JP7383418B2 - 部材および部材の製造方法 - Google Patents
部材および部材の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7383418B2 JP7383418B2 JP2019143857A JP2019143857A JP7383418B2 JP 7383418 B2 JP7383418 B2 JP 7383418B2 JP 2019143857 A JP2019143857 A JP 2019143857A JP 2019143857 A JP2019143857 A JP 2019143857A JP 7383418 B2 JP7383418 B2 JP 7383418B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- less
- silica particles
- silica
- porous layer
- particle dispersion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 173
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 78
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 66
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 65
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 58
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 29
- -1 organosilane compound Chemical class 0.000 claims description 25
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 22
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 22
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 22
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 20
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 18
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 17
- 229940054273 1-propoxy-2-propanol Drugs 0.000 claims description 15
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 15
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 78
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 24
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 22
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000008859 change Effects 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 2-heptanol Chemical compound CCCCCC(C)O CETWDUZRCINIHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-pentanol Chemical compound CCCC(C)CO PFNHSEQQEPMLNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N hexan-2-ol Chemical compound CCCCC(C)O QNVRIHYSUZMSGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOCHHNOQQHDWHG-UHFFFAOYSA-N hexan-3-ol Chemical compound CCCC(O)CC ZOCHHNOQQHDWHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N octan-2-ol Chemical compound CCCCCCC(C)O SJWFXCIHNDVPSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAYAKMPRFGNNFW-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylpentan-3-ol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)C BAYAKMPRFGNNFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 2-Hexanol Natural products CCCC[C@H](C)O QNVRIHYSUZMSGM-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-1-butanol Chemical compound CCC(CC)CO TZYRSLHNPKPEFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTBVKIGCDZRPL-LURJTMIESA-N 3-Methylbutanol Natural products CC[C@H](C)CCO IWTBVKIGCDZRPL-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTBVKIGCDZRPL-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentanol Chemical compound CCC(C)CCO IWTBVKIGCDZRPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N benzyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CC1=CC=CC=C1 CPLASELWOOUNGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 229920001429 chelating resin Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N cyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1 WJTCGQSWYFHTAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004914 cyclooctane Substances 0.000 description 1
- XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N cyclopentanol Chemical compound OC1CCCC1 XCIXKGXIYUWCLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229910001938 gadolinium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940075613 gadolinium oxide Drugs 0.000 description 1
- CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N gadolinium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Gd+3].[Gd+3] CMIHHWBVHJVIGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N isoamylol Chemical compound CC(C)CCO PHTQWCKDNZKARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N methoxy(trimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)C POPACFLNWGUDSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N methoxycyclopentane Chemical compound COC1CCCC1 SKTCDJAMAYNROS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N n-butyl methyl ketone Natural products CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N potassium oxide Chemical compound [O-2].[K+].[K+] CHWRSCGUEQEHOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001950 potassium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Silicon Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
[部材]
図1は、本発明の部材の一実施形態を示す模式図である。
本発明の部材1は、基材2と多孔質層3から構成されている。
多孔質層3の水に対する接触角は60°未満である。ここで、接触角は基板2上に形成された多孔質層3に純水を滴下したときに得られる接触角である。接触角が60°未満であると水分子が多孔質層3の内部に十分に侵入することができるため、多孔質層3の吸湿量を確保できる。
図4に記載の部材1は、多孔質層3において無機物4が無機粒子6を含んでおり、好ましくは無機物4が無機粒子6である。無機物4が無機粒子6であることで、空孔5同士が連結し易く、平均空孔径や空孔率が一定にできる点で好ましい。無機物4が無機粒子6である多孔質層3は、無機粒子6の分散液からウェット成膜することで形成できる。
多孔質層3に含まれる無機粒子6の量は80wt%以上であることが好ましい。
d=6000/(A×ρ) (1)
基材2は、ガラス、樹脂などを用いることが可能である。部材1を光学部材として用いる場合は、可視光域の光透過率が70%以上の透明な基材(透明基材)が用いられる。また、その形状は限定されることはなく、平面、曲面、凹面、凸面、フィルム状であっても良い。
本発明に係る部材の製造方法について、一例として、無機物4をシリカとしたシリカ多孔質膜を多孔質層3として有する部材1について説明する。
本発明に係る部材が好適に用いられる例として、撮像装置の保護カバーとして用いる例を説明する。図5に撮像装置の構成例の概略を示す。
(シリカ粒子分散液1の調製)
純水750g、25%アンモニア水138g、1-プロポキシ-2-プロパノール4112gのアンモニア濃度0.69wt%からなる混合液Aに、テトラメトキシシラン375g、1-プロポキシ-2-プロパノール125g、疎水性官能基処理剤としてメチルトリエトキシシラン37gからなる混合液Bを、10℃に保ちつつ30分かけて撹拌しながら滴下し、滴下が終わったあとに50℃で5時間撹拌し、ゾル溶液を作製した。この粒子溶液を減圧下にて加熱濃縮を行い、濃縮液をイオン交換樹脂(オルガノ株式会社製 Amberlite IR120B H AG)に通してアンモニアを除去し、ゾル溶液のpHを8以下にした。その後、水分が1%以下になるまで1-プロポキシ-2-プロパノールを滴下しつつ蒸留を続け、3μmメンブレンフィルターを用いてろ過を行い、固形分濃度15wt%のシリカ粒子分散液1を調製した。
混合液Bの疎水性官能基処理剤をプロピルトリエトキシシランにして22gを加えること以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液2を調製した。
混合液Bの疎水性官能基処理剤をジメチルジメトキシシランにして25gを加えること以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液3を調製した。
混合液Aのアンモニア濃度が0.92wt%になるように25%アンモニア水を185g、1-プロポキシ-2-プロパノールを4065gとすること以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液4を調製した。
混合液Aのアンモニア濃度が0.56wt%になるように25%アンモニア水を111g、1-プロポキシ-2-プロパノールを4139gとすること以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液5を調製した。
鎖状のシリカ粒子の2-プロパノール(IPA)分散液(日産化学工業株式会社製 IPA-ST-UP(登録商標)、粒子径12nm;BET法・固形分濃度15wt%)をエバポレーターを用いて2-プロパノールを留去し、1-プロポキシ-2-プロパノールに置換することで、鎖状シリカ粒子の1-プロポキシ-2-プロパノール分散液(固形分濃度33wt%)を1212g作製した。
混合液Aのアンモニア濃度が0.96wt%になるように25%アンモニア水を192g、1-プロポキシ-2-プロパノールを4058gとし、混合液Bを混合液Aに滴下する際、50℃に保つこと以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液7を調製した。
疎水性官能基処理剤を加えないこと以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液8を調製した。
混合液Bの疎水性官能基処理剤をプロピルトリエトキシシランにして43gを加えること以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液9を調製した。
混合液Aのアンモニア濃度が0.96wt%になるように25%アンモニア水を192g、1-プロポキシ-2-プロパノールを4058gとすること以外はシリカ粒子分散液3と同様にしてシリカ粒子分散液10を調製した。
混合液Aのアンモニア濃度が0.52wt%になるように25%アンモニア水を105g、1-プロポキシ-2-プロパノールを4145gとすること以外はシリカ粒子分散液1と同様にしてシリカ粒子分散液11を調製した。
(実施例1)
実施例1は、シリカ粒子分散液1をφ30mmの平板ガラス基板(S-BSL7、nd=1.52、オハラ製)に適量滴下し、1000rpmで30秒スピンコートした後、140℃の熱風循環オーブンで30分焼成することで実施例1の部材を作製した。実施例1の部材の有する多孔質層の層厚は2.6μmであった。
