameter einstellen zu können. In diesem Falle werden die Substrate durch Strömungsventile, Strömungswiderstände oder Gasseparationen geführt.
Die nach dem Stand der Technik bekannte Aufteilung in feste Prozesssektionen, die zweckmäßigerweise die gleiche Länge aufweisen können, ist für die Herstellung zweckmäßig, da damit die Bauteilvielfalt verringert werden kann und handhabbare Einheiten Verwendung finden.
Auch für den Anwender, insbesondere bei der Beschichtung von Architekturglas, ist die mit dieser bekannten Aufteilung erreichbare Flexibilität in der Anordnung von Prozessausrüstung ausreichend. Anwender von Vakuumbeschichtungsanlagen im Architekturglas-Bereich müssen durch die unterschiedlichen Anforderungen der zu bedienenden Märkte eine flexible Ausrüstung ihrer Anlage sicherstellen. So ist es dort möglich, Prozessausrüstung der einzelnen Prozesssektionen vor Ort quasi je nach technologischem Schichtsystem auszutauschen und zu modifizieren.
Allerdings ist die Aufteilung relativ starr und den Anforderungen nach einer individuellen Prozessanpassung zuwiderlaufend. Insbesondere die Anwender bei der Herstellung photovoltaischer Schichtsysteme setzen meist eine einzige, klar definierte Technologie ein. Hier besteht nun vorab für die Hersteller der Anlagen die Aufgabe, die Prozesssektionen auf Kundenwunsch in unterschiedlichsten Konfigurationen einzuräumen.
Aus DE 36 02 369 C2 ist bekannt, dass für hohe Bearbeitungsgeschwindigkeit geeignete Vakuum-Beschichtungsvorrichtungen häufig aus einer Reihe von zu einer Bearbeitungszeile seriell verbundenen Bearbeitungskammern bestehen, die getrennt evakuierbar sind. Eine derartige Vorrichtung kann eine Eingabeschleuse und Halte- oder Bearbeitungskammern umfassen, die durch Verschlusstore verbunden sind, die sich öffnen, damit Substrate von einer Kammer zur nächsten weitergeleitet werden können. Um den durch das Evakuieren erzeugten Druckkräften besser zu widerstehen, können die Kammerwände mit Rippen versteift sein.
DE 103 52 143 A1 beschreibt eine längserstreckte Vakuumanlage zur ein- oder beidseitigen Beschichtung flacher Substrate, die durch die Vakuumanlage in einer Transportebene mittels eines Transportsystems bewegbar sind, wobei die Vakuumanlage durch Trennwände in zumindest zwei in Substrattransportrichtung aufeinander folgende Kompartments unterteilt ist. Mindestens ein Kompartment umfasst ein oberhalb des Substrats angeordnetes Teilkompartment, welches durch horizontale oder vertikale Elemente in mehrere Sektionen teilbar ist.
Die Aufgabe der Erfindung besteht nunmehr darin, mit der Gestaltung einer Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage einerseits den gegensätzlichen technologischen Anforderungen gerecht zu werden und andererseits mit einem universalen Ansatz in der Kammerkonstruktion die Fertigungskosten bei Anlagen mit starkem Wiederholcharakter zu beschränken.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage mit mindestens zwei miteinander verbundenen benachbarten Anlagenkammern gleicher Gestaltung, wobei die Anlagenkammern statisch bestimmte Versteifungselemente umfassen, mit denen Wandungen, bestehend aus Kammerboden, Kammerwänden und Kammerdecke, verbunden sind, die einen Vakuumraum einschließen, mit Prozesssektionen und mit einer Substrate auf einer Transportebene in Längserstreckung der Vakuumbeschichtungsanlage durch die Prozesssektionen hindurch bewegenden Transportvorrichtung, wobei die Versteifungselemente außerhalb des Vakuumraumes angeordnet und mit der Außenseite des Vakuumraumes stoffschlüssig verbunden sind und an beiden Enden einer Anlagenkammer die Versteifungselemente als Flansche ausgebildet sind, über die eine Anlagenkammer mit einer benachbarten Anlagenkammer gleicher Gestaltung verbunden ist, wobei die Flansche an der Außenseite der den Vakuumraum umschließenden Anlagenkammer mit einer zum jeweiligen Ende weisenden Dichtfläche angeordnet sind, so dass der Vakuumraum vor einer Bestückung als ein über die Längserstreckung der Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage glatter Hohlraum ausgebildet ist und der Vakuumraum mittels nicht aussteifenden und quer zur Längserstreckung befestigten Schottwänden in Prozesssektionen geteilt ist.
