DE102009019426B4 - Verfahren zum Inspizieren der Einregelzeit eines Ablenkungsverstärkers und Verfahren zum Beurteilen des Versagens eines Ablenkungsverstärkers - Google Patents
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Abstract
Auswählen zweier Muster unterschiedlicher Art, die dadurch geformt werden, dass ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, eine erste und zweite Öffnung zu passieren;
Einstellen einer Einregelzeit, die dafür benötigt wird, eine Ablenkung zwischen zwei Positionen an der zweiten Öffnung auszuführen, um den geladenen Partikelstrom zur Ausformung der zwei Muster unterschiedlicher Art abzulenken;
mehrmaliges Durchführen eines Schießens, um abwechselnd die zwei Muster unterschiedlicher Art zu projizieren, die dadurch geformt werden, dass der geladene Partikelstrom dazu gebracht wird, die ersten und zweiten Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen Deflektor abgelenkt wird, der durch die Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuert wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird;
Messen von Strahlströmen des Schießens;
Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme; und
Berechnen einer Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, um die Differenz auszugeben,
wobei das Durchführen des Schießens, die Messung der Strahlströme, die Berechnung des Integralstroms und die Berechnung der Differenz durchgeführt wird, während die Einregelzeit verändert wird,
weiter umfassend:
Finden einer Einregelzeit, basierend darauf, welche der berechneten Differenzen kleiner wird.
Description
- QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNG
- Diese Anmeldung basiert auf und beansprucht den Prioritätsnutzen aus der früheren
japanischen Patentanmeldung Nr. 2008-119557 - HINTERGRUND DER ERFINDUNG
- Gebiet der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers und ein Verfahren zum Beurteilen eines Versagens eines Ablenkverstärkers. Beispielsweise bezieht sie sich auf ein Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Formungsverstärkers zum Ablenken von Elektronenstrahlen, der in einer Elektronenstrahl-Schreibvorrichtung installiert ist, die variabel geformte Elektronenstrahlen ablenkt, um ein Zielwerkstück zu bestrahlen, und auf ein Verfahren zum Detektieren eines Versagens eines Formungsverstärkers.
- Beschreibung verwandten Stands der Technik
- Die Mikrolithografietechnik, die die Mikrominiaturisierung von Halbleitervorrichtungen vorantreibt, ist extrem wichtig, da sie der einzige Prozess zum Ausbilden von Mustern bei Halbleiterherstellprozessen ist. In den letzten Jahren schrumpfen bei hoher Integration von integrierten Schaltungen in großem Maßstab (LSI, large-scale integrated circuits) die für die Halbleitervorrichtungsschaltungen erforderlichen kritischen Abmessungen mit jedem Jahr. Um ein gewünschtes Schaltungsmuster auf Halbleitervorrichtungen auszubilden, wird ein Stamm- oder „Original“-Muster (was auch als Maske oder Retikel bezeichnet wird) hoher Genauigkeit benötigt. Dann wird die Elektronenstrahlschreibtechnik, die intrinsisch eine exzellente Auflösung aufweist, zur Herstellung solcher hochpräziser Stammmuster verwendet.
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13 ist ein schematisches Diagramm, welches den Betrieb eines konventionellen variabel geformten Elektronenstrahl-(EB) Typ-Schreibapparats zeigt. Wie in der Figur gezeigt, arbeitet die Schreibvorrichtung des Elektronenstrahls variabler Form, die zwei Lochplatten beinhaltet, wie folgt: eine erste Lochplatte410 hat eine viereckige, wie etwa eine rechteckige Öffnung oder „Loch“411 zum Formen eines Elektronenstrahls330 . Eine zweite Lochplatte420 weist eine variabel geformte Öffnung421 zum Formen des Elektronenstrahls330 , der die Öffnung411 passiert hat, in eine gewünschte rechteckige Form auf. Der Elektronenstrahl330 , der aus der Ladungspartikelquelle430 emittiert worden ist und die Öffnung411 passiert hat, wird von einem Deflektor abgelenkt, um einen Teil der variabel geformten Öffnung421 zu passieren, und dadurch ein Zielwerkstück oder eine „Probe“340 zu bestrahlen, die auf einer Bühne montiert ist, die sich während des Schreibens oder „Zeichnens“ kontinuierlich in einer vorbestimmten Richtung (z.B. der X-Richtung) bewegt. Anders ausgedrückt wird ein als Ergebnis des Passierens der Öffnung411 und der variabel geformten Öffnung421 geformtes Rechteck in den Schreibbereich des Zielwerkstücks430 auf der Bühne geschrieben. Dieses Verfahren zum Ausbilden einer gegebenen Form, indem man Strahlen durch sowohl die Öffnung411 als auch die variabel geformte Öffnung421 passieren lässt, wird vorzugsweise als ein „variabel geformtes“ Verfahren bezeichnet. - Bei der Musterschreibvorrichtung, wie oben erwähnt, wird ein Muster auf ein Zielwerkstück durch eine Ablenkung eines geladenen Partikelstrahls, wie etwa einem Elektronenstrahl, projiziert. Für eine solche Strahlablenkung wird ein Ablenkverstärker verwendet. Als Funktionen der Strahlablenkung, die den Ablenkverstärker verwendet, können beispielhaft das Steuern der Form oder Größe eines geschossenen Elektronenstrahls, das Steuern einer Schussposition und das Dunkelsteuern des Strahls angegeben werden.
