WO2006064030A1 - Halbzeug auf nickelbasis mit würfeltextur und verfahren zu dessen herstellung - Google Patents

Halbzeug auf nickelbasis mit würfeltextur und verfahren zu dessen herstellung Download PDF

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texture
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Jörg EICKEMEYER
Dietmar Selbmann
Horst Wendrock
Bernhard Holzapfel
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Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V.
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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
    • C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel

Definitions

  • the invention relates to a nickel-based semi-finished product with cube texture and process for its production.
  • the semifinished product offers the possibility of growing an insulating nickel oxide layer with a high cube texture on its surface, which acts as a buffer layer between the base material and a coating to be applied later, for example a superconductor layer.
  • Nickel tapes are also used as a support for metallic coatings, ceramic buffer layers and ceramic superconductor layers (US 5,741,377).
  • the suitability of such metal strips as a substrate material depends decisively on the achievable degree of texture and the stability of the texture in the range of temperatures at which the coating processes work.
  • Cube texture semi-finished products are already known for the production of high temperature superconductors consisting of Ni-Cr, Ni-Cr-V, Ni-Cu and similar alloys (US 5,964,966, US 6,106,615).
  • these nickel-base alloys are not suitable for epitaxially growing nickel oxide with the cube texture on their surface.
  • Nickel which is alloyed with molybdenum or tungsten in the percentage range (DE 100 05 861 C1) is also unsuitable for the epitaxial growth of nickel oxide.
  • Substrate material with grain boundary trenches is less suitable as a substrate for epitaxial layer depositions (eg buffer layers, superconductor layers).
  • Ni-Cr In higher alloyed Ni-Cr, Ni-Cr-V, Ni-Cu, Ni-Mo or Ni-W bands, although a high-grade cube texture can be obtained, the film growth of NiO is greatly disturbed, so that such alloys Due to disturbing influences of the alloying elements in the oxidation insufficiently bi-axially grow, and thus as substrate material for epitaxial layer depositions (eg buffer layers, superconductor layers) are less suitable. It has also been proposed a Ni material with an Ag addition in the micro alloy region (DE 103 42 965.4), which offers the possibility to grow Ni oxide with a cube texture. This material is relatively expensive. Disclosure of the invention
  • the invention has for its object to provide a semi-finished nickel-based, in which the disadvantages of the prior art are eliminated.
  • the semi-finished product according to the invention has a Rekristallisationsorulfeltextur and consists of technically pure nickel or nickel alloys with an addition of a metal of the 3rd subgroup of the Periodic Table of the Elements. In this case, a maximum of 600 atomic ppm and a minimum of 10 atomic ppm of the additive are contained in the material.
  • the metallic additive may preferably be yttrium and / or cerium.
  • a nickel oxide layer with cube texture is located on the material surface, a nickel oxide layer with cube texture.
  • an alloy is first produced by melt metallurgy or powder metallurgy or by mechanical alloying and that this alloy is processed by means of hot forming with subsequent high-grade cold working of> 80% thickness reduction to strip, foil or flat wire. Finally, the material is subjected to a recrystallizing annealing to obtain a cube texture.
  • a nickel oxide layer with a high-grade cube texture (> 90%) can be produced on the Ni-base material in an oxidizing atmosphere.
  • This is made possible by the alloying addition to nickel according to the invention.
  • the addition of alloy causes a refinement which improves growth conditions.
  • the semifinished product according to the invention has a cube texture which is equal to or better than that of semi-finished products of technically pure nickel and other alloys and can be used as a substrate for physical-chemical coatings, for example for layer superconductors. It preferably offers the possibility of growing an insulating nickel oxide layer with a high cube texture on its surface, which acts as a buffer layer between the base material and a later to be applied superconductor layer. This oxide layer largely adopts the alloy-based finer grain structure of the textured substrate and thus obviously obtains more favorable conditions for nickel oxide growth.
  • FIG. 1 shows the orientation mapping determined with EBSD (Electron Back Scuttering Difraction) above for the nickel material with yttrium addition according to Example 2 below. Underneath is the corresponding diagram with the frequency distribution of the grain orientation in relation to the EBSD (Electron Back Scuttering Difraction)
  • FIG. 1 serves as evidence for the beneficial effect of yttrium in the formation of textures.
  • Fig. 2 shows at the top of the nickel material with yttrium addition according to the following Example 2, the orientation mapping of the nickel oxide layer present on the nickel material, also determined with EBSD. Below that is that corresponding graph showing the frequency distribution of grain orientation with respect to the cube orientation in the nickel oxide. Fig. 2 serves as evidence of the beneficial effect of yttrium on the texture in the resulting nickel oxide.
  • the subsequent tempering treatment at 55O 0 C for 30 min causes recrystallization with cube texture, wherein the FWHM value of (111) -PoIs is 6.6 °, as shown in the table below shown.
  • This texture sharpness is improved by more than 1 ° with respect to the nickel of 99.9% purity.
  • under oxygen at 115O 0 C briefly oxidized for 2 minutes and cooled.
  • the resulting nickel oxide film also has a sharp cube texture.
  • the result is a recrystallization cube texture (see Fig. 1) whose grain orientation distribution has its maximum slightly below 5 °.
  • the proportion of grains with a dice position ( ⁇ 10 ° deviation) is 98%, and the proportion of small-angle grain boundaries ( ⁇ 9.5 ° deviation) is 92%.
  • the grain size is about 42 microns about half as large as pure nickel.
  • the strip is exposed in pure oxygen gas at 115O 0 C a 2-minute oxidation.
  • the resulting nickel oxide layer has a structure with a dice layer.
  • the proportion of grains with cube orientation is 97% ( Figure 2).
  • the proportion of small-angle grain boundaries is 96%. This texture is rotated 45 ° from the texture of the nickel strip.
  • the nickel tape obtained is then subjected initially at 85O 0 C a 30-minute annealing treatment for recrystallization in a reducing atmosphere. Thereafter, the strip is treated in a second annealing for 5 minutes at 115O 0 C in an oxidizing atmosphere to produce a high-cube nickel oxide film.

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Halbzeug auf Nickelbasis mit Würfeltextur und Verfahren zu dessen Herstellung. Das Halbzeug bietet die Möglichkeit, eine isolierende Nickeloxidschicht mit hochgradiger Würfeltextur auf seiner Oberfläche wachsen zu lassen, die als Pufferschicht zwischen dem Grundwerkstoff und einer später aufzubringenden Beschichtung, beispielsweise einer Supraleiterschicht, wirkt. Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Halbzeug auf Nickelbasis zu schaffen, bei dem die Nachteile des Standes der Technik beseitigt sind. Das erfindungsgemäße Halbzeug weist eine Rekristallisationswürfeltextur auf und besteht aus technisch reinem Nickel oder Nickellegierungen mit einem Zusatz eines Metalls der 3. Nebengruppe des Periodischen Systems der Elemente. Dabei sind maximal 600 Atom-ppm und minimal 10 Atom-ppm des Zusatzes in dem Werkstoff enthalten. Der metallische Zusatz kann vorzugsweise Yttrium und/oder Cer sein. Gemäß einer vorteilhaften Ausführung der Erfindung befindet sich auf der Werkstoffoberfläche eine Nickeloxidschicht mit Würfeltextur. Zur Herstellung des Halbzeuges ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass zunächst auf schmelzmetallurgischem oder pulvermetallurgischem Wege oder durch mechanisches Legieren eine Legierung hergestellt wird und dass diese Legierung mittels einer Warmumformung mit nachfolgender hochgradiger Kaltumformung von >80% Dickenreduktion zu Band, Folie oder Flachdraht verarbeitet wird. Schließlich wird der Werkstoff einer rekristallisierenden Glühung zur Erzielung einer Würfeltextur unterworfen.

Description

Halbzeug auf Nickelbasis mit Würfeltextur und Verfahren zu dessen Herstellung
Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft ein Halbzeug auf Nickelbasis mit Würfeltextur und Verfahren zu dessen Herstellung. Das Halbzeug bietet die Möglichkeit, eine isolierende Nickeloxidschicht mit hochgradiger Würfeltextur auf seiner Oberfläche wachsen zu lassen, die als Pufferschicht zwischen dem Grundwerkstoff und einer später aufzubringenden Beschichtung, beispielsweise einer Supraleiterschicht, wirkt.
Stand der Technik
Bekannt ist, dass polykristalline Metalle mit kubisch-flächenzentriertem Gitter, wie Nickel und Kupfer, nach vorausgegangener starker Kaltumformung durch Walzen bei der nachfolgenden Rekristallisation eine ausgeprägte Textur mit Würfellage ausbilden können (G. Wassermann: Texturen metallischer Werkstoffe, Springer, Berlin, 1939). Auf diese Weise texturierte Metallbänder, insbesondere
Nickelbänder, werden auch als Unterlage für metallische Überzüge, keramische Pufferschichten und keramische Supraleiterschichten benutzt (US 5,741 ,377). Die Eignung solcher Metallbänder als Substratwerkstoff hängt dabei maßgeblich vom erreichbaren Grad der Textur und der Stabilität der Textur im Bereich der Temperaturen ab, bei denen die Beschichtungsverfahren arbeiten. Es sind bereits Halbzeuge mit Würfeltextur für die Herstellung von Hochtemperatur-Supraleitern bekannt, die aus Ni-Cr, Ni-Cr-V, Ni-Cu und ähnlichen Legierungen bestehen (US 5,964,966; US 6,106,615). Diese Nickelbasis-Legierungen sind allerdings nicht dafür geeignet, auf ihrer Oberfläche epitaktisch Nickeloxid mit der Würfeltextur wachsen zu lassen. Gleiches trifft auf technisch reines Nickel zu, in dem die chemischen Verunreinigungen Störungen im Wachstum des Oxidfilmes bewirken. Auch Nickel, das mit Molybdän oder Wolfram im Prozentbereich legiert ist (DE 100 05 861 C1 ), ist für ein epitaktisches Aufwachsen von Nickeloxid ungeeignet.
Die bekannten Halbzeuge haben folgende Nachteile:
Nickel mit technischer Reinheit neigt nach Kaltumformung und Rekristallisationsglühung stark zur Ausbildung eine groben Kornstruktur, die zur Erzielung der hochgradigen Würfeltextur nachteilig ist. Zudem bewirken
Verunreinigungen im ppm-Bereich insbesondere bei den höheren Temperaturen der Nickeloxidbildung (850...12000C) eine starke Tendenz zur Bildung von Korngrenzengräben. Substratmaterial mit Korngrenzengräben ist wenig geeignet als Unterlage für epitaktische Schichtabscheidungen (z.B. Pufferschichten, Supraleiterschichten).
In höher legierten Bändern aus Ni-Cr, Ni-Cr-V, Ni-Cu, Ni-Mo oder Ni-W kann zwar eine hochgradige Würfeltextur erreicht werden, das Filmwachstum von NiO wird aber in starkem Maße gestört, so dass solche Legierungen auf Grund störender Einflüsse der Legierungselemente bei der Oxidation nur ungenügend bi-axial wachsen, und somit als Substratmaterial für epitaktische Schichtabscheidungen (z.B. Pufferschichten, Supraleiterschichten) wenig geeignet sind. Es wurde auch bereits ein Ni-Werkstoff mit einem Ag-Zusatz im Mikrolegierungsbereich vorgeschlagen (DE 103 42 965.4), der die Möglichkeit bietet, Ni-Oxid mit einer Würfeltextur aufwachsen zu lassen. Dieser Werkstoff ist aber vergleichsweise teuer. Offenbarung der Erfindung
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Halbzeug auf Nickelbasis zu schaffen, bei dem die Nachteile des Standes der Technik beseitigt sind.
Diese Aufgabe wird mit dem in den Patentansprüchen gekennzeichneten Merkmalen gelöst.
Das erfindungsgemäße Halbzeug weist eine Rekristallisationswürfeltextur auf und besteht aus technisch reinem Nickel oder Nickellegierungen mit einem Zusatz eines Metalls der 3. Nebengruppe des Periodischen Systems der Elemente. Dabei sind maximal 600 Atom-ppm und minimal 10 Atom-ppm des Zusatzes in dem Werkstoff enthalten.
Der metallische Zusatz kann vorzugsweise Yttrium und/oder Cer sein.
Gemäß einer vorteilhaften Ausführung der Erfindung befindet sich auf der Werkstoffoberfläche eine Nickeloxidschicht mit Würfeltextur.
Zur Herstellung des Halbzeuges ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass zunächst auf schmelzmetallurgischem oder pulvermetallurgischem Wege oder durch mechanisches Legieren eine Legierung hergestellt wird und dass diese Legierung mittels einer Warmumformung mit nachfolgender hochgradiger Kaltumformung von >80% Dickenreduktion zu Band, Folie oder Flachdraht verarbeitet wird. Schließlich wird der Werkstoff einer rekristallisierenden Glühung zur Erzielung einer Würfeltextur unterworfen.
In besonders vorteilhafter weise kann auf dem Ni-Basis-Werkstoff in oxidierender Atmosphäre eine Nickeloxidschicht mit hochgradiger Würfeltextur (>90%) erzeugt werden. Dies wird durch den erfindungsgemäßen Legierungszusatz zum Nickel ermöglicht. Außerdem bewirkt der Legierungszusatz eine Komfeinung, die die Wachstumsbedingungen verbessert.
Das erfindungsgemäße Halbzeug besitzt eine im Vergleich zu Halbzeug aus technisch reinem Nickel und anderen Legierungen auf dessen Basis ebenbürtige oder bessere Würfeltextur und ist als Unterlage für physikalisch-chemische Beschichtungen einsetzbar, beispielsweise für Schichtsupraleiter. Es bietet vorzugsweise die Möglichkeit, eine isolierende Nickeloxidschicht mit hochgradiger Würfeltextur auf seiner Oberfläche wachsen zu lassen, die als Pufferschicht zwischen dem Grundwerkstoff und einer später aufzubringenden Supraleiterschicht wirkt. Diese Oxidschicht übernimmt weitgehend die legierungsbedingt feinere Kornstruktur des texturierten Substrates und erhält dadurch offensichtlich günstigere Voraussetzungen für das Nickeloxidwachstum.
Die Erfindung ist nachstehend an Hand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Kurze Beschreibung der Abbildungen
Abb. 1 zeigt oben zu dem Nickelwerkstoff mit Yttrium-Zusatz gemäß dem nachstehenden Beispiel 2 das Orientierungsmapping, ermittelt mit EBSD (Electron Back Scuttering Difraction). Darunter ist das zugehörige Diagramm mit der Häufigkeitsverteilung der Kornorientierung in Bezug auf die
Würfelorientierung gezeigt. Abb. 1 dient als Beleg für die vorteilhafte Wirkung des Yttriums bei der Texturausbildung.
Abb. 2 zeigt oben zu dem Nickel Werkstoff mit Yttrium-Zusatz gemäß dem nachstehenden Beispiel 2 das Orientierungsmapping der auf dem Nickelwerkstoff vorhanden Nickeloxidschicht, ebenfalls ermittelt mit EBSD. Darunter ist das zugehörige Diagramm mit der Häufigkeitsverteilung der Kornorientierung in Bezug auf die Würfelorientierung im Nickeloxid gezeigt. Abb. 2 dient als Beleg für die vorteilhafte Wirkung des Yttriums auf die Textur im entstandenen Nickoxid.
Ausführungsformen der Erfindung
Beispiel 1
Technisch reines Nickel, beispielsweise mit einem Reinheitsgrad von 99,9 Atomprozent Nickel, wird geschmolzen und unter Zulegieren von 33 Atom-ppm Cer in eine Kokille abgegossen. Der Ingot wird bei 85O0C an die Vierkantabmessung (22 x 22) mm2 gewalzt, homogenisierend geglüht und abgeschreckt. Anschließend wird das Vierkantmaterial spanabhebend überarbeitet, um eine fehlerfreie Oberfläche für die folgende Kaltumformung durch Walzen zu erhalten. Das Kaltwalzen wird zunächst mit einem Abwalzgrad von über 85 Prozent Dickenreduktion ausgehend von 20 mm an 80 μm Dicke durchgeführt, in diesem Fall 99,6% Dickenreduktion. Die nachfolgende Anlassbehandlung bei 55O0C über 30 min bewirkt eine Rekristallisation mit Würfeltextur, wobei der FWHM-Wert des (111 )-PoIs 6,6° beträgt, wie aus der unten gezeigten Tabelle ersichlich ist. Diese Texturschärfe ist gegenüber dem Nickel von 99,9% Reinheit um mehr als 1° verbessert. Nachfolgend wird unter Sauerstoff bei 115O0C kurzzeitig für 2 Minuten oxidiert und abgekühlt. Der entstandene Nickeloxidfilm weist ebenfalls eine scharfe Würfeltextur auf. Der FWHM-Wert des (111 )-PoIs beträgt sogar nur 5,4°(siehe Tabelle). Die Tabelle 1 dient als Beleg für die Legierungswirkung des Yttriums und des Cers bezüglich Würfeltexturbildung.
Tabelle
FWHM(111 )-Werte der Würfeltextur von technisch reinem Nickel, Y- oder Ce- legiertem Nickel und von NiO auf Y- oder Ce-Iegiertem Nickel.
FWHM(111 )Wert,
Substrat
Glühung ohne Glühung zur Oxidation: Oxidation:
550°C,30 min 115O0C, 2 min
Ni(D) 8,3
Ni(F) 7,9
Ni(F)+33at-ppm Y 8,0
NiO auf 7,7
Ni(F)+ 33 at-ppm Y
Ni(F)+ 33 at-ppm Ce 6,6
NiO auf 5,4
Ni(F)+ 33 at-ppm Ce Beispiel 2
Technisch reines Nickel, beispielsweise mit einem Reinheitsgrad von 99,9 Atomprozent Nickel, wird unter Zulegieren von 33 Atom-ppm Yttrium in einem Vakuuminduktionsofen geschmolzen und in eine Kokille abgegossen. Der Ingot wird homogenisierend geglüht, in Wasser abgeschreckt und bei 85O0C an die Vierkantabmessung (22 x 22) mm2 gewalzt,. Anschließend wird das Vierkantmaterial spanabhebend überarbeitet, um eine fehlerfreie Oberfläche für die folgende Kaltumformung durch Walzen zu erhalten. Das Kaltwalzen wird mit einem Abwalzgrad von über 85% Prozent Dickenreduktion durchgeführt, in diesem Fall 99,6%. Das resultierende Nickelband hat eine Dicke von 80 μm. Es wird nachfolgend bei 55O0C über 30 min angelassen.
Das Ergebnis ist eine Rekristallisationswürfeltextur (vergl. Abb. 1 ), deren Verteilung für die Kornorientierung ihr Maximum etwas unterhalb von 5° hat. Der Anteil an Körnern mit Würfellage (<10° Abweichung) beträgt 98%, und der Anteil an Kleinwinkelkorngrenzen (<9,5° Abweichung) liegt bei 92%. Die Korngröße ist mit ca. 42 μm etwa nur halb so groß wie bei reinem Nickel. Anschließend wird das Band in reinem Sauerstoffgas bei 115O0C einer 2-minütigen Oxidation ausgesetzt. Die entstandene Nickeloxidschicht weist ein Gefüge mit Würfellage auf. Der Anteil der Körner mit Würfelorientierung beträgt 97% (Abb. 2). Der Anteil der Kleinwinkelkorngrenzen liegt bei 96%. Diese Textur ist um 45° gegenüber der Textur des Nickelbandes gedreht.
Beispiel 3
Technisch reines Nickelpulver wird unter Zugabe 100 Atom-ppm Cer pulvermetallurgisch prozessiert. Nach dem Verpressen, Tempern und Warmumformen durch Strangpressen und Walzen wird ein Stabmaterial von (22 x 22) mm2 erhalten. Nach einer Homogenisierungsglühung wird die Oberfläche spanabhebend überarbeitet, um eine fehlerfreie Oberfläche für die folgende Kaltumformung durch Walzen oder Walzziehen zu erhalten. Das Kaltumformen wird ausgehend von ca. (20 X20) mm2 bis an eine Dicke von 3 mm durchgeführt. Es wird nachfolgend bei 85O0C über 15 min angelassen. Darauf wird an die Fertigabmessung von 80 μm Dicke kalt gewalzt. Die Randbereiche des Bandes werden abgetrennt und verworfen. Das erhaltene Nickelband wird anschließend zunächst bei 85O0C einer 30-minütigen Glühbehandlung zum Rekristallisieren in reduzierender Atmosphäre unterzogen. Danach wird das Band in einer zweiten Glühung über 5 Minuten bei 115O0C in oxydierender Atmosphäre behandelt, um einen Nickeloxidfilm mit hochgradiger Würfeltextur herzustellen.

Claims

Ansprüche
1. Halbzeug auf Nickelbasis, dadurch gekennzeichnet, dass dieses eine Rekristallisationswürfeltextur aufweist und aus technisch reinem Nickel oder Nickellegierungen mit einem Zusatz eines Metalls der 3. Nebengruppe des Periodischen Systems der Elemente besteht, wobei maximal 600 Atom- ppm und minimal 10 Atom-ppm des Zusatzes in dem Werkstoff enthalten sind.
2. Halbzeug nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der metallische Zusatz Yttrium und/oder Cer ist.
3. Halbzeug nach Ansprüchen 1 , dadurch gekennzeichnet, dass sich auf der Werkstoffoberfläche eine Nickeloxidschicht mit Würfeltextur befindet.
4. Verfahren zur Herstellung des Halbzeuges gemäß Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass zunächst auf schmelzmetallurgischem oder pulvermetallurgischem Wege oder durch mechanisches Legieren eine Legierung hergestellt wird und dass diese Legierung mittels einer Warmumformung mit nachfolgender hochgradiger Kaltumformung von >80% Dickenreduktion zu Band, Folie oder Flachdraht verarbeitet wird und schließlich einer rekristallisierenden Glühung zur Erzielung einer
Würfeltextur unterworfen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass auf dem Werkstoff in oxidierender Atmosphäre eine Nickeloxidschicht mit hochgradiger Würfeltextur von >90% erzeugt wird.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012004262A1 (de) * 2010-07-07 2012-01-12 Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. Metallischer profildraht mit rekristallisationswürfeltextur und verfahren zu dessen herstellung
CN107884429A (zh) * 2017-10-16 2018-04-06 首钢集团有限公司 一种冷轧钢板织构测量方法

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008001005B4 (de) 2008-04-04 2011-06-22 Karlsruher Institut für Technologie, 76131 Verfahren zur Herstellung eines Schichtverbundes mit epitaktisch gewachsenen Schichten aus einem magnetischen Formgedächtnis-Material und Schichtverbund mit epitaktischen Schichten aus einem magnetischen Formgedächtnis-Material sowie dessen Verwendung
EP3004409B1 (de) 2013-06-07 2017-08-09 VDM Metals International GmbH Verfahren zur herstellung einer metallfolie
JP6388925B2 (ja) 2013-06-07 2018-09-12 ファオデーエム メタルズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングＶＤＭ Ｍｅｔａｌｓ ＧｍｂＨ 金属箔の製造方法
CN111378872A (zh) * 2018-12-28 2020-07-07 中国钢铁股份有限公司 高镍合金及其制造方法
CN111893446B (zh) * 2020-07-05 2022-07-15 河南师范大学 一种强织构的金属复合基带的制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0792943A1 (de) * 1996-02-27 1997-09-03 Imphy S.A. Eisen-Nickel-Legierung und kaltgewalztes Band mit kubischer Textur
US5964966A (en) * 1997-09-19 1999-10-12 Lockheed Martin Energy Research Corporation Method of forming biaxially textured alloy substrates and devices thereon
EP1295971A2 (de) * 2001-09-21 2003-03-26 Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden e.V. Trägermaterial auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2005024077A1 (de) * 2003-09-10 2005-03-17 Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. Halbzeug auf nickelbasis mit einer rekristallisationswürfeltextur und verfahren zu dessen herstellung und verwendung

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3452335B2 (ja) * 1994-08-19 2003-09-29 関東特殊製鋼株式会社 ＮｉＴｉ基合金

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0792943A1 (de) * 1996-02-27 1997-09-03 Imphy S.A. Eisen-Nickel-Legierung und kaltgewalztes Band mit kubischer Textur
US5783145A (en) * 1996-02-27 1998-07-21 Imphy S.A. Iron-nickel alloy and cold-rolled strip with a cubic texture
US5964966A (en) * 1997-09-19 1999-10-12 Lockheed Martin Energy Research Corporation Method of forming biaxially textured alloy substrates and devices thereon
US6106615A (en) * 1997-09-19 2000-08-22 Goyal; Amit Method of forming biaxially textured alloy substrates and devices thereon
EP1295971A2 (de) * 2001-09-21 2003-03-26 Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden e.V. Trägermaterial auf Nickelbasis und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2005024077A1 (de) * 2003-09-10 2005-03-17 Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. Halbzeug auf nickelbasis mit einer rekristallisationswürfeltextur und verfahren zu dessen herstellung und verwendung

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012004262A1 (de) * 2010-07-07 2012-01-12 Leibniz-Institut Für Festkörper- Und Werkstoffforschung Dresden E.V. Metallischer profildraht mit rekristallisationswürfeltextur und verfahren zu dessen herstellung
CN107884429A (zh) * 2017-10-16 2018-04-06 首钢集团有限公司 一种冷轧钢板织构测量方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP1828425A1 (de) 2007-09-05
DE102004060900A1 (de) 2006-06-29
JP5354906B2 (ja) 2013-11-27
JP2008523252A (ja) 2008-07-03

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