Die Versteifungselemente sind außerhalb des Vakuumraumes angeordnet. Anders ausgedrückt, schließt die Anlagenkammer den Vakuumraum von außen ein. Es ragen also keine Versteifungselemente in den Vakuumraum hinein.
Dadurch, dass die zur statisch bestimmten Anlagenkammer notwendigen Versteifungselemente nach außen gesetzt werden, ergibt sich im Inneren des Vakuumraumes auf diese Weise vor der Bestückung durch technologische Komponenten, Transportsysteme oder andere Funktionseinheiten ein völlig offener Prozessraum.
Die Versteifungselemente sind mit der Außenseite des Vakuumraumes verbunden und der Vakuumraum ist vor einer Bestückung als ein über die Längserstreckung der Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage glatter Hohlraum ausgebildet. In diesem Raum können alle möglichen Elemente einer Prozessausrüstung angeordnet werden, ohne besonders auf Rastermaße achten zu müssen. Somit kann eine Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage herstellerseitig individuell den Kundenwünschen angepasst werden.
In dem Vakuumraum sind nicht aussteifende Schottwände quer zur Längserstreckung befestigt, mittels derer der Vakuumraum in Prozesssektionen geteilt ist.
Somit können die Prozesssektionen unabhängig von der Notwendigkeit irgendwelcher mechanischer Stabilität gestaltet werden und der Hersteller ist frei, Kundenwünsche individuell zu realisieren.
An beiden Enden einer Anlagenkammer sind die Versteifungselemente als Flansche ausgebildet. Über diese ist eine Anlagenkammer mit einer benachbarten Anlagenkammer gleicher Gestaltung verbindbar. Dabei sind die Flansche an der Außenseite des Vakuumraumes mit einer zum jeweiligen Ende weisenden Dichtfläche angeordnet. Eine Aneinanderreihung von mehreren Anlagenkammern zur Realisierung einer langen Beschichtungsanlage ist damit einerseits mit geringem Herstellungsaufwand möglich, da die Flanschverbindungen außen liegen und somit leicht zugänglich sind. Andererseits wird durch die außen liegenden Flansche gewährleistet, dass keine Teile in den Vakuumraum hineinragen und dieser somit frei konfigurierbar bleibt.
Durch die Erfindung ist es möglich, gegenüber dem Stand der Technik die Anlagenkammer vollkommen neu zu definieren. Die Anlagenkammer kann nämlich auch nur ein Gerüst darstellen, das mit Wandungen versehen werden kann. In diesem Falle besteht das Gerüst aus Versteifungselementen und mit den Versteifungselementen verbundenen Tragelementen, die mit den Kammerwänden, Kammerboden und Kammerdecke wahlweise mit Befestigungsmitteln mit dem Gerüst vakuumdicht verbunden sind.
In einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass in der Kammerdecke zwischen zwei Versteifungselementen eine Deckenöffnung vorgesehen ist, die mit einem Deckel verschließbar ist. Durch diesen Deckel hindurch ist der Vakuumraum leicht zugänglich. Auch kann der Deckel zur Montage weiterer Baugruppen genutzt werden, wie weiter unten noch dargestellt wird. Auch eventuelle Pumpen können auf dem Deckel installiert werden.
In einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass mindestens eine der Schottwände mit dem Deckel verbunden und durch diesen in den Vakuumraum einsetz- und entfernbar ist. Die ursprünglich an den festen Schottwänden (gemäß dem Stand der Technik) installierten Komponenten (z.B. Abschirmungen) werden nun entweder an flexibel „einknöpfbaren“ Schottwänden oder konsequent am Deckel befestigt.
Die Schottwände können in zwei Varianten konfiguriert werden, nämlich als offene Schottwand, die mit einem vakuumtechnisch offenen Durchtritt von einer Prozesssektion zur anderen ausgebildet ist, oder als geschlossene Schottwand, die mit einem Strömungswiderstand von einer Prozesssektion zur anderen ausgebildet ist.
Die Prozesssektionen selbst können mit folgenden beispielhaften Konfigurationen versehen sein:

– Magnetronsputterquellen (Targets sowohl planar als auch rotierend)
– Pumpsektionen für Prozess- und/oder Gasseparation
– Integration von Meissnerfallen (über Cryogenerator)
– Integration von Heizung sowohl deckel- als auch kammerseitig.

Durch eine entsprechende plane Gestaltung können aufeinander liegende Dichtflächen bereits eine hohe Dichtheit gewährleisten, insbesondere wenn zwischen die Dichtflächen benachbarter Anlagenkammern Dichtelemente vorgesehen sind. Die Dichtheit wird besonders einfach realisiert, indem die Dichtelemente aus einem elastischen Dichtungsmaterial bestehen.
In besonderer Weise zeichnet sich die Gestaltung des außen liegenden Flansches mit der Dichtung dadurch aus, dass die Dichtung als eine den Querschnitt des Vakuumraumes umschließende Ringdichtung ausgebildet ist. Dabei kann eine besonders hohe Dichtheit erreicht werden, indem die Dichtung als Doppeldichtung ausgebildet ist. Diese ist durch einen mit der Dichtfläche verbundenen äußeren Dichtungsring und einen mit der Dichtfläche verbundenen inneren Dichtungsring gekennzeichnet. Mit dieser Dichtungsgestaltung kann eine besonders hohe Dichtungswirkung auch durch eine Zwischenevakuierung zwischen beiden Dichtungsringen erreicht werden.
Die Erfindung soll nun anhand mehrerer Ausführungsbeispiele näher erläutert werden. In den zugehörigen Zeichnungen zeigt
1 einen schematischen Querschnitt mit zwei Magnetron-Prozesssektionen und zugehörigen Pumpsektionen,
2 einen schematischen Querschnitt mit einer Magnetron-Prozesssektion und linksseitiger Pumpsektion,
3 einen schematischen Querschnitt mit einer Magnetron-Prozesssektion und rechtsseitiger Pumpsektion,
4 einen schematischen Querschnitt mit einer Magnetron-Prozesssektion mit zwei Magnetronsystemen in einer Prozesssektion und rechts- und linksseitiger Pumpsektion,
5 einen schematischen Querschnitt mit einer Magnetron-Prozesssektion mit zwei Magnetronsystemen in zwei zueinander offenen Prozesssektionen und rechts- und linksseitiger Pumpsektion,
6 die Darstellung einer offenen Schottwand,
7 die Darstellung einer geschlossenen Schottwand,
8 eine unbestückte Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage,
9 die in Prozesssektionen geteilte Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach 8,
10 die Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach 9 vollständig ausgerüstet,
11 eine Ansicht eines Endes der Anlagenkammer mit einem Flansch mit Dichtung und
12 eine Ansicht eines Endes der Anlagenkammer mit einem Flansch mit Doppeldichtung und Zwischenabsaugung.
1 zeigt eine Anlagenkammer 1 einer erfindungsgemäßen Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage. Die Durchlauf-Beschichtungsanlage ist in den Zeichnungen nur abschnittsweise dargestellt. Eine vollständige Durchlaufbeschichtungsanlage weist mehrere Anlagenkammern 1 auf, die hintereinander liegend miteinander verbunden sind. Am Anfang und am Ende der Durchlauf-Beschichtungsanlage sind dann Pufferkammern und Schleusensysteme vorgesehen.