シリカ粒子分散液1を表1に記載のシリカ粒子分散液とすること以外は実施例1と同様に実施例2~6および比較例1~5の部材を作製した。表1に実施例2~6および比較例1~5の部材の有する多孔質層の層厚を示す。
各実施例、比較例で得られた部材について、下記の方法で評価を行った。結果は表1に示した。
自動蒸気吸着量測定装置(日本ベル株式会社製 BELSORP-MAX)を用いて、-196℃における窒素吸着等温線を測定しBJH法によって微分細孔分布を得た。得られた微分細孔分布において、微分細孔容積が最大となるときの空孔径をdN2とした。
自動蒸気吸着量測定装置(日本ベル株式会社製 BELSORP18)を用いて、25℃における吸着等温線を測定しBJH法によって微分細孔分布を得た。得られた微分細孔分布において、微分細孔容積が最大となるときの空孔径をdH2Oとした。
自動蒸気吸着量測定装置(日本ベル株式会社製 BELSORP-MAX)を用いて、-196℃における窒素吸着等温線を測定しBJH法によって細孔容積を求めた。
自動蒸気吸着量測定装置(日本ベル株式会社製 BELSORP-MAX)を用いて、-196℃における窒素吸着等温線を測定しBET法によって比表面積A(m2/g)を求めた。その後平均粒子径、無機粒子を構成する酸化ケイ素の密度をそれぞれd(nm)、202(g/cm3)として、下記の式(2)よりBET法による平均粒子径(BET粒子径)を求めた。
d=6000/(A×2.2) (2)
全自動接触角計(共和界面科学株式会社製 DM-701)を用い、純水2μlの液滴を接触した時の接触角を23℃40%RHの環境で測定した。
温度を25℃、湿度60、80、90、95%RHの環境に部材を1時間静置したあとに、各湿度下において反射率計(ウシオ電機株式会社製 URE-50)を用いて反射率を測定した。解析ソフト(J.A Woollam製 WVASE)によって反射率データから波長550nmの屈折率を求めた。得られた屈折率から屈折率変化を以下の基準で評価した。
A:湿度60%RHおよび95%RHでの部材の屈折率の差が0.015未満
B:湿度60%RHおよび90%RHでの屈折率の差が0.015未満であり、湿度60%RHおよび95%RHでの屈折率の差が0.015以上
C:湿度60%RHおよび90%RHの各屈折率の差が0.015以上
自動蒸気吸着量測定装置(日本ベル株式会社製 BELSORP18)を用いて、相対湿度を60%RHから98%RHに変化させたときの吸湿量を測定した。得られた吸湿量を以下の基準で評価した。
A:350(cm3/g)以上
B:250(cm3/g)以上350(cm3/g)未満
C:250(cm3/g)未満
実施例1から6の部材の評価結果の比較より、dH2Oが25nm以上75nm以下であると、湿度90%RH未満の吸湿を抑制して屈折率変化を低減でき、湿度90%RH以上で吸湿し吸湿量を確保することができることが分かる。また、dH2Oが大きいほど屈折率変化を低減できることも分かった。一方、比較例1の部材は、dH2Oが75nmよりも大きいため吸湿量を確保できないことが分かる。また、比較例2の部材は、dH2Oが25nmより小さいため、高湿度(60%RH以上90%RH未満)における屈折率変化が大きいことが分かる。
2 基材
3 多孔質層
4 無機物
5 空孔
6 無機粒子
Claims (13)
- 基材と、前記基材の少なくとも一つの表面に、シリカ粒子を含む多孔質層と、を有する部材であって、前記多孔質層は、窒素吸着における微分細孔分布において微分細孔容積が最大となるときの空孔径dN2が5nm以上20nm以下であり、水蒸気吸着における微分細孔分布において微分細孔容積が最大となるときの空孔径dH2Oが25nm以上75nm以下であり、水に対する接触角が60°未満であることを特徴とする、部材。
- 細孔容積が0.37cm3/g以上であることを特徴とする、請求項1に記載の部材。
- 前記シリカ粒子同士を結合させるためのバインダーを含むことを特徴とする、請求項1または2に記載の部材。
- 前記シリカ粒子が鎖状シリカ粒子であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載の部材。
- 筐体と、
保護カバーと、
前記筐体と前記保護カバーとに囲まれた内部空間に配置された撮像センサと、
を備える撮像装置であって、
前記保護カバーは、基材と、前記内部空間側の前記基材の表面に、シリカ粒子を含む多孔質層と、を有し、
前記多孔質層は、窒素吸着における微分細孔分布において微分細孔容積が最大となるときの空孔径dN2が5nm以上20nm以下であり、水蒸気吸着における微分細孔分布において微分細孔容積が最大となるときの空孔径dH2Oが25nm以上75nm以下であり、水に対する接触角が60°未満であることを特徴とする撮像装置。 - 前記多孔質層の細孔容積が0.37cm3/g以上であることを特徴とする、請求項5に記載の撮像装置。
- シリカ粒子同士を結合させるためのバインダーを含むことを特徴とする、請求項5または6に記載の撮像装置。
- 前記シリカ粒子が鎖状シリカ粒子であることを特徴とする、請求項7に記載の撮像装置。
- 疎水性官能基を有する有機シラン化合物と、シリカ粒子と、を溶媒中に含有するシリカ粒子分散液を準備する工程と、
基材上または前記基材上に形成した他の層上に、前記シリカ粒子分散液を塗工し、
前記シリカ粒子分散液の塗膜を形成する工程と、
前記塗膜を乾燥させる工程と、
を含み、
前記シリカ粒子の平均粒子径が8nm以上25nm以下であり、
前記シリカ粒子分散液は、前記シリカ粒子に対して、SiO2換算で前記疎水性官能基を有するシラン化合物を1wt%以上30wt%以下で含むことを特徴とする請求項1に記載の部材の製造方法。 - 前記シリカ粒子が鎖状シリカであることを特徴とする請求項9に記載の製造方法。
- 前記シリカ粒子分散液がバインダーをさらに含むことを特徴とする請求項9または10に記載の製造方法。
- 前記シリカ粒子分散液が、さらに炭素数が5から7の分岐構造を持つアルコールを含有することを特徴とする、請求項9から11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記炭素数が5から7の分岐構造を持つアルコールが1-プロポキシ-2-プロパノールであることを特徴とする、請求項12に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/539,117 US20200068106A1 (en) | 2018-08-22 | 2019-08-13 | Member and method of manufacturing member |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018155676 | 2018-08-22 | ||
JP2018155676 | 2018-08-22 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020032719A JP2020032719A (ja) | 2020-03-05 |
JP7383418B2 true JP7383418B2 (ja) | 2023-11-20 |
Family
ID=69666667
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019143857A Active JP7383418B2 (ja) | 2018-08-22 | 2019-08-05 | 部材および部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7383418B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7484650B2 (ja) * | 2020-10-15 | 2024-05-16 | トヨタ自動車株式会社 | 多孔質カーボン、触媒担体、及び多孔質カーボンの製造方法 |
