DE102008016222B4 - Metallfolie - Google Patents
Metallfolie Download PDFInfo
- Publication number
- DE102008016222B4 DE102008016222B4 DE102008016222A DE102008016222A DE102008016222B4 DE 102008016222 B4 DE102008016222 B4 DE 102008016222B4 DE 102008016222 A DE102008016222 A DE 102008016222A DE 102008016222 A DE102008016222 A DE 102008016222A DE 102008016222 B4 DE102008016222 B4 DE 102008016222B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- metal foil
- max
- foil according
- weight
- contents
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 29
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 21
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 16
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 6
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 claims description 6
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 claims description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 claims description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000224 chemical solution deposition Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BAFNSZNRNFJOLL-UHFFFAOYSA-N [Zr].[Ni].[W] Chemical compound [Zr].[Ni].[W] BAFNSZNRNFJOLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- 238000005551 mechanical alloying Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- MOWMLACGTDMJRV-UHFFFAOYSA-N nickel tungsten Chemical compound [Ni].[W] MOWMLACGTDMJRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010301 surface-oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
- H10N60/0268—Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
- H10N60/0296—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
- H10N60/0576—Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers characterised by the substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N60/00—Superconducting devices
- H10N60/01—Manufacture or treatment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12431—Foil or filament smaller than 6 mils
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Metal Rolling (AREA)
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Wrappers (AREA)
Abstract
Ni 80–90%
W 10–20%
sowie Al und/oder Mg und/oder B in Gehalten
Al 0,0001–max. 0,02%
Mg 0,0001–max. 0,015%
B 0,0001–max. 0,005%
sowie unvermeidbaren Verunreinigungen.
Description
- Die Erfindung betrifft eine Metallfolie, im Wesentlichen bestehend aus Nickel und Wolfram.
- Sehr reine Nickellegierungen sind während der Warmumformung (z. B. Block-Brammenwalzung) anfällig hinsichtlich Materialfehlern, wie Rissen und Brüchen, insbesondere in dem Fall, wenn ein gegossener Block (z. B. VIM) noch umgeschmolzen (z. B. VAR) wird.
- Für besondere Einsatzfälle, wie z. B. supraleitende Bänder werden sehr reine Legierungen benötigt, so dass hier ein Zielkonflikt gegeben ist.
- Die
DE 100 05 861 C2 offenbart einen metallischen Werkstoff auf Nickelbasis und ein Verfahren zu dessen Herstellung. Der Werkstoff weist eine Rekristallisations-Würfeltextur auf und besteht aus einer Nickellegierung mit der Zusammensetzung Nia (Mob, Wc)dMe, worin M für ein oder mehrere Metalle mit Ausnahme von Ni, Mo, Fe oder W steht, mit
a = 100 – (d + e)
(d + e) ≤ 50
b = 0–12
c = 0–12
d = (b + c) = 0,01–12
e = 0–49,9 jeweils in Atom-% und mit gegebenenfalls enthaltenen geringen herstellungstechnisch bedingten Verunreinigungen. - Zur Herstellung wird zunächst auf schmelzmetallurgischem oder pulvermetallurgischem Wege oder durch mechanisches Legieren eine Legierung der genannten Zusammensetzung erzeugt und diese mit einer Warmumformung sowie einer nachfolgenden hochgradigen Kaltumformung zu Band verarbeitet. Dieses wird in reduzierender oder nicht oxidierender Atmosphäre einer rekristallisierenden Glühung unterworfen. Derartige Legierungen werden heute im Wesentlichen nur im Labormaßstab, bzw. in kleinen Gebinden im kg-Bereich, erschmolzen, so dass ein hoher Reinheitsgrad herbeigeführt werden kann. Diese Maßgabe ist jedoch nicht zwangsläufig auf großtechnische Einsatzfälle im t-Bereich übertragbar. Im Gegenteil ist davon auszugehen, dass dieser Werkstoff als Block von mehreren hundert Millimetern Durchmesser während der Warmformgebung bricht und die Ausbringung an Gutmaterial damit unter die ökonomisch vertretbare Grenze für ein kommerzielles Produkt sinkt.
- In der
DE 10 2004 041 053 B4 wird eine dicke REBCO-Schicht für Coated Conductors beschrieben, wobei die Schicht über Chemical Solution Deposition (CSD) erzeugt wird und ein Hochtemperatur-Supraleiter-Bandleiter zumindest ein Trägermaterial, eine Pufferschicht und einen Hochtemperatur-Supraleiter beinhaltet. Dieses Patent befasst sich mit dem Aufbringen der Puffer- und Supraleiterschichten auf dem Trägersubstrat, geht aber nicht auf die Besonderheiten des Substrates selbst ein. - Durch die
DE 102 00 445 B4 ist ein Metallband für epitaktische Beschichtungen und ein Verfahren zur Herstellung desselben bekannt geworden. Das Metallband besteht aus einem Schichtverbund aus mindestens einer biaxial texturierten Basisschicht der Metalle Ni, Cu, Ag oder deren Legierungen und mindestens einer weiteren metallischen Schicht, wobei die einzelnen weiteren metallischen Schichten aus einer oder mehreren intermetallischen Phasen oder aus einem Metall bestehen, in dem eine oder mehrere intermetallische Phasen enthalten sind. Das System Nickel-Wolfram bleibt unerwähnt, ebenso die Herausforderungen, die sich in der industriellen Fertigung, insbesondere bei der Warmformgebung, stellen. - Die
DE 26 35 289 C2 beschreibt eine metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden aus einer Nickel-Wolfram-Zirkonium-Legierung mit 20 bis 30 Gew.-% Wolfram. Die Legierung enthält 0,3 bis 5,0 Gew.-% Zirkonium, das im Wesentlichen in der intermetallischen Verbindung (Ni-W)xZry gebunden ist, wobei die Trägerplatte nicht dicker als 50 μm ist. - In der
US 6,447,714 B2 wird ein Verfahren zur Erzeugung einer biaxial texturierten Legierung mit geringerer Magnetisierbarkeit als eine aus reinem Nickel bestehende Legierung beschrieben. Die Legierung besteht aus einem Pulvergemisch mit einer Zusammensetzung in Atom-%. - Durch die
US 5,788,783 A ist eine gespannte Schattenmaske bekannt geworden, die folgende chemische Zusammensetzung aufweist:
72,4% ≤ Ni ≤ 81,7%
0 ≤ Mo ≤ 7%
0 ≤ Cu ≤ 8%
0 ≤ Co ≤ 1,5%
0 ≤ W ≤ 7%
0 ≤ Nb ≤7%
0 ≤ V ≤ 7%
0 ≤ Cr ≤ 7%
0 ≤ Ta ≤ 7%
0 ≤ C ≤ 0,1%
0 ≤ Mn ≤ 1%
0 ≤ Si ≤ 1%
0 ≤ Ti ≤ 1,2%
0 ≤ Al ≤ 1,2%
0 ≤ Zr ≤ 1,2%
0 ≤ Hf ≤ 1,2%
S ≤ 0,01% - Rest Eisen und die üblichen herstellungsbedingten Verunreinigungen.
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine im Wesentlichen aus Nickel und Wolfram bestehende Metallfolie dergestalt durch Zugabe definierter Legierungselemente zu optimieren, dass ein hoher Grad an wirtschaftlicher Fertigung im Rahmen großtechnischer Einsatzfälle mit geringem Ausschuss gegeben ist und gleichzeitig die Anforderungen für die Weiterverarbeitung zum Hochtemperatur-Supraleiter-Schichtverbund erfüllt werden.
- Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Metallfolie mit (in Gew.-%)
Ni 80–90%
W 10–20%
sowie Al und/oder Mg und/oder B in Gehalten
Al 0,0001–max. 0,02%
Mg 0,0001–max. 0,015%
B 0,0001–max. 0,005%
sowie unvermeidbaren Verunreinigungen. - Bevorzugte Gehalte an Ni und W sind (in Gew.-%)
Ni 83–88%
W 12–17% - Zur Erhöhung der Reinheit dieser Legierung können die Gehalte an Ni und W noch weiter eingeschränkt werden, nämlich (in Gew.-%)
Ni 85–87%
W 13–15%. - Die erfindungsgemäße Metallfolie ist zur weiteren Erhöhung der Reinheit, respektive zur besseren Verarbeitung der Legierung vorteilhafterweise mit Gehalten an Al und/oder Mg und/oder B (in Gew.-%) wie folgt versehen
Al 0,0001–0,006%
B 0,0001–0,002% - An Begleitelementen (herstellungsbedingte Verunreinigungen) werden folgende Elemente mit zugehörigen Gehalten (in Gew.-%) angesehen:
Cr max. 0,05%
Fe < 0,1%
Co max. 0,05%
C max. 0,04%
Cu < 0,05%
Mn < 0,05%
Mo max. 0,05%
Nb max. 0,01%
P < 0,004%
O < 0,005%
S < 0,004%
Si max. 0,05%
N < 0,005%
Ti < 0,01%. - Um die gewünschte Reinheit der Legierung, insbesondere bei der großtechnischen Erschmelzung > 1 t, insbesondere > 3 t, herbeiführen zu können, sollen die vorab genannten Begleitelemente möglichst unterhalb der genannten Angaben eingestellt werden.
- Folgende Grenzwerte der an sich unerwünschten Begleitelemente erscheinen für großtechnische Anwendungsfälle aus heutiger Sicht unter kommerziellen Gesichtspunkten im Rahmen vertretbarer Kosten realisierbar zu sein (in Gew.-%):
Cr < 0,01%
Fe < 0,05%
Co < 0,05%
C < 0,01%
Cu < 0,03%
Mn < 0,03%
Mo < 0,03%
Nb < 0,005%
P < 0,003%
O < 0,004%
S < 0,0008%
Si < 0,04%
N < 0,004%
Ti < 0,01%. - Die erfindungsgemäße Metallfolie kommt in Analogie zur
DE 102 00 445 B4 bevorzugt als Metallband für epitaktische Beschichtungen zum Einsatz. - Das durch VIM und bedarfsweise VAR erzeugte Ausgangsmaterial wird warm verformt, durch einen hohen Kaltumformungsgrad (> 90%) in einem speziellen Fertigungsprozess bearbeitet und anschließend im Temperaturbereich zwischen 700°C und 1.200°C geglüht. Hierbei bildet sich ein großer Anteil an Würfeltextur aus. Um eine hohe Güte hinsichtlich Würfeltexturanteil zu erreichen, muss die Reinheit der Legierung sehr hoch sein, das heißt, der Gehalt der angesprochenen Begleitelemente, die die Ausbildung der Würfeltextur behindern, muss sehr klein sein. Besonders hervorzuheben ist, dass, abweichend vom Stand der Technik gemäß
DE 100 05 861 C2 , nun auch großtechnische Einsätze in Gewichtsbereichen > 3 t möglich sind, ohne dass der geforderte Anspruch an die Reinheit der erfindungsgemäßen Legierung in Frage gestellt werden muß. - Dem eingangs aufgezeigten Zielkonflikt wird nun durch konkrete Zulegierung der Elemente Mg und/oder B und/oder Al entgegengewirkt, da diese Elemente eine gute bzw. verbesserte Warmumformbarkeit des großtechnisch erzeugten Ausgangsmaterials begünstigen und im Fall der beschriebenen Zugaben den Anforderungen hinsichtlich der Ausprägung der Würfeltextur genügen, ohne dass dadurch die Weiterverarbeitung der Metallfolie eingeschränkt wird.
- Einem weiteren Gedanken der Erfindung gemäß wird eine Metallfolie vorgeschlagen, deren Oberfläche einen statischen Kontaktwinkel < 80° aufweist, der mit einem Gemisch aus deionisiertem Wasser und Propionsäure im Wesentlichen im Verhältnis 1:1 gemessen wird.
- Für bestimmte Einsatzfälle kann es sinnvoll sein, einen statischen Kontaktwinkel < 75°, bzw. < 70°, vorzusehen.
- Tabelle 1 zeigt chemische Zusammensetzungen dreier erfindungsgemäßer Laborchargen sowie einer erfindungsgemäßen großtechnisch erzeugten Charge > 3 t (in Gew.-%):
Chargen-Nr. LB 2000 LB 2002 LB 2004 GT 171325 Element Gew.-% Gew.-% Gew.-% Gew.-% Al < 0,001 < 0,001 0,006 0,005 B < 0,001 < 0,001 0,001 0,001 Mg < 0,001 0,013 0,01 0,003 Ni 86,727 86,001 85,747 85,55 W 13,25 13,94 14,09 14,3 Cr 0,006 0,008 0,024 0,01 Fe < 0,005 < 0,005 0,07 0,05 Co 0,005 0,006 0,007 0,01 C 0,002 0,003 < 0,003 0,004 Cu < 0,001 < 0,006 0,002 0,01 Mn < 0,001 < 0,001 0,001 0,01 Mo 0,004 0,005 0,012 0,01 Nb 0,001 0,001 0,001 0,001 P < 0,002 < 0,002 0,002 0,002 O < 0,002 0,004 0,004 0,003 S < 0,001 < 0,001 < 0,002 0,0005 Si < 0,001 0,014 0,017 0,02 N < 0,001 < 0,001 < 0,004 0,002 Ta 0,005 0,005 0,005 Ti < 0,001 < 0,001 < 0,001 0,01 - Abweichend von den Laborchargen LB 2000, LB 2002 und LB 2004 wurde die Charge GT 171325 mit einem Schmelzvolumen von 5 t erzeugt. Die großtechnisch erzeugte Legierung GT 171325 wurde im VIM-Verfahren erschmolzen. Der Vergleich zwischen den Laborchargen und der großtechnisch erzeugten Charge zeigt, dass die großtechnisch erzeugte Charge hinsichtlich ihres Reinheitsgrades den labormäßigen Chargen nicht nachsteht und somit eine wirtschaftliche Fertigung bei minimierten Ausfällen der späteren Produkte gegeben ist.
- Das VIM-Ausgangsmaterial konnte problemlos von Block an Bramme und weiter an Warmband warm gewalzt werden. Dabei traten keine Brüche auf. Das Band wurde durch einen hohen Kaltumformungsgrad (> 90%) in einem speziellen Fertigungsprozess bearbeitet und danach im Temperaturbereich zwischen 850 und 1150°C geglüht. Hinsichtlich des hohen Reinheitsgrades der großtechnisch so erzeugten Charge, bedingt durch die kontrollierte Zugabe an Al und/oder Mg und/oder B in den erfindungsgemäßen Gehalten, konnte eine hohe Güte an Würfeltexturanteil erreicht werden.
- Im Folgenden wird das Verfahren zur Messung des statischen Kontaktwinkels näher beschrieben:
Dieses Verfahren ermöglicht die Charakterisierung der Oberflächeneigenschaften von Festkörpern. Für die Ermittlung der Eigenschaften des Ni-W-Bandes eignet sich Wasser oder ein Gemisch aus Wasser/Propionsäure im Verhältnis 1:1. Das verwendete Wasser wurde über Ionentauscher gereinigt und sollte eine Restleitfähigkeit unter 5,0 μScm–1 haben. Die Propionsäure besitzt eine Reinheit von 99,5% und eine Dichte zwischen 0,993 und 0,995 gcm–3. Sie wurde keiner speziellen Nachbehandlung unterzogen. - Die Messung erfolgt an einem Axiotech Auflichtmikroskop unter Verwendung eines Epiplan 5x/0,13 HD Objektivs. Da eine Messung von oben nicht möglich ist, wird der Strahlengang des Mikroskops über einen Spiegel um 90° umgelenkt, so dass das Bild von der Seite aufgenommen wird.
- Die Oberfläche der Probe muss möglichst plan sein, so dass sie vorzugsweise mit einem Seitenschneider statt einer Schere zugeschnitten wird, falls dies erforderlich ist. Das Band wird möglichst bis kurz vor der Messung unter trockenem Schutzgas (99,99 proz. Stickstoff) aufbewahrt, um eine Verfälschung der Messergebnisse durch Oberflächenoxidation zu verhindern. Zusätzlich wird das Band 15 min im Ultraschallbad mit i-Propanol gereinigt und bei 80°C im Vakuum getrocknet.
- Die Probe wird mit doppelseitigem Klebeband auf einem Objektträger fixiert und unter Vermeidung von Dellen leicht angepresst. Die benötigte Flüssigkeit wird unter Verwendung einer Spritze mit Kanüle aufgetragen, das aufgebrachte Volumen sollte immer gleich groß sein. Die Messung erfolgt bei 22°C.
-
- Eine ausreichende Benetzung mit Beschichtungslösungen wird erreicht, wenn der Kontaktwinkel des Bandes mit deionisiertes Wasser nicht größer ist als 80°, eine außerordentlich gute Benetzung wird erzielt, wenn der Kontaktwinkel gegen Wasser kleiner als 60° ist. Ist der Kontaktwinkel groß und liegt er insbesondere über 90°, so ist es nicht möglich, nach der Benetzung eine texturierte Schicht auf dem Ni-W-Substrat aufzubringen.
- Der Erfindungsgegenstand ist in den
1 bis3 dargestellt. Die Abbildungen zeigen: -
1 Ermittlung des Kontaktwinkels Θ -
2 Kontaktwinkel < 75°. Das Substrat wird bei der Beschichtung mit Precursorlösung gut beschichtet. -
3 Kontaktwinkel > 80°. Eine Beschichtung mit Precursorlösung führt zu mangelhaften Resultaten
Claims (12)
- Metallfolie mit (in Gew.-%) Ni 80–90% W 10–20% sowie Al und/oder Mg und/oder B in Gehalten Al 0,0001–max. 0,02% Mg 0,0001–max. 0,015% B 0,0001–max. 0,005% sowie unvermeidbaren Verunreinigungen.
- Metallfolie nach Anspruch 1, mit Gehalten (in Gew.-%) Ni 83–88% W 12–17%
- Metallfolie nach Anspruch 1 oder 2, mit Gehalten (in Gew.-%) Ni 85–87% W 13–15%
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 3, mit Gehalten an Al und/oder B (in Gew.-%) Al 0,0001–0,006% B 0,0001–0,002%.
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Begleitelemente (in Gew.-%) wie folgt in der Legierung eingestellt sind: Cr max. 0,05% Fe < 0,1% Co max. 0,05% C max. 0,04% Cu < 0,05% Mn < 0,05% Mo max. 0,05% Nb max. 0,01% P < 0,004% O < 0,005% S < 0,004% Si max. 0,05% N < 0,005% Ti < 0,01%.
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Begleitelemente (in Gew.-%) wie folgt in der Legierung eingestellt sind: Cr < 0,01% Fe < 0,05% Co < 0,05% C < 0,01% Cu < 0,03% Mn < 0,03% Mo < 0,03% Nb < 0,005% P < 0,003% O < 0,004% S < 0,0008% Si < 0,04% N < 0,004% Ti < 0,01%.
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 6, die durch einen Kaltumformgrad > 90% eines Ausgangsmaterials mit anschließender Glühbehandlung im Temperaturbereich zwischen 700 und 1.200°C erzeugt ist.
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die Oberfläche der Folie einen statischen Kontaktwinkel < 80° aufweist, der mit einem Gemisch aus deionisiertem Wasser und Propionsäure im Verhältnis 1:1 gemessen wird.
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Oberfläche der Folie einen statischen Kontaktwinkel < 75° aufweist, der mit einem Gemisch aus deionisiertem Wasser und Propionsäure im Verhältnis 1:1 gemessen wird.
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei die Oberfläche der Folie einen statischen Kontaktwinkel < 70° aufweist, der mit einem Gemisch aus deionisiertem Wasser und Propionsäure im Verhältnis 1:1 gemessen wird.
- Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 10, welche in Schmelzmengen über eine Tonne erzeugt wird.
- Verwendung einer Metallfolie nach einem der Ansprüche 1 bis 11 als Metallband für epitaktische Beschichtungen.
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102008016222A DE102008016222B4 (de) | 2007-04-17 | 2008-03-27 | Metallfolie |
EP08748744A EP2137330B1 (de) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | Metallfolie |
RU2009142207/02A RU2421535C1 (ru) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | Металлическая фольга |
AT08748744T ATE524570T1 (de) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | Metallfolie |
US12/596,526 US20100059145A1 (en) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | Metal foil |
PCT/DE2008/000615 WO2008125091A2 (de) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | Metallfolie |
JP2010503347A JP5355545B2 (ja) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | 金属箔 |
KR20097021560A KR101234154B1 (ko) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | 금속 호일 |
CN200880012324XA CN101680058B (zh) | 2007-04-17 | 2008-04-14 | 金属箔 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007018408.7 | 2007-04-17 | ||
DE102007018408 | 2007-04-17 | ||
DE102008016222A DE102008016222B4 (de) | 2007-04-17 | 2008-03-27 | Metallfolie |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102008016222A1 DE102008016222A1 (de) | 2008-11-13 |
DE102008016222B4 true DE102008016222B4 (de) | 2010-12-30 |
Family
ID=39829578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102008016222A Expired - Fee Related DE102008016222B4 (de) | 2007-04-17 | 2008-03-27 | Metallfolie |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20100059145A1 (de) |
EP (1) | EP2137330B1 (de) |
JP (1) | JP5355545B2 (de) |
KR (1) | KR101234154B1 (de) |
CN (1) | CN101680058B (de) |
AT (1) | ATE524570T1 (de) |
DE (1) | DE102008016222B4 (de) |
RU (1) | RU2421535C1 (de) |
