DE202008004821U1 - Siebdruckform - Google Patents
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Abstract
Siebdruckform,
– dadurch gekennzeichnet, dass
– sie eine gelochte Platte (10) besitzt, deren Löcher (12) mittels einer Laseranordnung herstellbar oder hergestellt sind,
– diese Platte (10) vollständig mit solchen Löchern (12) oder nur bereichsweise mit solchen Löchern versehen ist,
– wobei im letzteren Fall die Löcher (12) ein einem Schablonenmuster vergleichbares Lochmuster (14) bilden.
– dadurch gekennzeichnet, dass
– sie eine gelochte Platte (10) besitzt, deren Löcher (12) mittels einer Laseranordnung herstellbar oder hergestellt sind,
– diese Platte (10) vollständig mit solchen Löchern (12) oder nur bereichsweise mit solchen Löchern versehen ist,
– wobei im letzteren Fall die Löcher (12) ein einem Schablonenmuster vergleichbares Lochmuster (14) bilden.
Description
- TECHNISCHES GEBIET
- Die Erfindung betrifft eine beim Siebdruck verwendete Siebdruckform. Durch ihre freien Öffnungen hindurch wird beim Druckverfahren mittels Siebdruck im Durchdruckverfahren die Farbe auf das zu bedruckende Medium gebracht.
- STAND DER TECHNIK
- Die Siebdruckform besteht bekanntermaßen regelmäßig aus einem Kunststoff- oder Metallsiebgewebe mit etwa 20 bis 500 Fäden pro Zentimeter. An einem solchen Siebgewebe ist eine die Druckinformation in Form eines Lochmusters aufweisende Schablone vorhanden. Diese Schablone kann auf der Unterseite des Siebgewebes, die der zu bedruckenden Fläche zugewandt ist, angeklebt sein. Dadurch kann sie nicht von dem auf der anderen Seite des Siebgewebes sich relativ zur Sieboberfläche bewegenden, die Farbe durch das Siebgewebe hindurchdrückenden Rakel beschädigt werden. Bei qualitativ anspruchsvolleren Siebdruckverfahren ist es bekannt, das Siebgewebe mit einer Fotoschicht zu versehen, die Fotoschicht zu belichten und auszuwaschen. Das Ausgestalten des Siebgewebes mit einer Schablone stellt damit einen bedeutenden wirtschaftlichen Aufwand dar.
- Um die exakte Lage der einzelnen Siebgewebefäden sicher zu stellen, auch beim wiederholten Benutzen der Siebdruckform, ist es bekannt, ein Edelstahlgewebe zu vernickeln. Dadurch können die Edelstahlgewebefäden in ihren Kreuzungspunkten fest miteinander verbunden werden, so dass ein solches Edelstahlgewebe beispielsweise zu einer eigenstabilen Zylinderform gebogen werden kann.
- DARSTELLUNG DER ERFINDUNG
- Ausgehend von diesem vorbekannten Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine wirtschaftlich möglichst günstige Siebdruckform anzugeben.
- Diese Erfindung ist durch die Merkmale des Hauptanspruchs gegeben. Sinnvolle Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand von sich an den Hauptanspruch anschließenden weiteren Ansprüchen.
- Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass als Siebdruckgewebe eine Lochplatte verwendet wird, bei der ihre Löcher mittels einer Laseranordnung hergestellt worden sind. Die Platte kann dabei vollständig mit Löchern versehen sein. Die Löcher können auch nur bereichsweise in der Platte angeordnet sein, wobei sie dann ein Lochmuster bilden, das einem gewünschten Siebdruck-Schablonenmuster vergleichbar ist. Im letzteren Fall ist die Siebdruckplatte dann gleichzeitig auch die Schablone. Auf das Ausbilden einer zum Sieb separaten Schablone kann dann verzichtet werden.
- Die Löcher des Siebes können unterschiedlich groß sein. Auch die Lochabstände zwischen benachbarten Löchern können gleich oder unterschiedlich groß sein.
- Mittels Laseranordnung können Löcher mit Lochdurchmessern bereits ab etwa 10 Mikrometern hergestellt werden. Durch mehrmaliges Lasern gleicher Löcher oder durch unterschiedliche Laser können unterschiedlich große Lochdurchmesser hergestellt werden. Die minimalen Lochabstände liegen etwa bei 10 Mikrometer, in Abhängigkeit von der gewünschten Siebdruckqualität und dem Druckmuster.
- Die Materialbahn, aus der das Sieb hergestellt wird, ist aus metallischem Material oder enthält solches Material. Statt des Metallmaterials kann auch Kunststoffmaterial in vergleichbarer Weise zur Herstellung des Siebes verwendet werden.
- Weitere Vorteile und Merkmale der Erfindung sind den in den Ansprüchen ferner angegebenen Merkmalen sowie dem nachstehenden Ausführungsbeispiel zu entnehmen.
- KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNG
- Die Erfindung wird im Folgenden anhand des in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher beschrieben und erläutert. Es zeigen:
-
1 eine ausschnittsweise Darstellung einer mit einem Lochmuster versehenen, als gelochte Platte ausgebildete Siebdruckform, -
2 einen vergrößerten Ausschnitt aus dem Lochmuster der1 . - WEGE ZUM AUSFÜHREN DER ERFINDUNG
- Eine Platte
10 besitzt eine große Anzahl von Löchern12 , die gemeinsam ein Lochmuster14 einer Siebdruckschablone darstellen. Das Lochmuster14 stellt im vorliegenden Beispielsfall den Buchstaben "U" dar. Eine mit einem solchen Lochmuster14 ausgestattete Platte10 kann unmittelbar als Siebdruckform verwendet werden, so wie dies mit Hilfe eines eine Schablone aufweisenden Siebgewebes an sich bekannt ist. - Die Löcher
12 sind in einer oder wie im vorliegenden Beispielsfall in vier aufeinander folgenden Laserungen hergestellt worden. In einem ersten Durchlauf sind Löcher mit der Zahl 1 hergestellt worden. Der Achsabstand zwischen den Löchern 1 ist gleich groß und weist den Betrag 2D auf. - In einem zweiten Durchlauf wird die Laseranordnung um – im vorliegenden Beispielsfall – das Maß D – in
2 – nach rechts verschoben. Es wird nun mit derselben Laseranordnung das Lochbild mit den Löchern 2 hergestellt. Auch die Löcher 2 haben den gleichen Abstand 2D untereinander. - In einem dritten Durchlauf werden die Löcher 3 hergestellt, indem die Laseranordnung um D nach – gemäß
2 – unten verschoben wird. Auch die Löcher 3 haben untereinander den gleichen Abstand 2D. - Nunmehr werden in einem vierten Durchlauf die Löcher 4 hergestellt, indem, ausgehend von den Löchern 3, die Laseranordnung um D nach – gemäß
2 – rechts verschoben wird. Auch die Löcher 4 haben den gleichen Abstand 2D untereinander. Das gesamte Lochbild weist nun Löcher 1, 2, 3, 4 auf, die untereinander den Abstand D aufweisen. Durch Wiederholen dieser Laservorgänge können so Löcher mit beliebig engen Lochabständen hergestellt werden. - Mit einem Lochabstand 2D von beispielsweise etwa 20 Mikrometern können auf diese Weise halb so große Lochabstände von – in diesem Beispielsfall – 10 Mikrometern hergestellt werden.
- Durch eine Laseranordnung vorgegebene minimale Lochabstände lassen sich auf diese Weise durch nochmaliges Lasern damit verkleinern.
- Mittels einer Laseranordnung kann ein beliebiges Lochmuster mit solchen Löchern automatisch hergestellt werden. Der Durchmesser jedes Loches kann etwa 10 Mikrometer klein sein. Bei einem minimalen Lochabstand von ebenfalls 10 Mikrometern lassen sich auf diese Weise etwa 250.000 derartige Löcher pro Quadratzentimeter herstellen.
Claims (10)
- Siebdruckform, – dadurch gekennzeichnet, dass – sie eine gelochte Platte (
10 ) besitzt, deren Löcher (12 ) mittels einer Laseranordnung herstellbar oder hergestellt sind, – diese Platte (10 ) vollständig mit solchen Löchern (12 ) oder nur bereichsweise mit solchen Löchern versehen ist, – wobei im letzteren Fall die Löcher (12 ) ein einem Schablonenmuster vergleichbares Lochmuster (14 ) bilden. - Siebdruckform nach Anspruch 1, – dadurch gekennzeichnet, dass – die Löcher (
12 ) unterschiedlich und/oder gleich groß sind. - Siebdruckform nach Anspruch 1 oder 2, – dadurch gekennzeichnet, dass – gleiche und/oder unterschiedliche Lochabstände vorhanden sind.
- Siebdruckform nach einem der vorstehenden Ansprüche, – dadurch gekennzeichnet, dass – die Lochdurchmesser ab etwa 10 Mikrometer groß sind.
- Siebdruckform nach einem der vorstehenden Ansprüche, – dadurch gekennzeichnet, dass – die minimalen Achsabstände benachbarter Löcher (
12 ) ab etwa 10 Mikrometer groß sind. - Siebdruckform nach einem der vorstehenden Ansprüche, – dadurch gekennzeichnet, dass – ihre Platte (
10 ) aus metallischem Material besteht oder solches Material enthält. - Siebdruckform nach einem der vorstehenden Ansprüche, – dadurch gekennzeichnet, dass – ihre Platte (
10 ) aus Kunststoffmaterial besteht oder solches Material enthält. - Siebdruckform nach einem der vorstehenden Ansprüche, – dadurch gekennzeichnet, dass – ihre Platte (
10 ) in eine zwei- oder dreidimensional gebogene Form bringbar ist. - Siebdruckform nach Anspruch 8, – dadurch gekennzeichnet, dass – ihre Platte (
10 ) in eine zylindrische Form bringbar ist. - Siebdruckform nach einem der vorstehenden Ansprüche, – dadurch gekennzeichnet, dass – zumindest die auf der Laseraustrittsseite vorhandenen Lochränder entgratet sind.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008034906A1 (de) * | 2008-07-26 | 2010-02-11 | Kocher + Beck Gmbh + Co. Rotationsstanztechnik Kg | Siebdruckform für grafische Anwendungen und Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform |
WO2010034300A2 (de) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | Nb Technologies Gmbh | Siebdruckform |
AT511306A1 (de) * | 2011-03-23 | 2012-10-15 | Lunova Gmbh | Lochplatte und verfahren zur herstellung einer lochplatte, insbesondere eines lochblechs mit einer optischen anzeige |
WO2013030273A1 (de) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | Christian Koenen Gmbh | Verfahren zum herstellen einer druckschablone für den technischen druck und druckschablone für den technischen druck |
US9925759B2 (en) | 2009-09-21 | 2018-03-27 | Asm Assembly Systems Switzerland Gmbh | Multi-layer printing screen having a plurality of bridges at spaced intervals |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7723477B2 (en) | 2005-10-31 | 2010-05-25 | Oncomed Pharmaceuticals, Inc. | Compositions and methods for inhibiting Wnt-dependent solid tumor cell growth |
JP5792621B2 (ja) | 2008-09-26 | 2015-10-14 | オンコメッド ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド | frizzled結合剤およびその使用 |
TWI535445B (zh) | 2010-01-12 | 2016-06-01 | 安可美德藥物股份有限公司 | Wnt拮抗劑及治療和篩選方法 |
MX347515B (es) | 2010-04-01 | 2017-04-28 | Oncomed Pharmaceuticals Inc * | Agentes que se unen al receptor encrespado y usos de los mismos. |
WO2014121196A1 (en) | 2013-02-04 | 2014-08-07 | Oncomed Pharmaceuticals, Inc. | Methods and monitoring of treatment with a wnt pathway inhibitor |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ZA6807994B (de) * | 1967-12-06 | |||
NL8801913A (nl) * | 1988-07-29 | 1990-02-16 | Stork Screens Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een metalen zeef, alsmede inrichting voor de vervaardiging daarvan. |
AU4003200A (en) * | 1999-02-19 | 2000-09-04 | Fry's Metals, Inc. | Improved stencil |
US20020119399A1 (en) * | 2001-02-26 | 2002-08-29 | Leskanic Jesse E. | Laser fabrication of rotary printing screens |
EP1302314A1 (de) * | 2001-10-12 | 2003-04-16 | Daniel Mahler | Siebdruckform sowie Verfahren zu deren Herstellung |
-
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Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102008034906A1 (de) * | 2008-07-26 | 2010-02-11 | Kocher + Beck Gmbh + Co. Rotationsstanztechnik Kg | Siebdruckform für grafische Anwendungen und Verfahren zur Herstellung einer Siebdruckform |
US8915183B2 (en) | 2008-09-26 | 2014-12-23 | Nb Technologies Gmbh | Screen printing screen |
WO2010034300A3 (de) * | 2008-09-26 | 2010-06-17 | Nb Technologies Gmbh | Siebdruckform |
GB2476211A (en) * | 2008-09-26 | 2011-06-15 | Nb Technologies Gmbh | Screen printing frame |
GB2476211B (en) * | 2008-09-26 | 2013-01-16 | Nb Technologies Gmbh | Screen printing screen |
WO2010034300A2 (de) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | Nb Technologies Gmbh | Siebdruckform |
US9925759B2 (en) | 2009-09-21 | 2018-03-27 | Asm Assembly Systems Switzerland Gmbh | Multi-layer printing screen having a plurality of bridges at spaced intervals |
AT511306A1 (de) * | 2011-03-23 | 2012-10-15 | Lunova Gmbh | Lochplatte und verfahren zur herstellung einer lochplatte, insbesondere eines lochblechs mit einer optischen anzeige |
AT511306B1 (de) * | 2011-03-23 | 2013-09-15 | Lunova Gmbh | Lochplatte und verfahren zur herstellung einer lochplatte, insbesondere eines lochblechs mit einer optischen anzeige |
WO2013030273A1 (de) * | 2011-08-30 | 2013-03-07 | Christian Koenen Gmbh | Verfahren zum herstellen einer druckschablone für den technischen druck und druckschablone für den technischen druck |
CN104023981A (zh) * | 2011-08-30 | 2014-09-03 | 克里斯提安-可安恩-高科技模具有限公司 | 制造用于技术性印刷的印刷模板的方法及有关技术性印刷的印刷模板 |
US9296195B2 (en) | 2011-08-30 | 2016-03-29 | Christian Koenen Gmbh | Method for producing a printing stencil for technical printing for applying a printed pattern to a substrate and printing stencil for technical printing |
CN104023981B (zh) * | 2011-08-30 | 2016-08-17 | 克里斯提安-可安恩-高科技模具有限公司 | 制造用于技术性印刷的印刷模板的方法及有关技术性印刷的印刷模板 |
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