JP7422450B2 - 透明部材、撮像装置、透明部材の製造方法および部材 - Google Patents
透明部材、撮像装置、透明部材の製造方法および部材 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7422450B2 JP7422450B2 JP2019026816A JP2019026816A JP7422450B2 JP 7422450 B2 JP7422450 B2 JP 7422450B2 JP 2019026816 A JP2019026816 A JP 2019026816A JP 2019026816 A JP2019026816 A JP 2019026816A JP 7422450 B2 JP7422450 B2 JP 7422450B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- transparent member
- porous layer
- less
- binder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 160
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 claims description 65
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 59
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 45
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 34
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 13
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical group C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical group [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 claims description 4
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 3
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 103
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 45
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 23
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 19
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 12
- -1 Al2O3 Chemical class 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 11
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 11
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 7
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 3
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 2-heptanol Chemical compound CCCCCC(C)O CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pentanol Chemical compound CCCC(C)CO PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOCHHNOQQHDWHG-UHFFFAOYSA-N hexan-3-ol Chemical compound CCCC(O)CC ZOCHHNOQQHDWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N octan-2-ol Chemical compound CCCCCCC(C)O SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 2
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940054273 1-propoxy-2-propanol Drugs 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAYAKMPRFGNNFW-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentan-3-ol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)C BAYAKMPRFGNNFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 2-Hexanol Natural products CCCC[C@H](C)O QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1-butanol Chemical compound CCC(CC)CO TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTBVKIGCDZRPL-LURJTMIESA-N 3-Methylbutanol Natural products CC[C@H](C)CCO