- In den letzten Jahren ist ein für die Elektronenstrahlmusterschreibvorrichtung verlangter Durchsatz sehr hoch. Auch wird gefordert, dass die Vorbereitungszeit (Einregelzeit) in Bezug auf eine Schussposition oder eine Strahlform verkürzt wird. Obwohl die Einregelzeit beliebig eingestellt werden kann, wird der Durchsatz, falls sie lang eingestellt wird, entsprechend verringert. Andererseits wird, wenn die Einregelzeit zu kurz ist, da keine hinreichende Spannung an einen Deflektor angelegt ist, die notwendige Ablenkung nicht durchgeführt. Folglich kann ein Fehler in Bezug auf eine Musterdimension oder eine Schussposition auftreten. Daher ist das Finden der optimalen Einregelzeit erforderlich. Um die optimale Einregelzeit zu finden, werden konventionellerweise das Schreiben auf ein Substrat, auf das Resist (Abdecker) aufgebracht ist, das Entwickeln des beschriebenen Substrats und das Messen der Abmessung eines durch Ätzen geformten Musters tatsächlich durchgeführt. Dann wird, wobei diese Operationen wiederholt durchgeführt werden, während die Einregelzeit verändert wird, eine Einregelzeit, auf der basierend eine hochpräzise Musterabmessung geformt wird, als die optimale Einregelzeit angesehen. Diese Vorgänge erfordern konventioneller Weise etwa zehn Stunden und es wird daher gefordert, die Zeit für die Vorgänge zu reduzieren.
- Darüber hinaus, wenn ein Fehler in Bezug auf eine Musterabmessung oder eine Schussposition auftritt, wird das Identifizieren der Ursache des Fehlers notwendig. Falls es möglich ist, rasch zu entscheiden, ob die Ursache ein Versagen eines Formungsverstärkers ist oder nicht, kann die Stillstandszeitperiode der Vorrichtung verkürzt werden. Daher wird ein Verfahren zum raschen Entscheiden eines Versagens eines Formungsverstärkers verlangt. Dann belegt, als eine Ursache des Versagens des Formungsverstärkers die Degradierung der Einschwingleistung viel der Ursache. Daher wird ein Verfahren zum raschen Entscheiden, ob die Einschwingleistung nachgelassen hat oder nicht, verlangt. Jedoch ist konventioneller Weise kein hinreichendes Entscheidungsverfahren etabliert worden.
- Obwohl nicht auf einem Defekt des Formungsverstärkers bezogen, wird eine Technik offenbart, die Ablenkdaten in einen von zwei Formungsverstärkern und andere Ablenkdaten, die eine reverse Richtung zu den vorstehenden aufweisen, zeitdifferentiell in den anderen Formungsverstärker unter einem gewissen Zyklus vor und nach dem Schreiben eingibt, und misst einen Spannungsänderung am Mittelpunkt eines Messwiderstands zwischen entsprechenden Ausgängen durch Verwenden eines Oszilloskops, um die Einregelzeit des Formungsverstärkers zu detektieren (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2004-259812).
- Wie oben erwähnt wird ein Verfahren zum raschen Auffinden der optimalen Einregelzeit verlangt und es wird auch ein Verfahren zum raschen Entscheiden, ob die Einschwingleistung nachgelassen hat oder nicht, verlangt. Jedoch sind keine zufrieden stellenden Verfahren etabliert worden.
- KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
- Eine der Aufgaben gemäß der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zum raschen Inspizieren und Detektieren der optimalen Einregelzeit. Darüber hinaus ist eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung die Bereitstellung eines Verfahrens zum raschen Entscheiden, ob die Einschwingleistung nachgelassen hat oder nicht.
- Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet ein Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers das Einstellen einer Einregelzeit, das mehrmalige Durchführen von abwechselndem Schießen, um zwei Muster unterschiedlicher Typen zu projizieren, die geformt werden, indem ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, erste und zweite Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen, durch eine Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuerten Deflektor abgelenkt wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird, das Messen von Strahlströmen des Schießens, das Berechnen eines integralen Stromes der gemessenen Strahlströme und das Berechnen einer Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einen Referenzintegralstrom, um die Differenz auszugeben.
- Gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet ein Verfahren zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers das Einstellen einer Einregelzeit, das Durchführen von mehrmaligem abwechselndem Schießen, um zwei Muster unterschiedlicher Arten zu projizieren, die geformt werden, indem ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, erste und zweite Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen, durch eine Ausgabe eines basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetriebenen Ablenkverstärkers gesteuerten Deflektor abgelenkt werden, das Messen von Strahlströmen des Schießens, das Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme, das Berechnen einer ersten Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom und das Entscheiden, dass ein Versagen beim Ablenkverstärker vorliegt, wenn eine zweite Differenz zwischen der berechneten ersten Differenz und einem Referenzwert der Einregelzeit einen vorgegebenen Bereich übersteigt.
- Figurenliste
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1 ist ein schematisches Diagramm, welches eine Struktur einer Musterschreibvorrichtung gemäß Ausführungsform 1 zeigt; -
2 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung der ersten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt; -
3 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung einer zweiten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt; -
4 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform 1 zeigt; -
5 zeigt ein Beispiel einer durch Ablenkung geformten Position gemäß Ausführungsform 1; -
6 zeigt ein Beispiel von Figuren, die gemäß Ausführungsform 1 abwechselnd projiziert werden; -
7 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen einer Einregelzeitt und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform 1; -
8 zeigt eine Beziehung zwischen einer Ablenkdistanzd und der optimalen Einregelzeitt gemäß Ausführungsform 1; -
9 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform2 zeigt; -
10 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen einer Einregelzeitt und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform2 ; -
11A und11B zeigen Beispiele einer Bestrahlungsposition im Fall der Durchführung des Schießens, während die Bestrahlungsposition verändert wird; -
12 zeigt eine Beziehung zwischen einer Dimensionsabweichung und einer Einregelzeit im Falle einer Evaluierung einer Einregelzeit durch ein mit Ausführungsform2 zu vergleichendes konventionelles Verfahren; und -
13 ist ein schematisches Diagramm, welches den Betrieb einer variabel geformten Elektronenstrahltypschreibvorrichtung zeigt. - DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
- In den folgenden Ausführungsformen wird eine einen Elektronenstrahl als ein Beispiel eines geladenen Partikelstrahls verwendende Struktur beschrieben. Der geladene Partikelstrahl ist nicht auf einen Elektronenstrahl beschränkt. Es kann auch ein anderer geladener Partikelstrahl, wie etwa ein Ionenstrahl, verwendet werden. Als ein Beispiel einer geladenen Partikelstrahlvorrichtung wird eine Elektronenstrahlschreibvorrichtung vom variablen Formtyp beschrieben.
