DE10051724A1 - Thermisch vorgespanntes Glas mit einer abriebfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflexschicht - Google Patents

Thermisch vorgespanntes Glas mit einer abriebfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflexschicht

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Abstract

Thermisch gehärtetes, mit einer abriebfesten, porösen und sinterstabilen SiO¶2¶-Schicht versehenes Sicherheitsglas, wobei die SiO¶2¶-Schicht eine Brechzahl im Bereich von 1,25 bis 1,40 besitzt, erhältlich durch Beschichten eines üblichen Kalk-Natron-Glases mit einer wäßrigen Beschichtungslösung mit einem pH-Wert von 3 bis 8, enthaltend 0,5-5,0 Gew.-% [SiO¶x¶(OH)¶y¶]¶n¶-Partikel, wobei 0 < y < 4 und = < x < 2 ist, mit einer Partikelgröße von 10 bis 60 nm und ein Tensidgemisch, Trocknen des beschichteten Glases und thermisches Härten durch Erwärmen auf Temperaturen von mindestens 600 DEG C für einige Minuten und anschließendes thermisches Abschrecken des beschichteten Glases durch Abblasen mit Luft.

Description

Die Erfindung betrifft ein thermisch vorgespanntes, mit einer abriebfesten, porö­ sen SiO2-Antireflexschicht versehenes Sicherheitsglas sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung. Die poröse SiO2-Antireflexionsbeschichtung führt zu einer Transmissionserhöhung über den gesamten Bereich des Sonnenspektrums und verringert somit auch unerwünschte Reflexionen. Das erfindungsgemäße Sicher­ heitsglas eignet sich besonders für solare Anwendungen, z. B. für Abdeckungen von Sonnenkollektoren und von photovoltaischen Zellen. Es kann aber auch in anderen Bereichen wie z. B. Kfz-Windschutzscheiben oder Fenster- und Bauver­ glasungen eingesetzt werden.
Beim Durchgang von Licht durch die Grenzfläche zweier Medien mit unterschied­ lichen Brechungsindices wird ein Teil der Strahlung reflektiert. Beim senkrechten Einfall von Licht auf eine Glasscheibe mit einem Brechungsindex n = 1.5 beträgt der reflektierte Anteil beim Eintritt ins Glas ca. 4%. Der gleiche Anteil wird auch beim Austritt des Lichts aus dem Glas reflektiert. Fällt das Licht schräg auf die Grenzfläche, wird in der Regel ein weitaus größerer Anteil reflektiert. Diese Ver­ luste führen zu einer Verringerung des Wirkungsgrades von solaren Systemen, wie etwa photovoltaische Zellen oder Sonnenkollektoren, die standardmäßig mit Glas-Abdeckungen versehen sind.
Gängige industrielle Verfahren zur Entspiegelung von Glas nutzen das Prinzip der Interferenz. Dabei werden abwechselnd zwei oder mehr Schichten hoch- und niedrig-brechender Materialien übereinander aufgebracht. In einem bestimmten Wellenlängenbereich löschen sich dann die an den einzelnen Grenzflächen re­ flektierten Wellen aus. Dieser Effekt kehrt sich bei Wellenlängen, die doppelt so groß sind wie die Design-Wellenlängen, in eine erhöhte Reflexion um. Die Band­ breite der Entspiegelung ist physikalisch auf maximal eine Oktave begrenzt und somit sind derartige Systeme für Anwendungen im solaren Bereich aufgrund des breitbandigen Sonnenspektrums nicht geeignet.
Die technische Lösung hierfür bietet ein bereits seit langem bekanntes physikali­ sches Prinzip, das ebenfalls auf Interferenzeffekten beruht, jedoch die erforderli­ chen, niedrigen Brechzahlen der Beschichtung durch Verdünnung eines Be­ schichtungsmaterials mit Luft realisiert. Diese Einfachschichten führen zu einer sehr guten Antireflex-Wirkung, wenn deren Brechzahl der Wurzel des Wertes für das Glassubstrat entspricht.
Wird z. B. auf Glas mit n = 1.5 eine Schicht der Dicke λ/4 aufgebracht, so kommt es zu einer destruktiven Interferenz, d. h. zu einer Auslöschung der reflektierten Anteile des Phasenübergangs Luft/Schicht und des Phasenübergangs Schicht/Glas. Für die optimale Entspiegelung von Glas muss der Brechungsindex den Wert 1.22 betragen, um bei der Wellenlänge λ eine Reflexion von nahezu Null zu erreichen. Dieser niedrige Brechungsindex ist mit dichten Schichten nicht erzielbar.
Mit der Entwicklung von porösen Einfachschichten auf Glas, die eine so niedrige Brechzahl aufweisen, beschäftigte man sich bereits in den 50iger Jahren. Die seither beschriebenen Methoden umfassen das direkte Ätzen von Glas, das Auf­ bringen poröser Schichten, sowie eine Kombination beider, d. h. nachträgliches Ätzen von Schichten geringer Porosität.
Poröse Schichten, die durch Ätzen von Glas hergestellt werden, zeichnen sich im Prinzip durch sehr gute optische Resultate aus. Hierfür eignen sich insbesondere Gläser, die eine Phasenseparation eingehen, wie z. B. Borosilicat-Glas (US 4019884). Nachteilig ist bei dieser Technik die Verwendung umweltschädli­ cher Säuren, wie z. B. Flußsäure, sowie die mangelnde Homogenität der Schich­ ten.
Aus US 4 535 026 ist außerdem das nachträgliche Ätzen von Gläsern, die zuvor mit einer porösen SiO2-Schicht versehen wurden, bekannt. Die hierfür verwendete Beschichtungslösung wird durch Umsetzung von Siliziumalkoxid mit Wasser und einem Katalysator in Alkohol erhalten. Die getrocknete Gelschicht wird erhitzt, um organische Bestandteile zu entfernen und eine hinreichende Abriebstabilität der Schicht zu generieren. Erhalten wird eine poröse SiO2-Schicht, wobei jedoch ein nachträglicher Ätzvorgang notwendig ist, um die Poren zu vergrößern. Schließlich kann mit diesem Verfahren eine Antireflexschicht mit 0.1% Restreflexion erhalten werden.
Die Herstellung einer Beschichtungslösung, mit der die Herstellung einer abrieb­ stabilen, porösen SiO2-Antireflexschicht gelingt, die nicht nachträglich geätzt wer­ den muß, ist bislang nicht beschrieben worden. Es ist im Gegenteil ein allgemein akzeptiertes Vorgehen bei der Herstellung poröser Antireflexschichten, die SiO2- Gelschichten lediglich Temperaturen bis zu 500°C auszusetzen, um die Porosität der Schicht zu erhalten und ein Zusammensintern der Schicht, verbunden mit dem Verkleinern des Porenvolumens, zu vermeiden. Damit würde die Brechzahl der Schicht ansteigen und sich die Wirkung der Antireflexschicht verschlechtern (Sol Gel Science, C. J. Brinker, G. W. Scherer, Academic Press 1990, S. 583, 631). Die Temperaturbeaufschlagung der Gelschicht mit möglichst hohen Temperatu­ ren ist jedoch notwendig, um über eine Vernetzung des Orthokieselsäure- Netzwerkes in der Schicht eine gute Abriebfestigkeit der Schicht zu erzielen. Cathro et al. beschreiben in Solar Energy 32, 1984, S. 573, daß ausreichend ab­ riebfeste SiO2-Antireflexschichten auf Glas nur durch Temperaturbeaufschlagung von mindestens 500°C zu erhalten wären. Moulton et al weisen in US 2 601 123 sogar darauf hin, daß die Temperatur bei dem Tempern der Gelschicht im Erwei­ chungsbereich des Glases liegen sollte.
Für das thermische Härten oder für Formgebungsprozesse von Glas sind Tempe­ raturen von über 600°C erforderlich. Dabei wird das Glas in seinen Erweichungs­ zustand überführt und anschließend durch rasches Abblasen mit Luft abge­ schreckt. Es werden bei diesem Vorgang Spannungszustände eingefroren, die zu einer Erhöhung der Bruchfestigkeit und zu einem Bruchverhalten mit sehr kleinen und daher ungefährlichen Bruchstücken führen.
Wie bereits oben ausgeführt, ist aus dem Stand der Technik aber zu entnehmen, daß bei den Temperaturen, die für das thermische Vorspannen erforderlich sind, das SiO2-Gerüst im allgemeinen sintert, der Brechungsindex steigt und die SO2- Schicht ihre antireflektiven Eigenschaften verliert. Auch thermisch bereits vorge­ spanntes Sicherheitsglas läßt sich nicht mit einer abriebfesten Antireflex-Schicht ausrüsten, weil es nach der Beschichtung nicht auf Temperaturen von 500°C er­ hitzt werden kann, ohne daß sich das Glas wieder entspannt und seine Eigen­ schaft als Sicherheitsglas verliert.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein thermisch vorgespanntes Sicher­ heitsglas herzustellen, das mit einer abriebfesten Antireflex-Schicht versehen ist, deren Brechungsindex im Bereich von 1,25-1,40 liegt. Ferner ist es Aufgabe dieser Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Sicherheitsglases bereitzustellen.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein thermisch gehärtetes, mit einer abriebfesten, porösen und sinterstabilen SiO2-Schicht versehenes Sicherheitsglas, wobei die SiO2-Schicht eine Brechzahl im Bereich von 1,25 bis 1,40 besitzt, erhältlich durch Beschichten eines üblichen Kalk-Natron-Glases mit einer wäßrigen Beschich­ tungslösung, Trocknen des beschichteten Glases und thermisches Härten durch Tempern bei Temperaturen von mindestens 600°C für einige Minuten und an­ schließendes thermisches Abschrecken des beschichteten Glases durch Abbla­ sen mit Luft.
Weiterhin wird diese Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen Sicherheitsglases, durch
  • - Beschichten eines üblichen Kalk-Natron-Glases mit einer wäßrigen Beschich­ tungslösung mit einem pH-Wert von 3 bis 8, enthaltend 0,5-5,0 Gew.-% [SiOx(OH)y]n-Partikel, wobei 0 < y < 4 und 0 < x < 2 ist, mit einer Partikelgröße von 10 bis 60 nm und ein Tensidgemisch,
  • - Trocknen des beschichteten Glases durch Stehenlassen bei Raumtemperatur oder durch beschleunigtes Abtrocknen in einem Luftstrom in einem Tempera­ turbereich von 20°C-70°C oder durch thermische Erwärmung mittels Wär­ mestrahlung,
  • - Tempern des getrockneten Glases bei Temperaturen von mindestens 600°C für einen Zeitraum von 2 bis 10 Minuten und
  • - Flächig gleichmäßiges, beidseitiges Abschrecken des erhitzten Glases im Luftstrom zur Erzielung des Vorspanneffektes.
Gegenstand der Erfindung ist weiterhin die Verwendung des erfindungsgemäßen Sicherheitsglases für die Abdeckung von solaren Energiesystemen, für Kraftfahr­ zeugscheiben sowie Fenster- und Bauverglasungen.
Es können alle Glassorten verwendet werden, die üblicherweise zur Herstellung von thermisch vorgespanntem Sicherheitsglas eingesetzt werden. Dabei finden überwiegend Kalk-Natron-Gläser Anwendung.
Die wäßrige Beschichtungslösung hat einen pH-Wert von 3 bis 8 und enthält 0,5- 5,0 Gew.-% [SiOx(OH)y]n-Partikel, wobei 0 < y < 4 und 0 < x < 2 ist, mit einer Partikel­ größe von 10 bis 60 nm mit einer Toleranz von ±10% und 0,005 bis 0,5 Gew.-% eines Tensidgemisches. Das Tensidgemisch besteht aus 15-30 Gew.-% anioni­ schen Tensiden, 5-15 Gew.-% nichtionischen Tensiden und weniger als 5 Gew.-% amphoteren Tensiden.
Die Beschichtungslösung wird hergestellt durch:
  • - Zugabe eines Tetraalkosxysilans in ein wäßrig-alkoholisch-ammoniakalisches Hydrolysegemisch bei Temperaturen zwischen 35 und 80°C,
  • - Abtrennung von Ammoniak und Alkohol aus der erhaltenen Dispersion durch Wasserdampfdestillation und Einstellung des pH-Wertes auf 3-8 und
  • - Zugabe von 0,005 bis 0,5 Gew.-%, bezogen auf die Beschichtungslösung, eines Tensidgemisches aus 15-30 Gew.-% anionischen Tensiden, 5-15 Gew.-% nichtionischen Tensiden und weniger als 5 Gew.-% amphoteren Ten­ siden.
Die wäßrige Beschichtungslösung ist gegenüber Gelierung innerhalb des bisheri­ gen Beobachtungszeitraumes von etwa 2 Jahren stabil. Die Partikel in der Be­ schichtungslösung besitzen Kugelform mit mittleren Teilchendurchmessern von 10 bis 60 nm, bevorzugt 30-40 nm und besonders bevorzugt 35 nm bei einer Toleranz von ±10%. Gegenüber dem aus DE 198 28 231 bekannten wäßrigen Sol zeigt die erfindungsgemäße Beschichtungslösung einen deutlich geringeren Tyndall-Effekt, der ein Nachweis für eine geringe Agglomeration der Partikel in der Lösung ist. Die mit der Beschichtungslösung erhaltene poröse Schicht kann mit einer Brechzahl von 1,25 bis 1,40 eingestellt werden, so daß beispielsweise die Restreflexion einer beschichteten, eisenarmen Glasscheibe zwischen 0,02- 1,6% liegt. Das Reflexionsminimum kann durch die Schichtdicke im Bereich von 500-800 nm leicht eingestellt werden.
Die Beschichtungslösung wird auf einen Feststoffgehalt von 0,5-5 Gew.-% ein­ gestellt. Der Feststoffgehalt ist abhängig von der Art des Beschichtungsverfah­ rens.
In einer besonderen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Beschichtungslö­ sung werden 0,001-0,1 Gew.-%, bezogen auf die Beschichtungslösung, eines geeigneten Konservierungsmittels zugesetzt.
In einer weiteren Ausführungsform werden der Beschichtungslösung Lösungs­ mittel, beispielsweise niedere Alkohole mit einer Kettenlänge von C1-C4, Dio­ xan, Tetrahydrofuran, Aceton in einer Konzentration von 0,5-50 Gew.-% bezo­ gen auf die Beschichtungslösung, beziehungsweise 2-Methoxy-1-propanol, 2- Butanon in einer Konzentration von 0,5-20 Gew.-%, bezogen auf die Beschich­ tungslösung, zugesetzt. Vorzugsweise wird Ethanol in einer Konzentration von 15-25 Gew.-% eingesetzt.
Die Beschichtungslösung wird in der nicht vorveröffentlichten Deutschen Patent­ anmeldung Nr. . . . beschrieben. Die Beschichtungslösung wird nach üb­ lichen Verfahren auf das Glas aufgetragen. Geeignete Verfahren sind Tauchbe­ schichtung, Sprühverfahren oder Rotationsbeschichtungsverfahren (spincoating), bevorzugt wird das Auftragen mittels Tauchbeschichtung (dipcoating). Die Zieh­ geschwindigkeiten bei Tauchverfahren liegen im Bereich von 0,5-50 cm/min.
In Abhängigkeit von der erforderlichen Schichtdicke müssen die Parameter des Beschichtungsvorganges sowie die äußeren Bedingungen wie Temperatur und Luftfeuchte genau aufeinander abgestimmt sein. Das gehört aber zum Fachwis­ sen eines Beschichtungsfachmanns.
Anschließend wird das beschichtete Glas durch einfaches Ablüften oder durch Abblasen mit Luft oder durch thermische Erwärmung vorgetrocknet und dann auf Temperaturen von mindestens 600°C erhitzt. Dadurch werden die organischen Bestandteile der Beschichtung entfernt, das Orthokieselsäure-Netzwerk gehärtet und das resultierende, poröse SiO2-Gerüst erhält eine gute Haftung auf der Glas­ oberfläche. Anschließend wird das Glas durch Abblasen mit Luft thermisch abge­ schreckt, so daß es die entsprechenden Eigenschaften als thermisch vorge­ spanntes Einscheibensicherheitsglas erhält (gemäß DIN 1249-12/prEN 12150).
Der Vorspannprozeß kann mit den herkömmlichen Vorspannverfahren durchge­ führt werden. Dies sind die vertikale Vorspanntechnik, die horizontale Vorspann­ technik im Durchlaufverfahren sowie die horizontale Vorspanntechnik im Oszillati­ onsverfahren.
Die Beheizung des Ofenbereichs kann dabei durch Strahlungsheizung oder Kon­ vektionsheizung oder durch Kombination von Strahlungs- und Konvektionshei­ zung erfolgen. Der Ofenbereich besitzt im allgemeinen Temperaturen von 700°C. In Abhängigkeit von der Glasdicke verbleibt das Glas im Ofenbereich, bis der Er­ weichungspunkt erreicht wird. Bei einer Glasdicke von 4 mm wird das Glas übli­ cherweise für 160 Sekunden auf mindestens 600°C erhitzt.
Anschließend wird das erhitzte Glas in einem angrenzenden Segment der Vor­ spannanlage von beiden Seiten gleichmäßig mit Luft über regelmäßig angeord­ nete Luftdüsen abgeblasen. Dabei wird das Glas auf Temperaturen bis 40°C ab­ gekühlt.
Überraschenderweise wurde festgestellt, daß die nach obigem Verfahren herge­ stellten porösen SiO2-Schichten entgegen dem bisherigen Kenntnisstand nicht sintern, sondern ihre Porosität und damit die Antireflex-Eigenschaften behalten. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es nun möglich, gleichzeitig die Be­ schichtung unter Erhalt der Porosität zu härten und das Glas gleichzeitig ther­ misch vorzuspannen. Damit ist es überraschenderweise möglich, thermisch vor­ gespanntes Sicherheitsglas mit einer abriebfesten und porösen SiO2-Antireflex- Schicht herzustellen.
Die erhaltenen Schichten weisen einen Brechungsindex im Bereich von 1,25- 1,40 auf. Bei Verwendung von eisenarmen Glas ergibt sich eine Restreflexion von 0,02-1,6% im Reflexionsminimum und eine solare Transmission von mindestens 95%.
Darüber hinaus zeichnen sich die nach obigem Verfahren hergestellten porösen SiO2-Schichten durch eine ausgezeichnete mechanische Stabilität aus. Die Schichten werden durch trockenes Reiben mit einem Tuch nicht beschädigt. Ab­ riebtests nach DIN EN 1096-2 zeigen nach 100 Zyklen lediglich eine geringe Farbveränderung, Beschädigungen in Form von Kratzern oder Abrieb treten nicht auf.
Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß wisch- und abriebfeste Antireflex-Schichten bereits nach wenigen Minuten Temperung erhalten werden können.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren kann nun erstmalig ein mit porösen Anti­ reflexschichten versehenes, thermisch vorgespanntes Sicherheitsglas hergestellt werden. Das erfindungsgemäße Sicherheitsglas findet z. B. Anwendung als Ab­ deckung von solaren Energiesystemen wie Sonnenkollektoren und Photovoltaik- Zellen, um durch die erhöhte Transmission den effektiven Wirkungsgrad derarti­ ger Systeme zu erhöhen.
Bei einer besonderen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird das mit einer porösen SiO2-Gelschicht versehene Glas vor dem Härtungsprozeß einer Zwischenbehandlung unterzogen. Dabei erfolgt ein Tauchvorgang in eine wäßrige Lösung aus anorganischen Salzen im Konzentrationsbereich von 0,01- 10 Gew.-% oder in reines Wasser. Mit einer Ziehgeschwindigkeit von 1- 10 cm/min. wird das Glas aus dem Tauchbad herausgezogen, auf übliche Weise getrocknet und bei 50-300°C für 5 bis 30 Minuten getempert.
In einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird das beschichtete und erhitzte Glas vor dem thermischen Abschrecken einem Formge­ bungsprozess unterzogen. So kann das beschichtete und erhitzte Glas vor dem Abschrecken z. B. gebogen werden. Auf diese Wiese sind gebogene Gläser, z. B. für Anwendungen für Kfz-Windschutzscheiben, erhältlich.
Anhand von Ausführungsbeispielen wird das erfindungsgemäße Verfahren näher erläutert.
Beispiel 1
Es wird ein Hydrolysegemisch, bestehend aus 4,9 l Wasser, 9,6 l Ethanol und 250 g 25%-igem Ammoniak, bereitet. Zu diesem auf 70°C temperierten Hydroly­ segemisch gibt man bei intensiver Durchmischung in einer Portion 1250 g von gleichermaßen temperiertem Tetraethoxysilan. Man erhält ein SiO2-Sol mit mittle­ ren Teilchendurchmessern von 25 nm bei einer Toleranz von ± 10%. Anschließend wird das Reaktionsgemisch einer Wasserdampfdestillation unterzo­ gen, um Alkohol und Ammoniak zu entfernen. Das erhaltene wäßrige SiO2-Sol wird auf einen pH-Wert von 8 eingestellt und mit 0,2 Gew.-% eines Tensidgemi­ sches bestehend aus 10,0 Gew.-% Fettalkoholethersulfat (C12/C14-Fettalkohol, 2 Mol EO), 5,6 Gew.-% Alkylbenzolsulfonat, 5,5 Gew.-% Fettalkoholethoxilat und 8,9% Wasser versetzt.
Beispiel 2
In die Beschichtungslösung aus Beispiel 1 wird eine zuvor mit entmineralisiertem Wasser gereinigte und anschließend getrocknete Glasscheibe mit den Abmes­ sungen 1 m × 1 m und einer Dicke von 4 mm eingetaucht und mit einer konstan­ ten Ziehgeschwindigkeit von 10 cm/min. herausgezogen. Anschließend wird die Beschichtung bei Raumtemperatur getrocknet, entweder durch einfaches Ste­ henlassen und Ablüften oder durch Abblasen mit Luft, bevor sie aus der Be­ schichtungsapparatur genommen und anschließend getempert und vorgespannt wird. Dabei wird die beschichtete Glasscheibe auf einer horizontalen Vorspann­ anlage in den auf 700°C temperierten Ofenbereich eingebracht und für 160 Se­ kunden erwärmt. Anschließend erfolgt ein thermisches Abschrecken in einer Luft­ dusche für 120 Sekunden. Man erhält so Sicherheitsglas, das mit einer Antireflex- Schicht ausgerüstet ist. Bei Verwendung von eisenarmen Gläsern wird eine solare Transmission von 95% erreicht im Vergleich zu 90% bei unbeschichtetem Glas.

Claims (6)

1. Thermisch gehärtetes, mit einer abriebfesten, porösen und sinterstabilen SiO2- Schicht versehenes Sicherheitsglas, wobei die SiO2-Schicht eine Brechzahl im Bereich von 1,25 bis 1,40 besitzt, erhältlich durch Beschichten eines üblichen Kalk-Natron-Glases mit einer wäßrigen Beschichtungslösung mit einem pH- Wert von 3 bis 8, enthaltend 0,5-5,0 Gew.-% [SiOx(OH)y]n-Partikel, wobei 0 < y < 4 und 0 < x < 2 ist, mit einer Partikelgröße von 10 bis 60 nm und ein Ten­ sidgemisch, Trocknen des beschichteten Glases und thermisches Härten durch Erwärmen auf Temperaturen von mindestens 600°C für einige Minuten und anschließendes thermisches Abschrecken des beschichteten Glases durch Abblasen mit Luft.
2. Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitsglases, nach Anspruch 1 durch
Beschichten eines üblichen Kalk-Natron-Glases mit einer wäßrigen Beschich­ tungslösung mit einem pH-Wert von 3 bis 8, enthaltend 0,5-5,0 Gew.-% [SiOx(OH)y]n-Partikel, wobei 0 < y < 4 und 0 < x < 2 ist, mit einer Partikelgröße von 10 bis 60 nm und ein Tensidgemisch,
Trocknen des beschichteten Glases durch Stehenlassen bei Raumtemperatur oder durch beschleunigtes Abtrocknen in einem Luftstrom oder durch thermi­ sche Erwärmung,
Tempern des getrockneten Glases bei Temperaturen von mindestens 600°C für einen Zeitraum von 2 bis 10 Minuten und
flächig gleichmäßiges, beidseitiges Abschrecken des erhitzten Glases im Luft­ strom zur Erzielung des Vorspanneffektes.
3. Verfahren nach Anspruch 2, worin das beschichtete Glas vor dem Här­ tungsprozeß einer Zwischenbehandlung unterzogen wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, worin das beschichtete Glas in eine wäßrige Lö­ sung anorganischer Salze oder in reines Wasser getaucht und anschließend bei 50 bis 300°C getempert wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 4, worin das beschichtete und er­ hitzte Glas vor dem thermischen Abschrecken einem Formgebungsprozeß unterzogen wird.
6. Verwendung des mit einer Antireflexionsbeschichtung versehenen Sicher­ heitsglases nach Anspruch 1 für Abdeckungen von Sonnenkollektoren, für photovoltaische Zellen, für Windschutzscheiben für Kraftfahrzeuge und für Bauverglasungen.
DE10051724A 2000-10-18 2000-10-18 Thermisch vorgespanntes Glas mit einer abriebfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflexschicht Withdrawn DE10051724A1 (de)

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