DE10057079C2 - Korpuskularstrahl-Belichtungsvorrichtung - Google Patents
Korpuskularstrahl-BelichtungsvorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Korpuskularstrahl-Belich
tungsvorrichtung zur Belichtung einer Probe mit Hilfe
eines Korpuskularstrahles unter Zuführung von Niedrig
druck-Ozon, enthaltend
- - eine aus mehreren Teilkammern bestehende erste Vaku umkammer sowie wenigstens eine Vakuumpumpe zum Aus pumpen der ersten Vakuumkammer,
- - eine Einrichtung zur Erzeugung eines Korpuskular strahles in der ersten Vakuumkammer und zur Belich tung der Probe mit diesem Korpuskularstrahl
- - sowie eine Einrichtung zur Erzeugung von Ozon sowie zur Zuführung dieses Ozons in wenigstens eine Teil kammer der ersten Vakuumkammer während der Belich tung der Probe.
Die vorliegende Erfindung wird im folgenden beispiel
haft unter Bezugnahme auf die Elektronenstrahl-Belich
tung erläutert; sie läßt sich jedoch auch bei der Be
lichtung mit anderen Korpuskularstrahlen einsetzen. Bei
einer Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung wird der
geformte und abgelenkte Elektronenstrahl beispielsweise
auf eine als Scheibe ausgebildete Probe gelenkt und be
lichtet diese entsprechend einem gewünschten Muster.
Probleme treten hierbei insofern auf, als sich die Po
sition des Elektronenstrahls mit der Zeit verändert
(sogenannte Strahl-Abdrift) und das Belichtungsmuster
hierdurch beeinträchtigt wird. Hauptursache der Strahl-
Abdrift ist ein elektrisches Feld, das durch Ladungen
erzeugt wird, die sich an Verunreinigungen der elektrostatischen
Ablenkelektrode bzw. im unteren Bereich des
Objektivtubus nahe der Probe akkumulieren.
Zur Beseitigung dieser Verunreinigungen ist es durch
die JP 61 20 321 A und JP 06 32 57 09 A bekannt, die
Belichtung vorübergehend zu unterbrechen, zur Erzeugung
eines Plasmas Sauerstoff in die Vakuumkammer einzufüh
ren und das entstehende Gas mit den von den Oberflächen
entfernten Verunreinigungen nach außen zu entlassen.
Nachteilig ist hierbei, daß der Belichtungsvorgang vor
übergehend unterbrochen werden muß.
Durch die JP 09 25 98 11 A ist es weiterhin bekannt, in
wenigstens einen Bereich der Vakuumkammer der Elektro
nenstrahl-Belichtungsvorrichtung Ozon einzuführen und
hierdurch Verunreinigungen zu entfernen, während
gleichzeitig die Belichtung durchgeführt wird. Dabei
wird das in die Vakuumkammer eingeführte Ozon durch den
Elektronenstrahl in Sauerstoffradikale umgewandelt, die
die Verunreinigungen vergasen.
Fig. 1 zeigt diesen bekannten Stand der Technik gemäß
JP 09 25 98 11 A. Hierbei wird Sauerstoff von einem
Sauerstoffzylinder 51 an eine Ozonerzeugungseinheit
(bzw. einen Ozonisierer) 52 geleitet. Die Ozonerzeu
gungseinheit 52, bei der es sich um ein beispielsweise
durch eine Siemens-Ozonröhre gebildetes Bauteil han
delt, ist bereits hinreichend bekannt und wird daher
nicht näher beschrieben. Die Ozonerzeugungseinheit 52
erzeugt Ozon aus dem ihr zugeführten Sauerstoff und
liefert ein Gemisch aus Sauerstoff und Ozon, wobei die
ses Gemisch aktivierten Sauerstoff (Sauerstoffradikale)
enthält. Die Konzentration des Ozons im Gemisch liegt
üblicherweise bei etwa 10%.