- Ausführungsform 1
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1 ist ein schematisches Diagramm, welches die Struktur einer Musterschreibvorrichtung gemäß Ausführungsform 1 zeigt. In der Figur beinhaltet eine Musterschreibvorrichtung100 eine Schreibeinheit150 und eine Steuereinheit160 . Die Musterschreibvorrichtung100 ist ein Beispiel einer Schreibvorrichtung eines Musters eines geladenen Partikelstrahls und insbesondere ein Beispiel einer Schreibvorrichtung vom variabel geformten Typ. Die Schreibvorrichtung150 beinhaltet einen Elektronenobjektivtubus102 und eine Schreibkammer103 . Im Elektronenobjektivtubus102 sind eine Elektronenkanonenanordnung201 , eine Illuminationslinse202 , eine erste Lochplatte203 , eine Projektionslinse204 , ein Deflektor205 , eine zweite Lochplatte206 , eine Objektivlinse207 und ein Deflektor208 angeordnet. In der Schreibkammer gibt es eine XY-Bühne105 , auf der ein Zielwerkstück, wie etwa eine Maske (hier nicht gezeigt), die als ein Schreibziel dient, beim Schreiben platziert ist. Auf der XY-Bühne105 ist ein Faraday-Cup209 an einer anderen Position als der des Zielwerkstückes platziert. Die Steuereinheit160 beinhaltet einen Steuerrechner110 , einen Speicher112 , einen Monitor114 , eine Schnittstellenschaltung116 , eine Ablenksteuerschaltung120 , einen DAC (Digital Analog Wandler) 122, einen Ablenkverstärker124 und ein Messinstrument210 . Der Speicher112 , der Monitor114 , die Schnittstellenschaltung116 , die Ablenksteuerschaltung120 und das Messinstrument210 sind mit dem Steuerrechner110 durch einen (nicht gezeigten) Bus verbunden. Darüber hinaus ist die Ablenksteuerschaltung120 mit dem Ablenkverstärker124 über den DAC122 verbunden. Der Ablenkverstärker125 ist mit dem Deflektor205 verbunden. Das Messinstrument210 ist mit dem Faraday-Cup209 verbunden. Eingangsdaten, die aus dem Steuerrechner110 einzugeben sind, oder ein betätigtes oder berechnetes Ergebnis werden im Speicher112 gespeichert. Während1 nur die Strukturelemente zeigt, die zum Erläutern von Ausführungsform 1 notwendig sind, versteht sich, dass auch andere Strukturelemente, die allgemein für die Schreibvorrichtung100 nötig sind, beinhaltet sein können. -
2 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung der ersten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt.3 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung der zweiten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt. In2 ist ein Öffnungsbereich10 eines Vierecks, wie etwa einem Quadrat oder einem Rechteck, in der ersten Lochplatte203 ausgeformt. In3 ist ein Öffnungsbereich20 , der durch Verbinden einer Seite eines Rechtecks und einer Seite eines Hexagons gemacht ist, in der zweiten Lochplatte206 ausgeformt. Der Öffnungsbereich20 ist so ausgeformt, dass er eine Figur ist, deren spitze Winkel alle ein integrales Vielfaches von beispielsweise 45 Grad sind. - Die Schreibvorrichtung
100 arbeitet wie folgt: ein aus der Elektronenstrahlanordnung201 emittierter Elektronenstrahl200 bestrahlt die gesamte erste Lochplatte203 mit einem Rechteck, wie etwa einer rechteckigen Öffnung, durch die Illuminationslinse202 . An diesem Punkt wird der Elektronenstrahl200 so geformt, dass er ein Viereck, wie etwa ein Rechteck, ist. Dann, nachdem er den Öffnungsbereich der ersten Lochplatte203 passiert hat, wird der Elektronenstrahl200 eines ersten Öffnungsbildes mittels Projektionslinse204 auf die zweite Lochplatte206 projiziert. Ein einen Betrag an Ablenkung anzeigendes Digitalsignal, das von der Ablenksteuerschaltung120 ausgegeben wird, wird im DAC122 in eine analoge Ablenkspannung umgewandelt und diese an den Deflektor205 angelegt, nachdem sie durch den Ablenkverstärker124 verstärkt worden ist. Das erste Öffnungsbild auf der zweiten Lochplatte206 wird durch den Deflektor205 , an den die Ablenkspannung angelegt wird, ablenk-gesteuert, wodurch die Form und Größe des Strahles verändert wird. Nachdem er den Öffnungsbereich der zweiten Lochplatte206 passiert hat, wird der Elektronenstrahl200 eines zweiten Öffnungsbildes durch die Objektivlinse207 fokussiert und durch den Deflektor208 abgelenkt, um die gewünschte Position auf dem, auf der sich kontinuierlich bewegenden XY-Bühne205 platzierten Zielwerkstück zu erreichen. Obwohl die Einregelzeit des Ablenkverstärkers124 für den zur Strahlformung verwendeten Deflektor205 beliebig eingestellt werden kann, wird, falls sie lang eingestellt wird, der Durchsatz um soviel verringert. Andererseits, falls die Einregelzeit zu kurz ist, wird, da keine hinreichende Spannung an den Deflektor205 angelegt wird, die notwendige Ablenkung nicht durchgeführt. - Folglich kann ein Fehler in Bezug auf eine Dimension eines auszubildenden Musters auftreten. Daher ist das Auffinden der optimalen Einregelzeit notwendig. In Ausführungsform 1 wird untenstehend ein Verfahren zum Auffinden der optimalen Einregelzeit, ohne ein tatsächliches Schreiben auf ein Zielwerkstück zur Inspektion durchzuführen, beschrieben.
