DE102009019426A1

DE102009019426A1 - Verfahren zum Inspizieren der Einregelzeit eines Ablenkungsverstärkers und Verfahren zum Beurteilen des Versagens eines Ablenkungsverstärkers

Info

Publication number: DE102009019426A1
Application number: DE102009019426A
Authority: DE
Inventors: Yoshikuni Numazu-shi Goshima
Original assignee: Nuflare Technology Inc
Current assignee: Nuflare Technology Inc
Priority date: 2008-05-01
Filing date: 2009-04-29
Publication date: 2009-11-19
Anticipated expiration: 2029-04-30
Also published as: JP5123730B2; JP2009272366A; KR101105919B1; DE102009019426B4; KR20090115676A; US7989777B2; TWI380338B; US20090272911A1; TW201009876A

Abstract

Ein Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers beinhaltet das Einstellen einer Einregelzeit, das mehrmalige abwechselnde Durchführen von Schießen, um zwei Muster unterschiedlicher Arten zu projizieren, die ausgeformt werden, indem ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, erste und zweite Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen Deflektor gesteuert wird, der durch eine Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuert wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird, Messen von Strahlströmen des Schießens, Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme und Berechnen einer Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, um die Differenz auszugeben.

Description

QUERVERWEIS AUF VERWANDTE ANMELDUNG
Diese Anmeldung basiert auf und beansprucht den Prioritätsnutzen aus der früheren japanischen Patentanmeldung Nr. 2008-119557 , eingereicht am 1. Mai 2008 in Japan, deren gesamter Inhalt hier unter Bezugnahme inkorporiert sei.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers und ein Verfahren zum Beurteilen eines Versagens eines Ablenkverstärkers. Beispielsweise bezieht sie sich auf ein Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Formungsverstärkers zum Ablenken von Elektronenstrahlen, der in einer Elektronenstrahl-Schreibvorrichtung installiert ist, die variabel geformte Elektronenstrahlen ablenkt, um ein Zielwerkstück zu bestrahlen, und auf ein Verfahren zum Detektieren eines Versagens eines Formungsverstärkers.
Beschreibung verwandten Stands der Technik
Die Mikrolithografietechnik, die die Mikrominiaturisierung von Halbleitervorrichtungen vorantreibt, ist extrem wichtig, da sie der einzige Prozess zum Ausbilden von Mustern bei Halbleiterherstellprozessen ist. In den letzten Jahren schrumpfen bei hoher Integration von integrierten Schaltungen in großem Maßstab (LSI, large-scale integrated circuits) die für die Halbleitervorrichtungsschaltungen erforderlichen kritischen Abmessungen mit jedem Jahr. Um ein gewünschtes Schaltungsmuster auf Halbleitervorrichtungen auszubilden, wird ein Stamm- oder ”Original”-Muster (was auch als Maske oder Retikel bezeichnet wird) hoher Genauigkeit benötigt. Dann wird die Elektronenstrahlschreibtechnik, die intrinsisch eine exzellente Auflösung aufweist, zur Herstellung solcher hochpräziser Stammmuster verwendet.
13 ist ein schematisches Diagramm, welches den Betrieb eines konventionellen variabel geformten Elektronenstrahl-(EB) Typ-Schreibapparats zeigt. Wie in der Figur gezeigt, arbeitet die Schreibvorrichtung des Elektronenstrahls variabler Form, die zwei Lochplatten beinhaltet, wie folgt: eine erste Lochplatte 410 hat eine viereckige, wie etwa eine rechteckige Öffnung oder ”Loch” 411 zum Formen eines Elektronenstrahls 330. Eine zweite Lochplatte 420 weist eine variabel geformte Öffnung 421 zum Formen des Elektronenstrahls 330, der die Öffnung 411 passiert hat, in eine gewünschte rechteckige Form auf. Der Elektronenstrahl 330, der aus der Ladungspartikelquelle 430 emittiert worden ist und die Öffnung 411 passiert hat, wird von einem Deflektor abgelenkt, um einen Teil der variabel geformten Öffnung 421 zu passieren, und dadurch ein Zielwerkstück oder eine ”Probe” 340 zu bestrahlen, die auf einer Bühne montiert ist, die sich während des Schreibens oder ”Zeichnens” kontinuierlich in einer vorbestimmten Richtung (z. B. der X-Richtung) bewegt. Anders ausgedrückt wird ein als Ergebnis des Passierens der Öffnung 411 und der variabel geformten Öffnung 421 geformtes Rechteck in den Schreibbereich des Zielwerkstücks 430 auf der Bühne geschrieben. Dieses Verfahren zum Ausbilden einer gegebenen Form, indem man Strahlen durch sowohl die Öffnung 411 als auch die variabel geformte Öffnung 421 passieren lässt, wird vorzugsweise als ein ”variabel geformtes” Verfahren bezeichnet.
Bei der Musterschreibvorrichtung, wie oben erwähnt, wird ein Muster auf ein Zielwerkstück durch eine Ablenkung eines geladenen Partikelstrahls, wie etwa einem Elektronenstrahl, projiziert. Für eine solche Strahlablenkung wird ein Ablenkverstärker verwendet. Als Funktionen der Strahlablenkung, die den Ablenkverstärker verwendet, können beispielhaft das Steuern der Form oder Größe eines geschossenen Elektronenstrahls, das Steuern einer Schussposition und das Dunkelsteuern des Strahls angegeben werden.
