DE102006033189A1 - Signaturdatenschaltkreis, Halbleiterbauelement und Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen - Google Patents

Signaturdatenschaltkreis, Halbleiterbauelement und Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen Download PDF

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Signaturdatenschaltkreis, ein Halbleiterbauelement und ein Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen. DOLLAR A Der Signaturdatenschaltkreis für ein Halbleiterbauelement umfasst einen Signaturprogrammschaltkreis (32), der dazu eingerichtet ist, mit Signaturinformationen programmiert zu werden und ein Signatursignal in Abhängigkeit von den Signaturinformationen auszugeben; einen Signaturausgabeschaltkreis (34), der dazu eingerichtet ist, das von dem Signaturprogrammschaltkreis (32) ausgegebene Signal während eines Betriebs in einem Normalmodus zu blockieren und das Signatursignal während eines Betriebs in einem Testmodus passieren zu lassen; und einen Kontaktflächen-Treibertransistor (PM1), der direkt mit einer Kontaktfläche (PAD) verbunden ist und der dazu eingerichtet ist, die Kontaktfläche (PAD) während des Betriebs in dem Normalmodus in Abhängigkeit von einem Betriebskommando (SELO) anzusteuern und die Kontaktfläche (PAD) während des Betriebs in dem Testmodus in Abhängigkeit von dem Signatursignal anzusteuern, das von dem Signaturausgabeschaltkreis (34) ausgegeben wird. DOLLAR A Verwendung beispielsweise in der Speichertechnologie.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft einen Signaturdatenschaltkreis, ein Halbleiterbauelement und ein Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen.
  • Herstellungsinformationen eines Halbleiterspeicherbauelements umfassen typischerweise Maskeninformationen, Sicherungsinformationen, Wafer-Prozessinformationen, Gehäuseaufbau- und Testinformationen und ähnliches. Die Herstellungsinformationen werden üblicherweise unter Verwendung eines Sicherungs-Programmschaltkreises oder Sicherungs-Programmierschaltkreises in einen Halbleiterchip geschrieben. Der Sicherungs-Programmierschaltkreis wird gemeinhin als Signatur-Sicherungsschaltkreis bezeichnet und wird zur Programmierung einer Losnummer, von Die-Informationen, wie beispielsweise einer Anordnung auf einem Wafer etc., benutzt, so dass diese Informationen zu einem späteren Zeitpunkt, beispielsweise zum Verfolgen einer Fehlerquelle, eingesetzt werden können.
  • Um die Herstellungsinformationen auszulesen, die in Halbleiterspeichereinrichtungen enthalten sind, werden typischerweise drei Verfahren eingesetzt.
  • Ein erstes Verfahren umfasst die Analyse mit dem bloßen Auge, ob die Signatur-Sicherung durchgebrannt oder zerstört wurde, nachdem der Halbleiterchip aus dem Gehäuse entfernt wurde. Das erste Verfahren hat den Nachteil, dass für das Freilegen des Chips hohe Kosten anfallen.
  • Ein zweites Verfahren umfasst die Messung eines Stroms, der an einem Eingangs-Pin der Einrichtung fließt, um die Signatur-Sicherungsdaten analog auszulesen. Gemäß dem zweiten Verfahren wird der Strom gemessen, indem ein Strom in Abhängigkeit eines Testmodussignals PSIGTEST durch den Signatur-Sicherungsschaltkreis fließen kann, wobei der gemessene Strom mit einem Referenzstrom verglichen wird, wie dies in 1 dargestellt ist. Probleme des zweiten Verfahrens liegen darin, dass es eine lange Testzeit benötigt, dass in unterschiedlichen Testumgebungen Fehler auftreten können und dass es schwierig ist, die Daten unter Verwendung einer niedrigen Spannung zu analysieren.
  • Ein drittes Verfahren umfasst das digitale Lesen der Signatur-Sicherungsdaten beim Betrieb in einem Testmodus. Das dritte Verfahren wird weiter in zwei unterschiedliche Ansätze unterteilt, d.h. in einen Register-Leseansatz und in einen normalen Leseansatz.
  • In einem Registerbetriebsbauelement, wie einem dynamischen Rambus-Speicher mit wahlfreiem Zugriff (RDRAM), kann ein Register mit dem Register-Leseansatz ausgelesen werden, indem lediglich eine Signatur-Sicherung hinzugefügt wird. Wenn jedoch ein Halbleiterbauelement nicht als Registerbetriebsbauelement ausgeführt ist, wird ein zusätzlicher Lo gik-Schaltkreis benötigt, so dass die Chip-Größe und die Layout-Fläche für den Chip vergrößert werden müssen.
  • Das normale Leseverfahren umfasst das Hinzufügen eines separaten Logik-Schaltkreises, wie in 2 dargestellt. Gemäß dem normalen Leseverfahren werden Zellendaten IO und IOB in dem Testmodus nicht ausgelesen, wobei Signaturinformationen SIG_IO und SIG_IOB in dem Testmodus durch einen Zellendatenausgangspfad ausgelesen werden. Ein Problem des normalen Leseverfahrens liegt darin, dass eine Betriebsgeschwindigkeit durch den Logik-Schaltkreis reduziert wird, der zum Laden der Signaturinformationen auf den Zellendatenausgangspfad hinzugefügt wird, und dass der Logik-Schaltkreis, der lediglich zum Lesen der Signaturinformationen benötigt wird, die Gesamtgröße des Systems vergrößert.
  • In den koreanischen Offenlegungsschriften 2004-68720 und 2004-69824 werden Verfahren zum digitalen Lesen von Signatur-Sicherungsdaten beschrieben.
  • Der Erfindung liegt die technische Aufgabe zugrunde, einen Signaturdatenschaltkreis, ein Halbleiterbauelement und ein Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen bereitzustellen, mit denen die Chip-Größe reduziert und die Lesegeschwindigkeit vergrößert werden kann, so dass die Testzeit gesenkt werden kann.
  • Die Erfindung löst diese Aufgabe durch Bereitstellen eines Signaturdatenschaltkreises mit den Merkmalen des Anspruchs 1, eines Halbleiterbauelements mit den Merkmalen des Anspruchs 5 und ein Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen mit den Merkmalen des Anspruchs 8.
  • Vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche, deren Wortlaut hiermit durch ausdrückliche Bezugnahme zum Inhalt der Beschreibung gemacht wird, um unnötige Textwiederholungen zu vermeiden.
  • Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung stellen einen Signaturschaltkreis und ein Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen während eines Betriebs in einem Testmodus bereit, bei denen ein zusätzlicher Transistor verwendet wird, der direkt mit einer Kontaktfläche gekoppelt ist.
  • Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung stellen einen Halbleiterchip mit einem Signaturschaltkreis zur Verfügung, der zum Lesen von Signaturinformationen während des Betriebes in einem Testmodus unter Verwendung eines zusätzlichen Transistors eingerichtet ist, der direkt mit einer Kontaktfläche gekoppelt ist.
  • Bei einer weiteren Ausführungsform ist ein Transistor zur Anpassung einer Impedanz ein Schalttransistor für einen Abschluss-Schaltkreis auf dem Chip oder einen chipinternen Abschluss-Schaltkreis (on-die termination (ODT) circuit) oder ein Impedanz-Anpassungstransistor eines separat vom Chip ausgeführten oder chipexternen Treiber-Schaltkreises (oft-chip driver (OCD) circuit).
  • Auf diese Weise kann durch die Verwendung von Pull-up- und Pull-down-Transistoren, die zur Anpassung der Impedanz dienen, die an einer Kontaktfläche des Bauelements zum Lesen der Signaturinformationen ansteht, die Größe des Signaturschaltkreises reduziert werden. Ebenso kann durch paralleles Lesen mehrerer Bits der Signaturinformationen von mehreren Kontaktflächen des Bauelements die Testzeit für das Bauelement reduziert werden.
  • Vorteilhafte Ausführungsformen der Erfindung, die nachstehend im Detail beschrieben sind, und die Ausführungsformen aus dem Stand der Technik, die vorstehend diskutiert wurden, um das Verständnis der Erfindung zu vereinfachen, sind in den Zeichnungen dargestellt. Hierbei zeigt:
  • 1 ein Schaltbild eines herkömmlichen Signaturschaltkreises zum Lesen von Signatur-Sicherungsdaten entsprechend einem Strom, der durch einen Signatur-Sicherungsschaltkreis bei herkömmlichen Halbleiterbauelementen fließt;
  • 2 ein Schaltbild eines herkömmlichen Ausgabepuffers, dem ein Schaltkreis zum Lesen von Signaturinformationen gemäß einem bekannten Ansatz hinzugefügt ist;
  • 3 ein Blockdiagramm eines erfindungsgemäßen transistorbasierten Signaturdatenschaltkreises zur Anpassung der Impedanz;
  • 4 ein detailliertes Schaltbild des erfindungsgemäßen Signaturdatenschaltkreises von 3;
  • 5 ein Blockdiagramm eines weiteren erfindungsgemäßen transistorbasierten Signaturdatenschaltkreises zur Anpassung der Impedanz; und
  • 6 ein detailliertes Schaltbild des erfindungsgemäßen Signaturdatenschaltkreises von 5.
  • Ein Element, das als „verbunden mit" oder „gekoppelt mit" einem anderen Element beschrieben wird, kann direkt mit dem anderen Element verbunden bzw. gekoppelt sein oder es können dazwischen liegende Elemente vorhanden sein. Im Gegensatz dazu sind bei einem Element, das als „direkt verbunden" oder „direkt gekoppelt" mit einem anderen Element beschrieben wird, keine dazwischen liegende Elemente vorhanden. Andere Begriffe, die zur Verwendung von Beziehungen zwischen Elementen benutzt werden, sollen in gleicher Weise interpretiert werden (z.B. „zwischen" und „direkt zwischen", „benachbart" und „direkt benachbart", etc.).
  • 3 ist ein Blockdiagramm, das einen erfindungsgemäßen transistorbasierten Signaturdatenschaltkreis zur Anpassung einer Impedanz zeigt.
  • Gemäß der 3 ist der transistorbasierte Signaturdatenschaltkreis zur Anpassung der Impedanz ein beispielhafter Schaltkreis, der einen auf dem Chip vorgesehenen oder chipinternen Abschluss(ODT)-Schaltransistor als Transistor verwendet, der mit einer Kontaktfläche verbunden ist.
  • In einem dynamischen Speicher mit wahlfreiem Zugriff (DRAM) mit doppelter Datenrate 2 (double data rate 2, DDR2) wird ein ODT eingesetzt, um die Zuverlässigkeit eines Datensignals zu erhöhen, das mit einem System ausgetauscht wird. Der ODT umfasst einen Abschlusswiderstand zum Abschließen oder Terminieren des Datenbusses in einem Speicherchip, wobei der ODT notwendigerweise mit dem Datenbus verbunden ist. Das heißt, dass der Abschlusswiderstand in einem Ruhemodus mit dem Datenbus verbunden ist, wenn ein benachbartes Modul in einem aktiven Betriebsmodus ist.
  • In einem Halbleiterchip werden Daten über eine Kontaktfläche PAD in einen internen Schaltkreis 10 geschrieben oder aus diesem gelesen. Eine Anzahl von PMOS-Transistoren und jeweils in Serie geschalteten Widerständen, wie ein Transistor PM1 und ein Widerstand RTT1 und ein Transistor PM2 und ein Widerstand RTT2, sind zwischen die Kontaktfläche PAD und eine Versorgungsspannung VCC eingeschleift. Weiterhin sind eine Anzahl von NMOS-Transistoren und Widerständen, wie ein Transistor NM1 und ein Widerstand RTT3 und ein Transistor NM2 und ein Widerstand RTT4, die zwischen die Kontaktfläche PAD und eine Massespannung VSS eingeschleift sind, jeweils in Serie geschaltet.
  • Die PMOS-Transistoren PM1 und PM2 und die NMOS-Transistoren NM1 und NM2 werden durch Auswahlsignale SEL0, SEL1, SEL2 bzw. SEL3 aktiviert, die von einem Steuerschaltkreis 20 bereitgestellt werden. Somit wird ein Widerstandswert eines Abschlusswiderstands zwischen der Kontaktfläche PAD und der Versorgungsspannung VCC bzw. der Massespannung VSS durch die Transistoren PM1, PM2, NM1 und NM2 bestimmt, die in Abhängigkeit von den Auswahlsignalen SEL0, SEL1, SEL2 bzw. SEL3 eingeschaltet werden.
  • Der Signaturschaltkreis 30 umfasst einen Signaturprogrammschaltkreis oder Signaturprogrammierschaltkreis 32 und einen Signaturausgabeschaltkreis 34.
  • Signaturinformationen werden in den Signaturprogrammschaltkreis 32 mittels einer Sicherungsoperation (fusing operation) programmiert. Der Signaturprogrammschaltkreis 32 wird in Abhängigkeit von einem Signal VCCHB initialisiert und speichert die programmierte Signaturinformation zwischen.
  • Der Signaturausgabeschaltkreis 34 ist mit einem Gate des PMOS-Transistors PM1 verbunden. Der Signaturausgabeschaltkreis 34 empfängt Signale ODT und PSIGTEST. In Abhängigkeit von den empfangenen Signalen ODT und PSIGTEST blockiert der Signaturausgabeschaltkreis 34 die Signaturinformation während eines ODT-Betriebs und gibt die Signaturinformation in einen Testmodus aus.
  • 4 ist ein detailliertes Schaltbild des detaillierten Signaturschaltkreises von 3.
  • In dem Beispiel der Ausführungsform nach 4 ist ein Bit des Signatursignals einer Kontakffläche zugeordnet. In diesem Fall kann die Signaturinformation von 64 Bits in einem Zyklus über 64 Kontaktflächen gelesen werden.
  • Gemäß der 4 umfasst der Signaturprogrammschaltkreis 32 einen PMOS-Transistor PM3, eine Sicherung F1, NMOS-Transistoren NM3 und NM4 und Inverter G1 und G2.
  • Für einen ersten Betriebszustand wird angenommen, dass die Sicherung F1 nicht aufgetrennt oder nicht zerstört ist. Das Signal VCCHB ist zunächst auf einem High-Pegel, wenn eine Versorgungsspannung angelegt wird. In diesem Fall wird der NMOS-Transistor NM3 angeschaltet, ein Knoten N1 ist auf einem Low-Pegel und ein High-Pegel wird durch den Inverter G1 und den NMOS-Transistor NM4 zwischengespeichert. Entsprechend ist das Ausgangssignal des Inverters G2 auf einem Low-Pegel. Wenn das VCCHB-Signal auf einem Low-Pegel stabilisiert ist, wird der NMOS-Transistor NM3 ausgeschaltet und der Knoten N1 wird durch den eingeschalteten PMOS-Transistor PM3 auf einen High-Pegel aufgeladen. Somit wird ein Low-Pegel durch den Inverter G1 und den NMOS-Transistor NM4 zwischengespeichert und das Ausgangssignal des Inverters G2 wird auf einen High-Pegel gesetzt.
  • Für einen zweiten Betriebszustand wird angenommen, dass die Sicherung F1 aufgetrennt oder zerstört ist. Das Signal VCCHB ist zunächst auf einem High-Pegel, wenn die Versorgungsspannung angelegt wird. In diesem Fall wird der NMOS-Transistor NM3 eingeschaltet, der Knoten N1 ist auf einem Low-Pegel und ein High-Pegel wird durch den Inverter G1 und den NMOS-Transistor NM4 zwischengespeichert. Entsprechend ist das Ausgangssignal des Inverters G2 auf einem Low-Pegel. Obwohl das VCCHB-Signal auf einem Low-Pegel stabilisiert wird und der NMOS-Transistor NM3 ausgeschaltet wird, bleibt das zwischengespeicherte Signal erhalten, da die Sicherung F1 aufgetrennt wurde. Somit ist das Ausgangssignal des Inverters G2 auf einem Low-Pegel.
  • Wie vorstehend beschrieben, wird ein Bit der Signaturinformation mit „0" oder „1" in Abhängigkeit von dem Zustand der Sicherung programmiert.
  • Der Signaturprogrammschaltkreis 34 umfasst einen PMOS-Transistor PM4 und ein NAND-Gatter G3. Ein Signal ODT eines Steuerschaltkreises 20 wird an den PMOS-Transistor PM4 angelegt. Das Signal ODT hat in einem ODT-Betriebsmodus einen High-Pegel und hat in den anderen Betriebsmodi einen Low-Pegel. Somit ist der PMOS-Transistor PM4 in dem ODT-Betriebsmodus immer abgeschaltet, so dass verhindert wird, dass die Signaturinformation ausgegeben wird.
  • Das NAND-Gatter G3 legt das von dem PMOS-Transistor PM4 ausgegebene Signatursignal in Abhängigkeit von dem Signal PSIGTEST an ein Gate des PMOS-Transistors PM1 an. Ein aktiver Zustand des Signals PSIGTEST entspricht einem logischen High-Pegel und ein inaktiver Zustand entspricht einem logischen Low-Pegel. Daher stellt der Inverter G3 die Signaturinformation an das Gate des PMOS-Transistors PM1 nur dann zur Verfügung, wenn das Signal PSIGTEST auf einem High-Pegel ist. Wenn das Signal PSIGTEST auf einem Low-Pegel ist, wird die Signaturinformation blockiert.
  • Wenn das Signal PSIGTEST auf einem High-Pegel ist und das Signatursignal ebenfalls auf einem High-Pegel ist, wird ein Low-Pegel an das Gate des PMOS-Transistors PM1 angelegt und ein Signal mit High-Pegel wird durch die Kontaktfläche PAD ausgegeben. Umgekehrt weist die Kontaktfläche PAD einen hochohmigen Zustand auf, wenn das Signal PSIGTEST auf einem High-Pegel ist und die Signaturinformation auf einem Low-Pegel ist, da ein Signal mit High-Pegel an das Gate des PMOS-Transistors PM1 angelegt wird.
  • Somit gibt der Signaturausgabeschaltkreis 34 die Signaturinformation lediglich während eines Betriebs in einem Testmodus aus und blockiert die Signaturinformation während eines Betriebs in einem ODT-Betriebsmodus.
  • 5 ist ein Blockdiagramm, das einen transistorbasierten Signaturdatenschaltkreis zur Anpassung der Impedanz gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung darstellt, und 6 ist ein detaillierter Schaltplan des Signaturdatenschaltkreises von 5.
  • In dem transistorbasierten Signaturschaltkreis von 5 und 6 wird ein 2-Bit-Signatursignal einer Kontaktfläche zugeordnet. Somit kann die Signaturinformation von 64 Bits beispielsweise in zwei Zyklen über 32 Kontaktflächen ausgelesen werden.
  • Gemäß 5 empfängt ein Signaturschaltkreis 40 erste und zweite Signaturtestsignale PSIGTEST1 und PSIGTEST2 von einem Steuerschaltkreis 22. Das zweite Signaturtestsignal PSIGTEST2 weist eine Phase auf, die um eine aktive Pulsweite, bezogen auf das erste Signaturtestsignal PSIGTEST1, verzögert ist. Somit wird das zweite Signaturtestsignal PSIGTEST2 aktiviert, nachdem das erste Signaturtestsignal PSIGTEST1 aktiviert worden ist.
  • Gemäß der 6 umfasst der Signaturschaltkreis 40 einen Signaturprogrammschaltkreis 42 und einen Signaturausgabeschaltkreis 44.
  • Ein 2-Bit-Signatursignal, das ein hohes Bit UB und ein niedriges Bit LB umfasst, wird in den Signaturprogrammschaltkreis 42 programmiert. Der Signaturprogrammschaltkreis 42 umfasst einen UB-Programmierschaltkreis 42A, einen LB-Programmierschaltkreis 42B und einen Multiplexer-Schaltkreis 42C. Da der UB-Programmierschaltkreis 42A und der LB-Programmierschaltkreis 42B einen ähnlichen Aufbau wie der oben beschriebene Signaturprogrammschaltkreis oder Signaturprogrammierschaltkreis 32 aufweisen, wird auf eine detaillierte Beschreibung in der vorliegenden Ausführungsform verzichtet.
  • Der Multiplexer-Schaltkreis 42C multiplext das hohe Bit und das niedrige Bit. Der Multiplexer-Schaltkreis 42C umfasst PMOS-Transistoren PM5 und PM6, NAND-Gatter G5 und G6 und Inverter G7 und G8.
  • Der Inverter G7 invertiert das erste Signaturtestsignal PSIGTEST1, um ein Signal PSIGTESTB1 zu erzeugen. Der Inverter G8 invertiert das zweite Signaturtestsignal PSIGTEST2, um ein Signal PSIGTESTB2 zu erzeugen. Das NAND-Gatter G5 führt eine NAND-Operation mit den Signalen PSIGTEST1 und PSIGTESTB2 durch, um den PMOS-Transistor PM5 anzusteuern. Wenn der PMOS-Transistor PM5 aktiviert ist, wählt er das hohe Bit zur Ausgabe aus. Das NAND-Gatter G6 führt eine NAND-Operation mit den Signalen PSIGTEST2 und PSIGTESTB1 aus, um den PMOS-Transistor PM6 anzusteuern. Wenn der PMOS-Transistor PM5 aktiviert ist, wählt er das niedrige Bit für eine Ausgabe aus.
  • Der Signaturausgabeschaltkreis 44 umfasst einen PMOS-Transistor PM4, ein NAND-Gatter G3 und ein ODER-Gatter G4. Das ODER-Gatter G4 führt eine ODER-Operation mit den Signalen PSIGTEST1 und PSIGTEST2 aus, um ein Signal PSIGTEST zu erzeugen. Das NAND-Gatter G3 legt ein vom PMOS-Transistor PM4 ausgegebenes Signatursignal an ein Gate des PMOS-Transistors PM1 in Abhängigkeit von dem Signal PSIGTEST an. Ein aktiver Zustand des Signals PSIGTEST entspricht einem logischen High-Pegel und ein inaktiver Zustand entspricht einem logischen Low-Pegel. Somit legt das NAND-Gatter G3 die Signaturinformationen an das Gate des PMOS-Transistors PM1 nur dann an, wenn das Signal PSIGTEST einen High-Pegel aufweist. Umgekehrt wird die Signaturinformation blockiert, wenn das Signal PSIGTEST einen Low-Pegel hat. Wenn das Signal PSIGTEST und die Signaturinformation auf einem High-Pegel sind, wird ein Signal mit Low-Pegel an das Gate des PMOS-Transistors PM1 angelegt und ein Signal mit High-Pegel wird von der Kontaktfläche PAD ausgegeben. Umgekehrt weist die Kontaktfläche PAD einen hochohmigen Zustand auf, wenn das Signal PSIGTEST auf einem High-Pegel und die Signaturinformation auf einem Low-Pegel ist, da ein Signal mit High-Pegel an das Gate des PMOS-Transistors PM1 angelegt ist.
  • Damit wird die Signaturinformation in dem Signaturausgabeschaltkreis 44 nur dann ausgegeben, wenn dieser in einem Testmodus betrieben wird, während dem die Signale PSIGTEST1 und PSIGTEST2 auf einem High-Pegel sind. Andernfalls wird die Signaturinformation blockiert, wenn ein ODT-Modus aktiv ist.
  • Somit können 32 hohe Bits der Signaturinformation über 32 Kontaktflächen in Abhängigkeit von dem Signal PSIGTEST1 und 32 niedrige Bits der Signaturinformationen über die Kontaktflächen in Abhängigkeit von dem Signal PSIGTEST2 ausgelesen werden. Somit kann eine 64-Bit-Signaturinformation über 32 Kontaktflächen während zwei Zyklen des Testvorgangs ausgelesen werden.
  • Wie oben beschrieben, kann der Signaturschaltkreis gemäß der oben genannten beispielhaften Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung die Chip-Größe durch Weglassen einer zusätzlichen Logik-Schaltung für den Signaturschaltkreis verringern, indem ein Pfad zum Lesen von Signaturinformationen, wie Herstellungsinformationen eines Halbleiterchips, von dem Halbleiterchip zu einer Kontaktfläche mit Hilfe eines Transistors gebildet wird, der mit der Kontaktfläche zur Impedanzeinstellung gekoppelt ist. Weiterhin kann die Lesegeschwindigkeit erhöht werden, so dass die Testzeit reduziert wird, da die Signaturinformation parallel über eine Anzahl von Kontaktflächen ausgelesen werden kann.

Claims (11)

  1. Signaturdatenschaltkreis für ein Halbleiterbauelement, umfassend: – einen Signaturprogrammschaltkreis (32), der dazu eingerichtet ist, mit Signaturinformationen programmiert zu werden und ein Signatursignal in Abhängigkeit von den Signaturinformationen auszugeben; – einen Signaturausgabeschaltkreis (34), der dazu eingerichtet ist, das von dem Signaturprogrammschaltkreis (32) ausgegebene Signal während eines Betriebs in einem Normalmodus zu blockieren und das Signatursignal während eines Betriebs in einem Testmodus passieren zu lassen; und – einen Kontaktflächen-Treibertransistor (PM1), der direkt mit einer Kontaktfläche (PAD) verbunden ist, und der dazu eingerichtet ist, die Kontaktfläche (PAD) während des Betriebs in dem Normalmodus in Abhängigkeit von einem Betriebskommando (SEL0) anzusteuern und die Kontaktfläche (PAD) während des Betriebs in dem Testmodus in Abhängigkeit von dem Signatursignal anzusteuern, das von dem Signaturausgabeschaltkreis (34) ausgegeben wird.
  2. Signaturdatenschaltkreis nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Kontaktflächen-Treibertransistor ein Pull-down-Transistor oder ein Pull-up-Transistor zur Anpassung einer Impedanz zwischen der Kontaktfläche und einer Versorgungsleitung ist.
  3. Signaturdatenschaltkreis nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Kontaktflächen-Treibertransistor ein Pull-down-Transistor oder ein Pull-up-Transistor ist, der in einem chipinternen Abschluss(ODT)-Schaltkreis enthalten ist.
  4. Signaturdatenschaltkreis nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Kontaktflächen-Treibertransistor ein Pull-down-Transistor oder ein Pull-up-Transistor ist, der in einem chipexternen Treiber(OCD)-Schaltkreis enthalten ist.
  5. Halbleiterbauelement, das mit Signaturinformationen programmierbar ist, umfassend: – eine Anzahl von Kontaktflächen (PAD); – mindestens einen Transistor (PM1), wobei ein jeweiliger Transistor (PM1) zwischen eine korrespondierende Kontaktfläche (PAD) und eine Versorgungsleitung (VCC) eingeschleift ist, um eine Impedanz zwischen der korrespondierenden Kontaktfläche (PAD) und der Versorgungsleitung (VCC) anzupassen; – einen Signaturschaltkreis (32, 34), der dazu eingerichtet ist, mit Signaturinformationen programmiert zu werden und ein Signatursignal in Abhängigkeit von der Signaturinformation auszugeben; und – einen Steuerschaltkreis (20), der dazu eingerichtet ist, während eines Betriebs in einem Testmodus einen jeweiligen Bitwert des Signatursignals an eine korrespondierende Kontaktfläche (PAD) durch den mindestens einen Transistor (PM1) auszugeben, der mit der korrespondierenden Kontaktfläche (PAD) verbunden ist, und der dazu eingerichtet ist, zu verhindern, dass der jeweilige Bitwert des Signatursignals durch den mindestens einen Transistor (PM1) ausgegeben wird, um ein Impedanzsteuersignal an der korrespondierenden Kontaktfläche während eines Betriebs in einem Normalmodus auszugeben.
  6. Halbleiterbauelement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Impedanzsteuersignal ein Steuersignal eines Schalttransistors für einen chipinternen Abschluss(ODT)-Schaltkreis ist.
  7. Halbleiterbauelement nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Impedanzsteuersignal ein Steuersignal eines Impedanzanpassungstransistors eines chipexternen Treiber(OCD)-Schaltkreises ist.
  8. Verfahren zum Lesen von Signaturinformationen eines Halbleiterbauelements mit einem Transistor (PM1) zum Anpassen einer Impedanz, die an mindestens einer Kontaktfläche (PAD) des Halbleiterbauelements ansteht, mit den Schritten: – Einstellen eines Testmodus des Halbleiterbauelements; – Koppeln eines Signaturschaltkreises (32, 34) mit dem Transistor (PM1) zum Anpassen einer Impedanz in Abhängigkeit von einer Aktivierung des Testmodus, wobei der Transistor (PM1) mit dem mindestens einen Pad (PAD) verbunden ist; und – Übertragen einer Signaturinformation zu der mindestens einen Kontaktfläche (PAD) durch den Transistor (PM1) zur Anpassung der Impedanz während eines Betriebs in dem Testmodus, wobei die Signaturinformation in den Signaturschaltkreis (32, 34) programmiert ist.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Signaturinformation eine Anzahl von Bits enthält, die doppelt so groß wie eine Anzahl der mindestens einen Kontaktfläche ist, so dass die Signaturinformation zu der mindestens einen Kontaktfläche während zwei Zyklen des Testbetriebs übertragen wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Signaturinformation eine Anzahl von Bits umfasst, die gleich einer Anzahl der mindestens einen Kontaktfläche ist, so dass die Signaturinformation zu der mindestens einen Kontaktfläche während eines einzelnen Zyklus des Testbetriebs übertragen wird.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass der Transistor zum Anpassen der Impedanz ein Schalt-Transistor für einen chipinternen Abschluss(ODT)-Schaltkreis oder ein Impedanzanpassungs-Transistor eines chipexternen Treiber(OCD)-Schaltkreises ist.
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