DE102006024750A1 - Druckvorrichtung und ein Druckverfahren unter Verwendung derselben - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 47
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 33
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 44
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 35
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 14
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 10
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002996 emotional effect Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1275—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by other printing techniques, e.g. letterpress printing, intaglio printing, lithographic printing, offset printing
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F17/00—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F17/00—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for
- B41F17/08—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for for printing on filamentary or elongated articles, or on articles with cylindrical surfaces
- B41F17/14—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for for printing on filamentary or elongated articles, or on articles with cylindrical surfaces on articles of finite length
- B41F17/20—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for for printing on filamentary or elongated articles, or on articles with cylindrical surfaces on articles of finite length on articles of uniform cross-section, e.g. pencils, rulers, resistors
- B41F17/22—Printing apparatus or machines of special types or for particular purposes, not otherwise provided for for printing on filamentary or elongated articles, or on articles with cylindrical surfaces on articles of finite length on articles of uniform cross-section, e.g. pencils, rulers, resistors by rolling contact
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F27/00—Devices for attaching printing elements or formes to supports
- B41F27/08—Devices for attaching printing elements or formes to supports for attaching printing formes to flat type-beds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F3/00—Cylinder presses, i.e. presses essentially comprising at least one cylinder co-operating with at least one flat type-bed
- B41F3/18—Cylinder presses, i.e. presses essentially comprising at least one cylinder co-operating with at least one flat type-bed of special construction or for particular purposes
- B41F3/36—Cylinder presses, i.e. presses essentially comprising at least one cylinder co-operating with at least one flat type-bed of special construction or for particular purposes for intaglio or heliogravure printing
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
- B41F35/00—Cleaning arrangements or devices
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M1/00—Inking and printing with a printer's forme
- B41M1/40—Printing on bodies of particular shapes, e.g. golf balls, candles, wine corks
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41P—INDEXING SCHEME RELATING TO PRINTING, LINING MACHINES, TYPEWRITERS, AND TO STAMPS
- B41P2235/00—Cleaning
- B41P2235/10—Cleaning characterised by the methods or devices
- B41P2235/26—Spraying devices
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/01—Tools for processing; Objects used during processing
- H05K2203/0104—Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
- H05K2203/0143—Using a roller; Specific shape thereof; Providing locally adhesive portions thereon
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- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/05—Patterning and lithography; Masks; Details of resist
- H05K2203/0502—Patterning and lithography
- H05K2203/0534—Offset printing, i.e. transfer of a pattern from a carrier onto the substrate by using an intermediate member
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- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
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Abstract
Druckvorrichtung und ein Druckverfahren unter Verwendung derselben, wobei eine Lufttasche in einer Klischeehalterung ausgebildet ist, um ein Eindringen einer Reinigungslösung in einen Raum zwischen der Klischeehalterung und einer Klischeeplatte zu verhindern, wodurch verhindert wird, dass eine untere Fläche der Klischeeplatte verschmutzt wird, wobei die Druckvorrichtung aufweist eine Klischeehalterung zum Fixieren einer Klischeeplatte, eine Mehrzahl von in der Klischeehalterung ausgebildeten Vakuumlöchern zum Vakuumansaugen und Fixieren der Klischeeplatte und eine die Mehrzahl von Vakuumlöchern umgebende Lufttasche, um ein Eindringen einer Reinigungslösung in einen Raum zwischen der Klischeeplatte und der Klischeehalterung zu verhindern.
Description
- Diese Anmeldung beansprucht die Priorität der koreanischen Patentanmeldung mit der Nummer P2005-133976, die am 29. Dezember 2005 angemeldet worden ist und hier per Referenz einbezogen wird.
- Stand der Technik
- Gebiet der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung (LCD-Vorrichtung) und insbesondere eine Druckvorrichtung zum Herstellen einer LCD-Vorrichtung und ein Druckverfahren unter Verwendung derselben.
- Diskussion bezüglich des Standes der Technik
- Unter verschiedenen Typen ultraflacher Anzeigevorrichtungen, welche einen Anzeigebildschirm mit einer Dicke von einigen Zentimetern umfassen, kann eine Flüssigkristall-Anzeigevorrichtung (LCD-Vorrichtung) für Notebooks, Monitore, Flugzeuge usw. weithin eingesetzt werden, da sie Vorteile wie niedrigen Energieverbrauch und Tragbarkeit besitzt.
- Die LCD-Vorrichtung weist ein unteres und ein oberes Substrat, die einander zugewandt sind und einen vorbestimmten Abstand dazwischen haben, und eine zwischen dem unteren und dem oberen Substrat ausgebildete Flüssigkristallschicht auf.
- Das untere Substrat weist Gate- und Datenleitungen auf, die sich kreuzen, um eine Pixelbereicheinheit zu definieren. Zusätzlich umfasst das untere Substrat einen Dünnschichttransistor TFT, der neben einem Kreuzungsbereich der Gate- und Datenleitungen ausgebildet ist, wobei der Dünnschichttransistor TFT als Schalter funktioniert. Zusätzlich ist eine Pixelelektrode auf dem unteren Substrat ausgebildet, wobei die Pixelelektrode mit dem Dünnschichttransistor TFT elektrisch verbunden ist.
- Das obere Substrat weist eine lichtabschirmende Schicht, eine Farbfilterschicht und eine gemeinsame Elektrode auf. Zu dieser Zeit schirmt die lichtabschirmende Schicht zu der Gateleitung, der Datenleitung und dem Dünnschichttransistor gehörende Bereiche vor dem Licht ab. Zudem ist die Farbfilterschicht auf der lichtabschirmenden Schicht ausgebildet und die gemeinsame Elektrode ist auf der Farbfilterschicht ausgebildet.
- Die obige LCD-Vorrichtung umfasst verschiedene mittels sich wiederholender Schritte ausgebildete Elemente. Insbesondere wird eine Photolithografie verwendet, um so die Elemente in verschiedenen Formen auszubilden.
- Für die Photolithografie wird notwendigerweise eine Maske aus einem vorbestimmten Muster und eine Lichtemissionsvorrichtung benötigt, wodurch Herstellungskosten erhöht werden. Zusätzlich wird ein komplizierter Prozess und eine ansteigende Herstellungszeit bewirkt, da die Photolithografie eine Belichtung und Entwicklung benötigt.
- Um diese Probleme der Photolithografie zu überwinden, wurde ein neues Strukturierungsverfahren entwickelt, beispielsweise ein Druckverfahren. Bei dem Druckverfahren wird ein vorbestimmtes Material auf eine Druckwalze aufgetragen und anschließend wird die Druckwalze auf einem Substrat gerollt, um ein vorbestimmtes Muster auf dem Substrat auszubilden.
- Nachstehend wird ein Druckverfahren gemäß dem Stand der Technik mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben.
-
1A bis1C sind Querschnittsansichten zur Darstellung eines Druckverfahrens unter Verwendung einer Druckrolle gemäß dem Stand der Technik. - Wie in
1A gezeigt, wird zuerst ein Mustermaterial30 durch eine Druckdüse10 bereitgestellt und wird auf eine äußere Oberfläche einer Druckwalze20 aufgetragen. - Anschließend wird, wie in
1B gezeigt, die mit dem Mustermaterial30 beschichtete Druckwalze20 auf einer Klischeeplatte40 mit konkaven und konvexen Bereichen gerollt. Das heißt, dass einiges Mustermaterial30b auf die konvexen Bereiche der Klischeeplatte40 übertragen wird und das verbleibende Mustermaterial30a auf der Außenfläche der Druckwalze20 verbleibt, wodurch ein vorbestimmtes Muster30b auf der Druckwalze20 durch das verbleibende Mustermaterial30b ausgebildet wird. - Wie in
1C gezeigt, wird das vorbestimmte Muster30b der Druckwalze20 auf das Substrat50 übertragen, wenn die Druckwalze20 auf einem Substrat50 gerollt wird. - Das obige die Druckwalze
20 verwendende Verfahren benötigt eine Klischeeplatte40 mit den vorbestimmten konkaven und konvexen Bereichen. Wenn einiges Mustermaterial30b der Druckwalze20 auf die konvexen Bereiche der Klischeeplatte40 mittels Rollens der Druckwalze20 auf der Klischeeplatte40 übertragen wird, wird notwendigerweise eine Klischeehalterung zum Fixieren und Halten der Klischeeplatte40 benötigt. - Zudem verbleibt, wie in
1B gezeigt, einiges Mustermaterial30b auf den konvexen Bereichen der Klischeeplatte40 , nachdem die Klischeeplatte40 einmal verwendet wurde. Um die Klischeeplatte40 wiederzuverwenden, wird ein Reinigungsprozess durchgeführt, um das Mustermaterial von den konvexen Bereichen der Klischeeplatte40 zu entfernen. -
2A und2B sind Querschnittansichten entlang I-I' zur schematischen Darstellung einer Klischeehalterung gemäß dem Stand der Technik. - In der Klischeehalterung gemäß dem Stand der Technik, wie in
2A gezeigt, sind eine Mehrzahl von Vakuumlöchern60 zum Vakuumansaugen und Fixieren der Klischeeplatte40 auf der Oberfläche45 der Klischeehalterung45 ausgebildet. - Obwohl nicht gezeigt, ist die Mehrzahl von Vakuumlöchern
60 mit einer Vakuumpumpe verbunden. Demgemäß wird, wenn die Klischeeplatte40 auf die eine Mehrzahl von Vakuumlöchern60 aufweisende Klischeehalterung gestellt wird, die Klischeeplatte40 auf der Klischeehalterung45 durch Vakuumkräfte, die von den mit der Vakuumpumpe verbundenen Vakuumlöchern bereitgestellt werden, fixiert. - Die Klischeehalterung gemäß dem Stand der Technik hat jedoch die folgenden Nachteile.
-
3 ist eine Querschnittsansicht zur Beschreibung eines Problems der Klischeehalterung beim Reinigen der Klischeeplatte gemäß dem Stand der Technik. - Wie in
3 gezeigt, wird die Klischeeplatte40 mittels der Vakuumansaugkraft an der Klischeehalterung45 fixiert, nachdem die Klischeeplatte40 auf der Klischeehalterung45 bereitgestellt wurde. Dann wird die Klischeeplatte40 gereinigt. - Um die Klischeeplatte
40 zu reinigen, sprüht ein Reiniger70 eine Reinigungslösung75 auf die Klischeeplatte40 . Anschließend dringt die gesprühte Reinigungslösung75 in einen Raum zwischen der Klischeeplatte40 und der Klischeehalterung45 ein, um dadurch die schwache Vakuumansaugkraft hervorzurufen. Entsprechend ist es schwierig, die Klischeeplatte40 an der genauen Position der Klischeehalterung45 zu fixieren, wodurch ungenaue Muster ausgebildet werden. - Zusätzlich wird die untere Oberfläche der Klischeeplatte
40 wegen der Reinigungslösung75 verschmutzt, da die Reinigungslösung75 in den Raum zwischen der Druckplatte40 und der Druckhalterung45 eindringt. - Zusammenfassung der Erfindung
- Entsprechend ist die vorliegende Erfindung auf eine Druckvorrichtung und ein Druckverfahren unter Verwendung derselben gerichtet, welche im Wesentlichen ein oder mehrere Probleme auf Grund von Begrenzungen und Nachteilen des Standes der Technik vermeiden.
- Die Erfindung stellt hierzu eine Druckvorrichtung und ein Druckverfahren mit den Merkmalen in Anspruch 1 bzw. in Anspruch 9 bereit. Weiterbildungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben. Bei der Erfindung ist eine Lufttasche in einer Klischeehalterung ausgebildet, um zu verhindern, dass eine Reinigungslösung in einen Raum zwischen der Klischeehalterung und einer Klischeeplatte eindringt, wodurch verhindert wird, dass eine untere Oberfläche der Klischeeplatte verschmutzt wird.
- Zusätzliche Vorteile, Aufgaben und Merkmale der Erfindung werden in der folgenden Beschreibung dargelegt und werden dem Fachmann durch Ausführung des Folgenden ersichtlich oder können aus einer Anwendung der Erfindung gelernt werden. Die Aufgaben und andere Vorteile der Erfindung können insbesondere sowohl durch die in der Beschreibung und in den Ansprüchen als auch durch die in den anhängenden Zeichnungen hervorgehobenen Strukturen realisiert und erhalten werden.
- Um diese Aufgaben und andere Vorteile zu erzielen und in Übereinstimmung mit dem Zweck der Erfindung, wie sie hierin verkörpert und ausführlich beschrieben wird, weist eine Druckvorrichtung auf eine Klischeehalterung zum Fixieren einer Klischeeplatte; eine Mehrzahl von in der Klischeehalterung ausgebildeten Vakuumlöchern zum Vakuumansaugen und Fixieren der Klischeeplatte; und eine die Mehrzahl von Vakuumlöchern umgebende Lufttasche, um ein Eindringen einer Reinigungslösung in einen Raum zwischen der Klischeeplatte und der Klischeehalterung zu verhindern.
- Nach einer Ausführungsform ist die Lufttasche in einer die Mehrzahl von Vakuumlöchern umgebenden rechteckigen Form ausgebildet.
- Bei einem anderen Gesichtspunkt der Erfindung weist ein Druckverfahren auf Fixieren einer konkave und konvexe Bereiche aufweisenden Klischeeplatte an einer eine Mehrzahl von Vakuumlöchern und eine die Vakuumlöcher umgebende Lufttasche umfassenden Halterung; Auftragen eines Mustermaterials auf eine äußere Oberfläche einer Druckwalze; Rollen der Druckwalze auf der Klischeeplatte, so dass einiges Mustermaterial auf den konvexen Bereichen der Klischeplatte gedruckt wird und das verbleibende Mustermaterial auf der äußeren Oberfläche der Druckwalze verbleibt; Rollen der Druckwalze auf einem Substrat, so dass das verbleibende Mustermaterial der Druckwalze auf das Substrat übertagen wird; und Reinigen der Klischeeplatte, um das Mustermaterial von der Klischeeplatte durch Zuführen von Luft an einer Lufttasche zu entfernen.
- Es ist zu verstehen, dass sowohl die vorangegangene allgemeine Beschreibung als auch die folgende detaillierte Beschreibung der Erfindung exemplarisch und erklärend und dafür vorgesehen sind, eine weiterführende Beschreibung der Erfindung, wie beansprucht, bereitzustellen.
- Kurze Beschreibung der Zeichnungen
- Die begleitenden Zeichnungen, die eingefügt sind, um ein weiteres Verständnis der Erfindung zu liefern und in diese Anmeldung einbezogen sind und einen Teil dieser bilden, stellen Ausführungsbeispiele der Erfindung dar und dienen zusammen mit der Beschreibung zur Erklärung des Prinzips der Erfindung. In den Zeichnungen zeigen:
-
1A bis1C Querschnittsansichten eines eine Druckwalze gemäß dem Stand der Technik verwendendes Druckverfahrens; -
2A und2A perspektivische Ansichten und Querschnittsansichten einer Klischeehalterung gemäß dem Stand der Technik; -
3 eine Querschnittsansicht zur Erläuterung eines Problems einer Klischeehalterung, wenn eine Klischeeplatte gemäß dem Stand der Technik gereinigt wird; -
4A und4B perspektivische Ansichten und Querschnittsansichten einer Klischeehalterung einer Druckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung; -
5 eine Draufsicht einer Halterung einer Druckvorrichtung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; -
6 eine Draufsicht einer Halterung einer Druckvorrichtung gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; -
7A und7B perspektivische Ansichten einer Druckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung; und -
8A bis8D Querschnittsansichten eines Verfahrens zum Herstellen einer LCD-Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung. - Detaillierte Beschreibung der Erfindung
- Auf die bevorzugten Ausführungsbeispiele dieser Erfindung wird nun im Detail Bezug genommen, von denen Beispiele in den begleitenden Zeichnungen dargestellt werden. Wenn möglich, werden die gleichen Bezugszeichen durchgängig in den Zeichnungen verwendet, um gleiche oder ähnliche Teile zu bezeichnen.
- Nachstehend wird eine Druckvorrichtung und ein Druckverfahren unter Verwendung derselben gemäß der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen beschrieben.
-
4A ist eine perspektivische Ansicht zur schematischen Darstellung einer Halterung einer Druckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung und4B ist eine Querschnittsansicht entlang II-II' von4A . - Wie in
4A und4B gezeigt, weist die Druckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung eine Klischeehalterung450 , eine Mehrzahl von Vakuumlöchern600 und eine Lufttasche630 auf. In diesem Fall ist eine Klischeeplatte auf einer plattenförmigen Klischeehalterung450 bereitgestellt und an dieser fixiert. Ferner sind die Mehrzahl von Vakuumlöchern600 in der Klischeehalterung450 zum Vakuumansaugen und Fixieren der Klischeeplatte ausgebildet. Zudem ist die Lufttasche630 in der Fläche der Klischeehalterung450 ausgebildet, wodurch verhindert wird, dass eine Reinigungsflüssigkeit in einen Raum zwischen der Klischeeplatte und der Klischeehalterung450 eindringt. - Die Klischeehalterung
450 ist in Plattenform ausgebildet, von der eine innere Fläche zur Anbringung der Klischeeplatte vorgesehen ist. Dies bedeutet, dass die Klischeeplatte auf der inneren Fläche der plattenförmigen Klischeehalterung450 angeordnet wird. Ferner weist die Klischeehalterung450 Umfangsränder auf, welche um einen vorgegebenen Winkel geneigt sind, wodurch die Reinigungslösung leicht zu der Außenseite der Klischeehalterung450 abgeleitet wird, wenn die Klischeeplatte gereinigt wird. - Die Vakuumlöcher
600 sind in der Klischeehalterung ausgebildet, um die Klischeeplatte mittels der Vakuumansaugkraft zu fixieren. Die Vakuumlöcher600 sind mit einer Vakuumpumpe verbunden, wodurch die Klischeeplatte mittels der Vakuumansaugkraft an der Klischeehalterung450 fixiert wird. - Zudem ist die nutförmige Lufttasche
630 in der oberen Fläche der Klischeehalterung450 ausgebildet, wobei die Lufttasche630 die Vakuumlöcher600 umgebend bereitgestellt wird. Die Lufttasche630 ist in der Draufsicht in einer rechteckigen Form ausgebildet, und zwar konform zur Klischeeplatte, die ebenfalls in einer rechteckigen Form ausgebildet ist. Die Form der Lufttasche630 ist abhängig von der Form der Klischeeplatte. Beispielsweise ist die Lufttasche630 vorzugsweise in Form eines Kreises ausgebildet, wenn die Klischeeplatte in Form eines Kreises ausgebildet ist, wobei die Kreisformen konform zueinander sind. - Um zu verhindern, dass Reinigungslösung in die untere Fläche der Klischeeplatte eindringt, ist die Lufttasche
630 innerhalb des Umfangsrands der Klischeeplatte angeordnet. Weiterhin ist ein Lufteinlass660 innerhalb der Lufttasche630 ausgebildet. -
5 ist eine Draufsicht einer Halterung gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, und6 ist eine Draufsicht einer Halterung gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. - Wie in
5 gezeigt, kann eine Mehrzahl von lochförmigen Lufteinlässen660 innerhalb einer Lufttasche630 unkontinuierlich ausgebildet sein. Zumindest ein Lufteinlass660 kann ausgebildet sein. In5 sind die vier Lufteinlässe660 jeweils an den vier Seiten der Lufttasche630 ausgebildet. Die Erfindung ist jedoch nicht auf vier Lufteinlässe beschränkt. Das heißt, dass die Anzahl von Lufteinlässen auf Basis der Größe der Klischeeplatte und der Menge von von der Lufttasche660 bereitgestellten Luft bestimmt wird. - Wie ebenfalls in
6 gezeigt, ist ein lochförmiger Lufteinlass660 als ein Körper innerhalb einer Lufttasche630 durchgängig ausgebildet. - Das Prinzip einer Halterung wird im Folgenden erklärt.
- Wenn die Klischeeplatte gereinigt wird, wird der Raum zwischen der Klischeehalterung und der Klischeeplatte durch die Vakuumlöcher
600 in dem Vakuumzustand aufrechterhalten. In diesem Zustand ist es nicht möglich, den Vakuumzustand in dem Raum zwischen dem Klischeehalterung und der Klischeeplatte aufrechtzuerhalten, wenn die von einem Reiniger gesprühte Reinigungslösung in den Raum zwischen dem Klischeehalterung und der Klischeeplatte eindringt. Entsprechend ist die Klischeeplatte nicht an der Halterung fixiert und ist von der Halterung getrennt. - Da die Luft der Lufttasche
630 durch den Lufteinlass660 , welcher innerhalb der die Vakuumlöcher600 umgebenden Lufttasche630 ausgebildet ist, zugeführt wird, erzeugt die Luft einen Luftstrom innerhalb der Lufttasche630 , so dass es möglich ist, ein Eindringen der Reinigungslösung in die Vakuumlöcher600 zu verhindern. Demnach wird die Vakuumkraft in dem Raum zwischen der Halterung der Klischeeplatte aufrechterhalten. - Nachstehend wird ein Drucksystem gemäß der vorliegenden Erfindung wie folgt beschrieben.
-
7A und7B zeigen perspektivische Ansichten eines eine Klischeehalterung gemäß der vorliegenden Erfindung verwendenden Drucksystems. - Wie in
7A und7B gezeigt, weist das Drucksystem gemäß der vorliegenden Erfindung eine Druckwalze200 , einen Reiniger700 , eine Schiene800 , eine Klischeehalterung450 und eine Substrathalterung550 auf. - Nachdem ein Mustermaterial auf der Druckwalze
200 aufgetragen ist, wird einiges Mustermaterial zu einer Klischeeplatte400 übertragen, wodurch eine vorbestimmte Form des verbleibenden Mustermaterials auf der Oberfläche der Druckwalze200 ausgebildet wird. Anschließend wird das vorbestimmte Mustermaterial der Druckwalze200 zu dem Substrat500 übertragen, wenn die Druckwalze200 auf einem Substrat500 gerollt wird. - Der Reiniger
700 reinigt die Klischeeplatte400 . Die Schiene800 bewegt die Klischeehalterung, so dass die Klischeehalterung unter die Druckwalze200 oder den Reiniger700 bewegt wird. Die Klischeehalterung450 wird auf der Schiene800 bereitgestellt, wodurch die Klischeehalterung450 die Klischeeplatte400 fixiert. Die Substrathalterung550 wird auf der Schiene800 bereitgestellt, so dass die Substrathalterung550 die Halterung500 fixiert. - Die Klischeehalterung
450 ist strukturell zu denen der5 und6 identisch. Obwohl nicht dargestellt, weist der Reiniger700 einen Sprüher zum Sprühen einer Reinigungslösung und einen Trockner zum Trocknen der gereinigten Klischeeplatte auf. - Die Klischeeplatte
400 oder das Substrat600 wird mit der Bewegung der Schiene800 bewegt. Statt der Schiene800 kann jedoch die Druckwalze200 oder der Reiniger700 bewegt werden. Außerdem kann die Position der Klischeehalterung450 und der Substrathalterung550 variabel sein. - Ein Druckverfahren, welches das Drucksystem gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet, wird wie folgt erklärt.
- Erstens wird wie in
1A und1B gezeigt, das Mustermaterial (nicht in den Zeichnungen dargestellt, '30' von1A ) durch eine Druckdüse bereitgestellt und wird auf die äußere Fläche der Druckwalze200 aufgetragen. - Anschließend wird die mit dem Mustermaterial
30 beschichtete Druckrolle200 auf der Klischeeplatte400 , die auf Basis des gewünschten Musters konvexe und konkave Bereiche aufweist, gerollt. Entsprechend wird einiges Mustermaterial auf die konvexen Bereiche der Klischeeplatte400 gedruckt und das verbleibende Mustermaterial verbleibt auf der Oberfläche der Druckwalze200 . Anschließend wird das verbleibende Mustermaterial der Druckwalze200 zu dem Substrat500 übertragen, wenn die Druckwalze200 auf dem Substrat500 gerollt wird. - Zum Wiederverwenden der Klischeeplatte
400 nach dem Übertragen des Mustermaterials der Druckwalze auf das Substrat500 wird notwendigerweise ein Reinigungsprozess zum Entfernen des Mustermaterials von den konvexen Bereichen der Klischeeplatte400 benötigt. - Bei dem Reinigungsprozess wird die Klischeeplatte
400 unter dem Reiniger700 angeordnet, wie in3 dargestellt. Das heißt, dass die Reinigungslösung auf die Klischeeplatte400 gesprüht wird, wodurch das Mustermaterial von der Klischeeplatte400 entfernt wird. - Der oben dargestellte Vorgang wird wiederholt, so dass das Mustermaterial auf dem Substrat
500 ausgebildet wird. - Nachfolgend wird ein Verfahren zum Herstellen einer LCD-Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die begleitenden Zeichnungen erklärt.
8A bis8D sind Querschnittsansichten eines Verfahrens zum Herstellen einer LCD-Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung. - Wie in
8A gezeigt, ist eine Schwarzmatrixschicht330 auf einem ersten Substrat510 ausgebildet. Wie oben erklärt, wird die Schwarzmatrixschicht330 unter Verwendung der Druckwalze200 und der Klischeeplatte ausgebildet. - Zum Ausbilden der Schwarzmatrixschicht
330 wird ein Schwarzmatrixmaterial (Material auf Harzbasis) zuerst auf der Außenfläche der Druckwalze aufgetragen, und die mit dem Schwarzmatrixmaterial beschichtete Druckwalze wird auf der Klischeeplatte, die konkave und konvexe Bereiche zum Nachbilden der Schwarzmatrixschicht besitzt, gerollt. Das heißt, dass einiges des Schwarzmatrixmaterials auf den konvexen Bereichen der Klischeeplatte gedruckt wird und das verbleibende Schwarzmatrixmaterial auf der Oberfläche der Druckwalze verbleibt. Anschließend wird das verbleibende Schwarzmatrixmaterial der Druckwalze auf das erste Substrat500 übertragen, wenn die Druckwalze auf dem ersten Substrat510 gerollt wird. - Wie in
8B dargestellt, wird eine Farbfilterschicht360 auf dem ersten die Schwarzmatrixschicht330 umfassenden ersten Substrat510 ausgebildet. Die Farbfilterschicht360 wird unter Verwendung der Druckwalze und der Klischeeplatte zum Strukturieren der Farbfilterschicht ausgebildet. - Wie in
8C gezeigt, wird ein Dünnschichttransistor Array mit einer Gateleitung, einer Datenleitung, einem Dünnschichttransistor und einer Pixelelektrode auf einem zweiten Substrat520 ausgebildet. - Obwohl nicht dargestellt, werden die Gateleitung, die Datenleitung, der Dünnschichttransistor und die Pixelelektrode mittels des oben erwähnten Drucksystems ausgebildet. Das heißt, dass die Druckwalze und die Klischeeplatte für den Prozess zur Ausbildung jeder der Datenleitung, des Dünnschichttransistors und der Pixelelektrode nicht notwendig sind, da die Datenleitung, der Dünnschichttransistor und die Pixelelektrode nicht auf dem Material auf Harzbasis ausgebildet werden. Beispielsweise wird eine einen geringen Widerstand aufweisende Metallschicht auf einer gesamten Oberfläche des zweiten Substrats ausgebildet und ein photoresistes Muster wird auf der einen geringen Widerstand aufweisenden Metallschicht ausgebildet, um dadurch die Gateleitung auszubilden.
- Wenn das photoresiste Muster ausgebildet wird, wird das obige Druckverfahren verwendet. Das heißt, ein photoresistes Material wird auf der Außenfläche der Druckwalze aufgetragen und anschließend wird die mit dem photoresisten Material beschichtete Druckwalze auf der Klischeeplatte, die konvexe und konkave Bereiche aufweist, gerollt. Entsprechend wird einiges photoresistes Material auf die konvexen Bereiche der Druckplatte übertragen und das verbleibende photoresiste Material verbleibt auf der Oberfläche der Druckwalze, wodurch ein vorbestimmtes Muster auf der Druckwalze durch das verbleibende photoresiste Material ausgebildet wird.
- Anschließend wird die Druckwalze auf dem zweiten Substrat
520 mit der Metallschicht gerollt, so dass das photoresiste Material des vorbestimmten Musters auf die Metallschicht des zweiten Substrats520 übertragen wird. Durch die Verwendung des photoresisten Materials als eine Maske wird die Metallschicht geätzt, um dadurch die Gateleitung auszubilden. Dieses Verfahren wird zum Ausbilden der Datenleitung, des Dünnschichttransistors und der Pixelelektrode verwendet. - Nach Übertragen eines vorbestimmten Materials wird der oben erklärte Reinigungsprozess an der Klischeeplatte durchgeführt.
- Wie in
8D dargestellt, wird eine Flüssigkristallschicht900 zwischen dem ersten Substrat510 und dem zweiten Substrat520 ausgebildet. - Der Prozess des Ausbildens der Flüssigkristallschicht
900 wird in ein Flüssigkristallinjektionsverfahren und ein Flüssigkristalldispersionsverfahren eingeteilt. - Bei dem Flüssigkristalldispersionsverfahren wird ein Dichtungsstoff in ein Muster ohne einen Einlass auf irgendeinem von dem ersten und dem zweiten Substrat
510 und520 dispensiert, und ein Flüssigkristall wird auf einem von dem ersten und dem zweiten Substrat dispensiert. Anschließend werden das erste und das zweite Substrat miteinander verbunden. - Bei dem Flüssigkeitskristallinjektionsverfahren wird ein Dichtungsstoff in ein Muster mit einem Einlass auf irgendeinem von dem ersten und dem zweiten Substrat dispensiert, und das erste und das zweite Substrat werden miteinander verbunden. Anschließend wird Flüssigkristall in den Raum zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat durch den Einlass des Dichtungsstoffes mittels des Kapillareffekts und einer Druckdifferenz injiziert.
- Wie oben erwähnt, hat die Druckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung die folgenden Vorteile.
- Bei der Druckvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung ist die Lufttasche innerhalb der Klischeehalterung ausgebildet. Das heißt, die Luft wird im Inneren der Lufttasche durch einen innerhalb der Lufttasche angeordneten Lufteinlass bereitgestellt, und anschließend erzeugt die Luft einen Luftstrom innerhalb der Lufttasche, so dass es möglich ist, ein Eindringen der Reinigungslösung in den Raum zwischen der Klischeeplatte und der Klischeehalterung zu verhindern.
- Durch das Verhindern des Eindringens der Reinigungslösung ist es möglich, einen Vakuumzustand aufrechtzuerhalten und zu verhindern, dass die untere Fläche der Klischeeplatte verschmutzt wird. Entsprechend wird die Position der Klischeeplatte nicht verändert, wodurch genaue Muster beim Drucken ausgebildet werden.
- Dem Fachmann wird es ersichtlich sein, dass unterschiedliche Änderungen und Variationen in der vorliegenden Erfindung durchgeführt werden können, ohne den Erfindungsgedanken oder den Schutzbereich der Erfindung zu verlassen. Es ist folglich beabsichtigt, dass die vorliegende Erfindung die Modifikationen und Variationen dieser Erfindung im Rahmen des Umfangs der beigefügten Ansprüche und deren Äquivalente miteinbezieht.
Claims (9)
- Druckvorrichtung, aufweisend: eine Klischeehalterung zum Fixieren einer Klischeeplatte; eine Mehrzahl von in der Klischeehalterung ausgebildeten Vakuumlöchern zum Vakuumansaugen und Fixieren der Klischeeplatte; und eine die Mehrzahl von Vakuumlöchern umgebende Lufttasche, um ein Eindringen einer Reinigungslösung in einen Raum zwischen der Klischeeplatte und der Klischeehalterung zu verhindern.
- Druckvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Klischeehalterung Ränder aufweist, die um einen vorbestimmten Winkel geneigt sind.
- Druckvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Lufttasche in einer rechteckigen die Mehrzahl von Vakuumlöchern umgebenden Form ausgebildet ist.
- Druckvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die in der Klischeehalterung bereitgestellte Lufttasche in Form einer Nut ausgebildet ist.
- Druckvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die in der Klischeehalterung bereitgestellte Lufttasche einen Lufteinlass darin aufweist.
- Druckvorrichtung nach Anspruch 5, wobei der Lufteinlass zumindest ein Loch aufweist.
- Druckvorrichtung nach Anspruch 5, wobei der innerhalb der Lufttasche bereitgestellte Lufteinlass in Form eines kontinuierlichen Loches ausgebildet ist.
- Druckvorrichtung nach Anspruch 1, weiterhin aufweisend: eine Schiene, auf der die Klischeehalterung bereitgestellt ist, zum Bewegen der Klischeehalterung; eine Substrathalterung, welche auf der Schiene bereitgestellt ist, zum Fixieren eines Substrats; eine Druckwalze zum Übertragen eines Musters auf das Substrat mittels der Klischeeplatte; und einen Reiniger zum Reinigen der Klischeeplatte.
- Druckverfahren, aufweisend: Fixieren einer konkave und konvexe Bereiche aufweisenden Klischeeplatte an einer Halterung, die eine Mehrzahl von Vakuumlöchern und eine die Vakuumlöcher umgebende Lufttasche aufweist; Auftragen eines Mustermaterials auf eine Außenfläche einer Druckwalze; Rollen der Druckwalze auf der Klischeeplatte, so dass einiges Mustermaterial auf die konvexen Bereichen der Klischeeplatte gedruckt wird und das verbleibende Mustermaterial auf der Außenfläche der Druckwalze verbleibt; Rollen der Druckwalze auf einem Substrat, so dass das verbleibende Mustermaterial der Druckwalze auf das Substrat übertragen wird; und Reinigen der Klischeeplatte, um das Mustermaterial von der Klischeeplatte zu entfernen, durch Zuführen von Luft an eine Lufttasche.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2005-0133976 | 2005-12-29 | ||
KR1020050133976A KR101319273B1 (ko) | 2005-12-29 | 2005-12-29 | 인쇄판 스테이지, 인쇄시스템 및 그를 이용한 액정표시소자제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102006024750A1 true DE102006024750A1 (de) | 2007-07-05 |
DE102006024750B4 DE102006024750B4 (de) | 2008-08-21 |
Family
ID=36637257
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102006024750A Active DE102006024750B4 (de) | 2005-12-29 | 2006-05-26 | Druckvorrichtung und ein Druckverfahren unter Verwendung derselben |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7430962B2 (de) |
JP (1) | JP2007182052A (de) |
KR (1) | KR101319273B1 (de) |
CN (1) | CN1991578B (de) |
DE (1) | DE102006024750B4 (de) |
FR (1) | FR2895701B1 (de) |
GB (1) | GB2433724B (de) |
TW (1) | TWI308110B (de) |
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- 2005-12-29 KR KR1020050133976A patent/KR101319273B1/ko active IP Right Grant
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2006
- 2006-05-10 GB GB0609292A patent/GB2433724B/en active Active
- 2006-05-10 TW TW095116624A patent/TWI308110B/zh active
- 2006-05-19 FR FR0604500A patent/FR2895701B1/fr active Active
- 2006-05-26 DE DE102006024750A patent/DE102006024750B4/de active Active
- 2006-05-30 CN CN2006100850247A patent/CN1991578B/zh active Active
- 2006-06-14 JP JP2006164455A patent/JP2007182052A/ja active Pending
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TWI308110B (en) | 2009-04-01 |
US20070157830A1 (en) | 2007-07-12 |
JP2007182052A (ja) | 2007-07-19 |
TW200724383A (en) | 2007-07-01 |
FR2895701B1 (fr) | 2011-07-15 |
GB0609292D0 (en) | 2006-06-21 |
KR20070070938A (ko) | 2007-07-04 |
FR2895701A1 (fr) | 2007-07-06 |
GB2433724A (en) | 2007-07-04 |
US7430962B2 (en) | 2008-10-07 |
CN1991578B (zh) | 2010-05-12 |
CN1991578A (zh) | 2007-07-04 |
GB2433724B (en) | 2007-11-21 |
DE102006024750B4 (de) | 2008-08-21 |
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|
8364 | No opposition during term of opposition |