IWTBVKIGCDZRPL-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- IWTBVKIGCDZRPL-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentanol Chemical compound CCC(C)CCO IWTBVKIGCDZRPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- BHWRMAMIMNCWIV-UHFFFAOYSA-N [2-(dimethylamino)acetyl] 2-(dimethylamino)acetate Chemical compound CN(C)CC(=O)OC(=O)CN(C)C BHWRMAMIMNCWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTLEXFFFSMRLQ-UHFFFAOYSA-N cyclopentyloxycyclopentane Chemical class C1CCCC1OC1CCCC1 BOTLEXFFFSMRLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N n-butyl methyl ketone Natural products CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002957 persistent organic pollutant Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920005597 polymer membrane Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/50—Constructional details
- H04N23/51—Housings
Description
図1は、本発明にかかる透明部材の一実施形態であって、厚さ方向(基材表面に対する法線方向)の断面を示す模式図である。同図において、本発明の透明部材10は、基材16の上に、多孔質層14と親水性ポリマー層15とをこの順に有している。本発明において、「透明」とは、可視光に対する透過率が50%以上の特性を意味する。
以下、各層について詳細に説明する。
親水性ポリマー層15は、梱包環境下と屋外設置された時点における、透明部材表面の親水性を保証するための膜である。
多孔質層14は、バインダーによってシリカ粒子12が固定され、シリカ粒子12間に空隙を含む構造を有している。多孔質層14の空隙率は、40%以上55%以下であることが好ましい。多孔質層14の空隙率が40%以上であれば、屋外暴露環境時に屋外に漂う疎水性の有機系汚染物を多孔質内部に十分に取り込んで、表面の親水性を維持することができる。また多孔質層14の空隙率が55%以下であれば、親水膜のヘイズが小さく、高い透明性が得られる。さらに、長期にわたって親水性を維持するには、有機系汚染物を取り込む空隙の容量を確保するため、層厚dは200nm以上2000nm以下であることが好ましい。
シリカ粒子12の平均粒子径は、10nm以上60nm以下であることが好ましい。シリカ粒子12の平均粒子径が10nmより小さい場合は、粒子間にできる空隙が小さすぎて所望の空隙率を実現することが難しくなり、屋外に漂う疎水性の有機系汚染物を多孔質内部に十分に取り込むことができなくなる傾向がある。有機系汚染物の大部分が表面に付着すると疎水化してしまい、屋外環境下での親水性を維持することが困難となる。また、シリカ粒子12の平均粒子径が60nmを超えると、粒子間にできる空隙13のサイズが大きくなり、空隙13やシリカ粒子12による散乱が発生する傾向がある。
バインダー13は、膜の耐摩耗性、密着力、環境信頼性によって適宜選択することが可能であるが、シリカ粒子12との親和性が高く多孔質層の耐摩耗性を向上させることができる、シリカ(SiO2)バインダーが好ましい。シリカバインダーの中でも、シリケート加水分解縮合物が特に好ましい。
基材16の材質としては、透明なアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂等の樹脂、ガラス等を用いることができる。基材16の形状は限定されることはなく、板状であってもフィルム状であってもよく、また、平板状であっても、曲面、凹面または凸面を有する形状、例えば半球状のドーム形状等であってもよい。
次に、本発明に係る透明部材の製造方法についてその一例を説明する。
多孔質層14を形成する工程は、乾式法と湿式法のいずれを用いても良いが、簡便に多孔質層14を作成できる湿式法を用いることが好ましい。
多孔質層14の上に親水性ポリマー層15を形成する工程は、親水性ポリマーを含む溶液をスピンコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スリットコート法、印刷法やディップコート法などの方法で塗布し、硬化する工程である。
図2は、本発明の撮像装置の一実施形態を示す模式図であり、図2(a)は定点観察型の監視カメラ、図2(b)はパン・チルト・ズーム駆動が可能な旋回型の監視カメラである。図2に示す撮像装置は、装置本体30に、保護カバーとして機能するは本発明にかかる透明部材10を有し、装置本体30は、映像データを取得する光学系を備える。また、透明部材(保護カバー)10は、少なくとも装置本体30の光学系を覆い、外部からの防塵や衝撃から防御する。図2(a)の保護カバー2は平面形状の箱型、図2(b)の保護カバー2は半球形状のドーム型となっているが、保護カバーの形状はこれらに限定されない。
まず、本発明にかかる透明部材の製造に用いる塗工液について説明する。
鎖状シリカ粒子の2-プロパノール(IPA)分散液(日産化学工業株式会社製 IPA-ST-UP、平均粒子径12nm・固形分濃度15質量%、)50.00gに1-エトキシ-2-プロパノール142.50gを加えた。その後、ロータリーエバポレーターでIPAを濃縮除去し、シリカ粒子分散液A(固形分濃度5.0質量%)を調製した。
ケイ酸エチル12.48gにエタノール13.82gと硝酸水溶液(濃度3%)を加え、室温で10時間攪拌し、シリカバインダー溶液(固形分濃度11.5質量%)を調製した。
