JP6080349B2 - 光学部材および撮像装置 - Google Patents
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Description
本発明の目的は、高強度、低反射、高透過率を有する光学部材を提供するものである。
本発明の光学部材の製造方法の一例として、印刷法、真空蒸着法、スパッタ法、スピンコート法、ディップコート法などガラス層形成が可能な全ての製造方法が挙げられ、本発明の構造を達成可能な製造方法であればいずれの製造方法を使用してもよい。
ガラス粉末のガラス転移点よりも低い温度では、ガラス粉末の融合が進行せず層形成がなされない。
ガラス粉末層を形成する方法の一例として、印刷法、スピンコート法、ディップコート法などが挙げられる。
また、本発明では必要に応じて複数回のエッチング工程を行なうことができる。
ガラス粉末のガラス転移点(Tg)は、差動型示差熱天秤(TG−DTA)により測定されるDTA曲線において測定される。測定装置として、たとえばThermoplusTG8120(リガク社)を使用することができる。
具体的には、白金パンを使用して室温から昇温速度10℃/分で加熱してDTA曲線を測定した。前記曲線において、吸熱ピークにおける吸熱開始温度を接線法により外挿して求め、ガラス転移点(Tg)とした。
本発明におけるガラス粉末の結晶化温度は、下記のようにして算出される。
ガラス粉末を300℃で1時間熱処理を行う。得られたサンプルをX線回折構造解析装置(XRD)にて評価し、結晶によるピークが確認されない場合は、新たなガラス粉末を50℃高い温度(350℃)で1時間熱処理を行いXRDで評価した。
結晶が確認されるまで、さらに50℃高い温度で1時間熱処理を行う動作を繰り返し、結晶によるピークが確認された温度を結晶化温度とした。測定装置として、たとえばXRDとしてRINT2100(リガク社)を使用することができる。
電子顕微鏡写真の画像を骨格部分と孔部分とで2値化する処理を行った。
具体的には走査電子顕微鏡(FE−SEM S−4800、日立製作所製)を用いて加速電圧5.0kVにて骨格の濃淡観察が容易な10万倍(場合によっては5万倍)の倍率で多孔質ガラスの表面観察を行う。
観察された像を画像として保存し、画像解析ソフトを使用して、SEM画象を画像濃度ごとの頻度でグラフ化する。図4は、スピノーダル型多孔質構造の多孔質の画像濃度ごとの頻度を示す図である。図4の画像濃度の▽で示したピーク部分が前面に位置する骨格部分を示している。
ピーク位置に近い変極点を閾値にして明部(骨格部分)と暗部(孔部分)を白黒2値化する。黒色部分の面積の全体部分の面積(白色と黒色部分の面積の和)における割合について全画像の平均値を取り、空孔率とした。
走査電子顕微鏡(FE−SEMS−4800、日立製作所製)を用いて加速電圧5.0kVにて、5万倍、10万倍、15万倍の倍率で像(電子顕微鏡写真)を撮影した。撮影した画像から多孔質体表面の孔を複数の楕円で近似し、それぞれの楕円における短径を30点以上計測し、その平均をして孔径とした。
また、同様にして骨格を複数の楕円で近似し、それぞれの楕円における短を30点以上計測し、その平均をして骨格径とした。
走査電子顕微鏡(FE−SEMS−4800、日立製作所製)を用いて加速電圧5.0kVにて、1万から15万倍の倍率でSEMの像(電子顕微鏡写真)を撮影した。撮影した画像から透明基材上の多孔質ガラス層部分の厚さを30点以上計測し、その平均値をガラス層の厚さとした。
透明基材を構成する主元素及び、多孔質ガラス層を構成する主元素の測定には、例えばX線光電子分光装置(XPS)を用いて構成元素の定量分析を行うことで求めることができる。測定装置としてはESCALAB 220i−XL(Thermo Scientific社製)を用いる。
具体的な測定方法を説明する。はじめに、本発明の光学部材の最表面の元素分析をXPSにて行うことで、多孔質ガラス層を構成する主元素を分析する。
次いで、最表面のガラス層を研磨などの任意の方法により取り除き、ガラス層がなくなっていることをSEMなどにより確認した後に、再度XPS測定することで透明基材の主元素を分析する。もしくは、光学部材の断面の透明基材部分をXPS測定することで、透明基材の主元素を分析することが可能である。
ガラス粉末の平均粒子径の測定には、既存の粒径測定装置を用いて粒径測定を行うことで求めることができる。測定装置としてはZETA SIZER NANO(MALVERN INSTRUMENTS)を用いる。
本発明のガラス粉末をIPA溶媒中に分散し、平均粒子径を測定した。
仕込み組成が、SiO2 64重量%、B2O3 27重量%、Na2O 6重量%、Al2O3 3重量%になるように、石英粉末、酸化ホウ素、酸化ナトリウム、及びアルミナの混合粉末を白金るつぼを用いて、1500℃、24時間溶融した。その後、ガラスを1300℃に下げてから、グラファイトの型に流し込んだ。空気中で、約20分間放冷した後、500℃の徐冷炉に5時間保持した後、24時間かけて冷却させた。得られたホウケイ酸塩ガラスのブロックをジェットミルを使用して、粒子の平均粒子径が4.5μmになるまで粉砕を行い、ガラス粉末1を得た。ガラス粉末1の結晶化温度は800℃であった。
仕込み組成が、SiO2 63.0重量%、B2O3 28.0重量%、Na2O 9.0重量%になるように、石英粉末、酸化ホウ素、および酸化ナトリウムの混合粉末を使用した点、得られたホウケイ酸塩ガラスのブロックを湿式ビーズミルを使用して、粒子の平均粒子径が2.8μmになるまで粉砕を行った点以外は、ガラス粉末1と同様の方法で、ガラス粉末2を得た。ガラス粉末2の結晶化温度は750℃であった。
仕込み組成がガラス粉末1と同じホウケイ酸塩ガラスのブロックを湿式ビーズミルを使用して、粒子の平均粒子径が2.2μmになるまで粉砕した点以外は、ガラス粉末1と同様の方法で、ガラス粉末3を得た。
ガラス粉末3の結晶化温度は800℃であった。
ガラス粉末1 60.0質量部
ターピネオール 44.0質量部
エチルセルロース(登録商標 ETHOCEL Std 200(ダウ・ケミカル社製)) 2.0質量部
上記原材料を撹拌混合し、ガラスペースト1を得た。ガラスペースト1の粘度は31300mPa・sであった。
ガラス粉末1の代わりにガラス粉末2を使用する以外は、ガラスペースト1と同様の方法でガラスペースト2を得た。ガラスペースト2の粘度は38000mPa・sであった。
ガラス粉末1の代わりにガラス粉末3を使用する以外は、ガラスペースト1と同様の方法でガラスペースト3を得た。ガラスペースト3の粘度は24600mPa・sであった。
透明基材として、石英基材(株式会社飯山特殊硝子社製、軟化点1700℃、ヤング率72GPa)を使用した。なお、以下では、基材Aとして説明する。なお、基材Aは、厚さ0.5mmの石英基材を、50mm×50mmの大きさに切断し、鏡面研磨したものであった。基材Aは450nm以上650nm以下の波長領域で透過率の最小値が93%であった。
本例では、基材Aの上に多孔質ガラス層を有する構造体を以下のように作製した。
本例では、熱処理工程1の後、熱処理工程2において575℃まで降温した点以外は、構造体1と同様にして構造体2を作製した。構造体2の製造条件を表1に示す。得られた構造体2の測定結果を表3に示す。
本例では、使用するガラスペーストをガラスペースト1からガラスペースト2に変更した点と、熱処理工程2において600℃まで降温させた後、600℃で25時間熱処理した点以外は、構造体1と同様にして構造体3を作製した。構造体3の製造条件を表1に示す。得られた構造体3の測定結果を表3に示す。
本例では、使用するガラスペーストをガラスペースト1からガラスペースト3に変更した点以外は、構造体1と同様にして構造体4を作製した。構造体4の製造条件を表1に示す。得られた構造体4の測定結果を表3に示す。
本例では、スクリーン印刷の版を#200に変更した点以外は、構造体1と同様にして構造体4を作製した。構造体5の製造条件を表1に示す。得られた構造体5の測定結果を表3に示す。なお、構造体5では膜中の一部で孔の平均孔径よりも十分大きな空隙が確認された。
本例では、熱処理工程1において800℃まで昇温した点以外は、構造体4と同様にして構造体6を作製した。構造体6の製造条件を表1に示す。得られた構造体8の測定結果を表3に示す。
本例では、多孔質ガラスのみからなる構造体を以下のように作製した。
仕込み組成が、SiO2 64.0重量%、B2O3 27.0重量%、Na2O 6.0重量%、Al2O3 3.0重量%になるように、石英粉末、酸化ホウ素、酸化ナトリウム、及びアルミナの混合粉末を白金るつぼを用いて、1500℃、24時間溶融した。その後、ガラスを1300℃に下げてから、グラファイトの型に流し込んだ。空気中で、約20分間放冷した後、500℃の徐冷炉に5時間保持した後、24時間かけて冷却した。
本例では、基材Aの表面に凹凸構造を有する構造体を以下のように作製した。
炭酸水素ナトリウム(NaHCO3、和光純薬製) 5.0g
酸化ホウ素(B2O3、キシダ化学製) 10.0g
純水 500.0g
上記組成の溶液を調整した。
基材Aを濃度が1.0mol/LのHCl水溶液で洗浄した。その後、上記溶液に、基材Aを浸漬した。
本例では、熱処理条件を表1に記載の条件にする以外は、構造体1と同様にして構造体9を作製した。つまり、熱処理工程2を行わず、熱処理工程1にて450℃まで昇温したあと、51時間熱処理した点が構造体1の作製例と異なっていた。構造体9の製造条件を表2に示す。得られた構造体9の測定結果を表4に示す。
基材Aのみからなる構成を構造体とした。構造体10の測定結果を表4に示す。
走査電子顕微鏡(FE−SEMS−4800、日立製作所製)を用いて加速電圧5.0kVにて、1万から15万倍の倍率でSEMの像(電子顕微鏡写真)を撮影した。撮影した画像から、基材上に多孔質ガラス層の有無を判断した。
ランクA:基材上に多孔質ガラス層が確認される。
ランクB:基材上に多孔質ガラス層が確認されない。
走査電子顕微鏡(FE−SEMS−4800、日立製作所製)を用いて加速電圧5.0kVにて、1万から15万倍の倍率でSEMの像(電子顕微鏡写真)を撮影した。撮影した画像から、スピノーダル型相分離による連続した孔を有する多孔質構造の有無を判断した。
ランクA:スピノーダル型相分離による連続した孔を有する多孔質構造が多孔質ガラス層内全体に確認される。
ランクB:スピノーダル型相分離による連続した孔を有する多孔質構造が多孔質ガラス層内に部分的に確認される。
ランクC:スピノーダル型相分離による連続した孔を有する多孔質構造が確認されない。
<構造体の歪み評価>
構造体の歪みの評価を、下記判断基準で行った。平坦な台の上に構造体を乗せ、構造体の反りがあるか否かで歪みの判断を行った。
ランクA:構造体の反りが確認されない。
ランクB:構造体の反りが確認される。
得られた構造体の向かい合う辺のそれぞれ10mm部分を固定し、構造体中央に10mm×10mmの面積の100gの重りを乗せて、構造体が破壊されるか否かで構造体の強度を評価した。
ランクA:構造体が破壊されない。
ランクB:構造体が破壊される。
得られた構造体の多孔質ガラス層部分と透明基材との界面をSEMを用いて観察し、膜密着性を評価した。評価基準は下記のとおりである。
なお、装置は(株)日立ハイテクノロジー社製、電界放出形走査電子顕微鏡S−4800(商品名)を使用し、加速電圧:5.0kV、倍率:150000倍で観察を行った。具体的には、多孔質ガラス層の骨格部分と透明基材との界面が観察されるか否かで膜密着性を判断した。
ランクA:多孔質ガラス部分と透明基材とが分離していない。
ランクB:多孔質ガラス部分と透明基材とが分離している。
得られた構造体の破断面をSEMを用いて観察し、表面方向からのエッチングの進行度を評価した。詳細な評価基準は下記のとおりである。
なお、装置は(株)日立ハイテクノロジー社製、電界放出形走査電子顕微鏡S−4800(商品名)を使用し、加速電圧:5.0kV、倍率:150000倍で観察を行った。
相分離のための熱処理を行った多孔質ガラス層の断面を露出し、構造体の作製と同様の条件でエッチングを行い、SEM観察を行った。断面からエッチングがなされるため、真の骨格構造を確認することが可能である。
層表面からの距離が同じ個所で前記断面からエッチングした孔径と構造体の孔径を比較し、孔径の差が5nm以上である個所はエッチングが進行していないと判断した。また、構造体7に関しては、構造体すべてを一つの層と仮定し、同様の評価を行った。
ランクA:層内部にまでエッチングが進行している。
ランクB:層内部の一部でエッチングが進行していない個所が存在する。
自動光学素子測定装置(V−570、日本分光製)を用いて、波長領域450乃至650nmの範囲で1nmごとに各構造体の透過率を測定した。透過率測定における光の入射角は0°とした。前記範囲内の透過率の最小値を各構造体の透過率として使用した。
レンズ反射率測定機(USPM−RU、オリンパス製)を用いて、波長領域450乃至650nmの範囲で1nmごとに各構造体の表面反射率を測定した。前記範囲内の反射率の最大値を各構造体の反射率として使用した。
構造体の平面に対して垂直方向から、角度をつけて視点を変え、サンプルを観察し、光の散乱度合いを目視確認した。
ランクA:光の散乱による白色化が問題となるレベルではない。
ランクB:光の散乱による白色化がみられる。
ランクC:光の散乱による白色が著しい。
構造体7は、強度が非常に低くかつ、歪みが著しかったため、作製した状態を維持したまま透過率、表面反射率、散乱特性の評価を行うことができなかった。
また、構造体9は、散乱が非常に大きく表面反射率の数値が得られなかった。
102,202 多孔質ガラス層
103,203 透明基材
Claims (11)
- 石英ガラスまたはクォーツからなる透明基材と、前記透明基材の表面に設けられており、ホウ素を含みスピノーダル型相分離に由来する三次元網目状の連続多孔構造を有する多孔質ガラス層と、を有し、波長領域450nm以上650nm以下で50%以上の透過率を有することを特徴とする光学部材。
- 前記多孔質ガラス層に形成された孔の平均孔径が1nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学部材。
- 前記多孔質ガラス層の骨格の平均骨格径が1nm以上50nm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学部材。
- 前記多孔質ガラス層の空孔率が30%以上70%以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記多孔質ガラス層の厚さが0.05μm以上200.00μm以下であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光学部材。
- 前記透明基材のヤング率が40GPa以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかの1項に記載の光学部材。
- 前記透明基材を構成する主元素が、前記多孔質ガラス層を構成する主元素と同じであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかの1項に記載の光学部材。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光学部材と、撮像素子と、を有することを特徴とする撮像装置。
- 石英ガラスまたはクォーツからなる透明基材と、前記透明基材の表面に設けられており、ホウ素を含み三次元網目状の連続多孔構造を有する多孔質ガラス層と、を有する光学部材の製造方法であって、
透明基材の表面にホウケイ酸系ガラスの粉末を含有するペーストからなる層を形成する工程と、
前記ペーストからなる層を熱処理して相対的にホウ素含有率の高い相とホウ素含有率の低い相とを含むスピノーダル型相分離ガラス層を形成する工程と、
前記ホウ素含有率の高い相を酸溶液にて溶出する工程と、
を有し、
相分離ガラス層を形成する工程は、前記ペーストからなる層を前記ホウケイ酸系ガラスのガラス転移点以上前記ホウケイ酸系ガラスの粉末の結晶化温度よりも低い温度の範囲内において、第1の温度で加熱する第1の熱処理工程と、前記第1の温度より低い温度で加熱する第2の熱処理工程とを含んでいることを特徴とする光学部材の製造方法。 - 前記ペーストが、さらに熱可塑性樹脂と溶剤とを含むことを特徴とする請求項9に記載の光学部材の製造方法。
- 前記ホウケイ酸系ガラスの粉末を含有するペーストからなる層を形成する工程が、前記熱可塑性樹脂の分解温度よりも低い温度で加熱して前記ペーストに含まれる溶剤を除去する工程を含んでいることを特徴とする請求項10に記載の光学部材の製造方法。
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WO2024112427A1 (en) * | 2022-11-21 | 2024-05-30 | Corning Incorporated | Glass article and methods of making the same |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4019884A (en) * | 1976-01-22 | 1977-04-26 | Corning Glass Works | Method for providing porous broad-band antireflective surface layers on chemically-durable borosilicate glasses |
US4086074A (en) * | 1976-01-22 | 1978-04-25 | Corning Glass Works | Antireflective layers on phase separated glass |
US4273826A (en) * | 1979-12-03 | 1981-06-16 | Owens-Illinois, Inc. | Process of making glass articles having antireflective coatings and product |
JPS5992923A (ja) | 1982-11-15 | 1984-05-29 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多孔質ガラス膜の製造方法 |
JPH01192775A (ja) * | 1988-01-26 | 1989-08-02 | Matsushita Electric Works Ltd | 多孔質膜の形成方法 |
JPH01317135A (ja) | 1988-03-28 | 1989-12-21 | Hitachi Chem Co Ltd | めつき回路形成用基板の製造法及び該基板を用いた配線板の製造法 |
DE19829172A1 (de) * | 1998-06-30 | 2000-01-05 | Univ Konstanz | Verfahren zur Herstellung von Antireflexschichten |
DE10051724A1 (de) * | 2000-10-18 | 2002-05-02 | Flabeg Gmbh & Co Kg | Thermisch vorgespanntes Glas mit einer abriebfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflexschicht |
DE10124566A1 (de) * | 2001-05-15 | 2002-11-21 | Zeiss Carl | Optisches Abbildungssystem mit Polarisationsmitteln und Quarzkristallplatte hierfür |
US7798058B2 (en) | 2003-01-21 | 2010-09-21 | Frito-Lay North America, Inc. | Fryer atmosphere control for mold form fryer |
TWI238894B (en) * | 2003-02-21 | 2005-09-01 | Asahi Kasei Corp | Laminate containing silica and application composition for forming porous silica layer |
CN1248017C (zh) * | 2003-09-28 | 2006-03-29 | 华中科技大学 | 一种高透过率光学镜片及其制备方法 |
JP4182236B2 (ja) * | 2004-02-23 | 2008-11-19 | キヤノン株式会社 | 光学部材および光学部材の製造方法 |
JP2008288003A (ja) * | 2007-05-17 | 2008-11-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | プラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペースト |
JP2009023898A (ja) * | 2007-06-20 | 2009-02-05 | Asahi Glass Co Ltd | 合成石英ガラス体、その製造方法、光学素子および光学装置 |
US8087778B2 (en) * | 2009-02-13 | 2012-01-03 | Adlens Beacon, Inc. | Variable focus liquid filled lens mechanism |
JP5159695B2 (ja) | 2009-05-11 | 2013-03-06 | 中国電力株式会社 | 配電系統状態推定方法及び配電系統状態推定装置 |
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