Die Anlagenkammer 1 umfasst statisch bestimmte Versteifungselemente 4. Diese Versteifungselemente sind beispielsweise durch Schweißen stoffschlüssig zu einer Baueinheit miteinander verbunden. Diese Baueinheit stellt die eigentliche Anlagenkammer 1 dar, die lediglich noch mit Wandungen, wie Kammerboden 5, Kammerwänden 6 und Kammerdecke 7 versehen werden muss, um den Vakuumraum 8 zu bilden. Wie aus den Zeichnungen ersichtlich, sind die Versteifungselemente 4 an der Außenseite 2 des Vakuumraumes 8 angeordnet, ragen also nicht mehr in den Vakuumraum 8 hinein.
Die Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage ist weiterhin mit einer schematisch und auszugsweise dargestellten Transportvorrichtung 10 versehen, mit der nicht näher dargestellte Substrate auf einer Transportebene 11 in Längserstreckung 9 der Vakuumbeschichtungsanlage durch diese hindurch bewegt werden.
Zur Verbindung einer Anlagenkammer 1 mit einer in Längserstreckung 9 benachbarten Anlagenkammer 3 ist die Anlagenkammer 1 mit einem Flansch 12 versehen. In 8 bis 10 sind zwei Anlagenkammern 1 und 3 dargestellt, die mittels der Flansche 12 miteinander verbunden sind. Beide Anlagenkammern 1 und 3 weisen eine gleiche Gestaltung auf.
Da die Flansche 12 ebenfalls Versteifungselemente 4 darstellen, sind diese auch auf der Außenseite 2 des Vakuumraumes 8 angeordnet.
Nach der Montage von Kammerboden 5, Kammerwänden 6 und Kammerdecke 7 an der Anlagenkammer 1 oder 3, und zwar über nicht näher dargestellte Befestigungsmitteln, wie angeschweißte Laschen oder ähnliches an den Seiten der Versteifungselemente 4, die zu dem Vakuumraum 8 weisen, ist der Vakuumraum 8 fertig gestellt und zunächst vor einer Bestückung als ein über die Längserstreckung der Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage glatter Hohlraum ausgebildet. Dies ist in 8 ersichtlich.
In der Kammerdecke 7 zwischen zwei Versteifungselementen 4 ist eine Deckenöffnung 13 vorgesehen ist, die mit einem Deckel 14 verschließbar ist.
In einer weiteren Ausbaustufe, wie sie beispielsweise in 9 ersichtlich ist, werden in dem Vakuumraum 8 nicht aussteifende Schottwände 15 quer zur Längserstreckung 9 befestigt, mittels derer der Vakuumraum 8 in Prozesssektionen 16 geteilt ist. Wie in 6 dargestellt, kann die Schottwand 15 als offene Schottwand 17 mit einem vakuumtechnisch offenen Durchtritt 18 von einer Prozesssektion 16 zur anderen ausgebildet sein. Je nach Prozessanforderung kann aber die Schottwand 15 auch als geschlossene Schottwand 19 mit einem Strömungswiderstand 20 von einer Prozesssektion 16 zur anderen ausgebildet sein.
1 bis 5 zeigen die verschiedenen Einsatzmodi.
So ist in 1 eine erste Magnetronanordnung 21 mit dem Deckel 14 verbunden. Dieses dient der Beschichtung des Substrates mit einem ersten Material. In gleicher Weise ist eine zweite Magnetronanordnung 22 mit dem Deckel 14 einer anderen Prozesssektion 16 verbunden. Die zweite Magnetronanordnung 22 dient der Beschichtung mit einem zweiten Material. Beide benachbarten Prozesssektionen 16 sind durch eine geschlossene Schottwand 19 vakuumtechnisch separiert. Damit ist es möglich, in beiden Prozesssektionen 16 mit verschiedenen Prozessparametern zu beschichten.
Dagegen sind die jeweils äußeren Schottwände 15 als offene Schottwände 17 ausgeführt. Somit können die Prozesssektionen 16 von den benachbarten Pumpen 23 evakuiert werden. Diese Prozesssektionen 16 wirken also als Pumpsektionen.
In 2 wirkt die links von der Prozesssektion 16 mit der Magnetronanordnung 21 angeordnete Prozesssektion 16, die mit der Pumpe 23 versehen ist, infolge der offenen Schottwand 17 als Pumpsektion. Dagegen dient die rechte Prozesssektion 16 wegen der geschlossenen Schottwand 19 einer Gasseparation zu technologisch nachfolgenden Prozesssektionen.
3 zeigt das gleiche Prinzip, nur mit von rechts nach links vertauschten Funktionen.
4 zeigt, dass es möglich ist, problemlos einfach eine Schottwand 15 wegzulassen, und man erhält sofort eine größere Prozesssektion 16, in der in diesem Falle zwei Magnetronanordnungen 21 und 22 zur Beschichtung mit demselben Material vorgesehen sind. Dies kann der Schichtdickenvergrößerung dienen. Es ist aber auch möglich, auf diese Weise zwei verschiedene Materialien einzusetzen, beispielsweise um Gradientenschichten erzeugen zu können. Die außen liegenden Prozesssektionen 16 dienen als Pumpsektionen durch die dazwischenliegenden offenen Schottwände 17.
5 zeigt eine ähnliche Anordnung wie 4, mit dem Unterschied, dass zwischen beiden Magnetronanordnungen 21 und 22 noch eine offene Schottwand 17, möglicherweise zur Montagehilfe für die Magnetronanordnungen 21 und 22, vorgesehen ist.
8 bis 10 zeigen die verschiedenen Phasen der Komplettierung einer erfindungsgemäßen Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage.
Wie insbesondere aus 9 ersichtlich ist, werden nur an den Stellen, die der späteren Montage von Bauteilen oder der vakuumtechnischen Trennung dienen sollen, Schottwände 15 eingebracht. Somit kann eine sehr flexible Gestaltung der Prozesssektionen 16 erreicht werden.
Wie in 10 dargestellt ist, werden bei den Prozesssektionen 16, die Magnetronanordnungen 21 und 22 aufnehmen, besondere Deckel 14 eingesetzt, die der Aufnahme der Magnetronanordnungen 21 und 22 und der Versorgungselemente dienen. Wie weiter ersichtlich ist, sind die anderen Formen der Deckel 14 angepasst, so dass insbesondere eine gleiche Bauhöhe erreicht wird.
Wie in den Zeichnungen weiterhin dargestellt ist, sind die Versteifungselementen 4 an beiden Enden 24 und 25 der Längserstreckung 9 der Anlagenkammer 1 als Flansche 12 ausgebildet. Über diese Flansche 12 können benachbarte Anlagenkammern gleicher Gestaltung verbunden werden. Zur Herstellung einer dichten Verbindung sind die Flansche 12 mit einer zum jeweiligen Enden 24 oder 25 weisenden Dichtfläche 26 versehen.
Wie in 11 dargestellt, ist die Dichtfläche 26 mit einer Dichtung 27 aus einem elastischen Dichtungsmaterial versehen, die als eine den Querschnitt des Vakuumraumes 8 umschließende Ringdichtung ausgebildet ist.
12 zeigt eine weitere Ausführung der Dichtung 27. Diese besteht aus einem mit der Dichtfläche 26 verbundenen äußeren Dichtungsring 28 und einem mit der Dichtfläche verbundenen inneren Dichtungsring 29. Zwischen beiden Ringen 28 und 29 sind Vakuumsaugöffnungen 30 vorgesehen, um die Dichtwirkung zu erhöhen.
Bezugszeichenliste

1: Anlagenkammer
2: Außenseite
3: in Längserstreckung benachbarte Anlagenkammer
4: Versteifungselement
5: Kammerboden
6: Kammerwand
7: Kammerdecke
8: Vakuumraum
9: Längserstreckung
10: Transportvorrichtung
11: Transportebene
12: Flansch
13: Deckenöffnung
14: Deckel
15: Schottwand
16: Prozesssektion
17: offene Schottwand
18: Durchtritt
19: geschlossene Schottwand
20: Strömungswiderstand
21: erste Magnetronanordnung
22: zweite Magnetronanordnung
23: Pumpe
24: Ende der Anlagenkammer
25: Ende der Anlagenkammer
26: Dichtfläche
27: Dichtung
28: äußerer Dichtungsring
29: innerer Dichtungsring
30: Vakuumsaugöffnung

Claims

Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage mit mindestens zwei miteinander verbundenen benachbarten Anlagenkammern gleicher Gestaltung, wobei die Anlagenkammern statisch bestimmte Versteifungselemente umfassen, mit denen Wandungen, bestehend aus Kammerboden, Kammerwänden und Kammerdecke, verbunden sind, die einen Vakuumraum einschließen, mit Prozesssektionen und mit einer Substrate auf einer Transportebene in Längserstreckung der Vakuumbeschichtungsanlage durch die Prozesssektionen hindurch bewegenden Transportvorrichtung, wobei die Versteifungselemente (4) außerhalb des Vakuumraumes (8) angeordnet und mit der Außenseite (2) des Vakuumraumes (8) stoffschlüssig verbunden sind und an beiden Enden einer Anlagenkammer (1; 3) die Versteifungselemente (4) als Flansche (12) ausgebildet sind, über die eine Anlagenkammer (1) mit einer benachbarten Anlagenkammer (3) gleicher Gestaltung verbunden ist, wobei die Flansche an der Außenseite (2) der den Vakuumraum (8) umschließenden Anlagenkammer (1) mit einer zum jeweiligen Ende weisenden Dichtfläche (26) angeordnet sind, so dass der Vakuumraum (8) vor einer Bestückung als ein über die Längserstreckung (9) der Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage glatter Hohlraum ausgebildet ist und der Vakuumraum (8) mittels nicht aussteifenden und quer zur Längserstreckung (9) befestigten Schottwänden (15; 17; 19) in Prozesssektionen (16) geteilt ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Versteifungselemente mit Tragelementen versehen sind und dass Kammerwände (6), Kammerboden (5) und Kammerdecke (7) mit den Tragelementen insbesondere mittels Befestigungsmitteln und damit mit den Versteifungselementen (4) vakuumdicht verbunden sind.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass in der Kammerdecke (7) zwischen zwei Versteifungselementen (4) eine Deckenöffnung (13) vorgesehen ist, die mit einem Deckel (14) verschließbar ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens eine der Schottwände (15; 17; 19) mit dem Deckel (14) verbunden ist und durch diesen in den Vakuumraum (8) einsetz- und entfernbar ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass eine Schottwand (15) als offene Schottwand (17) mit einem vakuumtechnisch offenen Durchtritt (18) von einer Prozesssektion (16) zur anderen ausgebildet ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass eine Schottwand (15) als geschlossene Schottwand (19) mit einem Strömungswiderstand (20) von einer Prozesssektion (16) zur anderen ausgebildet ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass mit einer Schottwand (15; 17; 19) Funktionselemente der Prozesssektion (16) verbunden sind.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass eine Prozesssektion (16) mit einer Magnetronsputterquelle (21; 22) versehen ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetronsputterquelle (21; 22) ein Planar-Target aufweist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Magnetronsputterquelle (21; 22) als Rohrmagnetron ausgebildet ist und ein Rohr-Target aufweist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtfläche (26) mit einer Dichtung (27) aus einem elastischen Dichtungsmaterial versehen ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (27) als eine den Querschnitte des Vakuumraumes (8) umschließende Ringdichtung ausgebildet ist.
Durchlauf-Vakuumbeschichtungsanlage nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Dichtung (27) aus einem mit der Dichtfläche (26) verbundenen äußeren Dichtungsring (28) und einem mit der Dichtfläche (26) verbundenen inneren Dichtungsring (29) besteht.