Das Ozongemisch wird an einen Massenflußsensor MFS ge
leitet und in eine Vakuumkammer in der Säule 10 der
Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung eingeführt. In
der Vakuumkammer sind eine Elektronenstrahl-Optik zur
Erzeugung, Formung und Ablenkung des Elektronenstrahls
sowie ein Bewegungsmechanismus zum Haltern und Bewegen
der Probe angeordnet. Im Inneren der Vakuumkammer wird
ein niedriger Druck (Vakuum) von etwa 1 × 10-4 Pascal
(Pa) (1 × 10-6 Torr) aufrechterhalten. Somit bildet das
Sauerstoff-Ozon-Gemisch den Großteil der in der Vakuum
kammer vorhandenen Gase. Wenn die Gase in der Vakuum
kammer durch die Vakuumpumpe P abgezogen werden, so
führt der Massenflußsensor MFS neues Gemisch zu, so daß
im Innern der Vakuumkammer der genannte niedrige Druck
aufrechterhalten wird. Während der Belichtung beschießt
der Elektronenstrahl das Ozongas, wobei die zur Entfer
nung der Verunreinigungen dienenden Sauerstoffradikale
entstehen.
Das von der Ozonerzeugungseinheit 52 dem Massenflußsen
sor MFS zugeführte Gemisch wird nur zum Teil durch den
Massenflußsensor MFS in die Vakuumkammer eingeführt,
während der größte Teil an eine Ozonverarbeitungsein
heit 53 gelangt, wo er wieder zu Sauerstoff zurückver
wandelt wird, der daraufhin in die Atmosphäre abgegeben
wird. In dem der Ozonerzeugungseinheit 52 zugeführten
Sauerstoff-Ozon-Gemisch beschießen sich die Partikel
gegenseitig, wobei sie sich wieder miteinander vereini
gen, so daß aus dem Ozon erneut Sauerstoffmoleküle ent
stehen. Dabei sinkt die Ozonkonzentration mit der Zeit,
weshalb es nötig ist, das Gemisch sofort nach seiner
Erzeugung in der Ozonerzeugungseinheit dem Massenfluß
sensor MFS zuzuführen.
In der Elektronenstrahl-Belichtungsvorrichtung wird der
Elektronenstrahl erzeugt und eine Probe mit Hilfe des
Elektronenstrahles entsprechend einem gewünschten Mu
ster belichtet. Im Innern der Vakuumkammer wird ein
möglichst hohes Vakuum aufrechterhalten. Dabei wird in
der in JP 09 25 98 11 A beschriebenen Vorrichtung auch
während der Belichtung Ozon zur Erzeugung der Sauer
stoffradikale in die Vakuumkammer eingeführt.
Zur Beibehaltung des hohen Vakuums in der Vakuumkammer
wird dabei allerdings vorzugsweise eine möglichst ge
ringe Menge an Ozon zugeführt. Bei Zuführung einer äu
ßerst geringen Ozonmenge in die Vakuumkammer entstehen
jedoch insofern Probleme, als sich dann die Verunreini
gungen nicht vollständig entfernen lassen. Der im Ge
misch enthaltene Sauerstoff trägt nicht wesentlich zur
Erzeugung von Sauerstoffradikalen bei, so daß die Er
zeugung der Sauerstoffradikale von der Ozonmenge ab
hängt. Indem man die Ozonkonzentration im Gemisch er
höht, läßt sich somit auch die Menge der erzeugten Sau
erstoffradikale erhöhen, während im Inneren der Vakuum
kammer ein hohes Vakuum erhalten bleibt. In dem von der
beschriebenen herkömmlichen Ozonerzeugungseinheit ge
lieferten Sauerstoff-Ozon-Gemisch liegt die Ozonkonzen
tration allerdings bei nur etwa 10%, wobei dieser Ge
halt weiter sinkt, während das Gemisch von der Ozoner
zeugungseinheit zur Vakuumkammer geführt wird.