In den letzten Jahren ist ein für die Elektronenstrahlmusterschreibvorrichtung verlangter Durchsatz sehr hoch. Auch wird gefördert, dass die Vorbereitungszeit (Einregelzeit) in Bezug auf eine Schussposition oder eine Strahlform verkürzt wird. Obwohl die Einregelzeit beliebig eingestellt werden kann, wird der Durchsatz, falls sie lang eingestellt wird, entsprechend verringert. Andererseits wird, wenn die Einregelzeit zu kurz ist, da keine hinreichende Spannung an einen Deflektor angelegt ist, die notwendige Ablenkung nicht durchgeführt. Folglich kann ein Fehler in Bezug auf eine Musterdimension oder eine Schussposition auftreten. Daher ist das Finden der optimalen Einregelzeit erforderlich. Um die optimale Einregelzeit zu finden, werden konventionellerweise das Schreiben auf ein Substrat, auf das Resist (Abdecker) aufgebracht ist, das Entwickeln des beschriebenen Substrats und das Messen der Abmessung eines durch Ätzen geformten Musters tatsächlich durchgeführt. Dann wird, wobei diese Operationen wiederholt durchgeführt werden, während die Einregelzeit verändert wird, eine Einregelzeit, auf der basierend eine hochpräzise Musterabmessung geformt wird, als die optimale Einregelzeit angesehen. Diese Vorgänge erfordern konventioneller Weise etwa zehn Stunden und es wird daher gefordert, die Zeit für die Vorgänge zu reduzieren.
Darüber hinaus, wenn ein Fehler in Bezug auf eine Musterabmessung oder eine Schussposition auftritt, wird das Identifizieren der Ursache des Fehlers notwendig. Falls es möglich ist, rasch zu entscheiden, ob die Ursache ein Versagen eines Formungsverstärkers ist oder nicht, kann die Stillstandszeitperiode der Vorrichtung verkürzt werden. Daher wird ein Verfahren zum raschen Entscheiden eines Versagens eines Formungsverstärkers verlangt. Dann belegt, als eine Ursache des Versagens des Formungsverstärkers die Degradierung der Einschwingleistung viel der Ursache. Daher wird ein Verfahren zum raschen Entscheiden, ob die Einschwingleistung nachgelassen hat oder nicht, verlangt. Jedoch ist konventioneller Weise kein hinreichendes Entscheidungsverfahren etabliert worden.
Obwohl nicht auf einem Defekt des Formungsverstärkers bezogen, wird eine Technik offenbart, die Ablenkdaten in einen von zwei Formungsverstärkern und andere Ablenkdaten, die eine reverse Richtung zu den vorstehenden aufweisen, zeitdifferentiell in den anderen Formungsverstärker unter einem gewissen Zyklus vor und nach dem Schreiben eingibt, und misst einen Spannungsänderung am Mittelpunkt eines Messwiderstands zwischen entsprechenden Ausgängen durch Verwenden eines Oszilloskops, um die Einregelzeit des Formungsverstärkers zu detektieren (siehe beispielsweise japanische Patentoffenlegungsschrift Nr. 2004-259812 ).
Wie oben erwähnt wird ein Verfahren zum raschen Auffinden der optimalen Einregelzeit verlangt und es wird auch ein Verfahren zum raschen Entscheiden, ob die Einschwingleistung nachgelassen hat oder nicht, verlangt. Jedoch sind keine zufrieden stellenden Verfahren etabliert worden.
KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Eine der Aufgaben gemäß der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Verfahrens zum raschen Inspizieren und Detektieren der optimalen Einregelzeit. Darüber hinaus ist eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung die Bereitstellung eines Verfahrens zum raschen Entscheiden, ob die Einschwingleistung nachgelassen hat oder nicht.
Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet ein Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers das Einstellen einer Einregelzeit, das mehrmalige Durchführen von abwechselndem Schießen, um zwei Muster unterschiedlicher Typen zu projizieren, die geformt werden, indem ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, erste und zweite Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen, durch eine Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuerten Deflektor abgelenkt wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird, das Messen von Strahlströmen des Schießens, das Berechnen eines integralen Stromes der gemessenen Strahlströme und das Berechnen einer Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einen Referenzintegralstrom, um die Referenz auszugeben.
Gemäß einem anderen Aspekt der vorliegenden Erfindung beinhaltet ein Verfahren zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers das Einstellen einer Einregelzeit, das Durchführen von mehrmaligem abwechselndem Schießen, um zwei Muster unterschiedlicher Arten zu projizieren, die geformt werden, indem ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, erste und zweite Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen, durch eine Ausgabe eines basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetriebenen Ablenkverstärkers gesteuerten Deflektor abgelenkt werden, das Messen von Strahlströmen des Schießens, das Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme, das Berechnen einer ersten Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom und das Entscheiden, dass ein Versagen beim Ablenkverstärker vorliegt, wenn eine zweite Differenz zwischen der berechneten ersten Differenz und einem Referenzwert der Einregelzeit einen vorgegebenen Bereich übersteigt.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
1 ist ein schematisches Diagramm, welches eine Struktur einer Musterschreibvorrichtung gemäß Ausführungsform 1 zeigt;
2 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung der ersten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt;
3 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung einer zweiten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt;
4 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform 1 zeigt;
5 zeigt ein Beispiel einer durch Ablenkung geformten Position gemäß Ausführungsform 1;
6 zeigt ein Beispiel von Figuren, die gemäß Ausführungsform 1 abwechselnd projiziert werden;
7 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen einer Einregelzeit t und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform 1;
8 zeigt eine Beziehung zwischen einer Ablenkdistanz d und der optimalen Einregelzeit t gemäß Ausführungsform 1;
9 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform 2 zeigt;
10 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen einer Einregelzeit t und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform 2;
11A und 11B zeigen Beispiele einer Bestrahlungsposition im Fall der Durchführung des Schießens, während die Bestrahlungsposition verändert wird;
12 zeigt eine Beziehung zwischen einer Dimensionsabweichung und einer Einregelzeit im Falle einer Evaluierung einer Einregelzeit durch ein mit Ausführungsform 2 zu vergleichendes konventionelles Verfahren; und
13 ist ein schematisches Diagramm, welches den Betrieb einer variabel geformten Elektronenstrahltypschreibvorrichtung zeigt.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
In den folgenden Ausführungsformen wird eine einen Elektronenstrahl als ein Beispiel eines geladenen Partikelstrahls verwendende Struktur beschrieben. Der geladene Partikelstrahl ist nicht auf einen Elektronenstrahl beschränkt. Es kann auch ein anderer geladener Partikelstrahl, wie etwa ein Ionenstrahl, verwendet werden. Als ein Beispiel einer geladenen Partikelstrahlvorrichtung wird eine Elektronenstrahlschreibvorrichtung vom variablen Formtyp beschrieben.
Ausführungsform 1
1 ist ein schematisches Diagramm, welches die Struktur einer Musterschreibvorrichtung gemäß Ausführungsform 1 zeigt. In der Figur beinhaltet eine Musterschreibvorrichtung 100 eine Schreibeinheit 150 und eine Steuereinheit 160. Die Musterschreibvorrichtung 100 ist ein Beispiel einer Schreibvorrichtung eines Musters eines geladenen Partikelstrahls und insbesondere ein Beispiel einer Schreibvorrichtung vom variabel geformten Typ. Die Schreibvorrichtung 150 beinhaltet einen Elektronenobjektivtubus 102 und eine Schreibkammer 103. Im Elektronenobjektivtubus 102 sind eine Elektronenkanonenanordnung 201, eine Illuminationslinse 202, eine erste Lochplatte 203, eine Projektionslinse 204, ein Deflektor 205, eine zweite Lochplatte 206, eine Objektivlinse 207 und ein Deflektor 208 angeordnet. In der Schreibkammer gibt es eine XY-Bühne 105, auf der ein Zielwerkstück, wie etwa eine Maske (hier nicht gezeigt), die als ein Schreibziel dient, beim Schreiben platziert ist. Auf der XY-Bühne 105 ist eine Faraday-Wanne 209 an einer anderen Position als der des Zielwerkstückes platziert. Die Steuereinheit 160 beinhaltet einen Steuerrechner 110, einen Speicher 112, einen Monitor 114, eine Schnittstellenschaltung 116, eine Ablenksteuerschaltung 120, einen DAC (Digital Analog Wandler) 122, einen Ablenkverstärker 124 und ein Messinstrument 210. Der Speicher 112, der Monitor 114, die Schnittstellenschaltung 116, die Ablenksteuerschaltung 120 und das Messinstrument 210 sind mit dem Steuerrechner 110 durch einen (nicht gezeigten) Bus verbunden. Darüber hinaus ist die Ablenksteuerschaltung 120 mit dem Ablenkverstärker 124 über den DAC 122 verbunden. Der Ablenkverstärker 125 ist mit dem Deflektor 205 verbunden. Das Messinstrument 210 ist mit der Faraday-Wanne 209 verbunden. Eingangsdaten, die aus dem Steuerrechner 110 einzugeben sind, oder ein betätigtes oder berechnetes Ergebnis werden im Speicher 112 gespeichert. Während 1 nur die Strukturelemente zeigt, die zum Erläutern von Ausführungsform 1 notwendig sind, versteht sich, dass auch andere Strukturelemente, die allgemein für die Schreibvorrichtung 100 nötig sind, beinhaltet sein können.
2 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung der ersten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt. 3 ist ein schematisches Diagramm, welches ein Beispiel einer Öffnung der zweiten Lochplatte gemäß Ausführungsform 1 zeigt. In 2 ist ein Öffnungsbereich 10 eines Vierecks, wie etwa einem Quadrat oder einem Rechteck, in der ersten Lochplatte 203 ausgeformt. In 3 ist ein Öffnungsbereich 20, der durch Verbinden einer Seite eines Rechtecks und einer Seite eines Hexagons gemacht ist, in der zweiten Lochplatte 206 ausgeformt. Der Öffnungsbereich 20 ist so ausgeformt, dass er eine Figur ist, deren spitze Winkel alle ein integrales Vierfaches von beispielsweise 45 Grad sind.
Die Schreibvorrichtung 100 arbeitet wie folgt: ein aus der Elektronenstrahlanordnung 201 emittierter Elektronenstrahl 200 bestrahlt die gesamte erste Lochplatte 203 mit einem Rechteck, wie etwa einer rechteckigen Öffnung, durch die Illuminationslinse 202. An diesem Punkt wird der Elektronenstrahl 200 so geformt, dass er ein Viereck, wie etwa ein Rechteck, ist. Dann, nachdem er den Öffnungsbereich der ersten Lochplatte 203 passiert hat, wird der Elektronenstrahl 200 eines ersten Öffnungsbildes mittels Projektionslinse 204 auf die zweite Lochplatte 206 projiziert. Ein einen Betrag an Ablenkung anzeigendes Digitalsignal, das von der Ablenksteuerschaltung 120 ausgegeben wird, wird im DAC 122 in eine analoge Ablenkspannung umgewandelt und diese an den Deflektor 205 angelegt, nachdem sie durch den Ablenkverstärker 124 verstärkt worden ist. Das erste Öffnungsbild auf der zweiten Lochplatte 206 wird durch den Deflektor 205, an den die Ablenkspannung angelegt wird, ablenk-gesteuert, wodurch die Form und Größe des Strahles verändert wird. Nachdem er den Öffnungsbereich der zweiten Lochplatte 206 passiert hat, wird der Elektronenstrahl 200 eines zweiten Öffnungsbildes durch die Objektivlinse 207 fokussiert und durch den Deflektor 208 abgelenkt, um die gewünschte Position auf dem, auf der sich kontinuierlich bewegenden XY-Bühne 205 platzierten Zielwerkstück zu erreichen. Obwohl die Einregelzeit des Ablenkverstärkers 124 für den zur Strahlformung verwendeten Deflektor 205 beliebig eingestellt werden kann, wird, falls sie lang eingestellt wird, der Durchgang um soviel verringert. Andererseits, falls die Einregelzeit zu kurz ist, wird, da keine hinreichende Spannung an den Deflektor 205 angelegt wird, die notwendige Ablenkung nicht durchgeführt.
Folglich kann ein Fehler in Bezug auf eine Dimension eines auszubildenden Musters auftreten. Daher ist das Auffinden der optimalen Einregelzeit notwendig. In Ausführungsform 1 wird untenstehend ein Verfahren zum Auffinden der optimalen Einregelzeit, ohne ein tatsächliches Schreiben auf ein Zielwerkstück zur Inspektion durchzuführen, beschrieben.
4 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Inspizieren der Einregelzeit eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform 1 zeigt. In 4 führt das Verfahren eine Reihe von Schritten aus: Einen Schussschritt S102, einen Strahlstrommessschritt S104, einen Anzahlbewertungsschritt S106, einen Anzahländerungsschritt S108, einen Integralstrom-Berechnungsschritt S110, einen Differenzberechnungsschritt S112, einen Einregelzeit-Bewertungsschritt S114 und einen Einstellzeit-Änderungsschritt S116.
5 zeigt ein Beispiel einer durch Ablenkung gemäß Ausführungsform 1 ausgebildeten Position. 5 zeigt ein Beispiel einer überlappenden Position zwischen einem ersten formenden Öffnungsbild 12, das den Öffnungsbereich 10 passiert hat, und dem Öffnungsbereich 20 der zweiten Lochplatte 206. Falls der Elektronenstrahl 200 nicht durch den Deflektor 205 abgelenkt wird, wird das erste formende Öffnungsbild 12 auf eine mit (0) bezeichnete Position, die gegenüber dem Öffnungsbereich 20 versetzt ist, projiziert.
Wenn beispielsweise der Elektronenstrahl 200 zu einem Quadrat oder einem Rechteck ausgeformt wird, wird das erste Formungsöffnungsbild 12 durch den Deflektor 205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker 124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (1) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der Bereich im Projektionsbild, der in Schraffur gezeigt ist, der den Öffnungsbereich 20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild.
Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl 200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in 5 unten links lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild 12 durch den Deflektor 205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker 124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (2) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich 20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild.
Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl 200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in 5 unten rechts lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild 12 durch den Deflektor 205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker 124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (3) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich 20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild.
Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl 200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in 5 oben rechts lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild 12 durch den Deflektor 205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker 124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (4) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich 20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild.
Darüber hinaus, wenn beispielsweise der Elektronenstrahl 200 zu einem rechtwinkligen gleichschenkeligen Dreieck ausgeformt wird, dessen rechter Winkel in 5 oben links lokalisiert ist, wird das erste Formungsöffnungsbild 12 durch den Deflektor 205 abgelenkt, an dem die aus dem Ablenkverstärker 124 ausgegebene Ablenkspannung angelegt ist, um auf die durch (5) bezeichnete Position projiziert zu werden. Dann wird der im projizierten Bild schraffiert gezeigte Bereich, der den Öffnungsbereich 20 passieren soll, zu einem ausgebildeten Bild.
Ein gewünschtes Muster wird auf ein Zielwerkstück geschrieben, indem solche Figuren bei jedem Schuss verändert werden. In Bezug auf die Einregelzeit t des Ablenkverstärkers 124 ist es beispielsweise notwendig, eine Zeit einzustellen, die benötigt wird, um Ablenkung zwischen zwei Positionen von den Positionen von (0) bis (5) durchzuführen. Als Beispiel wird die Einregelzeit, die benötigt wird, um eine Ablenkung von der durch (2) bezeichneten Position zu der durch (4) bezeichneten Position durchzuführen, unten beschrieben.
Zuerst wird die Einregelzeit t des Ablenkverstärkers 124 auf einen einstellbaren Minimalwert t₀ eingestellt. Die XY-Bühne 105 wird so bewegt, dass die Faraday-Wanne 309 auf der optischen Achse des Elektronenstrahls 200 lokalisiert sein kann. Wenn der Elektronenstrahl 200, der den Öffnungsbereich 20 passiert hat, auf die optische Achse geschossen wird, ohne vom Deflektor 208 abgelenkt zu werden, ist eine Ablenkung durch den Deflektor 208 nicht erforderlich. Falls der Elektronenstrahl 200, der den Öffnungsbereich 20 passiert hat, von der optischen Achse abweicht, ist es notwendig, den Elektronenstrahl 200, den Öffnungsbereich 20 passiert hat, abzulenken, so dass er auf die Faraday-Wanne 209 geschossen werden kann.
In Schritt S102 wird als ein Schussschritt, während der Elektronenstrahl 200 durch den durch eine Ausgabe des Ablenkverstärkers 124 gesteuerten Deflektor 205, welcher basierend auf der eingestellten Einregelzeit t angetrieben wird, abgelenkt wird, das Schießen mehrmals alternierend durchgeführt, um zwei Muster unterschiedlicher Arten zu projizieren, die dadurch geformt werden, dass der Elektronenstrahl 200 dazu gebracht wird, sowohl die erste Lochplatte 203 als auch die zweite Lochplatte 206 zu passieren.
6 zeigt ein Beispiel von Figuren, die gemäß Ausführungsform 1 abwechselnd projiziert werden. 6 zeigt den Fall, als Beispiel, bei dem ein Muster 30 eines rechtwinkligen gleichschenkligen Dreiecks, dessen rechter Winkel unten links lokalisiert ist, fabriziert durch das Projizieren des ersten Formungsöffnungsbildes 12 auf die mit (2) bezeichnete Position, und eines Musters 32 eines rechtwinkligen gleichschenkligen Dreiecks, dessen rechter Winkel oben rechts lokalisiert ist, das durch Projizieren des ersten Formungsöffnungsbildes 12 auf die mit (4) bezeichnete Position fabriziert wird, abwechselnd ausgebildet werden. Wenn das Schießen mehrmals durchgeführt wird, um solche zwei Muster unterschiedlicher Typen zu projizieren, wird der Elektronenstrahl 200 dazu gebracht, jedes Mal dieselben Positionen der ersten Lochplatte 203 und der zweiten Lochplatte 206 zu passieren.
In Schritt S104 wird als ein Strahlstrommessschritt der Strahlstrom des die Faraday-Wanne 209 bestrahlenden Elektronenstrahls 200 bei jedem Schuss gemessen. Ein Strahlstromwert des die Faraday-Wanne 209 bestrahlenden Elektronenstrahls 200 wird durch das Messinstrument 210 gemessen und als Digitalsignal an den Steuerungsrechner 110 ausgegeben.
In Schritt S106 zählt als ein Anzahlbewertungsschritt der Steuerrechner 110 die Anzahl n an Schüssen und entscheidet, ob die Anzahl n gleich einer vorgegebenen Anzahl k ist oder nicht. Beispielsweise ist es zu bevorzugen, das eingestellt wird, dass das Schießen mehrere tausend Male für jedes Muster durchgeführt wird.
In Schritt S108 addiert als ein Anzahländerungsschritt, wenn die Anzahl n von Schüssen die vorgegebene Anzahl k nicht erreicht hat, der Steuerrechner 110 1 zu n und kehrt zu S102 zurück.
Wie oben erwähnt, werden die Schritte von S102 bis S108 mehrmals wiederholt, während das Schießen durchgeführt wird, so dass die Muster 30 und 32 abwechselnd ausgebildet werden können. Wenn beispielsweise das Schießen mehrere tausend Mal für jedes Muster durchgeführt wird, indem die Musterschreibvorrichtung 100 verwendet wird, kann ein solches Schießen in etwa einer Sekunde beendet werden.
In Schritt S110 integriert als ein Integralstrom-Berechnungsschritt der Steuerrechner 110 Strahlströme, die gemessen werden, wenn das Schießen mehrmals durchgeführt wird, um die Muster 30 und 32 abwechselnd auszubilden, um dadurch einen Integralstrom zu berechnen.
In Schritt S112 berechnet als ein Differenzberechnungsschritt der Steuerrechner 110 eine Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, die nachfolgend als Integralstromdifferenz bezeichnet werden wird. Dann wird ein Rechenergebnis ausgegeben, um im Speicher 112 gespeichert zu werden. Alternativ kann das Berechnungsergebnis nach außen über die I/F-Schaltung 116 ausgegeben werden. Der Referenz-Integralstrom kann erhalten werden, indem Strahlströme integriert werden, die gemessen werden, wenn ein Schießen eine vorgegebene Anzahl lang kontinuierlich durchgeführt wird, um das Muster 30 auszubilden, und wenn ein Schießen eine vorgegebene Anzahl mal kontinuierlich ausgeführt wird, um das Muster 32 auszubilden, in einem Zustand, wo gleichermaßen die Einregelzeit für sie eingestellt wird. Dieser Referenz-Integralstrom kann vorab gemessen und berechnet werden. Alternativ wird es ebenfalls bevorzugt, parallel den Fall eines Schießens eines Strahls zur abwechselnden Ausformung der Muster 30 und 32, was den Schritten S102 bis S110 entspricht, und den Fall des Schießens eines Strahls zur kontinuierlichen Ausformung des Musters 30 und dann Vornehmen desselben, um kontinuierlich das Muster 32 auszuformen, durchzuführen, was den Schritten zum Erhalten des Referenz-Integralstroms entspricht. Der durch Durchführen des Schießens zur kontinuierlichen Ausformung des Musters 32 und dann Durchführen desselben zur kontinuierlichen Ausformung des Musters 30 erhaltene Integralstrom kann als der Referenz-Integralstrom betrachtet werden.
In Schritt S114, entscheidet als ein Einregelzeit-Entscheidungsschritt der Steuerrechner 110, ob die Einregelzeit t, die eingestellt worden ist, eine vorgegebene Maximalzeit tm erreicht hat oder die Einregelzeit t die Maximalzeit tm überschritten hat. Wenn die Einregelzeit t die Maximalzeit tm nicht erreicht hat, wird Δt zur Einregelzeit t addiert und es wird zu Schritt S102 zurückgekehrt. Falls die Einregelzeit t den Maximalwert tm erreicht hat, wird beendet.
Wie oben erwähnt, werden die Schritte S102 bis S116 wiederholt, während graduell die Einregelzeit t groß gemacht wird. Wenn eine Differenz zwischen dem Integralstrom und dem Referenz-Integralstrom groß ist, wird entschieden, dass die Einregelzeit keinen optimalen Wert aufweist. Daher ist es beim Durchführen jenes Schritts, während die Einregelzeit verändert wird, nötig, die Einregelzeit zu finden, auf der basierend die Differenz kleiner wird. Aufgrund dieses Verfahrens ist es beispielsweise möglich, eine Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der Integralstromdifferenz im Fall der Durchführung einer Ablenkung aus der mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position in 5 zu erhalten.