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4 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Inspizieren der Einregelzeit eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform 1 zeigt. In4 führt das Verfahren eine Reihe von Schritten aus: Einen SchussschrittS102 , einen StrahlstrommessschrittS104 , einen AnzahlbewertungsschrittS106 , einen AnzahländerungsschrittS108 , einen Integralstrom-BerechnungsschrittS110 , einen DifferenzberechnungsschrittS112 , einen Einregelzeit-BewertungsschrittS114 und einen Einstellzeit-ÄnderungsschrittS116 . -
5 zeigt ein Beispiel einer durch Ablenkung gemäß Ausführungsform 1 ausgebildeten Position.5 zeigt ein Beispiel einer überlappenden Position zwischen einem ersten formenden Öffnungsbild12 , das den Öffnungsbereich10 passiert hat, und dem Öffnungsbereich20 der zweiten Lochplatte206 . Falls der Elektronenstrahl200 nicht durch den Deflektor205 abgelenkt wird, wird das erste formende Öffnungsbild12 auf eine mit (0) bezeichnete Position, die gegenüber dem Öffnungsbereich20 versetzt ist, projiziert. - Wenn beispielsweise der Elektronenstrahl
200 zu einem Quadrat oder einem Rechteck ausgeformt wird, wird das erste Formungsöffnungsbild12 durch den Deflektor205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (1) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der Bereich im Projektionsbild, der in Schraffur gezeigt ist, der den Öffnungsbereich20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild. - Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl
200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in5 unten links lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild12 durch den Deflektor205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (2) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild. - Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl
200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in5 unten rechts lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild12 durch den Deflektor205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (3) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild. - Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl
200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in5 oben rechts lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild12 durch den Deflektor205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (4) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild. - Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl
200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in5 oben links lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild12 durch den Deflektor205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (5) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild. - Ein gewünschtes Muster wird auf ein Zielwerkstückgeschrieben, indem solche Figuren bei jedem Schuss verändert werden. In Bezug auf die Einregelzeit
t des Ablenkverstärkers124 ist es beispielsweise notwendig, eine Zeit einzustellen, die benötigt wird, um Ablenkung zwischen zwei Positionen von den Positionen von (0) bis (5) durchzuführen. Als Beispiel wird die Einregelzeit, die benötigt wird, um eine Ablenkung von der durch (2) bezeichneten Position zu der durch (4) bezeichneten Position durchzuführen, unten beschrieben. - Zuerst wird die Einregelzeit
t des Ablenkverstärkers124 auf einen einstellbaren Minimalwertt0 eingestellt. Die XY-Bühne105 wird so bewegt, dass der Faraday-Cup209 auf der optischen Achse des Elektronenstrahls200 lokalisiert sein kann. Wenn der Elektronenstrahl200 , der den Öffnungsbereich20 passiert hat, auf die optische Achse geschossen wird, ohne vom Deflektor208 abgelenkt zu werden, ist eine Ablenkung durch den Deflektor208 nicht erforderlich. Falls der Elektronenstrahl200 , der den Öffnungsbereich20 passiert hat, von der optischen Achse abweicht, ist es notwendig, den Elektronenstrahl200 , den Öffnungsbereich20 passiert hat, abzulenken, so dass er auf den Faraday-Cup209 geschossen werden kann. - In Schritt
S102 wird als ein Schussschritt, während der Elektronenstrahl200 durch den durch eine Ausgabe des Ablenkverstärkers124 gesteuerten Deflektor205 , welcher basierend auf der eingestellten Einregelzeitt angetrieben wird, abgelenkt wird, das Schießen mehrmals alternierend durchgeführt, um zwei Muster unterschiedlicher Arten zu projizieren, die dadurch geformt werden, dass der Elektronenstrahl200 dazu gebracht wird, sowohl die erste Lochplatte203 als auch die zweite Lochplatte206 zu passieren. -
6 zeigt ein Beispiel von Figuren, die gemäß Ausführungsform1 abwechselnd projiziert werden.6 zeigt den Fall, als Beispiel, bei dem ein Muster30 eines rechtwinkligen gleichschenkligen Dreiecks, dessen rechter Winkel unten links lokalisiert ist, fabriziert durch das Projizieren des ersten Formungsöffnungsbildes12 auf die mit (2) bezeichnete Position, und eines Musters32 eines rechtwinkligen gleichschenkligen Dreiecks, dessen rechter Winkel oben rechts lokalisiert ist, das durch Projizieren des ersten Formungsöffnungsbildes12 auf die mit (4) bezeichnete Position fabriziert wird, abwechselnd ausgebildet werden. Wenn das Schießen mehrmals durchgeführt wird, um solche zwei Muster unterschiedlicher Typen zu projizieren, wird der Elektronenstrahl200 dazu gebracht, jedes Mal dieselben Positionen der ersten Lochplatte203 und der zweiten Lochplatte206 zu passieren. - In Schritt
S104 wird als ein Strahlstrommessschritt der Strahlstrom des den Faraday-Cup209 bestrahlenden Elektronenstrahls200 bei jedem Schuss gemessen. Ein Strahlstromwert des den Faraday-Cup209 bestrahlenden Elektronenstrahls200 wird durch das Messinstrument210 gemessen und als Digitalsignal an den Steuerungsrechner110 ausgegeben. - In Schritt
S106 zählt als ein Anzahlbewertungsschritt der Steuerrechner110 die Anzahln an Schüssen und entscheidet, ob die Anzahln gleich einer vorgegebenen Anzahlk ist oder nicht. Beispielsweise ist es zu bevorzugen, das eingestellt wird, dass das Schießen mehrere tausend Male für jedes Muster durchgeführt wird. - In Schritt
S108 addiert als ein Anzahländerungsschritt, wenn die Anzahln von Schüssen die vorgegebene Anzahl k nicht erreicht hat, der Steuerrechner110 1 zu n und kehrt zuS102 zurück. - Wie oben erwähnt, werden die Schritte von
S102 bisS108 mehrmals wiederholt, während das Schießen durchgeführt wird, so dass die Muster30 und32 abwechselnd ausgebildet werden können. Wenn beispielsweise das Schießen mehrere tausend Mal für jedes Muster durchgeführt wird, indem die Musterschreibvorrichtung100 verwendet wird, kann ein solches Schießen in etwa einer Sekunde beendet werden. - In Schritt
S110 integriert als ein Integralstrom-Berechnungsschritt der Steuerrechner110 Strahlströme, die gemessen werden, wenn das Schießen mehrmals durchgeführt wird, um die Muster30 und32 abwechselnd auszubilden, um dadurch einen Integralstrom zu berechnen. - In Schritt
S112 berechnet als ein Differenzberechnungsschritt der Steuerrechner110 eine Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, die nachfolgend als Integralstromdifferenz bezeichnet werden wird. Dann wird ein Rechenergebnis ausgegeben, um im Speicher112 gespeichert zu werden. Alternativ kann das Berechnungsergebnis nach außen über die I/F-Schaltung116 ausgegeben werden. Der Referenz-Integralstrom kann erhalten werden, indem Strahlströme integriert werden, die gemessen werden, wenn ein Schießen eine vorgegebene Anzahl lang kontinuierlich durchgeführt wird, um das Muster30 auszubilden, und wenn ein Schießen eine vorgegebene Anzahl mal kontinuierlich ausgeführt wird, um das Muster32 auszubilden, in einem Zustand, wo gleichermaßen die Einregelzeit für sie eingestellt wird. Dieser Referenz-Integralstrom kann vorab gemessen und berechnet werden. Alternativ wird es ebenfalls bevorzugt, parallel den Fall eines Schießens eines Strahls zur abwechselnden Ausformung der Muster30 und32 , was den SchrittenS102 bisS110 entspricht, und den Fall des Schießens eines Strahls zur kontinuierlichen Ausformung des Musters30 und dann Vornehmen desselben, um kontinuierlich das Muster32 auszuformen, durchzuführen, was den Schritten zum Erhalten des Referenz-Integralstroms entspricht. Der durch Durchführen des Schießens zur kontinuierlichen Ausformung des Musters32 und dann Durchführen desselben zur kontinuierlichen Ausformung des Musters30 erhaltene Integralstrom kann als der Referenz-Integralstrom betrachtet werden. - In Schritt
S114 , entscheidet als ein Einregelzeit-Entscheidungsschritt der Steuerrechner110 , ob die Einregelzeitt , die eingestellt worden ist, eine vorgegebene Maximalzeit tm erreicht hat oder die Einregelzeitt die Maximalzeit tm überschritten hat. Wenn die Einregelzeitt die Maximalzeit tm nicht erreicht hat, wird Δt zur Einregelzeitt addiert und es wird zu SchrittS102 zurückgekehrt. Falls die Einregelzeitt den Maximalwert tm erreicht hat, wird beendet. - Wie oben erwähnt, werden die Schritte
S102 bisS116 wiederholt, während graduell die Einregelzeit t groß gemacht wird. Wenn eine Differenz zwischen dem Integralstrom und dem Referenz-Integralstrom groß ist, wird entschieden, dass die Einregelzeit keinen optimalen Wert aufweist. Daher ist es beim Durchführen jenes Schritts, während die Einregelzeit verändert wird, nötig, die Einregelzeit zu finden, auf der basierend die Differenz kleiner wird. Aufgrund dieses Verfahrens ist es beispielsweise möglich, eine Beziehung zwischen der Einregelzeitt und der Integralstromdifferenz im Fall der Durchführung einer Ablenkung aus der mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position in5 zu erhalten. -
7 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen der Einregelzeit t und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform 1. In der Figur zeigt der mit „A “ bezeichnete Liniengraph eine Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der Integralstromdifferenz im Falle der Durchführung einer Ablenkung aus der mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position. Der mit „B“ bezeichnete Liniengraph zeigt eine Beziehung zwischen der Einregelzeitt und der Integralstromdifferenz im Falle der Durchführung einer Ablenkung aus der mit (3) bezeichneten Position zu der mit (5) bezeichneten Position. Da die Anzahl von ausgebildeten Mustern folglich in beiden Fällen des Schießens eines Strahls zum kontinuierlichen Formen eines Musters und dann Vornehmen desselben zum kontinuierlichen Formen des anderen Musters , und des Schießens eines Stroms zum abwechselnden Formen des Musters dieselbe ist, sollten Werte des Integralstroms in beiden Fällen auch gleich sein, falls die Einregelzeit ausreicht. Daher sollte die Einregelzeit, basierend auf der die Integralstromdifferenz im Wesentlichen Null ist, als die optimale Zeit angesehen werden. Es ist schwierig, die Einregelzeit zu bewerten, indem nur ein Strahlstrom gemessen wird, weil der Stromwert zu klein ist. Indem jedoch ein durch Integrieren von Strahlströmen, die mehrmals geschossen werden, erhaltener Integralstrom verwendet wird, kann der Stromwert groß gemacht werden, wodurch die Differenz klar bewertbar gemacht wird. Gemäß7 kann aus Graph A erkannt werden, dass die optimale Einregelzeit bei Durchführen einer Ablenkung aus der durch (2) bezeichneten Position zu der durch (4) bezeichneten Position in5 etwa 200 nsec ist. Darüber hinaus kann aus dem Graphen B erkannt werden, dass die optimale Einregelzeit bei Durchführung einer Ablenkung aus der mit (3) bezeichneten Position zu der mit (5) bezeichneten Position in5 ungefähr 150 nsec beträgt. Der Graph wird durch den Steuerrechner110 erzeugt, um auf dem Monitor114 angezeigt zu werden, um von einem Anwender betrachtet zu werden. Alternativ kann er über die IF-Schaltung116 nach außen ausgegeben werden. -
8 zeigt eine Beziehung zwischen einer Ablenkdistanzd und der optimalen Einregelzeitt gemäß Ausführungsform 1. Obwohl der Fall der Durchführung einer Ablenkung aus der in5 mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position im oben erwähnten Beispiel beschrieben ist, wird eine Messung in ähnlicher Weise zwischen zwei anderen Positionen durchgeführt, um eine Korrelationstabelle40 zu erzeugen, die eine Beziehung zwischen der Ablenkdistanz d und der optimalen Einregelzeitt zeigt. Es werden ungefähr 30 bis 60 Minuten zum Erzeugen der Korrelationstabelle40 benötigt. Durch Bezugnahme auf die Korrelationstabelle40 kann die optimale Einregelzeitt aus der Distanzd , die zur Ablenkung für die Ausbildung notwendig ist, erkannt werden. - Wie oben beschrieben, ist es gemäß Ausführungsform 1, da die optimale Einregelzeit basierend auf einer Differenz zwischen einem Strahl-Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom bewertet werden kann, nicht notwendig, tatsächlich ein Muster auf das Substrat zu schreiben. Daher wird die Zeit zum Vorbereiten eines Substrates mit aufgetragenem Resist unnötig, obwohl eine solche Zeit konventioneller Weise erforderlich war. Darüber hinaus wird Zeit zum Entwickeln, Zeit zum Ätzen und Zeit zum tatsächlichen Messen der Abmessung eines ausgebildeten Musters überflüssig. Daher kann im Vergleich zu einem konventionellen Fall die Zeit zum Inspizieren der optimalen Einregelzeit eines formenden Verstärkers stark reduziert werden, wodurch die optimale Einregelzeit schnell gefunden wird.
- Ausführungsform 2
- In Ausführungsform 1 ist ein Verfahren zum Inspizieren der optimalen Einregelzeit eines Ausformungsverstärkers beschrieben worden. In Ausführungsform 2 wird ein Verfahren zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers beschrieben, indem eine Beziehung zwischen der Einregelzeit
t und der oben erwähnten Integralstromdifferenz verwendet wird. -
9 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform 2 zeigt.9 ist wie4 , außer bezüglich der Hinzufügung eines BewertungsschrittesS118 nach dem Einregelzeit-BewertungsschrittS114 . Darüber hinaus ist auch die Struktur der Vorrichtung dieselbe wie diejenige von1 . Wenn in einer Musterabmessung ein Fehler auftritt wird, ob der Fehler durch ein Versagen des Ablenkverstärkers124 verursacht wird oder nicht, wie folgt bewertet: - Ein Referenzwert jeder Einregelzeit wird vorderhand unter Verwendung eines formenden Verstärkers berechnet, der nicht defekt ist. Dann wird jeder Schritt von
S102 bisS114 ähnlich wie in Ausführungsform 1 durchgeführt, indem der Ablenkverstärker124 verwendet wird, der eine Wahrscheinlichkeit dafür aufweist, in einem Versagenszustand zu sein. Dadurch ist es möglich, eine Beziehung zwischen der Einregelzeitt und einer Integralstromdifferenz im Falle der Verwendung des Ablenkverstärkers mit einer Wahrscheinlichkeit dafür, in einem Versagenszustand zu sein, zu erhalten. -
10 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen der Einregelzeitt und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform2 . In der Figur zeigen die durch „A' “ und „B' “ bezeichneten Liniengraphen Beispiele einer Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der Integralstromdifferenz, die unter Verwendung des Ablenkverstärkers124 erhalten wird, der eine Wahrscheinlichkeit dafür hat, in einem Versagenszustand vorzuliegen. Es versteht sich, dass das Vergleichen unter Verwendung von Ergebnissen der Ausbildung desselben Musters durchgeführt wird. - In Schritt
