DE102004004785A1 - Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente - Google Patents

Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente Download PDF

Info

Publication number
DE102004004785A1
DE102004004785A1 DE102004004785A DE102004004785A DE102004004785A1 DE 102004004785 A1 DE102004004785 A1 DE 102004004785A1 DE 102004004785 A DE102004004785 A DE 102004004785A DE 102004004785 A DE102004004785 A DE 102004004785A DE 102004004785 A1 DE102004004785 A1 DE 102004004785A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
voltage
semiconductor device
voltage pump
word line
array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102004004785A
Other languages
English (en)
Inventor
Martin Brox
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Qimonda AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
Priority to DE102004004785A priority Critical patent/DE102004004785A1/de
Priority to US11/043,949 priority patent/US7206248B2/en
Publication of DE102004004785A1 publication Critical patent/DE102004004785A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/14Power supply arrangements, e.g. power down, chip selection or deselection, layout of wirings or power grids, or multiple supply levels
    • G11C5/145Applications of charge pumps; Boosted voltage circuits; Clamp circuits therefor
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/025Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Halbleiter-Bauelement (1), insbesondere Speicherbauelement, mit mindestens einer Spannungs-Pumpe, welche eine entsprechende, gepumpte Spannung (VPP, VLL) bereitstellt und welche in einem entsprechenden Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) des Halbleiter-Bauelements (1) angeordnet ist, wobei sich der Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) im Wesentlichen parallel zu mehreren, mit der gepumpten Spannung (VPP, VLL) zu versorgenden Einrichtungen (9a, 8a, 8c) erstreckt, insbesondere im Wesentlichen parallel zu durch die Einrichtungen (9a, 8a, 8c) angesteuerten Leitungen, z. B. Wortleitungen (12a, 13a, 13b, 13c).

Description

  • Die Erfindung betrifft gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 ein Halbleiter-Bauelement mit mindestens einer Spannungs-Pumpe.
  • Bei Halbleiter-Speicherbauelementen unterscheidet man zwischen sog. Funktionsspeicher-Bauelementen (z. B. PLAs, PALs, etc.), und sog. Tabellenspeicher-Bauelementen, z. B. ROM-Bauelementen (ROM = Read Only Memory bzw.
  • Festwertspeicher), und RAM-Bauelementen (RAM = Random Access Memory bzw. Schreib-Lese-Speicher).
  • Ein RAM-Bauelement ist ein Speicher, bei dem man nach Vorgabe einer Adresse Daten abspeichern, und unter dieser Adresse später wieder auslesen kann.
  • Die entsprechende Adresse kann über sog. Adreß-Anschlüsse bzw. Adreß-Eingabe-Pins in das RAM-Bauelement eingegeben werden; zur Ein- und Ausgabe der Daten sind mehrere, z. B. 16 sog. Daten-Anschlüsse bzw. Daten-Ein-/Ausgabe-Pins (I/Os bzw. Input/Outputs) vorgesehen. Durch Anlegen eines entsprechenden Signals (z. B. eines Read/Write-Signals) an einen Schreib/Lese-Auswahl-Anschluß bzw. -Pin kann ausgewählt werden, ob (momentan) Daten abgespeichert, oder ausgelesen werden sollen.
  • Da in einem RAM-Bauelement möglichst viele Speicherzellen untergebracht werden sollen, ist man bemüht, diese so einfach wie möglich zu realisieren. Bei sog. SRAMs (SRAM = Static Random Access Memory) bestehen die einzelnen Speicherzellen z. B. aus wenigen, beispielsweise 6 Transistoren, und bei sog. DRAMs (DRAM = Dynamic Random Access Memory) i. A. nur aus einem einzigen, entsprechend angesteuerten Kondensator, mit dessen Kapazität jeweils ein Bit als Ladung gespeichert werden kann. Diese Ladung bleibt allerdings nur für kurze Zeit erhalten; deshalb muß regelmäßig, z. B. ca. alle 64 ms, ein sog. „Refresh" durchgeführt werden.
  • Aus technologischen Gründen sind bei Speicher-, insbesondere DRAM-Bauelementen die einzelnen Speicherzellen – Vielzahl von Zeilen und Spalten nebeneinanderliegend – in einer rechteckförmigen (gleichmäßig in mehrere Zellfelder unterteilten) Matrix bzw. einem rechteckförmigen (gleichmäßig in mehrere Zellfelder unterteiltem) Array angeordnet.
  • Um eine entsprechend hohe Gesamt-Speicherkapazität zu erzielen, und/oder um eine möglichst hohe Daten-Lese- bzw. – Schreib-Geschwindigkeit zu erreichen, können in einem einzelnen RAM-Bauelement bzw. -Chip („multi-bank chip") – statt eines einzigen Arrays – mehrere, z. B. vier – im wesentlichen rechteckförmige – Einzel-Arrays vorgesehen sein (sog. „memory banks").
  • Um einen Schreib- oder Lesezugriff durchzuführen, muß eine bestimmte, feststehende Abfolge von Befehlen durchlaufen werden:
    Beispielsweise wird zunächst mit Hilfe eines Wortleitungs-Aktivier-Befehls (activate Befehl (ACT)) eine entsprechende – insbesondere einem bestimmten Array zugeordnete – (und durch die Zeilen-Adresse („Row-Address") definierte) Wortleitung aktiviert (z. B. dadurch, dass zunächst eine entsprechende – mehreren, z. B. übereinanderliegenden – Zellfeldern zugeordnete, und durch diese hindurch verlaufende Master-Wortleitung (MWL bzw. Master Wordline) aktiviert wird – z. B. durch eine entsprechende, z. B. in einem entsprechenden Segment-Ansteuerbereich angeordnete Master-Wortleitungs-Treibereinrichtung, und in Reaktion hierauf dann die entsprechende – in einem einzelnen, entsprechenden Zellfeld verlaufende – lokale Wortleitung (LWL bzw. Local Wordline), z. B. durch eine entsprechende, z. B. zwischen den entsprechenden Zellfeldern in einem entsprechenden Segment- Treiber- bzw. Sub-Decoder-Bereich liegende Lokale-Wortleitungs-Treibereinrichtung).
  • Dies führt dazu, dass die in den der entsprechenden Wortleitung zugeordneten Speicherzellen abgespeicherten Daten-Werte von den der entsprechenden Wortleitung zugeordneten Leseverstärkern („sense amplifier") ausgelesen werden („aktivierter Zustand" der Wortleitung).
  • Daraufhin wird – mit Hilfe eines entsprechenden Lese- oder Schreib-Befehls (Read- (RD-) bzw. Write- (WT-) Befehl) – veranlasst, dass die entsprechenden – durch die entsprechende Spalten-Adresse („Column-Address") dann genau spezifizierten – Daten von dem bzw. den entsprechenden – der durch die Spalten-Adresse („Column-Address") spezifizierten Bitleitung zugeordneten – Leseverstärker(n) („sense amplifier") entsprechend ausgegeben werden (oder – umgekehrt – die Daten in die entsprechenden Speicherzellen eingelesen werden).
  • Als nächstes wird – mit Hilfe eines Wortleitungs-Deaktivier-Befehls (z. B. eines precharge Befehls (PRE-Befehl)) – die entsprechende Wortleitung wieder deaktiviert, und der entsprechende Array auf den nächsten Wortleitungs-Aktivier-Befehl (activate Befehl (ACT)) vorbereitet.
  • Die o. g. Leseverstärker sind jeweils in einem – zwischen zwei Zellfeldern liegenden – Leseverstärker-Bereich angeordnet, wobei – aus Platzgründen – ein- und derselbe Leseverstärker jeweils zwei verschiedenen Zellfeldern zugeordnet sein kann (nämlich den beiden jeweils direkt an den entsprechenden Leseverstärker-Bereich angrenzenden Zellfeldern) (sog. „shared sense amplifier" bzw. geteilte Leseverstärker).
  • Je nachdem, ob gerade Daten aus dem links, oder rechts neben dem jeweiligen Leseverstärker liegenden Zellfeld ausgelesen werden sollen (oder dem oberhalb, oder unterhalb des jeweiligen Leseverstärkers liegenden Zellfeld), wird der entsprechende Leseverstärker mittels entsprechender Schalter zu dem entsprechenden Zellfeld (insbesondere zu der entsprechenden, dem jeweiligen Zellfeld zugeordneten Bitleitung) zugeschaltet (bzw. elektrisch mit dem entsprechenden Zellfeld, insbesondere der entsprechenden, dem jeweiligen Zellfeld zugeordneten Bitleitung verbunden), oder von dem entsprechenden Zellfeld (bzw. der entsprechenden, dem jeweiligen Zellfeld zugeordneten Bitleitung) abgeschaltet (bzw. elektrisch von dem entsprechenden Zellfeld (bzw. der entsprechenden, dem jeweiligen Zellfeld zugeordneten Bitleitung) getrennt).
  • Bei Halbleiter-Bauelementen, insbesondere bei Speicherbauelementen wie den o. g. RAMs, insbesondere DRAMs kann sich ein intern im Bauelement verwendeter Spannungspegel VINT von einem außerhalb des Bauelements verwendeten, z. B. von einer externen Spannungsversorgung für das Halbleiter-Bauelement bereitgestellten Spannungspegel (Versorgungsspannungspegel) VDD unterscheiden.
  • Insbesondere kann der intern verwendete Spannungspegel VINT kleiner sein, als der Pegel VDD der Versorgungsspannung – beispielsweise kann der intern verwendete Spannungspegel VINT 1,5 V betragen, und der Versorgungsspannungspegel VDD z. B. zwischen 1,5 V und 2,5 V, etc.
  • Demgegenüber können z. B. die o. g. Sub-Decoder-, insbesondere die o. g. Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen bei – von einer oder mehreren entsprechenden Spannungs-Pump-Einrichtungen bereitgestellten – „gepumpten" Spannungspegeln betrieben werden (z. B. bei einem – z. B. ein „logisch hohes" Wortleitungs-Signal repräsentierenden – Spannungspegel VPP, der größer ist, als der Pegel VDD der o. g. externen Spannung, und bei einem – z. B. ein „logisch niedriges" Wortleitungs-Signal repräsentierenden – Spannungspegel VLL, der z. B. kleiner sein kann, als 0 V).
  • Die jeweiligen Spannungs-Pump-Einrichtungen können z. B. in einem zentral-außen (z. B. in einem Randbereich des Halbleiter-Bauelements zwischen zwei entsprechenden Arrays) liegenden Bereich des Halbleiter-Bauelements angeordnet sein, von wo aus – mittels entsprechender Leitungen – die jeweiligen, von den Spannungs-Pump-Einrichtungen bereitgestellten Spannungspegel VPP, VLL zu den entsprechenden Sub-Decoder- bzw. Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen weitergeleitet werden.
  • Dies hat allerdings z. B. den Nachteil, dass – insbesondere für die relativ weit von den Spannungs-Pump-Einrichtungen entfernt angeordneten – Sub-Decoder- bzw. Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen ein relativ hoher Spannungsverlust auftritt.
  • Die Erfindung hat zur Aufgabe, eine neuartige Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente zur Verfügung zu stellen.
  • Sie erreicht dieses und weitere Ziele durch den Gegenstand des Anspruchs 1.
  • Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
  • Gemäß einem Grundgedanken der Erfindung wird ein Halbleiter-Bauelement, insbesondere Speicherbauelement, mit mindestens einer Spannungs-Pumpe zur Verfügung gestellt, welche eine entsprechende, gepumpte Spannung (VPP, VLL) bereitstellt, und welche in einem entsprechenden Spannungs-Pumpen-Bereich des Halbleiter-Bauelements angeordnet ist, wobei sich der Spannungs-Pumpen-Bereich im Wesentlichen parallel zu mehreren, mit der gepumpten Spannung (VPP, VLL) zu versorgenden Einrichtungen erstreckt, insbesondere im Wesentlichen parallel zu durch die Einrichtungen angesteuerten Leitungen, z. B. Wortleitungen.
  • Dadurch kann der Abstand zwischen den Spannungs-Pumpen, und den zu versorgenden Einrichtungen (z. B. entsprechenden Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen) reduziert werden, wodurch – zwangsläufig auftretende – Spannungsverluste verringert werden können.
  • Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und der beigefügten Zeichnung näher erläutert. In der Zeichnung zeigt
  • 1 eine schematische Darstellung des Aufbaus eines Halbleiter-Speicherbauelements mit mehreren Arrays, sowie einer Speicherbauelement-Steuereinrichtung gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung; und
  • 2 eine schematische Detail-Darstellung des Aufbaus eines Abschnitts eines der Arrays des in 1 gezeigten Halbleiter-Speicherbauelements.
  • In 1 ist eine schematische Darstellung des Aufbaus eines Halbleiter-Speicherbauelements 1 bzw. Halbleiter-Speicher-Chips, sowie einer – zentralen – Speicherbauelement-Steuereinrichtung 5 gezeigt.
  • Bei dem Halbleiter-Speicherbauelement 1 kann es sich z. B. um ein – auf CMOS-Technologie beruhendes – Tabellenspeicher-Bauelement handeln, z. B. ein RAM-Speicherbauelement (RAM = Random Access Memory bzw. Schreib-Lese-Speicher), insbesondere ein DRAM-Speicherbauelement (DRAM = Dynamic Random Access Memory bzw. dynamischer Schreib-Lese-Speicher) (z. B. ein Graphik-DRAM, oder ein DDR-DRAM (Double Data Rate DRAM bzw. DRAM mit doppelter Datenrate)).
  • Beim Halbleiter-Speicherbauelement 1 können – nach Eingabe einer entsprechenden Adresse (z. B. durch die Speicherbauelement-Steuereinrichtung 5) – unter der jeweiligen Adresse Daten abspeichert, und unter dieser Adresse später wieder ausgelesen werden.
  • Die Adresse kann in mehreren, z. B. zwei aufeinanderfolgenden Schritten eingegeben werden (z. B. zunächst eine Zeilen-Adresse („Row-Address") – und ggf. Teile einer Spalten-Adresse („Column-Address") (und/oder ggf. weitere Adress-Teile, oder Teile hiervon) -, und dann die Spalten-Adresse („Column-Address") (bzw. die übrigen Teile der Spalten-Adresse („Column-Address"), und/oder – erst jetzt – die o. g. weiteren Adress-Teile (bzw. die übrigen Teile hiervon)).
  • Durch Anlegen eines entsprechenden Steuer-Signals (z. B. eines Read/Write-Signals) – z. B. durch die Speicherbauelement-Steuereinrichtung 5 – kann jeweils ausgewählt werden, ob Daten abgespeichert, oder ausgelesen werden sollen.
  • Die in das Halbleiter-Speicherbauelement 1 eingegebenen Daten werden dort, wie im folgenden noch genauer erläutert wird, in entsprechenden Speicherzellen abgespeichert, und später wieder aus den entsprechenden Speicherzellen ausgelesen.
  • Jede Speicherzelle besteht z. B. aus wenigen Elementen, insbesondere nur aus einem einzigen, entsprechend angesteuerten Kondensator, mit dessen Kapazität jeweils ein Bit als Ladung gespeichert werden kann.
  • Wie aus 1 hervorgeht, ist jeweils eine bestimmte Anzahl von Speicherzellen – jeweils in mehreren Zeilen und Spalten nebeneinanderliegend – jeweils in einem rechteckförmigen bzw. quadratischen Array („memory bank") 3a, 3b, 3c, 3d liegend angeordnet, so daß in einem Array 3a, 3b, 3c, 3d – entsprechend der Anzahl der enthaltenen Speicherzellen – z. B. jeweils 32 MBit, 64 MBit, 128 MBit, 256 MBit, 512 Mbit, etc. gespeichert werden können.
  • Wie in 1 weiter gezeigt ist, weist das Halbleiter-Speicherbauelement 1 mehrere, z. B. vier, jeweils im wesentlichen identisch aufgebaute, gleichmäßig über die Fläche des Bauelements verteilte, und – im wesentlichen unabhängig voneinander durch die o. g. Speicherbauelement-Steuereinrichtung 5 gesteuerte – Speicherzellen-Arrays 3a, 3b, 3c, 3d (hier: die o. g. "memory banks") auf, so dass sich entsprechend eine Gesamt-Speicherkapazität von z. B. 128 MBit, 256 MBit, 512 MBit, bzw. 1024 MBit (bzw. 1 GBit), 4 Gbit, etc. für das Halbleiter-Speicherbauelement 1 ergibt.
  • Durch das Vorsehen mehrerer, im wesentlichen unabhängiger Arrays 3a, 3b, 3c, 3d kann erreicht werden, dass – parallel bzw. zeitlich überlappend – bei mehreren, verschiedenen Arrays 3a, 3b, 3c, 3d entsprechende Schreib- oder Lesezugriffe durchgeführt werden können.
  • Die o. g. (in das Halbleiter-Speicherbauelement 1 bzw. die Speicherbauelement-Steuereinrichtung 5 eingegebene) Adresse enthält – als Teil der o. g. weiteren Adress-Teile – eine entsprechende Anzahl (hier z. B. zwei) Bits („Array-Auswahl-Bits" bzw. „bank address bits"), die dazu dienen, beim Abspeichern bzw. Auslesen von Daten den jeweils gewünschten Array 3a, 3b, 3c, 3d anzusprechen.
  • Wie im folgenden noch genauer erläutert wird, sind die o. g. Speicherzellen in den Arrays 3a, 3b, 3c, 3d jeweils in entsprechenden – senkrecht übereinander bzw. waagrecht nebeneinander liegenden – Zellfeldern bzw. Zellfeld-Bereichen 7a, 7b, 7c, 7d („cell field regions") liegend angeordnet (vgl. z. B. die in 2 beispielhaft gezeigten, im – in 1 links-oben liegenden – Array 3a vorgesehen Zellfeld- Bereiche 7a, 7b, 7c, 7d, sowie eine Vielzahl weiterer, bei der Darstellung gemäß 2 z. B. rechts, und oberhalb bzw. unterhalb der Zellfeld-Bereiche 7a, 7b, 7c, 7d liegende – hier nicht dargestellte – Zellfeld-Bereiche).
  • Die Zellfeld-Bereiche 7a, 7b, 7c, 7d sind jeweils im wesentlichen identisch aufgebaut, im wesentlichen rechteckförmig (oder z. B. quadratisch) ausgestaltet, und weisen jeweils eine bestimmte Anzahl von – jeweils in mehreren Zeilen und Spalten nebeneinanderliegenden – Speicherzellen auf.
  • Zwischen je zwei Zellfeldern 7a, 7b, 7c, 7d (bzw. – bei der Darstellung gemäß 2 – jeweils links bzw. rechts eines Zellfelds 7a, 7b, 7c, 7d) befinden sich jeweils – hier ebenfalls im wesentlichen jeweils rechteckförmige – Leseverstärker-Bereiche 10a, 10b, 10c, 10d, 10e, 10f („sense amplifier regions").
  • In jedem der Leseverstärker-Bereiche 10a, 10b, 10c, 10d, 10e, 10f sind jeweils eine Vielzahl von Leseverstärkern („sense amplifier") angeordnet, wobei die entsprechenden Leseverstärker (bzw. genauer: die in den jeweils zwischen zwei verschiedenen Zellfeldern 7a, 7b, 7c, 7d liegenden Leseverstärker-Bereichen 10b, 10c, 10e, 10f angeordneten Leseverstärker) jeweils zwei verschiedenen Zellfeldern 7a, 7b, 7c, 7d zugeordnet sind (nämlich den jeweils direkt an den entsprechenden Leseverstärker-Bereich – z. B. den Leseverstärker-Bereich 10b – angrenzenden Zellfeldern 7a, 7b, etc.) – bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel werden also sog. „shared sense amplifier" bzw. „geteilte Leseverstärker" 11 verwendet.
  • Wieder bezogen auf 1 weist jeder Array 3a, 3b, 3c, 3d eine – dem jeweiligen Array 3a, 3b, 3c, 3d separat zugeordnete (hier nicht dargestellte) Array-Steuereinrichtung („bank control") auf, die z. B. in einem Eck-Bereich des jeweiligen Arrays 3a, 3b, 3c, 3d angeordnet sein kann.
  • Gemäß 1 und 2 befinden sich zwischen je zwei Zellfeldern 7a, 7b, 7c, 7d (bzw. – bei der Darstellung gemäß 1 und 2 – jeweils oberhalb bzw. unterhalb eines Zellfelds 7a, 7b, 7c, 7d) jeweils – hier ebenfalls im wesentlichen jeweils rechteckförmige – Segment-Treiber-Bereiche bzw. Sub-Decoder-Bereiche 8a, 8b, 8c, 8d.
  • In jedem der Segment-Treiber-Bereiche 8a, 8b, 8c, 8d sind jeweils eine Vielzahl entsprechender Segment- bzw. Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen angeordnet, insbesondere entsprechende Treiber-Einrichtungen für entsprechende lokale Wortleitungen 13a, 13b, 13c, 14a, 14b, 14c (LWL bzw. local Wordline) (wobei z. B. jeweils eine der Treiber-Einrichtungen mit einer entsprechenden, zugeordneten lokalen Wortleitung 13a, 13b, 13c, 14a, 14b, 14c verbunden sein kann).
  • Wie aus 2 hervorgeht, erstrecken sich die – in 2 mittels entsprechender, durchgezogener Linien dargestellten – lokalen Wortleitungen 13a, 13b, 13c, 14a, 14b, 14c jeweils nur durch einen einzigen der Vielzahl von Array-Zellfeld-Bereiche 7a, 7b, 7c, 7d hindurch, insbesondere – z. B. in Längsrichtung – von einem bestimmten Segment-Treiber-Bereich bzw. Sub-Decoder-Bereich 8a, 8b, 8c, 8d aus zum nächsten Segment-Treiber-Bereich bzw. Sub-Decoder-Bereich 8a, 8b, 8c, 8d.
  • Die Anzahl der pro Zellfeld-Bereich 7a, 7b, 7c, 7d vorgesehenen Wortleitungen kann z. B. der Anzahl der Speicherzellen-Zeilen im jeweiligen Zellfeld-Bereich 7a, 7b, 7c, 7d entsprechen (oder z. B. – beispielsweise bei gleichzeitigem Auslesen/Abspeichern von jeweils mehreren, z. B. 2, 4, oder 8 Bits – entsprechend einem Bruchteil hiervon (z. B. der Hälfte, einem Viertel, oder einem Achtel)).
  • Wie aus 1 und 2 hervorgeht, befindet sich an einem – hier unterhalb (bzw. oberhalb) – der entsprechenden Zellfelder 7a, 7c bzw. 7b, 7d liegenden Randbereich des jeweiligen Arrays 3a, 3b, 3c, 3d ein Segment-Ansteuerbereich 9a, 9b, in welchem – wie weiter unten noch genauer erläutert wird – eine Vielzahl entsprechender Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen angeordnet sind, insbesondere entsprechende Treiber-Einrichtungen für entsprechende Master-Wortleitungen 12a, 12b (MWL bzw. Master Wordline) (wobei z. B. jeweils eine der Treiber-Einrichtungen mit einer entsprechenden, zugeordneten Master-Wortleitung 12a, 12b verbunden sein kann).
  • Wie aus 2 hervorgeht, erstrecken. sich die – in 2 gestrichelt dargestellten – Master-Wortleitungen 12a, 12b jeweils – vom entsprechenden Segment-Ansteuerbereich 9a, 9b aus – durch mehrere, übereinanderliegende Zellfeld-Bereiche 7a, 7c bzw. 7b, 7d eines Arrays 3a hindurch, insbesondere – z. B. in Längsrichtung – vom entsprechenden Segment-Ansteuerbereich 9a, 9b aus durch sämtliche, jeweils senkrecht übereinanderliegende Zellfeld-Bereiche 7a, 7c bzw. 7b, 7d (und damit auch durch die zwischen entsprechenden Zellfeld-Bereichen 7a, 7c bzw. 7b, 7d liegenden Sub-Decoder-Bereiche 8a, 8c bzw. 8b, 8d).
  • Die einzelnen, durch einen entsprechenden Zellfeld-Bereich 7a, 7b, 7c, 7d hindurchgehenden Wortleitungen 12a, 12b bzw. 13a, 13b, 13c, 14a, 14b, 14c können z. B. – in äquidistanten Abständen – parallel zueinanderliegend angeordneten sein (und parallel zum äußeren Rand der Zellfeld-Bereiche 7a, 7b, 7c, 7d verlaufen).
  • Des weiteren verlaufen innerhalb jedes Zellfeld-Bereichs 7a, 7b, 7c, 7d – z. B. von den dem jeweiligen Zellfeld-Bereich 7a, 7b, 7c, 7d jeweils zugeordneten Leseverstärker-Bereichen 10a, 10b, 10c, 10d aus, und senkrecht zu den Wortleitungen 12a, 12b, 13a, 13b – jeweils eine Vielzahl von Bitleitungen bzw.
  • Bitleitungs-Paaren (in 1 und 2 nicht dargestellt).
  • Die Anzahl der pro Zellfeld-Bereich 7a, 7b, 7c, 7d vorgesehenen Bitleitungen kann z. B. der Anzahl der Speicherzellen-Spalten im jeweiligen Zellfeld-Bereich 7a, 7b, 7c, 7d, oder z. B. einem Vielfachen hiervon entsprechen.
  • Die einzelnen Bitleitungen bzw. Bitleitungs-Paare können z. B. – in äquidistanten Abständen – parallel zueinanderliegend angeordnet sein (und parallel zum äußeren Rand des jeweiligen Zellfeld-Bereichs 7a, 7b, 7c, 7d verlaufen, und – wie bereits oben erwähnt – senkrecht zu den o. g. Wortleitungen 12a, 12b bzw. 13a, 13b, 13c, 14a, 14b, 14c).
  • Die – zentrale – Speicherbauelement-Steuereinrichtung 5 („memory controller") kann – wie in 1 beispielhaft dargestellt – als separates, mit dem DRAM-Halbleiter-Speicherbauelement 1 z. B. – mittels eines Bus-Systems 4 – über externe Pins kommunizierendes Halbleiter-Bauelement ausgebildet sein.
  • Alternativ kann die Speicherbauelement-Steuereinrichtung 5 z. B. auch auf ein- und demselben Chip 1 angeordnet sein, wie die o. g. Speicherzellen- Arrays 3a, 3b, 3c, 3d (memory banks).
  • Bei dem in 1 dargestellten Halbleiter-Speicherbauelement 1 kann sich ein intern im Bauelement 1 (für die Mehrzahl der Bauteile im Halbleiter-Speicherbauelement 1) verwendeter Spannungspegel VINT von einem außerhalb des Halbleiter-Speicherbauelements 1 verwendeten, z. B. von einer externen Spannungsversorgung für das Halbleiter-Speicherbauelement 1 bereitgestellten Spannungspegel (Versorgungsspannungspegel) VDD unterscheiden.
  • Insbesondere kann der intern verwendete Spannungspegel VINT kleiner sein, als der Pegel VDD der Versorgungsspannung – beispielsweise kann der intern verwendete Spannungspegel VINT 1,5 V betragen, und der Versorgungsspannungspegel VDD z. B. zwischen 1,5 V und 2,5 V, etc.
  • Demgegenüber können die o. g. – in den o. g. Segment-Treiber-Bereichen 8a, 8b, 8c, 8d angeordneten – Treiber-Einrichtungen (insbesondere die o. g. Sub-Decoder- bzw. Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen), und/oder die o. g. – in den o. g. Segment-Ansteuerbereichen 9a, 9b angeordneten – Treiber-Einrichtungen (insbesondere die o. g. Master-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen) bei – von einer oder mehreren entsprechenden Spannungs-Pump-Einrichtungen bereitgestellten – „gepumpten" Spannungspegeln betrieben werden (z. B. bei einem – z. B. ein „logisch hohes" Wortleitungs-Signal repräsentierenden – Spannungspegel VPP, der größer ist, als der Pegel VDD der o. g. externen Spannung (insbesondere größer als 0 V, insbesondere größer als 1,8 V), und bei einem – z. B. ein „logisch niedriges" Wortleitungs-Signal repräsentierenden – Spannungspegel VLL, der z. B. kleiner sein kann, als 0 V).
  • Die jeweiligen Spannungs-Pump-Einrichtungen können z. B. – wie in 1 und 2 veranschaulicht ist – in jeweils seitlich-außerhalb neben entsprechenden Arrays bzw. Array-Zentralbereichen 3a, 3b, 3c, 3d liegenden Spannungs-Pumpen-Bereichen 101a, 101b, 101c, 101d liegend angeordnet sein.
  • Wie aus 1 hervorgeht, erstrecken sich die – im Wesentlichen langgestreckt-rechteckförmigen – Spannungs-Pumpen-Bereiche 101a, 101b, 101c, 101d im Wesentlichen parallel zu den o. g. Wortleitungen 12a, 12b bzw. 13a, 13b, 13c, 14a, 14b, 14c, im Wesentlichen quer zu einem entsprechenden Segment-Treiber-Bereich 8a, 8b, 8c, 8d, und/oder Segment-Ansteuerbereich 9a, 9b, und im Wesentlichen über die gesamte Länge eines entsprechenden Arrays 3a, 3b, 3c, 3d.
  • Der einem jeweiligen Array 3a, 3b, 3c, 3d zugeordnete Spannungs-Pumpen-Bereich 101a, 101b, 101c, 101d ist direkt seitlich angrenzend an den jeweiligen Array bzw. Array-Zentralbereich 3a, 3b, 3c, 3d (bzw. direkt seitlich angrenzend an den entsprechenden Segment- Ansteuerbereich 9a, 9b, und/oder die entsprechenden Segment-Treiber-Bereiche 8a, 8b, 8c, 8d) liegend angeordnet, z. B. in einem – dem jeweils benachbarten Array 3a, 3b, 3c, 3d gegenüberliegenden – Array-Randbereich.
  • Wie aus 1 und 2 hervorgeht, sind die in einem bestimmten Spannungs-Pumpen-Bereich 101a, 101b, 101c, 101d angeordneten Spannungspumpen über ein Netzwerk von Leitungen 102a, 102b, 102c, 103a, 103b bzw. Leitungs-Paaren mit den o. g. Segment-Treiber-Bereichen 8a, 8b, 8c, 8d verbunden (insbesondere den dort angeordneten Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen), und mit den o. g. Segment-Ansteuerbereichen 9a, 9b (insbesondere den dort angeordneten Master-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen) – sowie mit einer oder mehreren übrigen Spannungspumpen des jeweiligen Spannungs-Pumpen-Bereichs 101a, 101b, 101c, 101d (und mit einer oder mehreren weiteren Spannungspumpen der übrigen Spannungs-Pumpen-Bereiche 101a, 101b, 101c, 101d)).
  • Insbesondere sind beim vorliegenden Ausführungsbeispiel gemäß 1 und 2 z. B. die im Spannungs-Pumpen-Bereich 101a des Arrays 3a angeordneten Spannungspumpen über eine – quer zu den Wortleitungen 12a, 12b, 13a, 13b, 13c verlaufende – Leitung 102a (bzw. über ein entsprechendes Leitungspaar) mit den o. g. Segment-Ansteuerbereichen 9a, 9b des Arrays 3a verbunden (insbesondere den dort angeordneten Master-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen), sowie – ebenfalls über die o. g. Leitung 102a (bzw. über ein entsprechendes Leitungspaar) – mit entsprechenden Segment-Ansteuerbereichen des Arrays 3c, und mit einer oder mehreren Spannungspumpen des Spannungs-Pumpen-Bereichs 101c des Arrays 3c.
  • Des weiteren sind die im Spannungs-Pumpen-Bereich 101a des Arrays 3a angeordneten Spannungspumpen über eine – quer zu den Wortleitungen 12a, 12b, 13a, 13b, 13c verlaufende – Leitung 102b (bzw. über ein entsprechendes Leitungspaar) mit den o. g. Segment-Treiber-Bereichen 8a, 8b des Arrays 3a verbunden (insbesondere den dort angeordneten Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen), sowie – ebenfalls über eine quer zu den Wortleitungen 12a, 12b, 13a, 13b, 13c verlaufende – Leitung 102c (bzw. über ein entsprechendes Leitungspaar) mit den o. g. Segment-Treiber-Bereichen 8c, 8d des Arrays 3a (insbesondere den dort angeordneten Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen), etc.
  • Die o. g. Leitungen 102a, 102b, 102c (bzw. Leitungspaare) sind über – quer zu diesen verlaufende (d. h. parallel zu den Wortleitungen 12a, 12b, 13a, 13b, 13cz.B. durch entsprechende Leseverstärker-Bereiche 10b, 10e, 10c, 10f hindurch verlaufende) – Leitungen 103a, 103b, 103c (bzw. Leitungspaare) miteinander verbunden.
  • Das bei den übrigen Arrays 3b, 3c, 3d vorgesehene – die entsprechenden Spannungspumpen mit entsprechenden Segment-Ansteuerbereichen bzw. Master-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen, Segment-Treiber-Bereichen bzw. Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen, etc. verbindende – Leitungs-Netzwerk kann jeweils entsprechend spiegelbildlich aufgebaut sein, wie beim o. g. Array 3a.
  • Die von den entsprechenden Spannungspumpen ausgegebenen bzw. bereitgestellten Spannungspegel VPP, VLL werden – über das oder die o. g. Leitungs-Netzwerke (d. h. die entsprechenden Leitungen 102a, 102b, 102c, 103a, 103b bzw. Leitungspaare) zu den entsprechenden Segment-Ansteuerbereichen 9a, 9b bzw. Segment-Treiber-Bereichen 8a, 8b, 8c, 8d weitergeleitet, so dass die dort vorgesehenen Lokale-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen bzw. Master-Wortleitungs-Treiber-Einrichtungen mit den entsprechenden „gepumpten" Spannungspegeln VPP, VLL betrieben werden können (z. B. bei einem – z. B. ein „logisch hohes" Wortleitungs-Signal repräsentierenden – Spannungspegel VPP, der größer ist, als der Pegel VDD der o. g. externen Spannung, und bei einem – z. B. ein „logisch niedriges" Wortleitungs-Signal repräsentierenden – Spannungspegel VLL, der z. B. kleiner sein kann, als 0 V).
  • Wie aus 1 hervorgeht, kann – aufgrund der oben erläuterten Ausgestaltung und Anordnung der Spannungs-Pumpen-Bereiche 101a, 101b, 101c, 101d – in einem zentralen Bonding-Bereich 104 des Halbleiter-Speicherbauelements 1 eine relativ hohe Anzahl an Bond-Pads vorgesehen sein.
  • Da die Spannungspumpen – innerhalb der entsprechenden Spannungs-Pumpen-Bereiche – verteilt (insbesondere – in Längsrichtung – gleichmäßig verteilt) angeordnet sein können, ist der Abstand zwischen den Pumpen, und den entsprechenden Treibern geringer, als im Stand der Technik, was zu verminderten Spannungsverlusten führt.
  • Um bei dem Halbleiter-Speicherbauelement 1 einen Schreib- oder Lesezugriff durchzuführen, muß – entsprechend wie bei herkömmlichen Halbleiter-Speicherbauelementen – eine bestimmte, feststehende Abfolge von Befehlen durchlaufen werden:
    Beispielsweise wird zunächst mit Hilfe eines Wortleitungs-Aktivier-Befehls (activate Befehl (ACT)) eine entsprechende – insbesondere einem bestimmten Array 3a zugeordnete – (und durch die Zeilen-Adresse („Row-Address") definierte) Wortleitung aktiviert (z. B. dadurch, dass zunächst eine entsprechende – mehreren, z. B. übereinanderliegenden – Zellfeldern 7a, 7c zugeordnete, und durch diese hindurch verlaufende Master-Wortleitung 12a aktiviert wird – z. B. durch eine entsprechende, z. B. in einem entsprechenden Segment-Ansteuerbereich 9a angeordnete Master-Wortleitungs-Treibereinrichtung, und in Reaktion hierauf dann die entsprechende – zwischen zwei entsprechenden Zellfeldern 7a, 7c verlaufende – lokale Wortleitung 13a, z. B. durch eine entsprechende, z. B. zwischen den entsprechenden Zellfeldern in einem entsprechenden Segment-Treiber-Bereich 8a liegende Lokale-Wortleitungs-Treibereinrichtung.
  • Dies führt dazu, dass die in den der entsprechenden Wortleitung 13a zugeordneten Speicherzellen abgespeicherten Daten-Werte von den der entsprechenden Wortleitung 13a zugeordneten Leseverstärkern („sense amplifier") ausgelesen werden („aktivierter Zustand" der Wortleitung 13a).
  • Daraufhin wird – mit Hilfe eines entsprechenden Lese- oder Schreib-Befehls (Read- (RD-) bzw. Write- (WT-) Befehl) – veranlasst, dass die entsprechenden – durch die entsprechende Spalten-Adresse („Column-Address") dann genau spezifizierten – Daten von dem bzw. den entsprechenden – der durch die Spalten-Adresse („Column-Address") spezifizierten Bitleitung zugeordneten – Leseverstärker(n) („sense amplifier") entsprechend ausgegeben werden (oder – umgekehrt – die Daten in die entsprechenden Speicherzellen eingelesen werden).
  • Als nächstes wird – mit Hilfe eines Wortleitungs-Deaktivier-Befehls (z. B. eines precharge Befehls (PRE-Befehl)) – die entsprechende Wortleitung 13a wieder deaktiviert, und der entsprechende Array 3a auf den nächsten Wortleitungs-Aktivier-Befehl (activate Befehl (ACT)) vorbereitet.
  • Alternativ können entsprechende Lese- und/oder Schreibzugriffe auch auf beliebige, andere Weise erfolgen (ggf. unter Verwendung anderer Befehle und/oder Befehlsfolgen, etc.).
  • 1
    Halbleiter-Speicherbauelement
    3a
    Speicherzellen-Matrix
    3b
    Speicherzellen-Matrix
    3c
    Speicherzellen-Matrix
    3d
    Speicherzellen-Matrix
    4
    Steuerleitungs-Datenbus
    5
    Speicherbauelement-Steuereinrichtung
    7a
    Zellfeld-Bereich
    7b
    Zellfeld-Bereich
    7c
    Zellfeld-Bereich
    7d
    Zellfeld-Bereich
    8a
    Segment-Treiber-Bereich
    8b
    Segment-Treiber-Bereich
    8c
    Segment-Treiber-Bereich
    8d
    Segment-Treiber-Bereich
    9a
    Segment-Ansteuerbereich
    9b
    Segment-Ansteuerbereich
    10b
    Leseverstärker-Bereich
    10c
    Leseverstärker-Bereich
    10e
    Leseverstärker-Bereich
    10f
    Leseverstärker-Bereich
    12a
    Master-Wortleitung
    12b
    Master-Wortleitung
    13a
    Lokale Wortleitung
    13b
    Lokale Wortleitung
    13c
    Lokale Wortleitung
    14a
    Lokale Wortleitung
    14b
    Lokale Wortleitung
    14c
    Lokale Wortleitung
    101a
    Spannungs-Pumpen-Bereich
    101b
    Spannungs-Pumpen-Bereich
    101c
    Spannungs-Pumpen-Bereich
    101d
    Spannungs-Pumpen-Bereich
    102a
    Leitung
    102b
    Leitung
    102c
    Leitung
    103a
    Leitung
    103b
    Leitung
    104
    Bonding-Bereich

Claims (7)

  1. Halbleiter-Bauelement (1), insbesondere Speicherbauelement, mit mindestens einer Spannungs-Pumpe, welche eine entsprechende, gepumpte Spannung (VPP, VLL) bereitstellt, und welche in einem entsprechenden Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) des Halbleiter-Bauelements (1) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass sich der Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) im Wesentlichen parallel zu mehreren, mit der gepumpten Spannung (VPP, VLL) zu versorgenden Einrichtungen (9a, 8a, 8c) erstreckt.
  2. Halbleiter-Bauelement (1) nach Anspruch 1, bei welchem sich der Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) im Wesentlichen parallel zu durch die Einrichtungen (9a, 8a, 8c) angesteuerten Leitungen, insbesondere Wortleitungen (12a, 13a, 13b, 13c) erstreckt.
  3. Halbleiter-Bauelement (1) nach Anspruch 1 oder 2, bei welchem der Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) eine Vielzahl von Spannungs-Pumpen aufweist, insbesondere mehr als drei, sieben, fünfzehn oder einunddreißig Spannungs-Pumpen.
  4. Halbleiter-Bauelement (1) nach Anspruch 3, bei welchem die Spannungs-Pumpen verteilt im Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) angeordnet sind, insbesondere – in Bezug auf die Längsachse des Spannungs-Pumpen-Bereichs (101a) – im Wesentlichen gleichmäßig verteilt.
  5. Halbleiter-Bauelement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welchem der Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) sich im Wesentlichen über die gesamte Länge eines im Halbleiter-Bauelement (1) vorgesehenen Speicherzellen-Arrays (3a) erstreckt.
  6. Halbleiter-Bauelement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welchem der Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) seitlich-außerhalb von im Halbleiter-Bauelement (1) vorgesehenen Speicherzellen-Arrays (3a, 3b, 3c, 3d) angeordnet ist, insbesondere in einem in Bezug auf sämtliche im Halbleiter-Bauelement (1) vorgesehenen Arrays (3a, 3b, 3c, 3d) seitlich-außerhalb liegenden Bereich.
  7. Halbleiter-Bauelement (1) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welchem der Spannungs-Pumpen-Bereich (101a) in einem Randbereich des Halbleiter-Bauelements (1) angeordnet ist, insbesondere einem neben, und nicht zwischen den Arrays (3a, 3b, 3c, 3d) liegenden Randbereich.
DE102004004785A 2004-01-30 2004-01-30 Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente Withdrawn DE102004004785A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004004785A DE102004004785A1 (de) 2004-01-30 2004-01-30 Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente
US11/043,949 US7206248B2 (en) 2004-01-30 2005-01-28 Voltage booster device for semi-conductor components

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004004785A DE102004004785A1 (de) 2004-01-30 2004-01-30 Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102004004785A1 true DE102004004785A1 (de) 2005-08-25

Family

ID=34801314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102004004785A Withdrawn DE102004004785A1 (de) 2004-01-30 2004-01-30 Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7206248B2 (de)
DE (1) DE102004004785A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006044758A1 (de) * 2006-09-20 2008-04-03 Qimonda Ag Bond-Pad-Anordnung eines Halbleiterchips und Halbleiterbauelement
DE112011104565B4 (de) * 2010-12-22 2017-12-28 Intel Corporation Nand-logik-wortleitungsauswahl

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7573771B2 (en) 2005-09-29 2009-08-11 Hynix Semiconductor, Inc. High voltage generator and semiconductor memory device
US8135163B2 (en) * 2007-08-30 2012-03-13 Klipsch Group, Inc. Balanced armature with acoustic low pass filter

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6519191B1 (en) * 1999-10-28 2003-02-11 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit device having an internal voltage generation circuit layout easily adaptable to change in specification

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3173327B2 (ja) * 1995-06-16 2001-06-04 富士通株式会社 半導体装置
KR0172404B1 (ko) * 1995-12-21 1999-03-30 김광호 반도체 메모리장치의 리프레쉬별 내부 승압전원 제어방법
JP4017248B2 (ja) * 1998-04-10 2007-12-05 株式会社日立製作所 半導体装置
JP2003242798A (ja) * 2002-02-13 2003-08-29 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
US6661686B1 (en) * 2002-03-29 2003-12-09 Netlogic Microsystems, Inc. Content addressable memory having dynamic match resolution
JP2004071000A (ja) * 2002-08-02 2004-03-04 Renesas Technology Corp 半導体記憶装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6519191B1 (en) * 1999-10-28 2003-02-11 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor integrated circuit device having an internal voltage generation circuit layout easily adaptable to change in specification

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006044758A1 (de) * 2006-09-20 2008-04-03 Qimonda Ag Bond-Pad-Anordnung eines Halbleiterchips und Halbleiterbauelement
DE112011104565B4 (de) * 2010-12-22 2017-12-28 Intel Corporation Nand-logik-wortleitungsauswahl

Also Published As

Publication number Publication date
US7206248B2 (en) 2007-04-17
US20050169088A1 (en) 2005-08-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69822280T2 (de) Halbleiterspeicher
DE10339665B3 (de) Halbleiter-Speicherbauelement, mit Steuereinrichtung zum Aktivieren von Speicherzellen und Verfahren zum Betrieb eines Halbleiter-Speicherbauelements
EP0908893B1 (de) Speicherarchitektur mit Mehrebenenhierarchie
DE102004053497A1 (de) Halbleiterspeicherbauelement und Wiederauffrischverfahren
DE102005056351A1 (de) Speichervorrichtung, Speichersteuereinheit und Verfahren zum Betreiben derselben
DE102008051035A1 (de) Integrierte Schaltung umfassend Speichermodul mit einer Mehrzahl von Speicherbänken
DE10302346B4 (de) Halbleiterspeicherbaustein mit aufgeteiltem Speicherzellenfeld
DE4024295A1 (de) Dynamische halbleiterspeichervorrichtung
DE69909280T2 (de) Halbleiterspeicher
DE3939337A1 (de) Halbleiterspeichereinrichtung mit einer mehrzahl von speicherfeldern mit verbessertem peripherem schaltkreisbereich und verbesserter verbindungsanordnung
DE10155102B4 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Auffrischen (Refreshing) von Halbleiterspeichern
DE69722837T2 (de) Speicheranordnung mit überlagerter Busstruktur
DE19906200A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung mit einer Subwortleitung-Ansteuerschaltung
DE4015452A1 (de) Dynamische halbleiterspeichereinrichtung
DE19756929A1 (de) Zellenarray und Leseverstärkerstruktur mit verbesserten Rauscheigenschaften und verringerter Größe
DE102013114251A1 (de) DRAM mit segmentierter Seitenkonfiguration
DE19618781A1 (de) Halbleiterspeichervorrichtung mit hierarchischer Spaltenauswahlleitungsstruktur
DE102004004785A1 (de) Spannungs-Pumpen-Anordnung für Halbleiter-Bauelemente
DE102004054968A1 (de) Verfahren zum Reparieren und zum Betreiben eines Speicherbauelements
DE69823601T2 (de) Hierarchische Spaltenleitungsauswahl für Multi-Bank-DRAM-Speicher und Verfahren dazu
DE69923900T2 (de) Architektur für eine Speicherschaltung
DE3917558A1 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE102007029371A1 (de) Verfahren zum Verbergen defekter Speicherzellen und Halbleiterspeicher
DE3939314C2 (de)
EP0986064B1 (de) Integrierter Halbleiterspeicher

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: QIMONDA AG, 81739 MUENCHEN, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20110802