Wie sich Fig. 1 entnehmen läßt, wird das in der Ozoner
zeugungseinheit 52 erzeugte, Ozon enthaltende Gemisch
gleichzeitig zur Ozonverarbeitungseinheit 53 und zum
Massenflußsensor MFS geleitet. Zu diesem Zweck muß der
Druck im Gemisch erhöht werden. Da hochkonzentriertes
Ozon gefährlich ist, wird das von der Ozonerzeugungs
einheit 52 kommende, Ozon enthaltende Gemisch zuerst in
der Ozonverarbeitungseinheit 53 in Sauerstoff zurück
verwandelt und dann in die Atmosphäre abgelassen. Dabei
kann es allerdings vorkommen, daß das in der Ozonerzeu
gungseinheit 52 erzeugte, Ozon enthaltende Gemisch in
die Atmosphäre entweicht, während es unter erhöhtem
Druck an den Massenflußsensor MFS und die Ozonverarbei
tungseinheit 53 geleitet wird.
Nur ein kleiner Teil des dem Massenflußsensor MFS von
der Ozonerzeugungseinheit 52 zugeführten Gemisches wird
durch den Massenflußsensor MFS der Vakuumkammer zuge
führt, während der größte Teil des Gemisches zur Ozon
verarbeitungseinheit 53 geleitet wird, wo er wieder in
Sauerstoff zurückverwandelt und dann in die Atmosphäre
abgegeben wird. Auf diese Weise wird nur ein geringer
Teil des in der Ozonerzeugungseinheit 52 erzeugten Ge
misches tatsächlich verwendet, während der größte Teil
des Gemisches ungenutzt bleibt.
Insbesondere ist dabei der Anteil des Sauerstoffes im
Vergleich zum Anteil des in die Vakuumkammer eingeführ
ten und dort verbrauchten Ozones so hoch, daß der als
Ausgangsmaterial eingesetzte Sauerstoff verhältnismäßig
hohe Kosten verursacht.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine
Korpuskularstrahl-Belichtungsvorrichtung der eingangs
genannten Art zu schaffen, bei der mit einer geringen
Menge von Sauerstoff eine während der Belichtung wirk
same, hohe Konzentration von Ozon erreicht und gleich
zeitig die Gefahr eines Ausströmens von Ozon in die At
mosphäre minimiert wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß bei einer Korpusku
larstrahl-Belichtungsvorrichtung der eingangs genannten
Art durch folgende Bestandteile der Einrichtung zur Er
zeugung und Zuführung des Ozons gelöst:
- - eine zweite Vakuumkammer,
- - eine weitere Vakuumpumpe zur Erzeugung eines Innen druckes in der zweiten Vakuumkammer, der geringer als der Atmosphärendruck, aber höher als der Druck in der genannten Teilkammer der ersten Vakuumkammer ist,
- - sowie ein zwischen der zweiten Vakuumkammer und der genannten Teilkammer der ersten Vakuumkammer ange ordnetes Ventil zur Regelung der Fließgeschwindig keit des der ersten Vakuumkammer aus der zweiten Va kuumkammer zugeführten Ozons.
Erfindungsgemäß wird Ozon bei einem Druck erzeugt, der
unter dem Atmosphärendruck liegt. Hierbei ist die mitt
lere freie Weglänge der Partikel lang, so daß nur eine
geringe Gefahr besteht, daß sich Partikel gegenseitig
beschießen. Das erzeugte Ozon wird also weniger leicht
verbraucht als bei Normaldruck. Entsprechendes gilt für
die Sauerstoffradikale. Auf diese Weise läßt sich die
Ozonkonzentration in der ersten Vakuumkammer erhöhen,
ohne daß sich das Vakuum in dieser ersten Vakuumkammer
verringert (d. h. der Druck vergrößert). Da die Menge
der in der ersten Vakuumkammer erzeugten Sauer
stoffradikale von der Ozonmenge abhängt, läßt sich au
ßerdem durch Erzeugung einer größeren Menge von Sauer
stoffradikalen auch eine verbesserte Reinigungswirkung
erzielen, ohne daß sich das Vakuum in der ersten Vaku
umkammer verringert. Wenn man andererseits unter Beibe
haltung der Reinigungswirkung die Menge der erzeugten
Sauerstoffradikale nicht verändert, läßt sich stattdes
sen ein höheres Vakuum erzeugen.
Durch den verringerten Druck des erzeugten Ozons läßt
sich die Ozonkonzentration lange Zeit aufrechterhalten.
Bei einem verringerten Druck steigt außerdem die Fließ
geschwindigkeit umgekehrt proportional zum Druck an.
Hierdurch verkürzt sich die Zeit für die Überführung
des Ozons aus der zweiten Vakuumkammer in die erste Va
kuumkammer. Auch dies verkleinert das Problem einer
Verringerung der Ozonkonzentration. Schließlich wird
hierdurch auch die Gefahr kleiner, daß das unter einem
niedrigeren Druck stehende Ozon entweicht.
Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der folgen
den Beschreibung eines Ausführungsbeispieles. In der
Zeichnung zeigen:
Fig. 1 eine Schemadarstellung einer bekannten
Korpuskularstrahl-Belichtungsvorrich
tung,
Fig. 2 eine Schemadarstellung eines Ausfüh
rungsbeispieles der erfindungsgemäßen
Korpuskularstrahl-Belichtungsvorrich
tung,
Fig. 3 eine Schemadarstellung der zum Ausfüh
rungsbeispiel der Fig. 2 gehörenden
Einrichtung zur Ozonerzeugung,
Fig. 4A und 4B Diagramme, die den Unterschied in der
Ozonzuführung zwischen dem Stand der
Technik und der erfindungsgemäßen Lö
sung zeigen.
Das in Fig. 2 dargestellte Ausführungsbeispiel der er
findungsgemäßen Korpuskularstrahl-Belichtungsvorrich
tung enthält im Vergleich zu der bekannten Vorrichtung
gemäß Fig. 1 eine verbesserte Einrichtung zur Erzeugung
und Zuführung des Ozons.
Die Säule 10 der Korpuskularstrahl-Belichtungsvorrichtung
enthält eine erste Vakuumkammer 91, die aus vier Teil
kammern 1, 2, 3 und 4 besteht. Die Teilkammer 3 setzt
sich aus Unterkammern 3a, 3b und 3c zusammen (vgl. die
in einer Legende neben Fig. 2 dargestellte Aufeinander
folge der genannten Kammern).
In der Teilkammer 1 ist ein Elektronenstrahler 14 ange
ordnet. In der Teilkammer 2 befinden sich eine zur
Strahlausrichtung dienende Linse 36 sowie ein erster
Spalt 15. In der Unterkammer 3a der Teilkammer 3 befin
det sich ein Ablenkelement 5. Ein zweiter Spalt bzw.
eine Maske 20 ist zwischen den Unterkammern 3a und 3b
vorgesehen. In der Unterkammer 3b befindet sich ein Ab
lenkelement 6. Eine als Blende dienende runde Apertur
27 ist zwischen den Unterkammern 3b und 3c vorgesehen.
In der Unterkammer 3c befindet sich ein Ablenkelement
7. In der Teilkammer 4 ist eine als Scheibe ausgebil
dete Probe W vorgesehen. Zur Halterung dieser Probe W
dienen Tische 35a, 35b, die sich in X- bzw. Y-Richtung
bewegen lassen.
Eine Vakuumpumpe (Molekular-Turbopumpe) P2 dient zum
Auspumpen des Säulen-Inneren. Eine weitere Vakuumpumpe
(Molekular-Turbopumpe) P3 pumpt hauptsächlich das In
nere der großvolumigen Teilkammer 4 aus. Eine dritte
Vakuumpumpe (Ionenpumpe) P1 dient zur Aufrechterhaltung
eines Vakuums in der den Elektronenstrahler 14 enthal
tenden Teilkammer 1. Diese Vakuumpumpe P1 ist in der
Lage, in der Teilkammer 1 das durch die Vakuumpumpe P2
in dieser Teilkammer erzeugte Vakuum aufrechtzuerhal
ten.
Während der Belichtung wird Ozon in die erste Vakuum
kammer 91 eingeführt. Der Elektronenstrahl beschießt
dieses Ozon, das dadurch in Sauerstoff und aktiven Sau
erstoff (Sauerstoffradikale) getrennt wird. Die Sauer
stoffradikale reagieren mit den Verschmutzungen, die
gerade dabei sind, an den Oberflächen der Teile anzu
haften bzw. sich dort anzusammeln; diese Verunreinigun
gen verdunsten als Kohlenmonoxid bzw. Kohlendioxid und
werden durch die Vakuumpumpen entfernt, wodurch die
eingangs beschriebene Strahl-Abdrift verhindert wird.
Ein gasförmiges Gemisch, das das in einer Ozonerzeu
gungseinheit 8 erzeugte Ozon enthält, wird über ein
Ventil 9, das sich öffnen und schließen läßt, sowie
über Massenflußsensoren MFS1, MFS2, MFS3 in die erste
Vakuumkammer 91 eingeführt. Das vom Massenflußsensor
MFS2 kommende Gemisch gelangt dabei durch einen Einlaß
28 in die Teilkammer 2, während das vom Massenflußsen
sor MFS3 kommende Gemisch durch einen Einlaß 29 in die
Teilkammer 3 eingeleitet wird. Die Kathode des Elektro
nenstrahlers 14 wird bei der Erzeugung des Elektronen
strahls auf eine hohe Temperatur erwärmt und oxidiert,
wenn ihr Ozon oder Sauerstoff zugeführt wird. Aus diesem
Grunde ist die den Elektronenstrahler 14 enthal
tende Teilkammer 1 vakuummäßig von den Teilkammern 2, 3
und 4 isoliert, wobei in der Apertur AP1 der Zwischen
wand 13 eine Austrittsöffnung OR1 vorgesehen ist. Au
ßerdem ist zwischen der Vakuumpumpe P2 und der Teilkam
mer 1 ein Ventil B1 angeordnet, das bei Erzeugung eines
Vakuums geöffnet wird. Ist ein vorgegebenes, hohes Va
kuum erreicht, so wird das Ventil B1 geschlossen; nun
mehr wird dieses hohe Vakuum in der Teilkammer 1 mit
Hilfe der Vakuumpumpe (Ionenpumpe) P1 aufrechterhalten.
Dadurch wird verhindert, daß Ozon in die Teilkammer 1
gelangt. Im Innern der Teilkammer 1 wird dabei ein hö
heres Vakuum aufrechterhalten als im Innern der weite
ren Teilkammern 2, 3 und 4.
Der Elektronenstrahl EB weist im oberen, dem Elektro
nenstrahler 14 näherliegenden Bereich eine stärkere La
dungsmenge auf, so daß hier die Wahrscheinlichkeit hö
her ist, daß sich Sauerstoffradikale bilden. Das Pro
blem einer Verunreinigung ist dagegen im unteren, der
Probe W näherliegenden Bereich größer. Aus diesem
Grunde wird im unteren Bereich der Säule die Menge an
Ozon durch Verringerung des Vakuums vergrößert. Zu die
sem Zweck wird Ozon in die Teilkammern 2 und 3 über ge
sonderte Massenflußsensoren MFS2 bzw. MFS3 eingebracht,
wobei die Fließgeschwindigkeit im Massenflußsensor MFS2
verringert wird. Weiterhin ist zwischen den Teilkammern
2 und 3 eine Austrittsöffnung OR2 vorgesehen, deren
Apertur AP2 verkleinert ist. Durch Verringerung des
Öffnungsgrades des Ventils B2 wird in der Teilkammer 2
ein Halb-Vakuum aufrechterhalten, während in den Teil
kammern 3 und 4 ein niedriges Vakuum eingestellt wird.
Im einzelnen werden folgende Druckwerte eingestellt:
In der Teilkammer 1 zwischen 1 × 10-4 und 1 × 10-3 Pa, in der Teilkammer 2 zwischen 1 × 10-3 und 5 × 10-3 Pa und in den Teilkammern 3 und 4 zwischen 5 × 10-3 und 1 × 10-2 Pa.
In der Teilkammer 1 zwischen 1 × 10-4 und 1 × 10-3 Pa, in der Teilkammer 2 zwischen 1 × 10-3 und 5 × 10-3 Pa und in den Teilkammern 3 und 4 zwischen 5 × 10-3 und 1 × 10-2 Pa.
In das das Ozon enthaltende und dem Ventil 9 von der
Ozonerzeugungseinheit 8 zugeführte Gemisch wird Helium
gas He eingeführt, um die Verunreinigungen zu entfer
nen, die an versteckten Stellen anhaften.
In Fig. 3 ist ein Ausführungsbeispiel der Ozonerzeu
gungseinheit 8 (gemäß Fig. 2) veranschaulicht. Die
Ozonerzeugungseinheit 8 enthält an der Innenseite des
zylindrischen Gehäuses 62 eine Elektrode 64. Eine stab
förmige Elektrode 63 ist durch Isolierelemente 66, 67
in der Mitte des Gehäuses 62 gehaltert. Im Isolierele
ment 67 ist ein Loch vorgesehen, über das das Innere
des Gehäuses 62 an eine Leitung 71 angeschlossen ist,
die einerseits mit dem Ventil 9 und andererseits mit
einer Vakuumpumpe 68 verbunden ist.
Das Innere des Gehäuses 62 und das Innere der Leitung
71 bilden eine zweite Vakuumkammer 92, die durch die
Vakuumpumpe 68 auf einen Innendruck ausgepumpt wird,
der geringer ist als der Atmosphärendruck, aber höher
als der Druck in der Teilkammer 3 der ersten Vakuumkam
mer 91. Die Vakuumpumpe 68 ist an eine Ozonverarbei
tungseinheit 69 angeschlossen, die das Ozon in dem von
der Vakuumpumpe 68 abgegebenen Gas wieder in Sauerstoff
zurückverwandelt und in die Atmosphäre entläßt. Die
Leitung 71 ist über einen Massenflußsensor MFS5 mit ei
nem Heliumgas-Zylinder 70 verbunden, so daß das das
Ozon enthaltende Gemisch vor der Zuführung zum Ventil
noch mit Helium-Gas He vermischt wird. Die Fließgeschwindigkeit
über das Ventil 9 und den Massenflußsen
sor MFS1 läßt sich variieren. Da in der zweiten Vakuum
kammer 92 - wie bereits erwähnt - ein höherer Druck als
in der Teilkammer 3 der ersten Vakuumkammer 91 auf
rechterhalten wird, fließt das Gasgemisch durch die
Leitung 71 über das Ventil 9 und den Massenflußsensor
MFS1 mit einstellbarer Fließgeschwindigkeit in die
Teilkammer 3 der ersten Vakuumkammer 91.
Eine am vorderen Ende des Gehäuses 62 vorgesehene Düse
ist mit einem Massenflußsensor MFS4 verbunden, über den
Sauerstoff O2 von einem Sauerstoffzylinder 61 zugeführt
wird. Von einem Oszillator 65 gelangt ein Hochfrequenz
signal hoher Spannung an die Elektroden 63, 64. Die da
durch zwischen den Elektroden 63, 64 erzeugte Entladung
wandelt den zwischen den Elektroden hindurchfließenden
Sauerstoff in Ozon um. Da die Vakuumpumpe 68 in der
zweiten Vakuumkammer 92 einen unter dem Atmosphären
druck liegenden Innendruck aufrechterhält, läßt sich
die erzeugte hohe Ozonkonzentration lange Zeit auf
rechterhalten. Das Gemisch enthält zudem die bereits
erwähnten Sauerstoffradikale. Das Gasgemisch, bestehend
aus Helium und einer hohen Konzentration an Ozon, wird
über das Ventil 9 und die Massenflußsensoren MFS1 und
MFS2 bzw. MFS3 in die Teilkammern 2 und 3 der ersten
Vakuumkammer 91 (vgl. Fig. 2) eingeführt.
Mit Hilfe eines Massenspektographen wurde die Ozonkon
zentration in der Teilkammer 3 gemessen. Fig. 4a zeigt
die Verhältnisse beim Stand der Technik (Fig. 1) und
Fig. 4b bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung. Die Dia
gramme zeigen die anfallenden Mengen an Sauerstoff
(Bezugsziffer 32), Ozon (Bezugsziffer 48) und Sauer
stoffradikalen (Bezugsziffer 16).
Man erkennt beim Vergleich von Fig. 4a und Fig. 4b, daß
erfindungsgemäß bei Zuführung von Ozon die Ozonmenge
auf etwa das Fünffache vergrößert ist.
Claims (1)
- Korpuskularstrahl-Belichtungsvorrichtung zur Belichtung einer Probe (W) mit Hilfe eines Korpuskularstrahles un ter Zuführung von Niedrigdruck-Ozon, enthaltend
eine aus mehreren Teilkammern (1, 2, 3, 4) beste hende erste Vakuumkammer (91) sowie wenigstens eine Vakuumpumpe (P1, P2, P3) zum Auspumpen der ersten Vakuumkammer (91),
eine Einrichtung (14, 36, 5, 20, 6, 27, 7) zur Er zeugung eines Korpuskularstrahles in der ersten Va kuumkammer (91) und zur Belichtung der Probe (W) mit diesem Korpuskularstrahl
sowie eine Einrichtung zur Erzeugung von Ozon sowie zur Zuführung dieses Ozons in wenigstens eine Teil kammer (3) der ersten Vakuumkammer (91) während der Belichtung der Probe (W),
gekennzeichnet durch folgende Bestandteile der Einrich tung zur Erzeugung und Zuführung des Ozons:
eine zweite Vakuumkammer (92),
eine weitere Vakuumpumpe (68) zur Erzeugung eines Innendruckes in der zweiten Vakuumkammer (92), der geringer als der Atmosphärendruck, aber höher als der Druck in der genannten Teilkammer (3) der ersten Vakuumkammer (91) ist,
sowie ein zwischen der zweiten Vakuumkammer (92) und der genannten Teilkammer (3) der ersten Vakuumkammer (91) angeordnetes Ventil (9) zur Regelung der Fließ geschwindigkeit des der ersten Vakuumkammer (91) aus der zweiten Vakuumkammer (92) zugeführten Ozons.
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE602004032100D1 (de) * | 2003-11-05 | 2011-05-19 | Asml Netherlands Bv | Lithographischer Apparat und Vorrichtungs-Halteverfahren |
US8013300B2 (en) | 2008-06-20 | 2011-09-06 | Carl Zeiss Nts, Llc | Sample decontamination |
DE102008049655A1 (de) | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Partikelstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben desselben |
WO2013139878A2 (en) * | 2012-03-20 | 2013-09-26 | Mapper Lithography Ip B.V. | Arrangement and method for transporting radicals |
US9327324B2 (en) * | 2013-02-26 | 2016-05-03 | Applied Materials Israel Ltd. | Method and system for cleaning a vacuum chamber |
TWI598924B (zh) * | 2014-09-19 | 2017-09-11 | Nuflare Technology Inc | Ozone supply device, ozone supply method, and charged particle beam drawing device |
JP2016201316A (ja) * | 2015-04-13 | 2016-12-01 | 株式会社Param | 真空システム |
DE102015211090A1 (de) | 2015-06-17 | 2016-12-22 | Vistec Electron Beam Gmbh | Korpuskularstrahlgerät und Verfahren zum Betreiben eines Korpuskularstrahlgeräts |
US9981293B2 (en) | 2016-04-21 | 2018-05-29 | Mapper Lithography Ip B.V. | Method and system for the removal and/or avoidance of contamination in charged particle beam systems |
DE102020111151B4 (de) * | 2020-04-23 | 2023-10-05 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Verfahren zum Belüften und Abpumpen einer Vakuumkammer eines Teilchenstrahlgeräts, Computerprogrammprodukt und Teilchenstrahlgerät zur Durchführung des Verfahrens |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2405553A (en) * | 1941-06-07 | 1946-08-13 | Donald K Allison | Means and method of ozonizing liquids |
JPH05109610A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電子ビーム露光装置及びその装置による微細パターン形成法 |
JPH06120321A (ja) * | 1992-10-06 | 1994-04-28 | Tokyo Electron Tohoku Ltd | 基板ハンドリング装置 |
JPH06325709A (ja) * | 1993-03-18 | 1994-11-25 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置及びそのクリーニング方法 |
US5466942A (en) * | 1991-07-04 | 1995-11-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged beam irradiating apparatus having a cleaning means and a method of cleaning a charged beam irradiating apparatus |
US5539211A (en) * | 1993-12-29 | 1996-07-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged beam apparatus having cleaning function and method of cleaning charged beam apparatus |
JPH09259811A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光方法及びその装置 |
US5681789A (en) * | 1996-02-12 | 1997-10-28 | Arco Chemical Technology, L.P. | Activation of as-synthesized titanium-containing zeolites |
US6207117B1 (en) * | 1997-09-18 | 2001-03-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged particle beam apparatus and gas supply and exhaustion method employed in the apparatus |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3253675B2 (ja) * | 1991-07-04 | 2002-02-04 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム照射装置及び方法 |
US5401974A (en) * | 1993-03-18 | 1995-03-28 | Fujitsu Limited | Charged particle beam exposure apparatus and method of cleaning the same |
JP4181647B2 (ja) * | 1997-04-15 | 2008-11-19 | キヤノン株式会社 | 露光方法 |
JPH1140478A (ja) * | 1997-07-18 | 1999-02-12 | Nikon Corp | 電子線投影露光装置 |
-
1999
- 1999-11-19 JP JP33021199A patent/JP2001148340A/ja not_active Withdrawn
-
2000
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2405553A (en) * | 1941-06-07 | 1946-08-13 | Donald K Allison | Means and method of ozonizing liquids |
US5466942A (en) * | 1991-07-04 | 1995-11-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged beam irradiating apparatus having a cleaning means and a method of cleaning a charged beam irradiating apparatus |
JPH05109610A (ja) * | 1991-10-14 | 1993-04-30 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 電子ビーム露光装置及びその装置による微細パターン形成法 |
JPH06120321A (ja) * | 1992-10-06 | 1994-04-28 | Tokyo Electron Tohoku Ltd | 基板ハンドリング装置 |
JPH06325709A (ja) * | 1993-03-18 | 1994-11-25 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光装置及びそのクリーニング方法 |
US5539211A (en) * | 1993-12-29 | 1996-07-23 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged beam apparatus having cleaning function and method of cleaning charged beam apparatus |
US5681789A (en) * | 1996-02-12 | 1997-10-28 | Arco Chemical Technology, L.P. | Activation of as-synthesized titanium-containing zeolites |
JPH09259811A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Fujitsu Ltd | 荷電粒子ビーム露光方法及びその装置 |
US6207117B1 (en) * | 1997-09-18 | 2001-03-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged particle beam apparatus and gas supply and exhaustion method employed in the apparatus |
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