(1)で調整したシリカ粒子分散液50.00gを1-エトキシ-2-プロパノール65.67gで希釈した後に(2)で調整したシリカバインダー溶液3.26gを加えて室温で10分間攪拌した。その後、50℃で1時間攪拌してシリカ粒子塗工液Bを調製した。動的光散乱法による粒度分布測定(マルバーン社製 ゼータサイザーナノZS)により、シリカ粒子塗工液B中に、単径が15nm、長径が95nmの鎖状シリカ粒子が分散していることを確認した。調整したシリカ粒子塗工液のバインダーの含有量は13質量%である。
スルホベタイン基を有したアクリルポリマーの水溶液であるLAMBIC-771W(大阪有機化学工業社製)20gに純水80gを加えて希釈し、室温で10分間撹拌した。
12mlの2-プロパノールに、2.0g(19.4mmol)の無水ジメチルアミノ酢酸と4.2g(17.8mmol)のグリシドキシプロピルトリメトキシシランを混合し、60℃で4時間還流し、溶媒を除去して透明粘性液体を得た。
スルホ基を有したアクリル系UV硬化塗料であるKPP-05(公進ケミカル株式会社製)1gに1-メトキシ-2-プロパノールを100gを加えて希釈し、室温で10分間撹拌した。
アミノ系シランである3-(2-アミノエチルアミノ)プロピルトリメトキシシラン(東京化成工業株式会社製 A0774)0.1gを1-メトキシ-2-プロパノール(関東化学製 特級)100gを加えて室温で10分間撹拌した。
次に、上記塗工液を用いて作製される透明部材の評価方法について説明する。
分光エリプソメータ(VASE、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製)を用いて波長380nmから800nmの範囲で測定し多孔質層の膜厚を求めた。
分光エリプソメータ(VASE、ジェー・エー・ウーラム・ジャパン製)を用い、波長380nmから800nmまで測定し、解析から多孔質層の屈折率を求めた。測定で得られた多孔質層の屈折率と、シリカの屈折率1.46と、空気の屈折率1.00から、式1を用いて多孔質層の空隙率を算出した。
(式1) 空隙率=100×(1.46-多孔質の屈折率)/(1.00-1.46)
全自動接触角計(共和界面科学株式会社製 DM-701)を用い、23℃50%RHで純水2μlの液滴を接触した時の接触角を測定した。作製した直後の透明部材の接触角を測定し、初期値とした。
作製した透明部材を、内側がアルミでラミネートされたアルミラミネート袋内に、シロキサン系の汚染物源としてシリコーンゴム(信越化学工業 KE-931-U)10gと共に密閉した。試料を密閉したアルミラミネート袋を、恒温恒湿試験機(エスペック株式会社 PL-2KP)にて、温度60℃の環境に300時間保持した。試験後の透明部材の水に対する接触角を(9)と同様に測定した。
長期保管していない透明部材をキセノンウェザーメーター(スガ試験機株式会社製 スーパーキセノンウェザーメーター CX75)に投入した。光照射強度を180W/m2に設定し、光照射と放水を18分、光照射のみを1時間42分を1サイクルとして、合計150サイクルの計300時間試験して一旦評価した。さらにその後、150サイクル追加して合計300サイクルの計600時間試験して再度評価した。試験後の透明部材の接触角を(9)と同様にして測定した。この屋外暴露試験は、100時間が実際の屋外暴露1年に相当すると考えられる。
X線光電子分光装置(アルバック・ファイ株式会社製 QuanteraII)を用い、ビーム条件100μm、25W、15kVの時の検出強度から多孔質層表面の親水性ポリマー由来の元素濃度を測定した。親水性ポリマー由来の元素は、例えば親水性ポリマーの親水基がスルホベタイン基やスルホ基の場合は硫黄を、ホスホルコリン基の場合はリンを、カルボベタイン基の場合は窒素を用いて測定する。その後、加速電圧100VのArイオンビームで2mm×2mm角の領域を15秒間エッチングしながら同様の分析を40回繰り返し、親水性ポリマー由来の元素の検出強度を測定した。40回エッチング後の表面からの溝の深さを測定したところ約40nmの深さであることが確認され、1回のエッチング工程で1nmの深さにエッチングされることが分かった。そこで、親水性ポリマー層の表面から複数回エッチングを行い、親水性ポリマー由来の元素の検出強度が消失した時点のエッチング回数に1nmを乗じた値を親水性ポリマー層の層厚とした。
接触角が30°未満であれば、透明部材の表面に水滴ができるのを十分に抑制することができる。従って、初期値、長期保管試験、300時間および600時間の屋外暴露試験のいずれにおいても、水に対する接触角が30°未満であればA評価、600時間の屋外暴露試験後の水に対する接触角だけが30°以上であればB評価とした。初期値、長期保管試験、300時間の屋外暴露試験のいずれかの水に対する接触角が30°以上であればC評価とした。
実施例1は、直径(φ)50mm厚さ4mmのポリカーボネート基材(nd=1.58、νd=30.2)に、プライマー塗工液を適量滴下し、1500rpmで30秒スピンコートを行った。その後、熱風循環オーブン中で90℃10分間加熱し、乾燥させた。多孔質層の形成前に基材にプライマー塗工液からなる層を形成しておくことにより、基材と多孔質層との密着力を高めることができる。
親水性ポリマー塗工液Aの調整の際に、純水の量を20gとして調整した親水性ポリマー塗工液を用いた以外は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作成した。
親水性ポリマー塗工液Aの調整の際に、純水の量を300gとして調整した親水性ポリマー塗工液を用いた以外は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
シリカ粒子塗工液の調製の際に、シリカ粒子分散液の希釈溶媒として1-ペンタノールを用いた。またシリカ塗工液をスピンコートを行った後に加熱する工程を繰り返す回数を18回とした。その他の工程は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例5は、シリカ粒子塗工液の調製の際に、シリカ粒子分散液の希釈溶媒として乳酸メチルを用いた。鎖状シリカ塗工液を、スピンコートにて塗布した後に加熱する工程の繰り返し回数を5回とした以外は、実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例6は、親水性ポリマー塗工液Bを用いた以外は実施例1と同様にして作成し、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
シリカ塗工液をスピンコート法によって塗布した後に加熱する工程の繰り返し回数を2回とした点を除き、実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例1の親水性ポリマー塗工液をスピンコート法にて塗布する工程以降の工程を行わず、多孔質層のみからなる親水性被膜付きの透明部材を作製した。
シリカ粒子塗工液の調製の際、シリカ粒子分散液の希釈溶媒に2-メトキシエタノールを用いた。また親水性ポリマー塗工液Aの調整の際に純水で希釈せず、LAMBIC-771Wをそのまま親水性ポリマー塗工液として用いた。それ以外は実施例1と同様にして、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
実施例1と同様にして多孔質層を形成したのち、多孔質層上に、親水性ポリマー塗工液Cを適量滴下し、3000rpmで30秒の条件でスピンコートを行なった。その後、熱風循環オーブン中で80℃10分間加熱した(乾燥工程)。その後UV照射装置スポットキュア(ウシオ電機株式会社製)を用いて、UV強度100mW/cm2で10s照射して(硬化工程)、親水性被膜付きの透明部材を作製した。
11 シリカ粒子
12 バインダー
13 空隙
14 多孔質層
15 親水性ポリマー層
16 基材
Claims (26)
- 基材と、多孔質層と、親水性ポリマー層と、をこの順に備える透明部材であって、
前記多孔質層は、シリカ粒子とバインダーとを含み、
前記親水性ポリマー層は、両性イオン親水基を有するポリマーを含み、厚さが1nm以上20nm以下であることを特徴とする透明部材。 - 前記両性イオン親水基がスルホベタイン基、カルボベタイン基、ホスホルコリン基からなる群より選択されるいずれか1種であることを特徴とする請求項1に記載の透明部材。
- 前記親水性ポリマー層の表面における水に対する接触角が30°未満であることを特徴とする請求項1または2に記載の透明部材。
- 前記多孔質層の層厚が200nm以上2000nm以下、かつ、空隙率が40%以上55%以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の透明部材。
- 前記シリカ粒子の平均粒子径が10nm以上60nm以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の透明部材。
- 前記バインダーが、シリカバインダーであることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の透明部材。
- 前記基材の材質が、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂からなる群より選択されるいずれか1種であることを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の透明部材。
- 筐体と透明部材とで囲まれた空間内に、光学系と、前記光学系を介して映像を取得するイメージセンサと、を備える撮像装置であって、
前記透明部材は、基材と、前記基材の前記空間に面していない側の主面に設けられた多孔質層と、前記多孔質層の前記基材とは反対側の面に設けられた親水性ポリマー層と、を有しており、
前記多孔質層は、シリカ粒子とバインダーとを含み、
前記親水性ポリマー層は、両性イオン親水基を有するポリマーを含み、厚さが1nm以上20nm以下であることを特徴とする撮像装置。 - 前記両性イオン親水基がスルホベタイン基、カルボベタイン基、ホスホルコリン基からなる群より選択されるいずれか1種であることを特徴とする請求項8に記載の撮像装置。
- 前記多孔質層の層厚が200nm以上2000nm以下、かつ、空隙率が40%以上55%以下であることを特徴とする請求項8または9に記載の撮像装置。
- 前記シリカ粒子の平均粒子径が10nm以上60nm以下であることを特徴とする請求項8から10のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記バインダーが、シリカバインダーであることを特徴とする請求項8から11のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記基材が、平板状またはドーム形状であることを特徴とする請求項8から12のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 基材と、多孔質層と、親水性ポリマー層と、をこの順に備える透明部材の製造方法であって、
基材の上にシリカ粒子とバインダー成分とを含む分散液を塗布して硬化し、多孔質層を形成する工程と、
前記多孔質層の上に両性イオン親水基を有する親水性ポリマーを含む溶液を塗布して硬化し、1nm以上20nm以下の層厚の親水性ポリマー層を形成する工程と、
を有することを特徴とする透明部材の製造方法。 - 前記両性イオン親水基がスルホベタイン基、カルボベタイン基、ホスホルコリン基からなる群より選択されるいずれか1種であることを特徴とする請求項14に記載の透明部材の製造方法。
- 前記多孔質層の層厚が200nm以上2000nm以下、かつ、空隙率が40%以上55%以下となるように多孔質層を形成することを特徴とする請求項14または15に記載の透明部材の製造方法。
- 前記シリカ粒子が、平均粒子径が10nm以上60nm以下の鎖状シリカであることを特徴とする請求項14から16いずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
- 前記バインダー成分が、シリケート加水分解縮合物であることを特徴とする請求項14から17のいずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
- 前記分散液に含まれるバインダー量は、シリカ粒子100質量部に対して、5質量部以上35質量部以下であることを特徴とする請求項14から18のいずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
- 前記多孔質層を形成する工程の前に、前記基材の上に、アミノ系シランを含むプライマー塗工液を塗布して乾燥させる工程を有することを特徴とする請求項14から19のいずれか1項に記載の透明部材の製造方法。
- 多孔質層の上に親水性ポリマー層を備える部材であって、
前記多孔質層は、シリカ粒子とバインダーとを含み、
前記親水性ポリマー層は、両性イオン親水基を有するポリマーを含み、厚さが1nm以上20nm以下であることを特徴とする部材。 - 前記両性イオン親水基がスルホベタイン基、カルボベタイン基、ホスホルコリン基からなる群より選択されるいずれか1種であることを特徴とする請求項21に記載の部材。
- 前記親水性ポリマー層の表面における水に対する接触角が30°未満であることを特徴とする請求項21または22に記載の部材。
- 前記多孔質層の層厚が200nm以上2000nm以下、かつ、空隙率が40%以上55%以下であることを特徴とする請求項21から23のいずれか1項に記載の部材。
- 前記シリカ粒子の平均粒子径が10nm以上60nm以下であることを特徴とする請求項21から24のいずれか1項に記載の部材。
- 前記バインダーが、シリカバインダーであることを特徴とする請求項21から25のいずれか1項に記載の部材。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/353,973 US20190295391A1 (en) | 2018-03-20 | 2019-03-14 | Transparent member, imaging apparatus, and method of producing transparent member |
CN201910196267.5A CN110308503B (zh) | 2018-03-20 | 2019-03-15 | 透明部件、成像装置和透明部件的制备方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018052416 | 2018-03-20 | ||
JP2018052416 | 2018-03-20 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019162866A JP2019162866A (ja) | 2019-09-26 |
JP2019162866A5 JP2019162866A5 (ja) | 2022-02-25 |
JP7422450B2 true JP7422450B2 (ja) | 2024-01-26 |
Family
ID=68065491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019026816A Active JP7422450B2 (ja) | 2018-03-20 | 2019-02-18 | 透明部材、撮像装置、透明部材の製造方法および部材 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7422450B2 (ja) |
CN (1) | CN110308503B (ja) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006011605A1 (ja) | 2004-07-29 | 2006-02-02 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | 防曇性物品およびその製造方法 |
WO2013065591A1 (ja) | 2011-11-02 | 2013-05-10 | 大阪有機化学工業株式会社 | 防曇性プラスチックレンズ |
JP2013228745A (ja) | 2013-06-05 | 2013-11-07 | Panasonic Corp | カメラカバー及びカメラ |
JP5683906B2 (ja) | 2010-04-12 | 2015-03-11 | 大阪有機化学工業株式会社 | 表面改質剤 |
JP2015525131A (ja) | 2012-06-11 | 2015-09-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 結露を遅延させるためのナノシリカコーティング |
JP2016109999A (ja) | 2014-12-10 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7299749B2 (en) * | 2003-02-10 | 2007-11-27 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing plate support and production method thereof |
US20070082205A1 (en) * | 2003-06-09 | 2007-04-12 | Toshiaki Anzaki | Photocatalytic member |
US9700252B2 (en) * | 2006-06-19 | 2017-07-11 | Roche Diabetes Care, Inc. | Amperometric sensor and method for its manufacturing |
JP6080349B2 (ja) * | 2010-11-26 | 2017-02-15 | キヤノン株式会社 | 光学部材および撮像装置 |
JP2014006496A (ja) * | 2012-05-30 | 2014-01-16 | Canon Inc | 光学部材、撮像装置及び光学部材の製造方法 |
WO2014036448A1 (en) * | 2012-08-31 | 2014-03-06 | 3M Innovative Properties Company | Multi-functional compositions and methods of use |
-
2019
- 2019-02-18 JP JP2019026816A patent/JP7422450B2/ja active Active
- 2019-03-15 CN CN201910196267.5A patent/CN110308503B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006011605A1 (ja) | 2004-07-29 | 2006-02-02 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | 防曇性物品およびその製造方法 |
JP5683906B2 (ja) | 2010-04-12 | 2015-03-11 | 大阪有機化学工業株式会社 | 表面改質剤 |
WO2013065591A1 (ja) | 2011-11-02 | 2013-05-10 | 大阪有機化学工業株式会社 | 防曇性プラスチックレンズ |
JP2015525131A (ja) | 2012-06-11 | 2015-09-03 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 結露を遅延させるためのナノシリカコーティング |
JP2013228745A (ja) | 2013-06-05 | 2013-11-07 | Panasonic Corp | カメラカバー及びカメラ |
JP2016109999A (ja) | 2014-12-10 | 2016-06-20 | キヤノン株式会社 | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019162866A (ja) | 2019-09-26 |
CN110308503B (zh) | 2022-05-24 |
CN110308503A (zh) | 2019-10-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6532228B2 (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
JP7187631B2 (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
JP6598750B2 (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
US9188708B2 (en) | Film having low refractive index film and method for producing the same, anti-reflection film and method for producing the same, coating liquid set for low refractive index film, substrate having microparticle-laminated thin film and method for producing the same, and optical member | |
JP2024022641A (ja) | 塗工液、部材の製造方法および部材 | |
JP4048912B2 (ja) | 表面防汚性複合樹脂フィルム、表面防汚性物品、化粧板 | |
US11520083B2 (en) | Member, imaging apparatus, and method for producing member | |
JP7422450B2 (ja) | 透明部材、撮像装置、透明部材の製造方法および部材 | |
JP7383418B2 (ja) | 部材および部材の製造方法 | |
JP7423261B2 (ja) | 透明部材および撮像装置並びに透明部材の製造方法 | |
US20190295391A1 (en) | Transparent member, imaging apparatus, and method of producing transparent member | |
US11326058B2 (en) | Optical member and optical instrument | |
JP7129247B2 (ja) | コーティング組成物とその製造方法、および光学部材、ならびに撮像装置 | |
JP7471892B2 (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
WO2020213726A1 (ja) | 光吸収性組成物及び光学フィルタ | |
JP2020027296A (ja) | 光学部材および光学機器 | |
US20200068106A1 (en) | Member and method of manufacturing member | |
JP2019211662A (ja) | 親水性シリカ多孔質膜、光学部材、および光学機器 | |
JP7271145B2 (ja) | 透明部材、撮像装置、および透明部材の製造方法 | |
JP2017031325A (ja) | 水性塗布液、膜及びその製造方法、積層体、並びに太陽電池モジュール | |
JP2022078665A (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
JP2023111159A (ja) | 光学部材、センサー |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220215 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231212 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20231213 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240110 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7422450 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |