DE10121115A1 - Haltevorrichtung für Wafer - Google Patents

Haltevorrichtung für Wafer

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Klaus-Dieter Deutscher
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Abstract

Die Erfindung bezieht sich auf eine Haltevorrichtung für Wafer in einer Anordnung zur Waferinspektion, umfassend zwei Greifer (11, 12), von denen jeder im geschlossenen Zustand der Haltevorrichtung (8) einen Teilabschnitt des Waferumfangs umschließt und die mit einer Antriebseinrichtung (27) verbunden sind, bei deren Ansteuerung sich die Greifer (11, 12) zwecks Öffnen der Haltevorrichtung (8) voneinander weg und zwecks Schließen der Haltevorrichtung (8) aufeinander zu bewegen, und einen Haltearm (13), an dem beide Greifer (11, 12) schwenkbar gelagert sind. DOLLAR A Dabei ist der Haltearm (13) um eine Achse (A) drehbar gelagert, die im wesentlichen in der vom Wafer (W) aufgespannten Ebene liegt, so daß mit einer Drehung um 180 DEG um die Achse (A) ein zwischen den Greifern (11, 12) gehaltener Wafer (W) gewendet ist.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf eine Haltevorrichtung für Wafer in einer Anord­ nung zur Waferinspektion, umfassend zwei Greifer, von denen jeder im ge­ schlossenen Zustand der Haltevorrichtung einen Teilabschnitt des Waferum­ fangs umschließt und die mit einer Antriebseinrichtung verbunden sind, bei deren Ansteuerung sich die Greifer zwecks Öffnen der Haltevorrichtung von­ einander weg und zwecks Schließen der Haltevorrichtung aufeinander zu be­ wegen und einen Haltearm, an dem beide Greifer schwenkbar gelagert sind.
Eine derartige Haltevorrichtung ist aus der US 5,700,046 A bekannt. Die dort beschriebene Haltevorrichtung ist beweglich gelagert und dient dazu, Wafer beim Umsetzen von beispielsweise einer Übernahmestation zu einer Inspekti­ onsstation zu halten. Dazu kann die Haltevorrichtung entlang einer horizonta­ len Achse verfahren, auf und ab bewegt und um eine zur Transportrichtung senkrechte Achse geschwenkt werden. Die Transportrichtung und die Haupt­ erstreckungsrichtung des Wafers liegen dabei stets in einer Ebene, d. h. die Ausrichtung der beiden sich gegenüberliegenden Flächen des Wafers bleibt bezüglich der Transportrichtung während des Umsetzens erhalten.
Während des Umsetzens wird der Wafer von den Greifern bogenförmig um­ schlossen. Dabei liegt der Wafer lediglich gegen die an den Greifern vorgese­ henen Zwischenstücke an. Diese sind bei der in der US 5,700,046 A be­ schriebenen Haltevorrichtung derart ausgebildet, daß der Wafer lediglich an seiner nicht strukturierten Unter- bzw. Rückseite flächig und an seinem umlau­ fenden Seitenrand punktförmig gehalten ist. Die Zwischenstücke sind dazu L- förmig ausgebildet. Der Wafer liegt dabei mit seiner Unterseite bzw. Rückseite auf horizontalen Schenkeln der Zwischenstücke auf und wird mittels der vertikalen Sehenkel, welche gegen den Seitenrand des Wafers anliegen, zentriert gehalten.
Aus der US 5,807,062 A ist eine Inspektionsanordnung bekannt, bei der ein Wafer verschiedene Inspektionsstationen durchläuft. Dabei ist neben einer Mikro-Inspektionsstation, in der eine mikroskopische Untersuchung des Wa­ fers erfolgt, auch eine Makro-Inspektionsstation vorgesehen, in der der Wafer von einem Kontrolleur unmittelbar visuell begutachtet wird. Hierbei lassen sich vor allem großflächige Fehler feststellen, wie beispielsweise Kratzer oder Farbabweichungen. Überdies können am Wafer haftende Verunreinigungen, etwa Staubpartikel, festgestellt werden.
Da aber bei der in der US 5,807,062 A beschriebenen Inspektionsanordnung ebenfalls die Transportrichtung und die Haupterstreckungsrichtung des Wa­ fers stets in einer Ebene liegen, d. h. die Ausrichtung der strukturierten Ober­ seite und der nichtstrukturierten Unterseite des Wafers bezüglich der Trans­ portrichtung während des Umsetzens erhalten bleiben und ein Umwenden des Wafers mit dieser Haltevorrichtung nicht möglich ist, kann jedoch nur die Wa­ ferfläche untersucht werden, die dem Kontrolleur oder dem Mikroskopobjektiv zugewandt ist. Dies ist in der Regel die strukturierte Oberseite des Wafers. Mitunter besteht jedoch ein Interesse daran, auch die Unterseite bzw. Rück­ seite des Wafers zu begutachten.
Davon ausgehend liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde eine Vorrichtung zu schaffen, die ein Betrachten sowohl der strukturierten als auch der nicht­ strukturierten Fläche eines Wafers ermöglicht.
Dazu wird eine Haltevorrichtung der eingangs genannten Art vorgeschlagen, bei der der Haltearm um eine Achse A drehbar gelagert ist, die im wesentli­ chen in der vom Wafer aufgespannten Ebene liegt, so daß mit einer Drehung um 180° um die Achse ein zwischen den Greifern gehaltener Wafer gewendet wird.
Vorteilhaft sollte die Achse A etwa mittig zwischen zwei Schwenklagern für die Greifer verlaufen.
Mit Hilfe der erfindungsgemäßen Haltevorrichtung kann ein Wafer sicher ge­ halten und in jeder beliebigen Transportposition der Haltevorrichtung, d. h. bei einer Inspektionsstation oder auch auf halbem Wege zwischen zwei Stati­ onen, gewendet werden, so daß es möglich ist, von einer festgelegten Be­ trachtungsstation aus sowohl die Vorderseite als auch die Rückseite zu inspi­ zieren. Da der Wafer lediglich an seinem Seitenrand von den Greifern gehal­ ten ist, ist der Blick auf seine beiden Flächen nicht bzw. nur unwesentlich ein­ geschränkt.
Bevorzugt gelangt die Haltevorrichtung in einer Anordnung zur visuellen In­ spektion von Wafern zum Einsatz. Diese Anordnung umfaßt eine Übergabe­ station, eine Makro-Inspektionsstation und eine Mikro-Inspektionsstation so­ wie eine Transfereinrichtung zum Transport eines Wafers zwischen den ein­ zelnen Stationen. Die Haltevorrichtung ist dabei in der Makro- Inspektionsstation angeordnet.
Somit kann bei einem Durchlauf eines Wafers durch die Inspektionsanord­ nung sowohl dessen strukturierte Vorderseite als auch dessen Rückseite makroskopisch begutachtet werden.
Dabei ist weiterhin zu berücksichtigen, daß der Wafer nicht auf seiner struktu­ rierten Vorderseite abgelegt werden darf, da dies zu Beschädigungen führen könnte, welche den Wafer unbrauchbar machen würden. Mit der Haltevorrich­ tung wird eine solche Beeinträchtigung der Vorderseite bei der Inspektion des Wafers vermieden.
In einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist der Haltearm um eine weitere Achse B schwenkbar gelagert, die im wesentlichen tangential zum Waferumfang verläuft und die Achse A zumindest etwa rechtwinklig schneidet. Hierdurch ist es möglich, vor dem Wenden den Wafer aus seiner Lage her­ auszuschwenken. Dies ist insbesondere dann vorteilhaft, wenn beim Wenden Bauteile der Waferinspektionseinrichtung mit dem Wafer bzw. den Greifern kollidieren könnten.
Vorteilhaft sollte die Achse A etwa mittig zwischen zwei Schwenklagern für die Greifer verlaufen.
Eine solche Kollision läßt sich weiterhin auch dadurch vermeiden, daß der Haltearm in einer Geradführung verschiebbar gelagert ist, wobei die Verschie­ berichtung C die Achsen A und B im wesentlichen rechtwinklig schneidet. Auch auf diese Weise ist es möglich, den Wafer so weit aus seiner ursprüngli­ chen Transportebene herauszuheben, daß eine Kollision beim Wenden ver­ mieden wird.
Durch eine Kombination der vorgenannten Bewegungsmöglichkeiten läßt sich der Verfahrweg sowie der Schwenkwinkel vermindern, wodurch die Zeit zum Wenden des Wafers verringert werden kann. Bevorzugt werden die Bewe­ gungen, d. h. die Translationsbewegung und die Schwenkbewegungen des Haltearms, gleichzeitig ausgeführt.
Die Möglichkeit eines gut koordinierten Bewegungsablaufes ergibt sich, wenn für die Verschwenkung der Greifer, das Wenden des Wafers durch Drehung um die Achse A, das Verschwenken des Haltearms um die Achse B und die Verschiebung des Haltearms in Verschieberichtung C jeweils gesondert an­ steuerbare Antriebseinrichtungen vorgesehen sind.
In einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung weisen die Grei­ fer jeweils an ihren dem Waferumfang zugewandten Abschnitten Zwischen­ stücke auf, von denen mindestens eines geometrisch so geformt ist, daß der Wafer lediglich durch Berührung an seinen Umfangskanten gehalten wird. Auf diese Weise wird einerseits ein sicheres Halten des Wafers gewährleistet, andererseits jegliche Berührung der Vorderseite vermieden. Überdies bleibt die Beeinträchtigung der sichtbaren Fläche insbesondere auch an der Rück­ seite des Wafers sehr gering. Durch die sehr kleinen Berührungsflächen wird auch die Gefahr der Übertragung von Partikel vermindert.
Prinzipiell ist es möglich, einzelne Zwischenstücke so auszubilden, daß diese mit der einen Umfangskante und andere Zwischenstücke lediglich mit der an­ deren Umfangskante des Wafers in Eingriff gelangen. Bevorzugt ist jedoch mindestens ein Zwischenstück vorgesehen, das beim Greifen gegen beide Umfangskanten des Wafers anliegt. Ein solches Zwischenstück kann beispielsweise zum Wafer hin V-förmig geöffnet sein, wobei die Umfangskanten eines gehaltenen Wafers im V-Profil anliegen.
Weiterhin ist es möglich, ein solches Zwischenstück als Rolle auszubilden, die exzentrisch an einem Greifer gelagert und in einer gewählten Winkelstellung fixierbar ist. Hierdurch ist es auf besonders einfache Art und Weise möglich, eine Lagejustierung zwischen den Wafern und den Greifern vorzunehmen.
Durch die federelastische Abstützung wenigstens eines Zwischenstückes an einem Greifer wird einerseits ein sicheres Greifen gewährleistet, andererseits lassen sich die Kontraktkräfte an den Berührungsstellen gut beherrschen, so daß Beschädigungen mit hoher Sicherheit vermieden werden können.
Die federelastische Abstützung kann beispielsweise über eine Blattfeder erfol­ gen, wobei das Zwischenstück über eine Blattfeder an den zugehörigen Grei­ fer angelenkt ist. Dies hat den Vorteil, daß die Haltekraft der Feder beim Wen­ den nicht beeinträchtigt wird. Vielmehr bleibt die Position des Wafers beim Wenden relativ zu den Greifern erhalten.
Weiterhin ist es möglich, auch die Greiferbewegungen selbst federelastisch vorzuspannen, um so die Gefahr einer Beschädigung der Umfangskanten des Wafers, insbesondere beim Schließen der Greifer, gering zu halten.
In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist zwischen den Greifern und dem Haltearm wenigstens ein Anschlag vorgesehen, der die Schwenkwinkel bei der Greiferbewegung begrenzt. Damit wird insbesondere die Sicherheit der Haltevorrichtung verbessert.
Um ein sicheres Halten eines Wafers in der Haltevorrichtung insbesondere auch bei einem Ausfall der Betriebsspannung zu gewährleisten, ist zwischen den Greifern eine Zugfeder vorgesehen, durch die der Wafer unter elastischer Spannung zwischen den Greifern auch ohne Antriebskraft gehalten wird.
In einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist mindestens an einem Greifer ein Sensor zur Kontrolle des Vorhandenseins eines Wafers zwi­ schen Greifern vorgesehen. Dies ist insbesondere für eine automatisierte Be­ triebsweise der Haltevorrichtung vorteilhaft, bei der ein Wafer automatisch gegriffen, anschließend gewendet, hernach in seine Ursprungsposition zu­ rückgedreht und abschließend wieder freigegeben wird.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispieles näher erläutert. Die Zeichnung zeigt in
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Inspektionsanordnung mit einer Haltevorrichtung zum Wenden eines Wafers,
Fig. 2 eine räumliche Ansicht der Haltevorrichtung,
Fig. 3 eine Seitenansicht der Haltevorrichtung in einer ersten Stellung vor dem Greifen eines Wafers,
Fig. 4 eine Seitenansicht der Haltevorrichtung in einer zweiten Stellung beim Greifen eines Wafers,
Fig. 5 eine Seitenansicht der Haltevorrichtung in einer dritten Stellung un­ mittelbar vor dem Wenden des Wafers, in welcher der Wafer bereits nach oben angehoben und geschwenkt worden ist,
Fig. 6 eine Detailansicht der Greifer im Bereich des Wafers,
Fig. 7 eine Detailansicht eines Zwischenstückes,
Fig. 8 eine Detailansicht eines federelastischen Zwischenstückes,
Fig. 9 eine Detailansicht eines Sensors und in
Fig. 10 eine Detailansicht eines Anschlags für die Greifer.
Das erste Ausführungsbeispiel zeigt in Fig. 1 eine Inspektionsanordnung 1, mit der flächenhafte Substrate wie Wafer W sowohl unmittelbar visuell als auch mikroskopisch untersucht werden können. Insbesondere lassen sich mit der Inspektionsanordnung 1 bei der Fertigung als fehlerhaft beurteilte und ausge­ sonderte Wafer W näher untersuchen, um dadurch Rückschlüsse auf die Feh­ lerursache zu ziehen. Jedoch kann die Inspektionsanordnung auch zu ande­ ren Untersuchungen verwendet werden.
In dem dargestellten Ausführungsbeispiel umfaßt die Inspektionsanordnung 1 drei Stationen, an denen unterschiedliche Aufgaben bzw. vorbereitende Tätig­ keiten ausgeführt werden. Diese drei Stationen, nämlich eine Übergabestation 2, eine Makro-Inspektionsstation 3 und eine Mikro-Inspektionsstation 4 sind in einem gemeinsamen Gehäuse 5 angeordnet, das nach außen geschlossen ist. Die einzelnen Wafer W werden mittels einer Transfereinrichtung 6 zwi­ schen den einzelnen Stationen 2, 3 und 4 transportiert. Die Transfereinrich­ tung 6 umfaßt dabei einen sternförmigen Halter, der um eine zentrale Achse Z rotiert und bei den einzelnen Stationen angehalten wird.
In der Übergabestation 2 wird ein Wafer W mittels einer angedeuteten Über­ gabeeinrichtung 7 in die Inspektionsanordnung 1 geladen und auf der Trans­ fereinrichtung 6 abgelegt. Von dort gelangt der Wafer W mit einer Drehung der Transfereinrichtung 6 um 120° in die Makro-Inspektionsstation 3. In dieser erfolgt eine Begutachtung durch eine neben der Inspektionsanordnung 1 ste­ hende oder sitzende Kontrollperson P.
Im Übergabezustand weist die strukturierte Vorderseite des Wafers W nach oben, wohingegen die unstrukturierte Rückseite des Wafers W auf der Trans­ fereinrichtung 6 aufliegt. Nach einer Betrachtung der Vorderseite wird der Wa­ fer W gewendet, so daß die Kontrollperson P auch dessen Rückseite inspizie­ ren kann. Dazu ist in der Makro-Inspektionssation 3 eine Haltevorrichtung 8 vorgesehen, welche den Wafer W zunächst erfaßt, von der Transfereinrich­ tung 6 nach oben abhebt und anschließend wendet. Nach einer Inspektion der Waferrückseite wird der Wafer W zunächst rückgewendet und hernach mit der Rückseite wieder auf der Transfereinrichtung 6 abgelegt.
Durch eine Weiterschaltung der Transfereinrichtung 6 um nochmals 120° ge­ langt der Wafer W in die Mikro-Inspektionsstation 4. Hier kann der Wafer W abschnittsweise im Detail mit einem Mikroskop 9 untersucht werden. Das Mik­ roskop 9 umfaßt einen verfahrbaren Tisch 10, auf dem der zu inspizierende Wafer W zeitweilig zwecks Inspektion abgelegt wird. Nach der Inspektion er­ folgt der Weitertransport des Wafers W zu der Übergabestation 2, in der der Wafer W mittels der Übergabeeinrichtung 7 entnommen wird. Geeignete Ü­ bergabeeinrichtungen sind dem Fachmann bekannt und bedürfen daher kei­ ner näheren Erläuterung. Beispielsweise kann hier eine Vorrichtung verwen­ det werden, wie sie in der US 5,700,046 A beschrieben ist.
Nachfolgend soll nun die in der Makro-Inspektionsstation 3 angeordnete erfin­ dungsgemäße Haltevorrichtung 8 zum Wenden eines Wafers W näher erläu­ tert werden.
Die Haltevorrichtung 8, die in Fig. 2 näher dargestellt ist, umfaßt zwei bogen­ förmig ausgebildete Greifer 11 und 12, die in ihrer Form an den Durchmesser der zu greifenden Wafer W angepaßt sind und den Wafer an dessen Seiten­ rand etwa zu Dreivierteln umschließen. Die beiden Greifer 11 und 12 sind an einem Haltearm 13 gelagert und gegeneinander bewegbar. Zum Öffnen wer­ den die Greifer 11 und 12 auseinander geschwenkt, so daß die Greiferinnen­ seiten in die Höhe des Waferrandes geführt werden können. Zum Ergreifen eines Wafers W wird die Haltevorrichtung geschlossen, d. h. die Greifer 11 und 12 werden aufeinanderzubewegt, bis diese mittels der Zwischenstücke 14 und 15 gegen den Waferrand in Anlage gelangen.
Die Zwischenstücke 14 und 15 sind dabei derart ausgebildet, daß sie beim Greifen eines Wafers W lediglich gegen die Umfangskanten am Waferumfang anliegen, wie dies in Fig. 7 gezeigt ist. Hierdurch wird einerseits ein sicheres Greifen gewährleistet, andererseits jegliche Berührung der strukturierten Vor­ derseite wie auch der Rückseite des Wafers W vermieden. Überdies bleibt die Berührungsfläche zwischen den Kontraktelementen 14 bzw. 15 und dem Wa­ fer W gering, so daß beim Greifen und Loslassen des Wafers W möglichst wenige Partikel gelöst bzw. übertragen werden.
In dem gewählten Ausführungsbeispiel sind an den Greifern 11 und 12 insge­ samt vier gleichmäßig verteilte Zwischenstücke 14 fest angeordnet, die jeweils in der Art einer Rolle ausgebildet sind. Diese Rolle besitzt bei Betrachtung in einer Ebene senkrecht zu der Greifebene ein keilförmiges Profil, das sich zur Rollenmitte verjüngt. Die beiden einander gegenüberliegenden Keilflächen 16 und 17 liegen beim Greifen jeweils gegen eine Umfangskante des Wafers W an und bewirken so auch eine Zentrierung des Wafers W in der Greifebene.
Die fest angeordneten Zwischenstücke 14 sind jeweils exzentrisch an dem zugehörigen Greifer 11 bzw. 12 gelagert. Durch eine Drehung läßt sich so die Position eines gegriffenen Wafers W relativ zu den Greifern 11 und 12 einstellen. Nach einer erfolgten Justierung werden die Zwischenstücke 14 in der ge­ wählten Winkelstellung fixiert.
Außer den feststehenden Zwischenstücken 14 ist weiterhin ein federelasti­ sches Zwischenstück 15 vorgesehen, das in Fig. 8 im Detail gezeigt ist. Dieses entspricht in seiner Gestalt im wesentlichen einem halbierten Zwischenstück 14, so daß auch das federelastisch gelagerte Zwischenstück 15 mit zwei Keil­ flächen 16 und 17 gegen die Umfangskanten eines Wafers W anliegen kann. Das Zwischenstück 15 ist an einer Blattfeder 18 befestigt, die ihrerseits wie­ derum an der zu dem Seitenrand des Wafers W weisenden Innenflanke des Greifers 11 befestigt ist. Die Blattfeder 18 ist in der Greifebene elastisch aus­ lenkbar, in einer Richtung senkrecht hierzu hingegen steif ausgebildet. Diese radiale Anfederung ermöglicht ein besonders weiches Greifen eines Wafers W.
Weiterhin ist an den Greifern 11 und 12 jeweils ein Sensor 19 angebracht, mit dem das Vorhandensein eines Wafers VV zwischen den Greifern 11 und 12 festgestellt werden kann. Das von den Sensoren 19 erzeugte Signal wird in einer nicht näher dargestellten Steuereinrichtung ausgewertet, um einen au­ tomatisierten Betrieb der Haltevorrichtung 8 zu ermöglichen. So kann bei­ spielsweise vor dem Wenden eines Wafers festgestellt werden, ob dieser ord­ nungsgemäß gegriffen worden ist. Überdies ist es möglich, beim Wiederable­ gen des Wafers W auf die Transfereinrichtung 6 festzustellen, ob vor einer Entfernung der Greifer 11 und 12 von dem Wafer W letzterer auch tatsächlich freigegeben worden ist. Die Sensoren 19 sind entsprechend ausgebildet und angeordnet. In dem dargestellten Ausführungsbeispiel befinden sie sich an den Innenflanken der Greifer 11 und 12.
Zum Öffnen und Schließen der Greifer 11 und 12 sind diese schwenkbar an dem Haltearm 13 gelagert. Die Schwenkbewegung der Greifer 11 und 12 wird durch einen an dem Greifer 11 angebrachten Anschlag 20 begrenzt. Dieser ist in Fig. 10 im Detail dargestellt, welche eine Schließstellung der Greifer 11 und 12 zeigt. In dieser Schließstellung stößt der Anschlag 20 gegen eine An­ schlagfläche 21 des Haltearms 13 an.
Neben dem Anschlag 20 ist eine Zugfeder angeordnet, welche mit beiden Greifern 11 und 12 verbunden ist, um diese in die Schließstellung zu ziehen. Damit wird gewährleistet, daß ein Wafer W stets sicher zwischen den Greifern 11 und 12 gehalten bleibt. Das Öffnen und Schließen erfolgt mittels einer An­ triebseinrichtung, die mit den Greifern 11 und 12 gekoppelt ist.
Zum Wenden des Wafers W ist eine weitere Antriebseinrichtung vorgesehen, die eine Drehung des Wafers um eine Achse A um 180° ermöglicht. Nach einer Drehung um diese Wendeachse A befindet sich der Wafer W im wesent­ lichen in der Ausgangsposition, jedoch sind die Vorderseite und die Rückseite vertauscht. Wie Fig. 2 zeigt, verläuft die Wendeachse W durch den Haltearm 13 parallel zu oder durch die Greifebene und vorzugsweise auch durch die Mittenachse M des Wafers W.
Der Haltearm 13 ist wiederum an einer Konsole 23 schwenkbar gelagert. Die Schwenkachse B verläuft dabei quer zu der Wendeachse A. In dem darge­ stellten Ausführungsbeispiel verläuft die Schwenkachse B horizontal und au­ ßerhalb eines zwischen den Greifern 11 und 12 erfaßten Wafers W.
Die Konsole 23 ist ihrerseits an einem Sockelteil 24 abgestützt und gegenüber diesem in der Verschieberichtung C linear geführt. Die Linearführung 25 er­ möglicht hier eine Auf- und Abbewegung der Konsole 23 und damit gleichzei­ tig des Haltearms 13 sowie der Greifer 11 und 12.
Jede der einzelnen Bewegungen, d. h. das Öffnen und Schließen der Greifer 11 und 12, das Wenden des Haltearms 13 mit den Greifern 11 und 12 um die Wendeachse A, das Schwenken des Haltearms 13 um die Schwenkachse B sowie die Auf- und Abbewegung der Konsole 23 entlang der Verschieberich­ tung C erfolgt über eine gesondert ansteuerbare Antriebseinrichtung. Dabei können Stell- bzw. Schrittmotoren vorgesehen werden, so daß die einzelnen Bewegungen vollkommen unabhängig voneinander erfolgen können. Die ein­ zelnen Antriebseinrichtungen sind in den Fig. 2 bis 5 mit den Bezugszei­ chen 26 bis 29 bezeichnet.
Im Folgenden soll nun anhand Fig. 3 bis Fig. 5 die Betriebsweise der Haltevor­ richtung 8 näher erläutert werden. Fig. 3 zeigt dabei eine Ausgangsstellung, in der ein Wafer W mittels der Transfereinrichtung 6 in einer Transferebene T in die Makro-Inspektionsstation 3 gefördert wird. Hierbei befinden sich die Grei­ fer 11 und 12 einer Position unterhalb der Transferebene T. Die Greifebene der Greifer 11 und 12 ist etwa parallel zu der Transferebene T ausgerichtet. Zum Ergreifen des Wafers W wird zunächst die Antriebseinrichtung 26 zum Verfahren der Konsole 23 entlang der Verschieberichtung C betätigt. Diese ist hier als Linearmotor 26 ausgebildet. Gleichzeitig werden die Greifer 11 und 12 durch eine Betätigung der zugehörigen Antriebseinrichtung 27 geöffnet, so daß die Zwischenstücke 14 und 15 beim Nachobenfahren nicht mit dem Wafer W kollidieren.
Die Aufwärtsbewegung entlang der Verschieberichtung C wird gestoppt, wenn die Greifebene mit der Transferebene T zusammenfällt. Durch eine erneute Betätigung der Antriebseinrichtung 27, hier eines Elektromotors, werden die Greifer 11 und 12 in die Schließstellung verfahren, woraufhin die Zwischen­ stücke 14 und 15 gegen den Wafer W in Anlage gebracht werden und dabei dessen Seitenrand umgreifen. Dieser Zustand ist in Fig. 4 dargestellt. Wenn mittels der Sensoren 19 ein ordnungsgemäßes Greifen des Wafers W signali­ siert wird, wird die Antriebseinrichtung 26 erneut betätigt, um den Wafer W von der Transfereinrichtung 6 abzuheben und weiter nach oben zu fahren. Gleichzeitig oder auch mit einer kleinen Zeitverzögerung wird der Haltearm 13 gegenüber der Konsole 23 um die Achse B verschwenkt, wie dies in Fig. 5 angedeutet ist. Dazu wird die zugehörige Antriebseinrichtung 28, die wieder­ um als Elektromotor ausgebildet ist, betätigt. Der Wafer W wird dabei so weit nach oben gefahren und um die Achse B geschwenkt, bis die Greifer 11 und 12 mit dem Wafer W ungehindert um die Wendeachse A gedreht werden kön­ nen, ohne dabei mit der Transfereinrichtung 6 zu kollidieren.
Durch die Schwenkmöglichkeit um die Schwenkachse B kann der Verfahrweg entlang der Verschieberichtung C verhältnismäßig gering gehalten werden. Die Gleichzeitigkeit der beiden Bewegungen ermöglicht ein schnelles Errei­ chen der in Fig. 5 dargestellten Position, in der dann das eigentliche Wenden vorgenommen werden kann.
Die Begutachtung der Rückseite des Wafers W kann durch eine entsprechen­ de Ausrichtung der Haltevorrichtung 8 in dieser verschwenkten Position von einem Beobachterplatz neben der Inspektionsanordnung aus vorgenommen werden. Dazu wird die Antriebseinrichtung 29 zum Drehen um die Achse A betätigt.
Durch eine kombinierte Schwenkbewegung um die Achsen A und B um kleine Winkel kann in der in Fig. 5 dargestellten Position mit dem Wafer W eine Tau­ melbewegung durchgeführt werden, die bei entsprechender Beleuchtung des Wafers W die visuelle Erkennbarkeit von Fehlern an dem Wafer W sowie dar­ an anhaftender Staubpartikel verbessert. Diese Taumelbewegung kann so­ wohl für die Betrachtung der strukturierten Vorderseite als auch für die Be­ trachtung der Rückseite durchgeführt werden.
Es ist jedoch auch denkbar, den Wafer W in eine Position entsprechend Fig. 4 zurückzufahren, wobei dieser jedoch kurz oberhalb der Transfereinrichtung 6 angehalten wird, um die strukturierte Vorderseite des Wafers W nicht zu be­ schädigen. Auf diese Weise können für die Inspektion der Vorder- und Rück­ seite nahezu identische Beobachtungsbedingungen realisiert werden. Dies ist allerdings etwas zeitaufwendiger, als die Inspektion in der in Fig. 5 dargestell­ ten Position, da die Schwenk- und Hubbewegungen bezüglich der Achse B und der Verschieberichtung C dann zweimal auszuführen sind.
Nach einem Rückwenden des Wafers W in die in Fig. 5 dargestellte Stellung wird dieser dann wieder mit seiner Rückseite auf der Transfereinrichtung 6 abgelegt, wozu die Haltevorrichtung 8 in die in Fig. 4 dargestellte Stellung ver­ fahren wird. Durch ein Öffnen der Greifer 11 und 12 wird der Wafer freigege­ ben. Dies wird auch mittels der Sensoren 19 erkannt. Durch eine weitere Ab­ senkung der Konsole 23 wird dann die in Fig. 3 dargestellte Ausgangsstellung erreicht, in der die Greifer 11 und 12 von der Transferebene T zurückgezogen sind und zur Entlastung der zugehörigen Antriebseinrichtung 27 geschlossen werden.
Die erläuterte Haltevorrichtung ermöglicht eine schnelle und effiziente makro­ skopische Inspektion der Vorder- und Rückseite eines Wafers in einem Arbeitsgang. Durch die Anordnung in der Makro-Inspektionsstation wird der Inspektionsumfang einer Inspektionsanordnung erhöht.
Bezugszeichenliste
1
Inspektionsanordnung
2
Übergabestation
3
Makro-Inspektionsstation
4
Mikro-Inspektionsstation
5
Gehäuse
6
Transfereinrichtung
7
Übergabeeinrichtung
8
Haltevorrichtung
9
Mikroskop
10
Tisch
11
Greifer
12
Greifer
13
Haltearm
14
Zwischenstück
15
federelastisches Zwischenstück
16
Keilfläche
17
Keilfläche
18
Blattfeder
19
Sensor
20
Anschlag
21
Anschlagfläche
22
Zugfeder
23
Konsole
24
Sockelteil
25
Linearführung
26
,
27
,
28
,
29
Antriebseinrichtungen
W Wafer
R Rotationsachse
A, B Achsen
0 Verschieberichtung
M Mittenachse

Claims (15)

1. Haltevorrichtung für Wafer in einer Anordnung zur Waferinspektion, um­ fassend:
zwei Greifer (11, 12), von denen jeder im geschlossenen Zustand der Haltevorrichtung (8) einen Teilabschnitt des Waferumfangs umschließt und die mit einer Antriebseinrichtung (27) verbunden sind, bei deren An­ steuerung sich die Greifer (11, 12) zwecks Öffnen der Haltevorrichtung (8) voneinander weg und zwecks Schließen der Haltevorrichtung (8) aufeinander zu bewegen und
einen Haltearm (13), an dem beide Greifer (11, 12) schwenkbar gelagert sind,
dadurch gekennzeichnet, daß
der Haltearm (13) um eine Achse (A) drehbar gelagert ist, die im we­ sentlichen in der vom Wafer (W) aufgespannten Ebene liegt, so daß nach einer Drehung von 180° um die Achse (A) ein zwischen den Grei­ fern (11, 12) gehaltener Wafer (W) gewendet ist.
2. Haltevorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Haltearm (13) um eine weitere Achse (B) schwenkbar gelagert ist, die im wesentlichen tangential zum Waferumfang verläuft und die Achse (A) zumindest etwa rechtwinklig schneidet.
3. Haltevorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Haltearm (13) in einer Geradführung verschiebbar gelagert ist, wobei die Verschieberichtung (C) die Achsen (A, B) im wesentlichen rechtwink­ lig schneidet.
4. Haltevorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Achse (A) etwa mittig zwischen zwei Schwenklagern für die Greifer (11, 12) verläuft.
5. Haltevorrichtung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschwenkung der Greifer (11, 12), das Wenden des Wafers (W) durch Drehung um die Achse (A), das Ver­ schwenken des Haltearms (13) um die Achse (B) und die Verschiebung des Haltearms (13) in Verschieberichtung (C) jeweils gesonderte An­ triebseinrichtungen (26, 27, 28, 29) vorgesehen sind.
6. Haltevorrichtung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Greifer (11, 12) jeweils an ihren dem Waferum­ fang zugewandten Abschnitten Zwischenstücke (14, 15) aufweisen, von denen mindestens eines geometrisch so geformt ist, daß der Wafer (W) lediglich durch Berührung an seinen umlaufenden Umfangskanten gehalten wird.
7. Haltevorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß min­ destens ein Zwischenstück (14, 15) vorgesehen ist, das beim Greifen gegen beide Umfangskanten des Wafers (W) anliegt.
8. Haltevorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Zwischenstück (14, 15) zum Wafer hin V-förmig geöff­ net ist und die Umfangskanten eines gehaltenen Wafers (W) im V-Profil anliegen.
9. Haltevorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekenn­ zeichnet, daß mindestens eines der Zwischenstücke (14) als Rolle aus­ gebildet ist, die exzentrisch an einem Greifer (11, 12) gelagert und in ei­ ner gewählten Winkelstellung fixierbar ist.
10. Haltevorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekenn­ zeichnet, daß mindestens eines der Zwischenstücke (15) federelastisch am Greifer (11, 12) abgestützt ist.
11. Haltevorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das federelastisch abgestützte Zwischenstück (15) über eine Blattfeder (18) an den zugehörigen Greifer (11, 12) angelenkt ist.
12. Haltevorrichtung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Greifer (11, 12) in ihren Schwenklagern feder­ elastisch vorgespannt sind.
13. Haltevorrichtung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen den Greifern (11, 12) und dem Haltearm (13) Anschläge (20) vorgesehen sind, die den Schwenkwinkel bei der Greiferbewegung begrenzen.
14. Haltevorrichtung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Greifer (11, 12) über eine Zugfeder (22) mit­ einander verbunden sind, durch die der Wafer (W) unter elastischer Spannung zwischen den Greifern (11, 12) gehalten wird.
15. Haltevorrichtung nach einem der vorgenannten Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß an mindestens an einem Greifer (11, 12) ein Sen­ sor (19) zur Kontrolle des Vorhandenseins eines Wafers (W) zwischen den Greifern (11, 12) vorhanden ist.
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