7 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen der Einregelzeit t und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform 1. In der Figur zeigt der mit ”A” bezeichnete Liniengraph eine Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der Integralstromdifferenz im Falle der Durchführung einer Ablenkung aus der mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position. Der mit ”B” bezeichnete Liniengraph zeigt eine Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der Integralstromdifferenz im Falle der Durchführung einer Ablenkung aus der mit (3) bezeichneten Position zu der mit (5) bezeichneten Position. Da die Anzahl von ausgebildeten Mustern folglich in beiden Fällen des Schießens eines Strahls zum kontinuierlichen Formen eines Musters und dann Vornehmen desselben zum kontinuierlichen Formen des anderen Musters, und des Schießens eines Stroms zum abwechselnden Formen des Musters dieselbe ist, sollten Werte des Integralstroms in beiden Fällen auch gleich sein, falls die Einregelzeit ausreicht. Daher sollte die Einregelzeit, basierend auf der die Integralstromdifferenz im Wesentlichen Null ist, als die optimale Zeit angesehen werden. Es ist schwierig, die Einregelzeit zu bewerten, indem nur ein Strahlstrom gemessen wird, weil der Stromwert zu klein ist. Indem jedoch ein durch Integrieren von Strahlströmen, die mehrmals geschossen werden, erhaltener Integralstrom verwendet wird, kann der Stromwert groß gemacht werden, wodurch die Differenz klar bewertbar gemacht wird. Gemäß 7 kann aus Graph A erkannt werden, dass die optimale Einregelzeit bei Durchführen einer Ablenkung aus der durch (2) bezeichneten Position zu der durch (4) bezeichneten Position in 5 etwa 200 nsec ist. Darüber hinaus kann aus dem Graphen B erkannt werden, dass die optimale Einregelzeit bei Durchführung einer Ablenkung aus der mit (3) bezeichneten Position zu der mit (5) bezeichneten Position in 5 ungefähr 150 nsec beträgt. Der Graph wird durch den Steuerrechner 110 erzeugt, um auf dem Monitor 114 angezeigt zu werden, um von einem Anwender betrachtet zu werden. Alternativ kann er über die IF-Schaltung 116 nach außen ausgegeben werden.
8 zeigt eine Beziehung zwischen einer Ablenkdistanz d und der optimalen Einregelzeit t gemäß Ausführungsform 1. Obwohl der Fall der Durchführung einer Ablenkung aus der in 5 mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position im oben erwähnten Beispiel beschrieben ist, wird eine Messung in ähnlicher Weise zwischen zwei anderen Positionen durchgeführt, um eine Korrelationstabelle 40 zu erzeugen, die eine Beziehung zwischen der Ablenkdistanz d und der optimalen Einregelzeit t zeigt. Es werden ungefähr 30 bis 60 Minuten zum Erzeugen der Korrelationstabelle 40 benötigt. Durch Bezugnahme auf die Korrelationstabelle 40 kann die optimale Einregelzeit t aus der Distanz d, die zur Ablenkung für die Ausbildung notwendig ist, erkannt werden.
Wie oben beschrieben, ist es gemäß Ausführungsform 1, da die optimale Einregelzeit basierend auf einer Differenz zwischen einem Strahl-Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom bewertet werden kann, nicht notwendig, tatsächlich ein Muster auf das Substrat zu schreiben. Daher wird die Zeit zum Vorbereiten eines Substrates mit aufgetragenem Resist unnötig, obwohl eine solche Zeit konventioneller Weise erforderlich war. Darüber hinaus wird Zeit zum Entwickeln, Zeit zum Ätzen und Zeit zum tatsächlichen Messen der Abmessung eines ausgebildeten Musters überflüssig. Daher kann im Vergleich zu einem konventionellen Fall die Zeit zum Inspizieren der optimalen Einregelzeit eines formenden Verstärkers stark reduziert werden, wodurch die optimale Einregelzeit schnell gefunden wird.
Ausführungsform 2
In Ausführungsform 1 ist ein Verfahren zum Inspizieren der optimalen Einregelzeit eines Ausformungsverstärkers beschrieben worden. In Ausführungsform 2 wird ein Verfahren zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers beschrieben, indem eine Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der oben erwähnten Integralstromdifferenz verwendet wird.
9 ist ein Flussdiagramm, welches Hauptschritte eines Verfahrens zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers gemäß Ausführungsform 2 zeigt. 9 ist wie 4, außer bezüglich der Hinzufügung eines Bewertungsschrittes S118 nach dem Einregelzeit-Bewertungsschritt S114. Darüber hinaus ist auch die Struktur der Vorrichtung dieselbe wie diejenige von 1. Wenn in einer Musterabmessung ein Fehler auftritt wird, ob der Fehler durch ein Versagen des Ablenkverstärkers 124 verursacht wird oder nicht, wie folgt bewertet:
Ein Referenzwert jeder Einregelzeit wird vorderhand unter Verwendung eines formenden Verstärkers berechnet, der nicht defekt ist. Dann wird jeder Schritt von S102 bis S114 ähnlich wie in Ausführungsform 1 durchgeführt, indem der Ablenkverstärker 124 verwendet wird, der eine Wahrscheinlichkeit dafür aufweist, in einem Versagenszustand zu sein. Dadurch ist es möglich, eine Beziehung zwischen der Einregelzeit t und einer Integralstromdifferenz im Falle der Verwendung des Ablenkverstärkers mit einer Wahrscheinlichkeit dafür, in einem Versagenszustand zu sein, zu erhalten.
10 zeigt ein Beispiel einer Beziehung zwischen der Einregelzeit t und einer Integralstromdifferenz gemäß Ausführungsform 2. In der Figur zeigen die durch ”A'” und ”B'” bezeichneten Liniengraphen Beispiele einer Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der Integralstromdifferenz, die unter Verwendung des Ablenkverstärkers 124 erhalten wird, der eine Wahrscheinlichkeit dafür hat, in einem Versagenszustand vorzuliegen. Es versteht sich, dass das Vergleichen unter Verwendung von Ergebnissen der Ausbildung desselben Musters durchgeführt wird.
In Schritt S118 wird als ein Bewertungsschritt, wenn eine Differenz (zweite Differenz) zwischen einer berechneten Differenz (erste Differenz), welches die Integralstromdifferenz zwischen einem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, der in Schritt S112 berechnet worden ist, ist, und einem Referenzwert der Einregelzeit einen vorgegebenen Bereich übersteigt, bewertet, dass es ein Versagen beim Ablenkverstärker 124 gibt. Diese Bewertung kann von dem Steuerrechner 110 oder dem Anwender durchgeführt werden. Wie in 7 gezeigt, ist gemäß der Evaluierung von Ausführungsform 1 die Integralstromdifferenz des Liniengraphen A im Wesentlichen 0 bei um die 200 nsec. Auf der anderen Seite ist im Beispiel von 10 die Integralstromdifferenz von A' und die Integralstromdifferenz von B' weit weg von 0, im Zeitraum der Einregelzeit t von 100 nsec bis 400 nsec. Daher, wenn ein solches Ergebnis erhalten wird, kann festgestellt werden, dass der Ablenkverstärker 124 mit einer Wahrscheinlichkeit dafür, dass er in einem Versagenszustand ist, tatsächlich kaputt ist. Der Bereich einer Referenz, die zum Bewerten eines Versagens eingesetzt wird, kann beliebig und geeignet eingestellt werden. Beispielsweise ermöglicht es hierin ein durch Messen nur des Falles der Ablenkung aus der mit (2) bezeichneten Position zu der mit (4) bezeichneten Position in 5 erhaltenen einen Graphs, die Existenz eines Versagens festzustellen. Somit kann das Ergebnis in einigen Sekunden oder einigen Minuten erhalten werden.
Wie oben erwähnt, falls eine Beziehung zwischen der Einregelzeit t und der Integralstromdifferenz im Falle der Verwendung eines Formungsverstärkers, der nicht in einem Versagenszustand ist, vorab erkannt werden kann, ist es möglich, eine Differenz zwischen einer Integralstromdifferenz im Falle der Verwendung eines Formungsverstärkers, der eine Wahrscheinlichkeit dafür aufweist, in einem Versagenszustand zu sein, und einen Referenzwert der oben erwähnten Einregelzeit zu erhalten. Dann, wenn die Referenz einen vorgegebenen Bereich übersteigt, wird festgestellt, dass es ein Versagen beim Ablenkverstärker gibt. Anders ausgedrückt kann ein Versagen des formenden Verstärkers rasch festgestellt werden, indem eine berechnete Integralstromdifferenz verglichen wird mit dem Referenzwert der Einregelzeit. Daher kann die Stillstandszeit der Vorrichtung verringert werden.
Bei jeder oben erwähnten Ausführungsform, wenn zwei Muster unterschiedlicher Typen auf die Faraday-Wanne 209 projiziert werden, ändert sich die Bestrahlungsposition nicht, jedoch ist dies nicht darauf beschränkt. 11A und 11B zeigen Beispiele der Bestrahlungsposition in einem Fall, bei dem das Schießen durchgeführt wird, während die Bestrahlungsposition verändert wird. 11A zeigt den Fall des kontinuierlichen Projizierens einer Figur von Nummer 1 bis Nummer 25 und ein kontinuierliches Projizieren der anderen Figur ab Nummer 26 bis Nummer 50. 11B zeigt den Fall alternativen Projizierens der zwei Figuren von Nummer 1 bis Nummer 50. In den 11A und 11B zeigt die Nummer eine Schussreihenfolge an. Was in beiden Fällen der 11A und 11B notwendig ist, ist den Elektronenstrahl 200 durch den Deflektor 208 so abzulenken, dass die Faraday-Wanne 209 den Elektronenstrahl 200 aufnehmen kann. In diesem Fall, obwohl das Schießen als Beispiel jeweils 25 Mal durchgeführt wird, insgesamt damit 50 Mal, wird bevorzugt, das Schießen beispielsweise jeweils mehrere zehntausend Male vorzunehmen.
12 zeigt eine Beziehung zwischen einer Dimensionsabweichung und einer Einregelzeit im Falle der Evaluierung der Einregelzeit durch das konventionelle Verfahren, das mit Ausführungsform 2 zu vergleichen ist. In diesem Fall werden zwei Muster unterschiedlicher Arten tatsächlich auf Substrat mit aufgetragenem Resist geschrieben. Beispielsweise können die zwei Muster unterschiedlicher Typen, wie in 11B gezeigt, abwechselnd auf das Substrat geschrieben werden. Dann wird die Abmessung eines Musters, das durch Entwickeln und Ätzen des beschriebenen Substrates ausgebildet worden ist, gemessen. Diese Operationen werden wiederholt ausgeführt, während die Einregelzeit verändert wird. Eine Abweichung zwischen einer Musterabmessung, die erhalten wird basierend auf jeder Einregelzeit, und einer Musterabmessung, die erhalten wird basierend auf der Einregelzeit, die auf hinreichend lang eingestellt ist, wird im Graphen gezeigt. In 12 zeigen die durch ”a”, ”b” und ”c” bezeichneten Liniengraphen die Fälle, in denen Strukturen von geschriebenen Mustern sich unterscheiden. Hierin gezeigt sind Ergebnisse der Verwendung eines Formungsverstärkers, für den es eine Wahrscheinlichkeit dafür gibt, dass er in einem Versagenszustand ist. Es kann aus dem in 12 gezeigten Graphen ersehen werden, dass die Dimensionsabweichung jedes Graphen zwischen 100 nsec und 400 nsec groß ist. Ergebnisse des Verfahrens gemäß Ausführungsform 2, die einen Formungsverstärker verwendet, der ein Wahrscheinlichkeit dafür hat, in einem Versagenszustand zu sein, zeigen auch, dass die Integralstromdifferenz zwischen 100 nsec und 400 nsec weit weg ist von Null. Daher ist das Verfahren von Ausführungsform 2 hinreichend effizient bei der Bewertung eines Versagens eines formenden Verstärkers.
Wie oben erwähnt ist es gemäß Ausführungsform 2 möglich, schnell zu entscheiden, ob die Einschwingleistung abgenommen hat oder nicht.
Während die Ausführungsformen oben unter Bezugnahme auf spezifische Beispiele beschrieben worden sind, ist die vorliegende Erfindung nicht auf diese spezifischen Beispiele beschränkt.
Während die Beschreibung der Vorrichtungsstruktur, des Steuerverfahrens etc., die nicht direkt zum Erläutern der vorliegenden Erfindung erforderlich sind, weggelassen wird, können einige oder alle von ihnen in geeigneter Weise ausgewählt und nach Bedarf verwendet werden. Obwohl beispielsweise die Struktur der Steuereinheit zum Steuern der Schreibvorrichtung 100 nicht beschrieben wird, versteht sich, dass eine notwendige Steuereinheitsstruktur in geeigneter Weise ausgewählt und verwendet werden muss.
Zusätzlich sind jegliches andere Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers und Verfahren zum Feststellen eines Versagens eines Einschwingverstärkers, die Elemente der vorliegenden Erfindung beinhalten, und die durch Fachleute auf dem Gebiet in geeigneter Weise modifiziert werden können, im Schutzumfang der vorliegenden Erfindung beinhaltet.
Zusätzliche Vorteile und Modifikationen werden Fachleuten leicht erscheinen. Daher ist die Erfindung in ihren breiteren Aspekten nicht auf die spezifischen Details und repräsentativen Ausführungsformen beschränkt, die hierin gezeigt und beschrieben werden. Dementsprechend können verschiedene Modifikationen vorgenommen werden, ohne vom Geist oder Schutzumfang des allgemeinen erfinderischen Konzepts abzuweichen, wie es in den angehängten Ansprüchen und deren Äquivalenten definiert ist.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

- JP 2008-119557 [0001]
- JP 2004-259812 [0008]

Claims

Verfahren zum Inspizieren einer Einregelzeit eines Ablenkverstärkers, wobei das Verfahren umfasst: Einstellen einer Einregelzeit; mehrmaliges Durchführen eines Schießens, um abwechselnd zwei Muster unterschiedlicher Art zu projizieren, die dadurch geformt werden, dass ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, erste und zweite Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen Deflektor, der durch die Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuert wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird, abgelenkt wird; Messen von Strahlströmen des Schießens; Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme; und Berechnen einer Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom, um die Differenz auszugeben.
Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei das Durchführen des Schießens, das Messen der Strahlströme, das Berechnen des Integralstroms und das Berechnen der Differenz durchgeführt werden, während die Einregelzeit verändert wird.
Verfahren gemäß Anspruch 2, wobei die Einregelzeit dazu gebracht wird, graduell groß zu sein.
Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei die Strahlströme unter Verwendung einer Faraday-Wanne gemessen werden.
Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei der Referenz-Integralstrom durch Integrieren von Strahlströmen berechnet wird, die erhalten werden, wenn das Schießen mehrmals kontinuierlich durchgeführt wird, um jeweils die zwei Muster unterschiedlicher Arten zu projizieren.
Verfahren gemäß Anspruch 2, wobei beim mehrmaligen Durchführen des Schießens der geladene Partikelstrom dazu gebracht wird, jedes Mal dieselben Positionen der ersten bzw. zweiten Öffnungen zu passieren.
Verfahren zum Bewerten eines Versagens eines Ablenkverstärkers, wobei das Verfahren umfasst: Einstellen einer Einregelzeit; mehrmaliges Durchführen eines Schießens, um abwechselnd zwei Muster unterschiedlicher Art zu projizieren, die dadurch geformt werden, dass ein geladener Partikelstrom dazu gebracht wird, erste und zweite Öffnungen zu passieren, während der geladene Partikelstrom durch einen Deflektor, der durch die Ausgabe eines Ablenkverstärkers gesteuert wird, der basierend auf der eingestellten Einregelzeit angetrieben wird, abgelenkt wird; Messen von Strahlströmen des Schießens; Berechnen eines Integralstroms der gemessenen Strahlströme; Berechnen einer ersten Differenz zwischen dem berechneten Integralstrom und einem Referenz-Integralstrom; und Feststellen, dass es ein Versagen beim Ablenkverstärker gibt, wenn eine zweite Differenz zwischen der berechneten ersten Differenz und einem Referenzwert der Einregelzeit einen vorgegebenen Bereich übersteigt.
Verfahren gemäß Anspruch 7, wobei die Strahlströme unter Verwendung einer Faraday-Wanne gemessen werden.
Verfahren gemäß Anspruch 7, wobei das Durchführen des Schießens, das Messen des Strahlstroms, das Berechnen des Integralstroms, das Berechnen der Differenz und das Bewerten durchgeführt werden, während die Einregelzeit verändert wird.
Verfahren gemäß Anspruch 7, wobei der Referenz-Integralwert durch Integrieren von Strahlströmen berechnet wird, die erhalten werden, wenn man das Schießen mehrmals durchführt, um jeweils die zwei Muster unterschiedlicher Arten zu projizieren.