S118 wird als ein Bewertungsschritt, wenn eine Differenz (zweite Differenz) zwischen einer berechneten Differenz (erste Differenz), welches die Integralstromdifferenz zwischen einem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, der in SchrittS112 berechnet worden ist, ist, und einem Referenzwert der Einregelzeit einen vorgegebenen Bereich übersteigt, bewertet, dass es ein Versagen beim Ablenkverstärker124 gibt. Diese Bewertung kann von dem Steuerrechner110 oder dem Anwender durchgeführt werden. Wie in7 gezeigt, ist gemäß der Evaluierung von Ausführungsform1 die Integralstromdifferenz des LiniengraphenA im Wesentlichen0 bei um die 200 nsec. Auf der anderen Seite ist im Beispiel von10 die Integralstromdifferenz vonA' und die Integralstromdifferenz vonB' weit weg von 0, im Zeitraum der Einregelzeitt von 100 nsec bis 400 nsec. Daher, wenn ein solches Ergebnis erhalten wird, kann festgestellt werden, dass der Ablenkverstärker124 mit einer Wahrscheinlichkeit dafür, dass er in einem Versagenszustand ist, tatsächlich kaputt ist. Der Bereich einer Referenz, die zum Bewerten eines Versagens eingesetzt wird, kann beliebig und geeignet eingestellt werden. Beispielsweise ermöglicht es hierin ein durch Messen nur des Falles der Ablenkung aus der mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position in5 erhaltenen einen Graphs, die Existenz eines Versagens festzustellen. Somit kann das Ergebnis in einigen Sekunden oder einigen Minuten erhalten werden. - Wie oben erwähnt, falls eine Beziehung zwischen der Einregelzeit
t und der Integralstromdifferenz im Falle der Verwendung eines Formungsverstärkers, der nicht in einem Versagenszustand ist, vorab erkannt werden kann, ist es möglich, eine Differenz zwischen einer Integralstromdifferenz im Falle der Verwendung eines Formungsverstärkers, der eine Wahrscheinlichkeit dafür aufweist, in einem Versagenszustand zu sein, und einen Referenzwert der oben erwähnten Einregelzeit zu erhalten. Dann, wenn die Referenz einen vorgegebenen Bereich übersteigt, wird festgestellt, dass es ein Versagen beim Ablenkverstärker gibt. Anders ausgedrückt kann ein Versagen des formenden Verstärkers rasch festgestellt werden, indem eine berechnete Integralstromdifferenz verglichen wird mit dem Referenzwert der Einregelzeit. Daher kann die Stillstandszeit der Vorrichtung verringert werden. - Bei jeder oben erwähnten Ausführungsform, wenn zwei Muster unterschiedlicher Typen auf den Faraday-Cup
209 projiziert werden, ändert sich die Bestrahlungsposition nicht, jedoch ist dies nicht darauf beschränkt.11A und11B zeigen Beispiele der Bestrahlungsposition in einem Fall, bei dem das Schießen durchgeführt wird, während die Bestrahlungsposition verändert wird.11A zeigt den Fall des kontinuierlichen Projizierens einer Figur von Nummer1 bis Nummer25 und ein kontinuierliches Projizieren der anderen Figur ab Nummer26 bis Nummer50 .11B zeigt den Fall alternativen Projizierens der zwei Figuren von Nummer1 bis Nummer50 . In den11A und11B zeigt die Nummer eine Schussreihenfolge an. Was in beiden Fällen der11A und11B notwendig ist, ist den Elektronenstrahl200 durch den Deflektor208 so abzulenken, dass der Faraday-Cup209 den Elektronenstrahl200 aufnehmen kann. In diesem Fall, obwohl das Schießen als Beispiel jeweils 25 Mal durchgeführt wird, insgesamt damit 50 Mal, wird bevorzugt, das Schießen beispielsweise jeweils mehrere zehntausend Male vorzunehmen. -
12 zeigt eine Beziehung zwischen einer Dimensionsabweichung und einer Einregelzeit im Falle der Evaluierung der Einregelzeit durch das konventionelle Verfahren, das mit Ausführungsform 2 zu vergleichen ist. In diesem Fall werden zwei Muster unterschiedlicher Arten tatsächlich auf Substrat mit aufgetragenem Resist geschrieben. Beispielsweise können die zwei Muster unterschiedlicher Typen, wie in11B gezeigt, abwechselnd auf das Substrat geschrieben werden. Dann wird die Abmessung eines Musters, das durch Entwickeln und Ätzen des beschriebenen Substrates ausgebildet worden ist, gemessen. Diese Operationen werden wiederholt ausgeführt, während die Einregelzeit verändert wird. Eine Abweichung zwischen einer Musterabmessung, die erhalten wird basierend auf jeder Einregelzeit, und einer Musterabmessung, die erhalten wird basierend auf der Einregelzeit, die auf hinreichend lang eingestellt ist, wird im Graphen gezeigt. In12 zeigen die durch „a “, „b “ und „c “ bezeichneten Liniengraphen die Fälle, in denen Strukturen von geschriebenen Mustern sich unterscheiden. Hierin gezeigt sind Ergebnisse der Verwendung eines Formungsverstärkers, für den es eine Wahrscheinlichkeit dafür gibt, dass er in einem Versagenszustand ist. Es kann aus dem in12 gezeigten Graphen ersehen werden, dass die Dimensionsabweichung jedes Graphen zwischen 100 nsec und 400 nsec groß ist. Ergebnisse des Verfahrens gemäß Ausführungsform 2, die einen Formungsverstärker verwendet, der ein Wahrscheinlichkeit dafür hat, in einem Versagenszustand zu sein, zeigen auch, dass die Integralstromdifferenz zwischen 100 nsec und 400 nsec weit weg ist von Null. Daher ist das Verfahren von Ausführungsform 2 hinreichend effizient bei der Bewertung eines Versagens eines formenden Verstärkers. - Wie oben erwähnt ist es gemäß Ausführungsform 2 möglich, schnell zu entscheiden, ob die Einschwingleistung abgenommen hat oder nicht.
- Während die Ausführungsformen oben unter Bezugnahme auf spezifische Beispiele beschrieben worden sind, ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese spezifischen Beispiele beschränkt.
- Während die Beschreibung der Vorrichtungsstruktur, des Steuerverfahrens etc., die nicht direkt zum Erläutern der vorliegenden Erfindung erforderlich sind, weggelassen wird, können einige oder alle von ihnen in geeigneter Weise ausgewählt und nach Bedarf verwendet werden. Obwohl beispielsweise die Struktur der Steuereinheit zum Steuern der Schreibvorrichtung
100 nicht beschrieben wird, versteht sich, dass eine notwendige Steuereinheitsstruktur in geeigneter Weise ausgewählt und verwendet werden muss. - Zusätzlich sind jegliches andere Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers und Verfahren zum Feststellen eines Versagens eines Einschwingverstärkers, die Elemente der vorliegenden Erfindung beinhalten, und die durch Fachleute auf dem Gebiet in geeigneter Weise modifiziert werden können, im Schutzumfang der vorliegenden Erfindung beinhaltet.
- Zusätzliche Vorteile und Modifikationen werden Fachleuten leicht erscheinen. Daher ist die Erfindung in ihren breiteren Aspekten nicht auf die spezifischen Details und repräsentativen Ausführungsformen beschränkt, die hierin gezeigt und beschrieben werden. Dementsprechend können verschiedene Modifikationen vorgenommen werden, ohne vom Geist oder Schutzumfang des allgemeinen erfinderischen Konzepts abzuweichen, wie es in den angehängten Ansprüchen und deren Äquivalenten definiert ist.
Claims (9)
- Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers, wobei das Verfahren umfasst: Auswählen zweier Muster unterschiedlicher Art, die dadurch geformt werden, dass ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, eine erste und zweite Öffnung zu passieren; Einstellen einer Einregelzeit, die dafür benötigt wird, eine Ablenkung zwischen zwei Positionen an der zweiten Öffnung auszuführen, um den geladenen Partikelstrom zur Ausformung der zwei Muster unterschiedlicher Art abzulenken; mehrmaliges Durchführen eines Schießens, um abwechselnd die zwei Muster unterschiedlicher Art zu projizieren, die dadurch geformt werden, dass der geladene Partikelstrom dazu gebracht wird, die ersten und zweiten Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen Deflektor abgelenkt wird, der durch die Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuert wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird; Messen von Strahlströmen des Schießens; Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme; und Berechnen einer Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, um die Differenz auszugeben, wobei das Durchführen des Schießens, die Messung der Strahlströme, die Berechnung des Integralstroms und die Berechnung der Differenz durchgeführt wird, während die Einregelzeit verändert wird, weiter umfassend: Finden einer Einregelzeit, basierend darauf, welche der berechneten Differenzen kleiner wird.
- Verfahren gemäß
Anspruch 1 , wobei die Einregelzeit dazu gebracht wird, graduell groß zu sein. - Verfahren gemäß
Anspruch 1 , wobei die Strahlströme unter Verwendung eines Faraday-Cups gemessen werden. - Verfahren gemäß
Anspruch 1 , wobei der Referenz-Integralstrom durch Integrieren von Strahlströmen berechnet wird, die erhalten werden, wenn das Schießen mehrmals kontinuierlich durchgeführt wird, um jeweils die zwei Muster unterschiedlicher Art zu projizieren. - Verfahren gemäß
Anspruch 1 , wobei beim mehrmaligen Durchführen des Schießens der geladene Partikelstrom dazu gebracht wird, jedes Mal dieselben Positionen der ersten bzw. zweiten Öffnungen zu passieren. - Verfahren zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers, wobei das Verfahren umfasst: Auswählen zweier Muster unterschiedlicher Art, die dadurch geformt werden, dass ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, eine erste und zweite Öffnung zu passieren; Einstellen einer Einregelzeit, die dafür benötigt wird, eine Ablenkung zwischen zwei Positionen an der zweiten Öffnung auszuführen, um den geladenen Partikelstrom zur Ausformung der zwei Muster unterschiedlicher Art abzulenken; mehrmaliges Durchführen eines Schießens, um abwechselnd die zwei Muster unterschiedlicher Art zu projizieren, die dadurch geformt werden, dass der geladene Partikelstrom dazu gebracht wird, die ersten und zweiten Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen Deflektor abgelenkt wird, der durch die Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuert wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird; Messen von Strahlströmen des Schießens; Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme; Berechnen einer ersten Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom; und Feststellen, dass es ein Versagen beim Ablenkverstärker gibt, wenn eine zweite Differenz zwischen der berechneten ersten Differenz und einem Referenzwert zur Einregelzeit einen vorgegebenen Bereich übersteigt.
- Verfahren gemäß
Anspruch 6 , wobei die Strahlströme unter Verwendung eines Faraday-Cups gemessen werden. - Verfahren gemäß
Anspruch 6 , wobei das Durchführen des Schießens, das Messen des Strahlstroms, das Berechnen des Integralstroms, das Berechnen der Differenz und das Bewerten durchgeführt werden, während die Einregelzeit verändert wird. - Verfahren gemäß
Anspruch 6 , wobei der Referenz-Integralwert durch Integrieren von Strahlströmen berechnet wird, die erhalten werden, wenn man das Schießen mehrmals durchführt, um jeweils die zwei Muster unterschiedlicher Art zu projizieren.
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