WO (1) | WO2008125091A2 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011015961A1 (de) | 2011-04-04 | 2012-10-04 | Thyssenkrupp Vdm Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Substratbandes |
DE102011016180A1 (de) | 2011-04-05 | 2012-10-11 | Thyssenkrupp Vdm Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Substratbandes |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105209188B (zh) * | 2013-06-07 | 2017-10-13 | Vdm金属有限公司 | 制备金属箔的方法 |
EP3004408B1 (de) * | 2013-06-07 | 2017-08-09 | VDM Metals International GmbH | Verfahren zur herstellung einer metallfolie |
EP3265429B1 (de) | 2015-03-02 | 2019-09-11 | Basf Se | Nanopartikel zur verwendung als haftzentren in supraleitern |
US10233091B2 (en) | 2015-03-02 | 2019-03-19 | Basf Se | Process for producing crystalline tantalum oxide particles |
KR20170130489A (ko) | 2015-03-26 | 2017-11-28 | 바스프 에스이 | 고온 초전도체 전선의 제조 방법 |
CN104745880B (zh) * | 2015-04-14 | 2017-08-25 | 钢铁研究总院 | 一种高密度动能超高强度钨镍耐热合金及制备方法 |
CN109844148B (zh) * | 2016-10-07 | 2021-03-09 | 日本制铁株式会社 | 镍材及镍材的制造方法 |
EP3568377A1 (de) | 2017-01-11 | 2019-11-20 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von nanopartikeln |
KR20200085773A (ko) | 2017-11-28 | 2020-07-15 | 바스프 에스이 | 결합된 초전도 테이프 |
CN112074750A (zh) | 2018-04-25 | 2020-12-11 | 巴斯夫欧洲公司 | 用于超导带材的质量控制的设备 |
WO2020049019A1 (en) | 2018-09-07 | 2020-03-12 | Basf Se | Process for producing nanoparticles |
WO2020064505A1 (en) | 2018-09-24 | 2020-04-02 | Basf Se | Process for producing highly oriented metal tapes |
WO2020212194A1 (en) | 2019-04-17 | 2020-10-22 | Basf Se | Sealed superconductor tape |
WO2021063723A1 (en) | 2019-09-30 | 2021-04-08 | Basf Se | High-temperature superconductor tape with buffer having controlled carbon content |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2635289C2 (de) * | 1975-11-07 | 1981-10-15 | Hitachi, Ltd., Tokyo | Metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US5788783A (en) * | 1995-07-18 | 1998-08-04 | Imphy S.A. | Iron-nickel alloy for stretched shadow mask |
DE10005861C2 (de) * | 1999-04-03 | 2002-05-08 | Dresden Ev Inst Festkoerper | Metallischer Werkstoff auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6447714B1 (en) * | 2000-05-15 | 2002-09-10 | Ut-Battelle, Llc | Method for forming biaxially textured articles by powder metallurgy |
DE10200445B4 (de) * | 2002-01-02 | 2005-12-08 | Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung e.V. | Metallband für epitaktische Beschichtungen und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102004041053A1 (de) * | 2004-08-25 | 2006-03-02 | Trithor Gmbh | Dicke REBCO-Schichten für Coated Conductors über Chemical Solution Deposition (CSD) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US647714A (en) * | 1899-05-01 | 1900-04-17 | Gilbert Lincoln Baker | Snap-hook. |
US5424029A (en) * | 1982-04-05 | 1995-06-13 | Teledyne Industries, Inc. | Corrosion resistant nickel base alloy |
CN1027182C (zh) * | 1993-01-06 | 1994-12-28 | 冶金工业部钢铁研究总院 | 耐热腐蚀铸造镍基高温合金 |
CN1312301C (zh) * | 2005-09-23 | 2007-04-25 | 北京工业大学 | 用于高温超导的Ni-W合金的制备方法 |
CN100374596C (zh) * | 2006-05-19 | 2008-03-12 | 北京工业大学 | Ni基合金复合基带及其粉末冶金制备方法 |
-
2008
- 2008-03-27 DE DE102008016222A patent/DE102008016222B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2008-04-14 EP EP08748744A patent/EP2137330B1/de active Active
- 2008-04-14 US US12/596,526 patent/US20100059145A1/en not_active Abandoned
- 2008-04-14 CN CN200880012324XA patent/CN101680058B/zh active Active
- 2008-04-14 WO PCT/DE2008/000615 patent/WO2008125091A2/de active Application Filing
- 2008-04-14 RU RU2009142207/02A patent/RU2421535C1/ru active
- 2008-04-14 AT AT08748744T patent/ATE524570T1/de active
- 2008-04-14 KR KR20097021560A patent/KR101234154B1/ko active IP Right Grant
- 2008-04-14 JP JP2010503347A patent/JP5355545B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2635289C2 (de) * | 1975-11-07 | 1981-10-15 | Hitachi, Ltd., Tokyo | Metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US5788783A (en) * | 1995-07-18 | 1998-08-04 | Imphy S.A. | Iron-nickel alloy for stretched shadow mask |
DE10005861C2 (de) * | 1999-04-03 | 2002-05-08 | Dresden Ev Inst Festkoerper | Metallischer Werkstoff auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung |
US6447714B1 (en) * | 2000-05-15 | 2002-09-10 | Ut-Battelle, Llc | Method for forming biaxially textured articles by powder metallurgy |
DE10200445B4 (de) * | 2002-01-02 | 2005-12-08 | Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung e.V. | Metallband für epitaktische Beschichtungen und Verfahren zu dessen Herstellung |
DE102004041053A1 (de) * | 2004-08-25 | 2006-03-02 | Trithor Gmbh | Dicke REBCO-Schichten für Coated Conductors über Chemical Solution Deposition (CSD) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011015961A1 (de) | 2011-04-04 | 2012-10-04 | Thyssenkrupp Vdm Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Substratbandes |
DE102011016180A1 (de) | 2011-04-05 | 2012-10-11 | Thyssenkrupp Vdm Gmbh | Verfahren zum Herstellen eines Substratbandes |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090130055A (ko) | 2009-12-17 |
KR101234154B1 (ko) | 2013-02-18 |
ATE524570T1 (de) | 2011-09-15 |
CN101680058B (zh) | 2012-05-30 |
WO2008125091A2 (de) | 2008-10-23 |
CN101680058A (zh) | 2010-03-24 |
DE102008016222A1 (de) | 2008-11-13 |
WO2008125091A3 (de) | 2009-01-15 |
EP2137330A2 (de) | 2009-12-30 |
JP2010525156A (ja) | 2010-07-22 |
JP5355545B2 (ja) | 2013-11-27 |
US20100059145A1 (en) | 2010-03-11 |
EP2137330B1 (de) | 2011-09-14 |
RU2421535C1 (ru) | 2011-06-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE102008016222B4 (de) | Metallfolie | |
DE69921181T3 (de) | Hochreines tantalmetall und erzeugnisse daraus, wie zerstäubungstargets | |
DE112010001811B4 (de) | Cu-Ni-Si-Mg-Legierung mit verbesserter Leitfähigkeit und Biegbarkeit | |
DE1558521C3 (de) | Verwendung einer Nickel Chrom Knetlegierung als superplastischer Werk stoff | |
DE112015000125B4 (de) | Zylindrisches Sputter-Target-Material | |
EP3004408B1 (de) | Verfahren zur herstellung einer metallfolie | |
KR101799615B1 (ko) | 마그네슘 합금판, 및 그 제조 방법 | |
DE102007040822A1 (de) | Kupferlegierung und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP1888798B1 (de) | Aluminium-gleitlagerlegierung | |
DE69733964T2 (de) | Sputter target aus aluminium-legierung | |
EP3172354B1 (de) | Sputtertarget auf der basis einer silberlegierung | |
EP1922426B1 (de) | Verfahren zur herstellung und verwendung von halbzeug auf nickelbasis mit rekristallisationswürfeltextur | |
WO2006064030A1 (de) | Halbzeug auf nickelbasis mit würfeltextur und verfahren zu dessen herstellung | |
DE2422578A1 (de) | Zirkonlegierung, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung | |
EP3168325B1 (de) | Sputtertarget auf der basis einer silberlegierung | |
DE60215240T2 (de) | Kupfer sowie Kupferlegierung und Verfahren zur Herstellung | |
DE112008000647T5 (de) | Wasserstoffdurchlässige Legierung und wasserstoffdurchlässige Folie sowie Herstellungsverfahren dafür | |
EP3486340B1 (de) | Aluminiumlegierung-kunststoff-arbeitsmaterial und herstellungsverfahren dafür | |
AT15356U1 (de) | Sputtering Target | |
DE10342965A1 (de) | Halbzeug auf Nickelbasis mit einer Rekristallisationswürfeltextur und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE2751577A1 (de) | Verfahren zur herstellung faellungsgehaerteter kupferlegierungen und deren verwendung fuer kontaktfedern | |
DE2029963A1 (de) | Ni ekel-Legierung | |
EP3650568A1 (de) | Niob-zinn legierung und verfahren zur ihrer herstellung | |
DE102019105598A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Aluminiumbands mit hoher Festigkeit und hoher elektrischer Leitfähigkeit | |
DE2829976C2 (de) | Gemisch, enthaltend Borsäure, Natriumborat und/oder Kaliumborat zur Erzeugung einer Carbidschicht und Verfahren zur Erzeugung der Carbidschicht |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Owner name: ZENERGY POWER GMBH, 53359 RHEINBACH, DE |
|
R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20110330 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: WOLFGANG CICHY, DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VDM METALS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, ZENERGY POWER GMBH, , DE Effective date: 20120615 Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Free format text: FORMER OWNERS: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE; ZENERGY POWER GMBH, 53359 RHEINBACH, DE Effective date: 20120615 Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNERS: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE; ZENERGY POWER GMBH, 53359 RHEINBACH, DE Effective date: 20120615 Owner name: VDM METALS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE; ZENERGY POWER GMBH, 53359 RHEINBACH, DE Effective date: 20120615 Owner name: VDM METALS INTERNATIONAL GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE; ZENERGY POWER GMBH, 53359 RHEINBACH, DE Effective date: 20120615 Owner name: OUTOKUMPU VDM GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, ZENERGY POWER GMBH, , DE Effective date: 20120615 Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNER: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, ZENERGY POWER GMBH, , DE Effective date: 20120615 Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Free format text: FORMER OWNER: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, ZENERGY POWER GMBH, , DE Effective date: 20120615 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: CICHY, WOLFGANG, DIPL.-ING., DE Effective date: 20120615 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VDM METALS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: BASF SE, LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, , DE Effective date: 20130221 Owner name: VDM METALS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20130221 Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20130221 Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20130221 Owner name: VDM METALS INTERNATIONAL GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; THYSSENKRUPP VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20130221 Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNER: BASF SE, LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, , DE Effective date: 20130221 Owner name: OUTOKUMPU VDM GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: BASF SE, LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, , DE Effective date: 20130221 Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Free format text: FORMER OWNER: BASF SE, LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, THYSSENKRUPP VDM GMBH, , DE Effective date: 20130221 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: CICHY, WOLFGANG, DIPL.-ING., DE Effective date: 20130221 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: CICHY, WOLFGANG, DIPL.-ING., DE |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VDM METALS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; OUTOKUMPU VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20140526 Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; OUTOKUMPU VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20140526 Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; OUTOKUMPU VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20140526 Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNER: BASF SE, LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, OUTOKUMPU VDM GMBH, , DE Effective date: 20140526 Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Free format text: FORMER OWNER: BASF SE, LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, OUTOKUMPU VDM GMBH, , DE Effective date: 20140526 Owner name: VDM METALS GMBH, DE Free format text: FORMER OWNER: BASF SE, LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER, OUTOKUMPU VDM GMBH, , DE Effective date: 20140526 Owner name: VDM METALS INTERNATIONAL GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; OUTOKUMPU VDM GMBH, 58791 WERDOHL, DE Effective date: 20140526 |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: CICHY, WOLFGANG, DIPL.-ING., DE Effective date: 20140526 |
|
R081 | Change of applicant/patentee |
Owner name: VDM METALS INTERNATIONAL GMBH, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; VDM METALS GMBH, 58791 WERDOHL, DE Owner name: BASF SE, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; VDM METALS GMBH, 58791 WERDOHL, DE Owner name: LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOF, DE Free format text: FORMER OWNERS: BASF SE, 67063 LUDWIGSHAFEN, DE; LEIBNIZ-INSTITUT FUER FESTKOERPER UND WERKSTOFFFORSCHUNG E.V., 01069 DRESDEN, DE; VDM METALS GMBH, 58791 WERDOHL, DE |
|
R082 | Change of representative |
Representative=s name: CICHY, WOLFGANG, DIPL.-ING., DE |
|
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |