DE102006021505A1

DE102006021505A1 - Stripping-Emulsionen mit wenig Haftrest

Info

Publication number: DE102006021505A1
Application number: DE102006021505A
Authority: DE
Inventors: Katsuaki Harubayashi; Minoru Fujita; Masahiro Kondou; Yoshihisa Saimoto
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 2005-05-09
Filing date: 2006-05-09
Publication date: 2006-11-23
Also published as: CN1862378A; TW200639580A; TWI274959B; KR20060116152A; US20060257754A1

Abstract

Die vorliegende Erfindung stellt eine Stripping-Emulsion bereit, wobei eine Schälfestigkeit von 0,004 N/mm bis 0,10 N/mm beträgt, wenn ein nicht oberflächenbehandelter Polyethylenterephthalatfilm mit einer Dicke von 125 mum in einer Richtung von 180 DEG bei einer Temperatur von 23 DEG C abgelöst wird, nachdem der Polyethylenterephthalatfilm an die Maskenanhaftungsoberfläche der Stripping-Emulsion angehaftet wurde.

Description

Hintergrund der Erfindung
Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Stripping-Emulsion (pellicle), die in einem Halbleiter-fotolithografischen Prozess verwendet wird, wobei es sich um einen von Halbleiterprozessen zum Zweck der Verhinderung von Staub an einer Anhaftung an Retikel oder einer Fotomaske handelt (hiernach einfach bezeichnet als Fotomaske). Insbesondere betrifft die Erfindung eine Stripping-Emulsion mit wenig Haftrest, der auf der Oberfläche einer Fotomaske verbleibt, wobei ein Teil des Maskenhaftstoffes der Stripping-Emulsion entfernt wird und auf die Oberfläche der Fotomaske übertragen wird, wenn die Stripping-Emulsion von der Fotomaske nach der Verwendung abgelöst wird.

Stripping-Emulsionen wurden als staubsichere Abdeckungen für Fotomasken bei einem Halbleiter-lithografischen Verfahren, wobei es sich um eines von Halbleiterverfahren handelt, verwendet. Ein Maskenhaftstoff zum Erhalt einer Haftung der Stripping-Emulsion an einer Fotomaske wird benötigt, um eine hohe Haftung an die Oberfläche der Fotomaske zu haben, um eine hohe staubsichere Wirkung auszuüben und muss auch einfach während der Entfernung entfernbar sein, wenn Fremdsubstanzen in nicht mehr akzeptablem Ausmaß angehaftet werden oder wenn der Stripping-Emulsionsfilm beschädigt wird. Da solche Eigenschaften die Einfachheit deutlich beeinflussen, wenn die Fotomaske verwendet wird, wurden verschiedene Wege entwickelt, wie z.B. eine Kontrolle der Härte des Maskenhaftstoffs und ähnliches, wie offenbart z. B. in der Japanischen Patentveröffentlichungs-Nummer (JP-A) Nr. 10-282640.

Konventionell verwendete Maskenhaftstoffe, wie offenbart in der JP-A 10-282640 und ähnliche haben eine ausreichende Haftung, um eine staubsichere Eigenschaft auszuüben und können einfach entfernt werden. Es besteht jedoch das Problem, dass, da ein Haftrest auf fast der gesamten Adhäsionsoberfläche zurückblieb, wo ein Teil des Maskenhaftstoffes entfernt wurde und auf die Oberfläche der Fotomaske übertragen wurde, wenn die Stripping-Emulsion von der Fotomaske abgelöst wurde, ein adäquates Waschen benötigt wird, um die Fotomaske zu recyceln. Insbesondere schritt die Miniaturisierung der Halbleiterherstellung in letzter Zeit fort, so dass eine strikte Sauberkeit der Oberfläche der Fotomasken benötigt wird, während auf ähnliche Weise die Oberflächenstruktur der Fotomasken komplizierter wurde und auch delikat für die Mikroherstellung für Halbleiter, wodurch das Waschen schwieriger wurde oder Schäden einfacher auftraten. Aus diesem Grund besteht ein starker Bedarf an einer Stripping-Emulsion mit einem Maskenhaftstoff mit ausreichender Haftung zum Zeitpunkt der Anhaftung, der jedoch zu wenig Haftresten auf der Oberfläche einer Fotomaske in einem solchen Ausmaß führt, dass ein Waschen einfach nach dem Ablösen der Stripping-Emulsion durchführbar ist oder noch besser, dass das Waschen nicht notwendig ist.

Um Haftreste auf der Oberfläche einer Fotomaske zum Zeitpunkt des Ablösens einer Stripping-Emulsion zu reduzieren, muss die Kohäsionskraft des Maskenhaftstoffs stärker sein als die Adhäsionskraft an der Haftgrenzfläche. Bei einem Halbleiterlithografischen Verfahren wurde es jedoch als schwierig angesehen, die Adhäsionskraft an der Haftgrenzfläche zu erniedrigen, da die oben beschriebene Stripping-Emulsion notwendigerweise fest an die Oberfläche der Fotomaske angehaftet sein muss. Kurz gefasst, wurde das Auftreten von Haftresten des Maskenhaftstoffs auf der Oberfläche der Fotomaske als unvermeidlich angesehen, da der Kontrollbereich der Kohäsionskraft innerhalb des Maskenhaftstoffs und der Adhäsionskraft an einer der Haftgrenzfläche stark begrenzt ist.

Als Verfahren, um eine Stripping-Emulsion auf einer Fotomaske ohne Verwendung eines Haftstoffs anzuhaften und fest zu halten, wurden ein Verfahren der Anwendung eines reduzierten Drucksogs und ein Verfahren der Anwendung einer magnetischen Kraft in der Japanischen Patentveröffentlichung (JP-A) Nr. 61-245163 bzw. 62-109053 offenbart. Bei diesen Verfahren treten Haftreste aufgrund eines Maskenhaftstoffs zum Zeitpunkt des Ablösens der Stripping-Emulsion nicht auf. Die Struktur der Stripping-Emulsion unterscheidet sich jedoch sehr deutlich von einer konventionellen Stripping-Emulsion und wenn die Stripping-Emulsion in der Praxis verwendet wird, werden dramatische Veränderungen an den Hilfseinrichtungen benötigt. Dementsprechend kann nicht gesagt werden, dass diese Verfahren praktisch sind.

Andererseits war auch bei einem Wafer-Schutzfilm bei einem Halbleiter-Wafer-Polierverfahren, wobei es sich um eine vollständig andere Anwendung handelt, ein Schutzfilm nötig, der nicht zu Haftresten auf der Wafer-Oberfläche zum Zeitpunkt des Ablösen des Films führte, und verschiedene Untersuchungen wurden im Hinblick auf Haftstoffe durchgeführt. Die Japanische Patentveröffentlichung (JP-A) Nr. 4-186832 offenbart einen Wafer-Schutzfilm mit reduziertem Haftrest durch Zugabe eines reaktiven Tensids zum Zeitpunkt der Polymerisationsreaktion bei der Herstellung des Haftstoffs. Weiterhin offenbart die Japanische Patentveröffentlichung (JP-A) Nr. 1993-198542 einen Wafer- Schutzfilm mit reduziertem Haftrest durch Einstellung einer anfänglichen Schälfestigkeit in einen niedrigen Bereich und Regulation der Haftfestigkeit, um sich im Verlauf der Zeit zu erhöhen.

Da die Haftfestigkeit von Haftstoffen zur Verwendung bei diesem Wafer-Schutzfilm jedoch im Vergleich mit derjenigen von Maskenhaftstoffen einer Stripping-Emulsion extrem schwach ist, wird angenommen, dass die sehr hohe Haftung an eine Fotomaske, die für eine Stripping-Emulsion nötig ist, nicht ausgeübt werden kann.

Die vorliegende Erfindung wurde unter den obigen Umständen. gemacht und stellt Stripping-Emulsionen mit wenig Haftresten bereit.

Der vorliegenden Erfinder hat tatsächlich einen Haftstoff vom Emulsionstyp unter den Haftstoffen getestet, die für Wafer-Schutzfilme verwendet werden, als Maskenhaftstoff für eine Stripping-Emulsion, obwohl die Haftfestigkeit vom Haftstoff vom Emulsionstyp selbst niedrig ist, und hat im Ergebnis festgestellt, dass es eine Möglichkeit gibt, die notwendige Haftung bereitzustellen, um eine Stripping-Emulsion ihrer praktischen Verwendung zuzuführen und hat bestätigt, dass ein Haftstoffrest, der auf einer Oberfläche einer Fotomaske zurückblieb, zum Zeitpunkt des Ablösens sehr gering ist und hat wiederholt Studien durchgeführt. So wurde die vorliegende Erfindung vervollständigt.

Zusammenfassung der Erfindung

Das heißt, die vorliegende Erfindung betrifft eine Stripping-Emulsion, umfassend einen Stripping-Emulsionsfilm, der über einen Filmhaftstoff auf eine Endoberfläche eines Rahmens gestreckt ist; und eine Maskenhaftstoffschicht, anzuhaften an eine Fotomaske, auf der anderen Endoberfläche des Rahmens, wobei der Bereich des Haftstoffrests des Maskenhaftstoffs, der auf einer Quarzglasoberfläche verbleibt, wenn die Maskenhaftstoffoberfläche an eine Quarzglasoberfläche angehaftet ist, gefolgt von einem Ablösen nicht mehr als 5 des Haftoberflächenbereiches ist.

Weiterhin kann die Maskenhaftschicht der vorliegenden Erfindung die Stripping-Emulsion an die Fotomaske haften und dort festhalten und umfasst eine Schicht, die eine Oberfläche in Kontakt mit der Fotomaske bildet. Die Maskenhaftschicht kann eine vielschichtige Struktur aufweisen, umfassend eine Vielzahl von Schichten und muss nicht notwendigerweise eine Schicht mit einer einzelnen Schicht beinhalten. Um den Einschluss der vielschichtigen Struktur ebenfalls zu betonen, wird die Maskenhaftschicht "Maskenhaftschichten" genannt, und unter diesen Schichten wird eine einzelne Phase eines Haftstoffs, der eine Oberfläche in Kontakt mit der Fotomaske bildet, "Maskenhaftstoff" genannt, um diese voneinander zu unterscheiden. Falls nicht anders angegeben, kann die Bezeichnung "Maskenhaftschichten" eine Schicht beinhalten mit einer einzelnen Phase, gebildet nur aus dem Maskenhaftstoff.

Kurze Beschreibung der Zeichnungen

1 ist eine Teilquerschnittsansicht, die die Konfiguration einer Stripping-Emulsion gemäß einer der Ausführungsformen (Beispiel 1) der vorliegenden Erfindung illustriert.

2 ist eine mikroskopische Fotografie einer angehafteten Oberfläche von Quarzglas gemäß Beispiel 1.

3 ist eine mikroskopische Fotografie einer angehafteten Oberfläche einer Maskenleerprobe (mask blank) gemäß Beispiel 2.

4 ist eine mikroskopische Fotografie einer angehafteten Oberfläche eines Quarzglases gemäß Vergleichsbeispiel 1.

5 ist eine mikroskopische Fotografie einer angehafteten Oberfläche einer Maskenleerprobe gemäß Vergleichsbeispiel 2.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung
Wie in 1 dargestellt, umfass die Stripping-Emulsion 1 der vorliegenden Erfindung einen Rahmen 4, einen Stripping-Emulsionsfilm 2, der auf eine Endoberfläche des Rahmens 4 über einen Filmhaftstoff 3 ausgestreckt ist und eine Maskenhaftschicht 9, die an eine Fotomaske angehaftet werden soll, platziert auf der anderen Endoberfläche des Rahmens 4.
Wenn die Stripping-Emulsion auf das Quarzglas angehaftet ist, gefolgt von einem Ablösen der Stripping-Emulsion hat der Maskenhaftstoff der vorliegenden Erfindung einen Bereich eines Haftstoffrests, der abgelöst und auf eine Oberfläche des Quarzglases übertragen ist und dort verbleibt und der nicht mehr als 5 % des Bereiches der Haftoberfläche beträgt. Wenn eine Stripping-Emulsion mit einem solchen Maskenhaftstoff verwendet wird, ist ein Haftstoffrest auf der Fotomaske sehr gering, so dass das Waschen der Fotomaske auf sehr einfache Weise vervollständigt werden kann oder kein Waschen nötig ist.
Ein Bereich des Haftstoffrests wird durch Summieren der Bereiche von Teilen berechnet, in denen ein Haftstoffrest visuell bestätigt wurde. Um das Auftreten des Haftstoffrests zu bestätigen, werden Stripping-Emulsion und Quarzglas unter Umgebungsbedingungen bei einer Temperatur von 23°C und einer Feuchtigkeit von 55 % relativer Feuchtigkeit für 12 Stunden gehalten und eine Beladung von 1,5 × 10² N wird über 3 Minuten unter denselben Umgebungsbedingungen zum Anhaften der Stripping-Emulsion an das Quarzglas angewandt, wobei das resultierende Material ohne Beladung eine Woche gehalten wird, die Stripping-Emulsion wird von dem Quarzglas abgelöst und die Oberfläche des Quarzglases wird unter Verwendung eines Mikroskops beobachtet.
Um den Haftrest zu reduzieren, wenn die Stripping-Emulsion wie oben beschrieben abgelöst wird, wird es bevorzugt, einen Maskenhaftstoff mit einer Schälfestigkeit von 0,004 N/mm bis 0,10 N/mm relativ zu einem oberflächenbehandelten Polyethylenterephthalat mit einer Dicke von 125 μm bei 23°C zu verwenden. Wenn die Schälfestigkeit mehr als 0,10 N/mm beträgt, kann der Haftrest des Maskenhaftstoffs bemerkenswert sein, was das Waschen der Fotomaske möglicherweise schwierig macht. Wenn andererseits die Schälfestigkeit weniger als 0,004 N/mm beträgt, kann die Haftung der Stripping-Emulsion an die Fotomaske unzureichend sein, was möglicherweise eine inhärente Staubfestigkeit der Stripping-Emulsion verschlechtert.
Die Schälfestigkeit wird gemäß dem folgenden Verfahren gemessen, das weit verbreitet als Verfahren zur Bewertung der Haftung eines Haftfilms und ähnlichem verwendet wird. Der Maskenhaftstoff wird nämlich gleichmäßig und glatt gebildet. Daraufhin wird ein nicht oberflächenbehandelter Polyethylenterephthalatfilm (ein Produkt von Toray Industries, Inc., Handelsname: Lumilar S10#125) mit einer Dicke von 125 μm an die Oberfläche des gebildeten Maskenhaftstoffs als Adhärens angehaftet und das resultierende Material wird mit einem Druck von 2,0 × 10⁵ Pa für 3 Minuten angehaftet. Daraufhin wird unter Umgebungsbedingungen von 23°C der Film mit einer Rate von 10 mm/min in einer Richtung von 180° zu der angehafteten Oberfläche gezogen und abgelöst und ein maximaler Beladungswert, der zu diesem Zeitpunkt gemessen wird, wird als Schälfestigkeit angesehen.
Zum Zeitpunkt der Messung kann ein Verfahren zur Bildung eines Materials, das für die Oberfläche verwendet wird, die mit der Maske des Maskenhaftstoffs kontaktiert wird, in geeigneter Weise, abhängig von den Eigenschaften des Materials, gewählt werden. Da jedoch beispielsweise der auf die Stripping-Emulsion aufgebrachte Maskenhaftstoff gleichmäßig und glatt auf einer Endoberfläche des Rahmens gebildet wurde, kann der Maskenhaftstoff für die Messung der Ablösefestigkeit wie er ist verwendet werden.
Der Maskenhaftstoff mit der vorher erwähnten Schälfestigkeit ist nicht besonders begrenzt. Es kann jedoch ein Emulsionshaftstoff vom Acryltyp oder ein Emulsions-(Latex)-Haftstoff vom synthetischen Kautschuktyp verwendet werden. Ein so genannter Mikrosauger (micro sucker) mit fein eingedrückten Poren, gebildet auf einer Oberfläche des Haftstoffs aufgrund von Bläschen oder Schäumen, gebildet von Blasen oder ähnlichen, kann ebenfalls verwendet werden. Als synthetischer Kautschukhaftstoff werden vorzugsweise Latexhaftstoffe verwendet, wie z.B. ein Copolymer vom Styrol-Butadien-Typ (SBR), ein Polymer vom Polybutadien-Typ (BR), ein Copolymer vom Methylmethacrylat-Butadien-Typ (MBR), ein Copolymer vom Acrylonitril-Butadien-Typ (NBR), ein Polymer vom Chloropren-Typ (CR), carboxylmodifizierte Produkte davon und ähnliche. Besonders bevorzugt wird ein Emulsionshaftstoff vom Acryltyp verwendet, der durch Emulsionspolymerisation eines Acryltyp-Monomers, wie z.B. Acrylsäure, Methacrylsäure, einem Ester oder Amid von Acrylsäure, einem Ester oder Amid von Methacrylsäure, Acrylonitril und ähnlichem erhalten wird.
Diese Emulsionshaftstoffe vom Acryltyp enthalten vorzugsweise ein Tensid und können auch ein Vernetzungsmittel oder eine wasserlösliche organische Verbindung enthalten. Das Tensid kann nach der Polymerisation eines Haftstoffs oder während der Polymerisation eines Haftstoffs zugefügt werden und kann ein polymerisierbares Tensid sein, das selbst zum Zeitpunkt der Polymerisation reagieren kann, oder es können andere Typen, die sich davon unterscheiden, verwendet werden. Spezifische Beispiele für den Emulsionshaftstoff werden auf Seite 2 der Japanischen Patentanmeldungs-Veröffentlichung Nr. 4-186831 und den Paragraphen Nrn. (0029) – (0038) der Japanischen Patentanmeldungs-Veröffentlichungsnummer 5-198542 im Detail offenbart, und diese Emulsionshaftstoffe können in der vorliegenden Erfindung in geeigneter Weise verwendet werden. Beispielsweise können Haftstoffe vom Acrylemulsionstyp, erhalten durch Emulsionspolymerisation einer Monomermischung, enthaltend ein Alkylacrylat-Monomer oder ein Alkylmethacrylat-Monomer und ein Monomer, enthaltend Carbonsäuregruppen, in einem deionisierten wässrigen Medium, enthaltend einen Emulgator, einen Polymerisationsinitiator und ähnliche verwendet werden. Die Monomermischung kann weiterhin ein Monomer enthalten, das mit den Monomeren polymerisierbar ist, je nach Bedarf. Das Alkylacrylat-Monomer oder Alkylmethacrylat-Monomer beinhalten beispielsweise Methylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylacrylat, Ethylmethacrylat, Propylacrylat, Propylmethacrylat, Butylacrylat, Butylmethacrylat, Hexylacrylat, Hexylmethacrylat, Octylacrylat, Octylmethacrylat, Nonylacrylat, Nonylmethacrylat, Dodecylacrylat und Dodecylmethacrylat. Diese Alkylgruppen können linear oder verzweigt sein. Das Alkylacrylat-Monomer oder Alkylmethacrylat können einzeln oder in Kombination verwendet werden.
Das obige Monomer, das eine Carboxylgruppe beinhaltet, beinhaltet beispielsweise eine Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Itaconsäure, Maleinsäure, Fumarsäure und ähnliche. Die Menge der Monomere mit diesen Carboxylgruppen, die verwendet werden können, liegt vorzugsweise bei ungefähr 0,1 bis 10 Gew.-Teile, basierend auf 100 Gew.-Teilen der Monomermischung, die einen Emulsionshaftstoff vom Acryltyp bildet. Die Carbonsäuregruppen in dem Haftstoff reagieren mit einem Vernetzungsmittel zur Bildung einer vernetzten Struktur. Wenn dementsprechend die Menge des Monomers mit Carbonsäuregruppen weniger als 0,1 Gew.-Teile beträgt, wird eine vernetzte Struktur nicht ausreichend gebildet, und es bestehen Bedenken hinsichtlich einer unzureichenden Kohäsionskraft. Wenn demgegenüber die Menge des Monomers mit Carbonsäuregruppen mehr als 10 Gew.-Teile beträgt, besteht die Befürchtung, dass das Reaktionssystem bei der Emulsionspolymerisation instabil wird.
Die Vinylmonomeren beinhalten beispielsweise Hydroxyethylacrylat, Hydroxyethylmethacrylat, Hydroxypropylacrylat, Hydroxypropylmethacrylat, Acrylamid, Methacrylamid, Dimethylaminoacrylat, Dimethylaminomethacrylat, Vinylacetat, Styrol, Acrylonitril und ähnliche.
Die Tenside beinhalten beispielsweise Polyoxyalkylenalkylether, wie z. B. Polyoxyethylenlaurylether und Polyoxyethylenstearylether, Polyoxyethylenalkylester, wie z. B. Polyoxyethylenlaurylester und Polyoxyethylenstearylester, Polyoxyethylenalkylphenylether, wie z. B. Polyoxyethylenoctylphenylether, Polyoxyethylennonylphenylether, Sorbitanalkylester, wie z. B. Sorbitanmonolaurat, Sorbitanmonopalmitat und Sorbitanmonostearat und Polyoxyethylensorbitanalkylester, wie z. B. Polyoxyethylensorbitollaurat, Polyoxyethylensorbitololeatlaurat, Polyoxyalkylene, wie z. B. Polyoxyethylen, Polyoxypropylen und Polyoxyethylenpolyoxypropylenglykol, Polyoxyethylenalkylamide und ähnliche.
Die Additionsmenge der Tenside liegt vorzugsweise bei ungefähr 0,05 bis 10 Gew.-Teilen, vorzugsweise ungefähr 0,5 bis 3 Gew.-Teilen im Hinblick auf 100 Gew.-Teile des festen Anteils des Emulsionshaftstoffs vom Acryltyp.
Obwohl die Maskenhaftschicht eine einzelne Schicht umfassen kann, gebildet aus dem Haftstoff allein, zu verwenden für eine Oberfläche, die an die Fotomaske angeheftet werden soll, so lange der Haftstoff, der für die anzuhaftende Oberfläche an die Fotomaske eine Schälfestigkeit, wie oben beschrieben, aufweist, kann die Maskenhaftschicht eine vielschichtige Struktur, umfassend andere Schichten, aufweisen.
Die Dicke der Maskenhaftschicht ist nicht besonders begrenzt, wenn jedoch die Maskenhaftschicht durch eine einzelne Schicht eines Maskenhaftstoffs gebildet wird, kann eine Haftschicht mit einer Dicke von ungefähr 5 bis 100 μm, vorzugsweise 10 bis 50 μm, es der Stripping-Emulsion ermöglichen, an die Fotomaske anzuhaften.
Die Dicke der Maskenhaftschicht mit der oben beschriebenen dreischichtigen Struktur beträgt vorzugsweise ungefähr 50 bis 2500 μm, noch bevorzugter ungefähr 75 bis 600 μm, im Hinblick auf die Haftbedingungen. Wenn die Dicke des Basismaterial-Haftstoffs in diesem Fall ungefähr 10 bis 2000 μm, vorzugsweise ungefähr 100 bis 800 μm, beträgt, ist die Dicke des Filmbasismaterials ungefähr 5 bis 500 μm, vorzugsweise ungefähr 10 bis 200 μm, und die Dicke der Maskenhaftschicht ungefähr 5 bis 100 μm, vorzugsweise ungefähr 10 bis 50 μm, und dann kann die Stripping-Emulsion in geeigneter Weise an die Fotomaske anhaften.
Wie in Beispiel 1 dargestellt, kann beispielsweise die Maskenhaftschicht 9 eine Dreischichtstruktur sein, umfassend einen Basismaterialhaftstoff 5, ein Filmbasismaterial 6 und einen Maskenhaftstoff 7 in dieser Reihenfolge von der Rahmen (4) -Seite her. Unter Verwendung einer solchen Konfiguration hat die Maskenhaftschicht den Vorteil, dass ein Arbeitsschritt zur Erzeugung einer Stripping-Emulsion 1 einfach wird. Das heißt, die Stripping-Emulsion mit der Konfiguration der Maskenhaftschicht 9 kann derartig erzeugt werden, dass das Filmbasismaterial 6, vorher mit dem Maskenhaftstoff 7 auf einer Oberflächen versehen an den Rahmen 4 über den Basismaterialhaftstoff 5 an der anderen Oberfläche des Filmbasismaterials angehaftet wird. Der Basismaterialhaftstoff 5 kann hier auf den Rahmen 4 im Vorhinein geschichtet werden oder der Basismaterialhaftstoff 5 kann auf die andere Oberfläche des Filmbasismaterials 6 geschichtet werden.
Wenn die Stripping-Emulsion 1 weiterhin tatsächlich verwendet wird, wird ein Schutzfilm 8, der als Auskleidung bezeichnet wird, vorzugsweise an die Maskenhaftstoffoberfläche angehaftet, bis die Stripping-Emulsion an die Fotomaske angehaftet wird.
Maskenhaftstoff und Basismaterialhaftstoff können unter Verwendung konventionell bekannter Beschichtungsverfahren auf das Filmbasismaterial geschichtet werden. Zum Beispiel können ein Walzenbeschichtungsverfahren, ein Flussbeschichtungsverfahren und ähnliches für die Beschichtung verwendet werden.
Um den Basismaterialhaftstoff auf den Rahmen zu schichten, können konventionell bekannte Verfahren für die Beschichtung verwendet werden. Beispielsweise kann ein Heißschmelzverfahren zum Beschichten eines geschmolzenen Haftstoffs oder ähnliches verwendet werden.
Ein für das Filmbasismaterial zu verwendendes Material, das mit dem Maskenhaftstoff beschichtet werden soll, ist nicht besonders begrenzt, jedoch wird ein Film, umfassend ein thermoplastisches Harz, vorzugsweise verwendet, da eine gewünschte Dicke oder gewünschte physikalische Eigenschaften einfach erhalten werden können. Spezifisch können ein Film, umfassend einen Polyester, wie z. B. Polyethylenterephthalat, Polyethylennaphthalat oder ähnliches, ein Polyolefin, wie z. B. Polyethylen, Polypropylen oder ähnliches, ein Polymer vom Vinyltyp, wie z.B. Ethylen-Vinylacetat-Copolymer oder ähnliches, in geeigneter Weise verwendet werden. Diese thermoplastischen Filme können zum Zweck der Kontrolle ihrer physikalischen Eigenschaften gestreckt werden.
Der Basismaterialhaftstoff zum Anhaften des Filmbasismaterials, versehen mit dem Maskenhaftstoff auf einer Oberfläche davon, an den Rahmen, ist nicht besonders begrenzt, so lange der Basismaterialhaftstoff dazu in der Lage ist, das Filmbasismaterial an den Rahmen zu haften. Jedoch liegt der JIS-Härtewert des Basismaterialhaftstoffs vorzugsweise bei 0,6 N bis 2,9 N. Wenn der JIS-Härtewert des Basismaterialhaftstoffs weniger als 0,6 N beträgt, kann sich die Maskenhaftschicht während der Lagerung der Stripping-Emulsion oder zum Zeitpunkt der Verwendung deformieren und dadurch unter Umständen die Haftung verschlechtern. Wenn weiterhin der JIS-Härtewert des Basismaterialhaftstoffs mehr als 2,9 N beträgt, kann sich die Haftung an die Fotomaske verschlechtern. Weiterhin kann der JIS-Härtewert der vorliegenden Erfindung gemäß JIS K6301 (korrespondierend zu ASTM D2240) unter Verwendung beispielsweise eines Kautschukhärte-Testers GS-706 (JIS-A-Typ) (ein Produkt von Teclock) gemessen werden.
Als Basismaterialhaftstoff können alle Haftstoffe verwendet werden, so lange sie es dem Filmbasismaterial ermöglichen, an den Rahmen zu haften. Spezifische Beispiele hierfür beinhalten vorzugsweise ein Harz vom Heißschmelztyp, wie z.B. Styrol-Ethylen-Butylen-Styrol-Blockcopolymer (SEBS), ein Styrol-Ethylen-Propylen-Styrol-Blockcopolymer (SEPS), ein Ethylen-Vinylacetatharz, ein Butylmethacrylsäureharz, Polystyrol, Polyisobutylen oder Copolymere davon, oder ein Haftstoff, erzeugt durch geeignete Zufügung eines anderen Harzes, eines haftungsverleihenden Mittels, eines Verdickungsmittels, eines Antioxidans, eines Stabilisators oder ähnlichem zu einem haftenden Harz, wie z.B. vom Silikon-Typ, Urethan-Typ, Acryl-Typ oder ähnlichen.
So lange die Stripping-Emulsion der vorliegenden Erfindung die Maskenhaftschicht aufweist, sind andere Strukturelemente oder Konfigurationen nicht besonders begrenzt. Beispielsweise sind Material oder Dicke des Stripping-Emulsionsfilms, Material oder Struktur des Rahmens, Strukturen um keine Belastung auf den Stripping-Emulsionsfilm durch Expansion oder Schrumpfen eines inneren Gases davon anzuwenden, Strukturen zur Verhinderung einer Stauberzeugung von dem Rahmen, Strukturen, um den Rahmen aufgrund einer Spannung des Stripping-Emulsionsfilms nicht zu deformieren und ähnliche, bei der Stripping-Emulsion der vorliegenden Erfindung nicht besonders begrenzt.
Beispiele
Die vorliegende Erfindung wird nun genauer unten unter Bezugnahme auf die Beispiele und ähnliches erklärt. Der Umfang der vorliegenden Erfindung ist jedoch nicht auf diese Beispiele und ähnliches begrenzt.
Beispiel 1
In einem Kolben, der mit einem Thermometer, einem Rückflusskondensator, einem Tropftrichter, einem Stickstoffgaseinlass und einer Rührvorrichtung ausgerüstet ist, wurden 150 Gew.-Teile eines Ionenaustauschwassers und 2 Gew.-Teile einer Verbindung mit einer Allylgruppe, zugefügt zu einem Benzolring von Polyoxyethylennonylphenylether (20 mol Ethylenoxid zugefügt) als Tensid gegeben, und die Temperatur der resultierenden Mischung wurde unter Rühren unter Stickstoffatmosphäre auf 70°C angehoben.
Dann wurden 0,5 Gew.-Teile Ammoniumperoxysulfat als Polymerisationsinitiator zugefügt und gelöst. Weiterhin wurden 100 Gew.-Teile einer Monomermischung, enthaltend 70 Gew.-Teile 2-Ethylhexylacrylat, 25 Gew.-Teile Methylmethacrylat, 3 Gew.-Teile Methacrylsäure und 2 Gew.-Teile 2-Hydroxyethylacrylat kontinuierlich und tröpfchenweise über 4 Stunden zugefügt, und es wurde weiter kontinuierlich weitere 3 Stunden gerührt, selbst nachdem die tröpfchenweise Zugabe vervollständigt war, für eine Polymerisation, um einen Emulsionshaftstoff vom Acryltyp mit einem Feststoffgehalt von ungefähr 40 Gew.-% zu erhalten.
Daraufhin wurden zu 100 Gew.-Teilen des Haftstoffs 10 Gew.-Teile Diethylenglykolmonobutylether zugefügt, um eine Beschichtungslösung zu erhalten. Die resultierende Beschichtungslösung wurde auf eine Korona-behandelte Oberfläche eines Polyethylenterephthalatfilms mit einer Dicke von 75 μm unter Verwendung eines Walzenbeschichters geschichtet, und das resultierende Material wurde bei 105°C getrocknet, um ein Filmbasismaterial zu erhalten, versehen mit einem Maskenhaftstoff mit einer Dicke von 10 μm.
Dann wurde ein Schutzfilm auf eine Maskenhaftstoffbeschichtete Oberfläche des Filmbasismaterials gehaftet.
Ein Basismaterialhaftstoff mit einer Dicke von 400 μm wurde auf die Masken-angehaftete Oberfläche des Stripping-Emulsionsrahmens unter Verwendung von A131 (JIS-Härte: 2,2 N, ein Produkt von Asahi Chemical Synthetic Co., Ltd.), d.h. einem Heißschmelzkleber auf SEBS-Basis durch ein Heißschmelzverfahren geschichtet. Darauffolgend wurde eine Oberfläche des mit dem Maskenhaftstoff beschichteten Filmbasismaterials, auf die der Maskenhaftstoff nicht geschichtet war, an den Rahmen angehaftet, um eine Stripping-Emulsion mit der in 1 dargestellten Konfiguration zu erzeugen.
Der an den Maskenhaftstoff angehaftete Schutzfilm wurde von der gemäß dem vorstehenden Verfahren erhaltenen Stripping-Emulsion abgelöst und Lumilar (Handelsname) S10#125 Grad (ein Produkt von Toray Industries, Inc.), d. h. ein nicht oberflächenbehandelter Polyethylenterephthalatfilm mit einer Dicke von 125 μm wurde auf die Oberfläche gehaftet und bei einem Druck von 2,0 × 10⁵ Pa 30 Sekunden festgehaftet. Dann wurde der Polyethylenterephthalatfilm mit einer Rate von 10 mm/min in einer Richtung von 180° relativ zu der angehafteten Oberfläche unter Umgebungsbedingungen von 23°C gezogen und abgelöst, um eine Schälfestigkeit zu messen. Die resultierende Schälfestigkeit betrug 0,04 N/mm.
Eine weitere Stripping-Emulsion, die gemäß dem vorstehenden Verfahren erhalten wurde, und ein Quarzglas, wurden in einem Raum, der bei einer Temperatur von 23°C und einer Feuchtigkeit von 55 % relativer Feuchtigkeit gehalten wurde, für 12 Stunden gehalten, und daraufhin wurde der Schutzfilm, der an den Maskenhaftstoff anhaftete, von der Stripping-Emulsion in denselben Umgebungsbedingungen abgelöst und wurde an das Quarzglas angehaftet. Nach Anbringen einer Beladung von 1,5 × 10² N für 3 Minuten ließ man das resultierende Material ohne Beladung unter denselben Umgebungsbedingungen eine Woche stehen. Darauf folgend wurde die Stripping-Emulsion von dem Quarzglas abgelöst, und eine Haftoberfläche des Quarzglases wurde unter Verwendung eines optischen Mikroskops beobachtet. Ein bei 200-facher Vergrößerung zu diesem Zeitpunkt beobachtetes Bild ist in 2 dargestellt. Das Bild enthält eine Haftoberfläche an der linken Seite und eine Nicht-Haftoberfläche an der rechten Seite der Fotografie, jedoch kann ein Unterschied zwischen Haft- und Nicht-Haftoberfläche nicht deutlich beobachtet werden. Das Bild wurde einer digitalen Bildverarbeitung unterzogen, und ein Bereich mit einem auf der Haftoberfläche verbliebenen Haftrest wurde im Vergleich mit der Nicht-Haftoberfläche berechnet. Im Ergebnis lag der Bereich mit einem Haftrest des Maskenhaftstoffs, der verblieben war, bei ungefähr 0,2 % des gesamten Haftoberflächenbereichs.
Beispiel 2
Die in Beispiel 1 erzeugte Stripping-Emulsion und eine Maskenleerprobe (Handelsname: EQZ VTL 625-2QZ, ein Produkt der Hoya Corporation, hiernach bezeichnet als "Maskenleerprobe") wurden in einem Raum gehalten, der eine Temperatur von 23°C und eine Feuchtigkeit von 55 % relativer Feuchtigkeit aufwies, und zwar für 12 Stunden, und danach wurde der an den Maskenhaftstoff angehaftete Schutzfilm von der Stripping-Emulsion in derselben Umgebung abgelöst und an die Maskenleerprobe angehaftet. Nach Anwendung einer Beladung von 1,5 × 10² N für 3 Minuten wurde das resultierende Material ohne Anwendung einer Belastung in derselben Umgebungsbedingung 1 Woche stehen gelassen. Daraufhin wurde die Stripping-Emulsion von der Maskenleerprobe abgelöst, und eine Haftoberfläche der Maskenleerprobe wurde unter Verwendung eines optischen Mikroskop beobachtet. Ein bei 200-facher Vergrößerung zu diesem Zeitpunkt beobachtetes Bild ist in 3 dargestellt. Das Bild enthält eine Haftoberfläche an der linken Seite und eine Nicht-Haftoberfläche an der rechten Seite der Fotografie, jedoch kann ein Unterschied zwischen Haft- und Nicht-Haftoberfläche nicht deutlich beobachtet werden. Das Bild wurde einer digitalen Bildverarbeitung unterzogen, und ein Bereich mit einem auf der Haftoberfläche verbliebenen Haftrest wurde im Vergleich mit der Nicht-Haftoberfläche berechnet. Im Ergebnis lag der Bereich mit einem Haftrest des Maskenhaftstoffs, der verblieben war, bei ungefähr 1,8 % des gesamten Haftoberflächenbereichs. Da eine Erzeugung von Haftrest nur gering war, selbst wenn die Stripping-Emulsion an die Maskenleerprobe wiederum ohne Waschen angehaftet wurde, wurde bestätigt, dass es kein Problem bei der Haftung gab.
Weiterhin betrifft eine Maskenleerprobe ein Laminat mit einem dünnen Metallfilm, geschichtet auf ein Quarzglas und ein Schaltkreis, der auf einen Halbleiter-Wafer bei einem Halbleiter-lithografischen Verfahren zu übertragen ist, wird auf eine Maskenleerprobe zum Erhalt einer Maske aufgezeichnet. Dementsprechend betrifft eine Maskenleerprobe eine Fotomaske, auf der kein Kreislauf gezeichnet ist. Wenn ein Haftrest einer Stripping-Emulsion bewertet wird, können die erhaltenen Ergebnisse enger an denjenigen der aktuellen Verwendungsumgebung sein, wenn die Maskenleerprobe verwendet wird.
Vergleichsbeispiel 1
Ein Basismaterialhaftstoff mit einer Dicke von 400 m wurde auf die Maskenhaftoberfläche des Stripping-Emulsionsrahmens unter Verwendung von A131 (JIS-Härte: 2,2 N, ein Produkt von Asahi Chemical Synthetic Co., Ltd.), d.h. einem Heißschmelzhaftstoff auf SEBS-Basis durch ein Heißschmelzverfahren geschichtet. Daraufhin wurde Lumilar (Handelsname) S10#125 Grad (ein Produkt von Toray Industries, Inc.), d.h. ein nicht-oberflächenbehandelter Polyethylenterephthalatfilm mit einer Dicke von 125 μm an den Maskenhaftstoff gehaftet und mit einem Druck von 2,0 × 10⁵ Pa für 30 Sekunden angehaftet. Daraufhin wurde der Polyethylenterephthalatfilm mit einer Rate von 10 mm/min in einer Richtung von 180 Grad relativ zur Haftoberfläche unter Umgebungsbedingungen von 23°C gezogen und abgelöst, um eine Schälfestigkeit zu messen. Die resultierende Schälfestigkeit lag bei 0,18 N/mm.
Ein Basismaterialhaftstoff mit einer Dicke von 400 μm wurde auf die Maskenhaftoberfläche des Stripping-Emulsionsrahmens unter Verwendung von A131 (JIS-Härte: 2,2 N, ein Produkt von Asahi Chemical Synthetic Co., Ltd.), d.h. einem Heißschmelzhaftstoff auf SEBS-Basis durch ein Heißschmelzverfahren geschichtet. Daraufhin wurden der Stripping-Emulsionsrahmen und Quarzglas in einem Raum gehalten, der bei einer Temperatur von 23°C und einer Luftfeuchtigkeit von 55 % relativer Luftfeuchtigkeit gehalten wurde, und zwar für 12 Stunden, und danach wurde der an den Maskenhaftstoff angehaftete Schutzfilm von der Stripping-Emulsion unter denselben Umgebungsbedingungen abgelöst und an das Quarzglas gehaftet. Nach Anwenden einer Beladung von 1,5 × 10² N für 3 Minuten wurde das resultierende Material ohne Beladung unter denselben Umgebungsbedingungen 1 Woche stehen gelassen. Darauffolgend wurde die Stripping-Emulsion von dem Quarzglas abgelöst, und die Haftoberfläche des Quarzglases wurde unter Verwendung eines optischen Mikroskops beobachtet. Ein Bild wurde zu diesem Zeitpunkt mit 200-facher Vergrößerung beobachtet und ist in 4 dargestellt.
Das Bild beinhaltet eine Haftoberfläche von ungefähr 80 % auf der linken Seite und eine Nicht-Haftoberfläche von ungefähr 20 % auf der rechten Seite des Bildes. Eine Grenze zwischen Haft- und Nicht-Haftoberfläche kann durch eine vertikale weiße Linie unterschieden werden. Der Haftrest wird auf der gesamten Kontaktfläche beobachtet. Das Bild wurde einer digitalen Bildverarbeitung unterzogen, und ein Bereich mit einem auf der Haftoberfläche verbliebenen Haftrest wurde im Vergleich mit dem Nicht-Anhaftbereich berechnet. Im Ergebnis lag der Bereich mit verbliebenem Haftrest bei 100 % des Haftoberflächenbereichs.
Vergleichsbeispiel 2
Ein Haftrest auf einer Maskenleerprobe wurde auf dieselbe Weise wie in Vergleichsbeispiel 1 bewertet, außer dass eine Maskenleerprobe anstelle des Quarzglases als Adhärens verwendet wurde. Im Ergebnis lag der Bereich des auf der Maskenleerprobe verbliebenen Haftrests bei 100 % des Haftbereiches, erhalten aus der digitalen Bildverarbeitung. Zu diesem Zeitpunkt wurde ein Bild bei 200-facher Vergrößerung beobachtet und ist in 5 dargestellt. Das Bild beinhaltet ungefähr 70 % der Haftoberfläche auf der linken Seite und ungefähr 30 % der Nicht-Haftoberfläche auf der rechten Seite des Bildes. Eine Grenze zwischen Haftoberfläche und Nicht-Haftoberfläche kann durch eine vertikale weiße Linie unterschieden werden. Um die notwendige Haftung zu erreichen, wenn die Stripping-Emulsion wieder an die Maskenleerprobe angehaftet wurde, wurde es bestätigt, dass ein ausreichendes Waschen notwendig war.
Die vorliegende Erfindung umfasst die folgenden Ausführungsformen.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Stripping-Emulsion, umfassend einen Stripping-Emulsionsfilm, der auf eine Endoberfläche eines Rahmens gestreckt ist, mit einem Filmhaftstoff dazwischen; und eine Maskenhaftstoffschicht, anzuhaften an eine Fotomaske, auf der anderen Endoberfläche des Rahmens, wobei, wenn die Maskenhaftstoffoberfläche an eine Quarzglasoberfläche angehaftet wird, gefolgt von einem Ablösen der Stripping-Emulsion, der Bereich des Haftstoffrests des Maskenhaftstoffs, der auf der Quarzglasoberfläche verbleibt, nicht mehr als 5 % des Haftoberflächenbereiches einnimmt.
Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Stripping-Emulsion, umfassend einen Stripping-Emulsionsfilm, der auf eine Endoberfläche eines Rahmens gestreckt ist, mit einem Filmhaftstoff dazwischen, und eine Maskenhaftstoffschicht, anzuhaften an eine Fotomaske, auf der anderen Endoberfläche des Rahmens, wobei eine Schälfestigkeit ungefähr 0,004 N/mm bis 0,10 N/mm beträgt, wenn ein nicht oberflächenbehandelter Polyethylenterephthalatfilm mit einer Dicke von 125 μm in einer Richtung von 180 Grad bei einer Temperatur von 23°C abgelöst wird, nachdem der Polyethylenterephthalatfilm an die Masken-anhaftende Oberfläche der Stripping-Emulsion angehaftet wurde.
Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Stripping-Emulsion, wobei der Maskenhaftstoff der Stripping-Emulsion ein Emulsionshaftstoff vom Acryltyp ist.
Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Stripping-Emulsion, wobei der Maskenhaftstoff auf eine Endoberfläche des Filmbasismaterials aufgebracht wird und die andere Endoberfläche des Filmbasismaterials an den Rahmen angehaftet wird, mit dem Basismaterialhaftstoff dazwischen.
Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung eine Stripping-Emulsion, wobei die Maskenhaftschicht eine Schicht mit einem JIS-Härtewert von ungefähr 0,6 N bis 2,9 N umfasst.
Weiterhin betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Erzeugung der Stripping-Emulsion, wobei ein Filmbasismaterial, mit dem Maskenhaftstoff auf einer Oberfläche des Filmbasismaterials beschichtet an keinen Rahmen mit dem Basismaterialhaftstoff dazwischen an der anderen Oberfläche des Filmbasismaterials angehaftet wird.
Die Stripping-Emulsion gemäß der vorliegenden Erfindung hat sehr wenige Haftreste, ausgelöst durch Übertragen und Verbleiben eines Teils des Maskenhaftstoffs auf eine Fotomaske, wenn die Stripping-Emulsion von der Fotomaske abgelöst wird, so dass es sehr einfach ist, die Fotomaske zu waschen oder dieses gar nicht nötig ist. Daher sind solche Stripping-Emulsionen industriell sehr wertvoll. Weiterhin kann gemäß einem Verfahren zur Erzeugung der Stripping-Emulsion der vorliegenden Erfindung diese einfach und preisgünstig erzeugt werden.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es möglich, eine Stripping-Emulsion mit sehr wenig Haftresten bereitzustellen, die auf einer Oberfläche der Fotomaske zurückbleiben, so dass ein Teil des Maskenhaftstoffs abgelöst und auf die Fotomaske übertragen wird, zum Zeitpunkt des Ablösens der Stripping-Emulsion von der Fotomaske. Aus diesem Grund ist das Waschen der Fotomaske sehr einfach oder wird unnötig. Im Ergebnis wird ein Halbleiter-lithografisches Verfahren effizient und führt so zu einer Reduktion einer Reinigungslösung und ähnlichem.

Claims

Stripping-Emulsion (1), umfassend: einen Stripping-Emulsionsfilm (2), der auf eine Endoberfläche eines Rahmens (4) gestreckt ist, mit einem Filmhaftstoff (3) dazwischen; und eine Maskenhaftstoffschicht (7), anzuhaften an eine Fotomaske, auf der anderen Endoberfläche des Rahmens (4), wobei, wenn die Maskenhaftstoffoberfläche an eine Quarzglasoberfläche angehaftet wird, gefolgt von einem Ablösen der Stripping-Emulsion (1), der Bereich des Haftstoffrests des Maskenhaftstoffs, der auf der Quarzglasoberfläche verbleibt, nicht mehr als 5 % des Haftoberflächenbereiches einnimmt.
Stripping-Emulsion (1), umfassend: einen Stripping-Emulsionsfilm (2), der auf eine Endoberfläche eines Rahmens (4) gestreckt ist, mit einem Filmhaftstoff (3) dazwischen, und eine Maskenhaftstoffschicht, anzuhaften an eine Fotomaske, auf der anderen Endoberfläche des Rahmens, wobei eine Schälfestigkeit ungefähr 0,004 N/mm bis 0,10 N/mm beträgt, wenn ein nicht oberflächenbehandelter Polyethylenterephthalatfilm mit einer Dicke von 125 μm in einer Richtung von 180 Grad bei einer Temperatur von 23°C abgelöst wird, nachdem der Polyethylenterephthalatfilm an die Masken-anhaftende Oberfläche der Stripping-Emulsion angehaftet wurde.
Stripping-Emulsion (1) gemäß Anspruch 1, wobei der Maskenhaftstoff ein Emulsionshaftstoff vom Acryltyp ist.
Stripping-Emulsion (1) gemäß Anspruch 2, wobei der Maskenhaftstoff ein Emulsionshaftstoff vom Acryltyp ist.
Stripping-Emulsion (1) gemäß Anspruch 1, wobei die Maskenhaftstoffschicht (7) eine vielschichtige Struktur aufweist, umfassend: einen Maskenhaftstoff, der ein Emulsionshaftstoff vom Acryltyp ist; ein Filmbasismaterial, das den Maskenhaftstoff zurückhält und einen Basismaterialhaftstoff (5) zum Anhaften an den Rahmen des Filmbasismaterials (6), das den Maskenhaftstoff zurückhält.
Stripping-Emulsion gemäß Anspruch 2, wobei die Maskenhaftstoffschicht (7) eine vielschichtige Struktur aufweist, umfassend: einen Maskenhaftstoff, der ein Emulsionshaftstoff vom Acryltyp ist; ein Filmbasismaterial (6), das den Maskenhaftstoff zurückhält und einen Basismaterialhaftstoff (5) zum Anhaften an den Rahmen des Filmbasismaterials, das den Maskenhaftstoff zurückhält.
Stripping-Emulsion gemäß Anspruch 5, wobei der Basismaterialhaftstoff (5) eine Schicht mit einem JIS-Härtewert von ungefähr 0,6 N bis 2,9 N umfasst.
Stripping-Emulsion gemäß Anspruch 6, wobei der Basismaterialhaftstoff (5) eine Schicht mit einem JIS-Härtewert von ungefähr 0,6 N bis 2,9 N umfasst.
Verfahren zur Erzeugung der Stripping-Emulsion wie beschrieben in Anspruch 5, wobei das Filmbasismaterial (6) mit dem Maskenhaftstoff (7) auf einer Oberfläche des Filmbasismaterials (6) beschichtet ist und die andere Oberfläche des Filmbasismaterials (6) an den Rahmen mit dem Basismaterialhaftstoff (5) dazwischen angehaftet wird.
Verfahren zur Erzeugung der Stripping-Emulsion wie beschrieben in Anspruch 6, wobei das Filmbasismaterial (6) mit dem Maskenhaftstoff (7) auf einer Oberfläche des Filmbasismaterials (6) beschichtet ist und die andere Oberfläche des Filmbasismaterials (6) an den Rahmen mit dem Basismaterialhaftstoff (5) dazwischen angehaftet wird.