CN112929549A (zh) * | 2021-03-19 | 2021-06-08 | 义乌市位秀电子商务有限公司 | 一种防止树叶遮挡的庭院监控装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005015310A (ja) | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Mitsubishi Chemicals Corp | 多孔性シリカ膜、それを有する積層体 |
JP2005126461A (ja) | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 親水化処理された樹脂成形品 |
JP2009073722A (ja) | 2007-03-13 | 2009-04-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | シリカ多孔質体、光学用途積層体及び組成物、並びに、シリカ多孔質体の製造方法 |
JP2012087304A (ja) | 2005-06-24 | 2012-05-10 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | コーティング用組成物及びその製造方法、並びに樹脂成形体及びその製造方法 |
-
2019
- 2019-08-05 JP JP2019143857A patent/JP7383418B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005015310A (ja) | 2003-06-27 | 2005-01-20 | Mitsubishi Chemicals Corp | 多孔性シリカ膜、それを有する積層体 |
JP2005126461A (ja) | 2003-10-21 | 2005-05-19 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 親水化処理された樹脂成形品 |
JP2012087304A (ja) | 2005-06-24 | 2012-05-10 | Nippon Kasei Chem Co Ltd | コーティング用組成物及びその製造方法、並びに樹脂成形体及びその製造方法 |
JP2009073722A (ja) | 2007-03-13 | 2009-04-09 | Mitsubishi Chemicals Corp | シリカ多孔質体、光学用途積層体及び組成物、並びに、シリカ多孔質体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020032719A (ja) | 2020-03-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8125714B2 (en) | Anti-reflection coating, optical member, exchange lens unit and imaging device | |
JP6598750B2 (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
JP6532228B2 (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
KR101294551B1 (ko) | 비정질 산화 규소 바인더를 갖는 MgF2 광학 박막, 및그것을 구비하는 광학 소자, 그리고 그 MgF2 광학박막의 제조 방법 | |
JP5645435B2 (ja) | 酸化アルミニウム前駆体ゾル及び光学用部材の製造方法 | |
JP4951237B2 (ja) | 防曇性反射防止膜の製造方法 | |
US11009627B2 (en) | Antireflective optical member and method for producing antireflective optical member | |
US11520083B2 (en) | Member, imaging apparatus, and method for producing member | |
JP7383418B2 (ja) | 部材および部材の製造方法 | |
Zhang et al. | Antifogging antireflective thin films: does the antifogging layer have to be the outmost layer? | |
US20200068106A1 (en) | Member and method of manufacturing member | |
JP5640504B2 (ja) | 3層構成の反射防止膜を有する光学部材 | |
JP2024022641A (ja) | 塗工液、部材の製造方法および部材 | |
JP5665404B2 (ja) | 光学膜の製造方法、光学膜および光学部品 | |
JP2013217977A (ja) | 反射防止膜及び光学素子 | |
JP7129247B2 (ja) | コーティング組成物とその製造方法、および光学部材、ならびに撮像装置 | |
JP6877866B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学部材及びその反射防止膜の製造方法 | |
JP7471892B2 (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 | |
US11326058B2 (en) | Optical member and optical instrument | |
CN108572404B (zh) | 光学构件、摄像设备和光学构件的制造方法 | |
CN114249542A (zh) | 具有多孔层的部件和用于形成多孔层的涂覆液 | |
JP2013105846A (ja) | 防曇性膜を有する光学部品、半導体装置 | |
TW201934689A (zh) | 膜、液狀組成物、光學元件及攝像裝置 | |
JP7271145B2 (ja) | 透明部材、撮像装置、および透明部材の製造方法 | |
JP2022078665A (ja) | 光学部材及び光学部材の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20220630 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220729 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230524 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230606 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230727 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20231010 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20231108 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7383418 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |