DE10014348A1 - Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten

Info

Publication number
DE10014348A1
DE10014348A1 DE10014348A DE10014348A DE10014348A1 DE 10014348 A1 DE10014348 A1 DE 10014348A1 DE 10014348 A DE10014348 A DE 10014348A DE 10014348 A DE10014348 A DE 10014348A DE 10014348 A1 DE10014348 A1 DE 10014348A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
coil device
coil
circuit
measurement
frequency
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE10014348A
Other languages
English (en)
Other versions
DE10014348B4 (de
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Immobiliengesellschaft Helmut Fischer GmbH and Co KG
Original Assignee
Helmut Fischer GmbH and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Helmut Fischer GmbH and Co filed Critical Helmut Fischer GmbH and Co
Priority to DE10014348A priority Critical patent/DE10014348B4/de
Priority to GB0106252A priority patent/GB2361999B/en
Priority to FR0104048A priority patent/FR2806790B1/fr
Priority to BRPI0103696-3A priority patent/BR0103696B1/pt
Priority to CNB011117567A priority patent/CN1278097C/zh
Priority to US09/818,036 priority patent/US6777930B2/en
Priority to JP2001087159A priority patent/JP4676080B2/ja
Publication of DE10014348A1 publication Critical patent/DE10014348A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE10014348B4 publication Critical patent/DE10014348B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/02Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B7/06Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness
    • G01B7/10Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness using magnetic means, e.g. by measuring change of reluctance
    • G01B7/105Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness using magnetic means, e.g. by measuring change of reluctance for measuring thickness of coating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Magnetic Means (AREA)
  • Monitoring And Testing Of Nuclear Reactors (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten mit einer Sonde (11), welche eine erste Spulenvorrichtung (14) auf einem Innenkern aufweist, deren geometrische Mitte (22) und die geometrische Mitte zumindest einer zweiten Spulenvorrichtung (31) sich decken, wobei die zumindest zweite Spulenvorrichtung (31) die erste Spulenvorrichtung (24) teilweise umgibt, mit einer Auswerteeinheit, an welche Signale der Spulenvorrichtungen (24, 31) während einer Messung zur Ermittlung der Schichtdicke abgegeben werden, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schaltung (50) vorgesehen ist, durch welche die erste und die zumindest zweite Spulenvorrichtung (24, 31) sequentiell während einer Messung erregt werden.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dün­ ner Schichten mit einer Sonde gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie einer Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 10.
Gekrümmte und beschichtete Oberflächen sind vor allem im Flugzeugbau, bei Automobilen, bei Formteilen, im Bereich von Haushaltsgegenständen, im Rohrlei­ tungsbau, auf Jalousetten und bei vielen anderen beschichteten Meßgegenstän­ den anzutreffen. Auch im Kernkraftbereich sind auf Zirkon-Wärmeaustauschrohren Oxidschichten im Bereich von 20 µm auf Rohren von ca. 12 mm Durchmesser zu messen.
Bekannte taktile Meßverfahren, welche z. B. auf dem Wirbelstromprinzip beruhen, werden sehr stark von der Form des Meßgegenstandes beeinflußt. Aus diesem Grunde muß eine Kalibrierung bei unterschiedlichen Krümmungen erfolgen, wel­ che zeitaufwendig ist und zu Fehlern führen kann, insbesondere deshalb, weil Krümmungsänderungen nicht berücksichtigt werden.
Aus der DE 41 19 903 A1 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Messung dünner Schichten bekannt geworden, welches ermöglicht, daß die unerwünschte Abhängigkeit des Meßwertes von der geometrischen Form des Meßgegenstandes in einem weiten Bereich eliminiert werden kann. Dies bedeutet, daß es ermöglicht ist, dünne Schichten auch auf gekrümmten Oberflächen von Meßgegenständen zu messen. Hierbei handelt es sich um Schichtdicken von wenigen µm bis einigen 100 µm. Bei dieser zerstörungsfreien Schichtdickenmessung wird auf das Wirbel­ stromverfahren zurückgegriffen, welches auf Änderungen eines nieder- bezie­ hungsweise hochfrequenten elektromagnetischen Feldes in Abhängigkeit einer auf den Meßgegenstand aufgebrachten Schicht beruht. Dabei ist eine Vorrichtung vorgesehen, welche auf einem Ferritkern eine erste Spulenvorrichtung aufweist. Eine Außenhülse, welche die erste Spulenvorrichtung umgibt, nimmt eine außer­ halb liegende zweite Spulenvorrichtung auf. Der die erste Spulenvorrichtung auf­ nehmende Kern weist an seinem unteren Ende eine Aufsetzkalotte aus abriebfe­ stem Material auf.
Zur Ermittlung der Schicht wird die Sonde auf dem Meßgegenstand aufgesetzt. Die beiden Spulenvorrichtungen werden mit gleichzeitig unterschiedlichen Fre­ quenzen erregt und geben somit während der Messung zwei Signale unterschied­ licher Frequenzen ab, welche mit einer geeigneten Schaltung ausgewertet wer­ den, um die Schichtdicke zu errechnen. Die Schichtdicke wird gemäß den in der DE 41 19 903 A1 angegebenen Gleichungen ermittelt.
Der Erfindung liegt nunmehr die Aufgabe zugrunde, die Qualität der ermittelten Werte der Schichtdicke bei der zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten zu verbessern.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Durch die se­ quentielle Erregung von zumindest zwei Spulenvorrichtungen kann eine störungs­ freie Abgabe der Meßsignale von den Spulenvorrichtungen zu einer Auswerteein­ heit erfolgen. Durch das aufeinanderfolgende Erregen der Spulenvorrichtungen mit der jeweiligen Frequenz kann von der Auswerteeinheit ein von der jeweils be­ nachbart angeordneten weiteren Spulenvorrichtung unbeeinflußtes Signal wäh­ rend der Messung erfaßt und auch eindeutig jeder Spulenvorrichtung zugeordnet werden. Dadurch kann eine Überschwingung oder Miterregung der benachbarten Spulenvorrichtung eliminiert werden, wodurch die Signalabgabe frei von Störpa­ rametern erfolgen kann.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, daß die Spulen mit Hochfrequenz erregt werden. Dadurch können Änderungen des elektromagnetischen Wechselfeldes bei Annäherung eines Sondenkopfes an einen Meßgegenstand als Meßeffekt zur Messung ausgenützt werden. Bei der Anwendung von hochfrequenten Feldern sind die zu messenden Schichten elek­ trisch nicht leitend, wie beispielsweise Farbe, oder schwach leitend, wie beispiels­ weise Chrom oder dergleichen.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, daß die von der ersten und zumindest zweiten Spulenvorrichtung kommenden Frequenzsignale, die zeitlich getrennt voneinander abgegeben werden, durch Feldeffekttransistoren in der Zeitdauer der Abgabe der Signale begrenzt werden. Dadurch kann eine Trennung zwischen dem abgegebenen Frequenzsignal der ersten und der zumindest zweiten Spulenvorrichtung sichergestellt sein, wodurch eine genaue Erfassung und Zuordnung der Meßsignale erzielt werden kann. Da­ durch kann auch während der Übertragung der Signale zur Auswerteeinheit eine gegenseitige Beeinflussung oder Überlagerung verhindert sein. Die Ansteuerung der Spulenvorrichtungen und der Feldeffekttransistoren, über welche die Meßsi­ gnale an eine Auswerteeinheit weitergeleitet werden, kann in einem definierten Zeitfenster erfolgen, wodurch auch das Zuordnen der Meßsignale ermöglicht ist.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, daß die durch die Spulenvorrichtung abgegebenen Signale unabhängig voneinan­ der ausgewertet werden. Beispielsweise kann von einer ersten Spulenvorrichtung ein im wesentlichen die Schichtdicke bestimmendes Signal erfaßt werden, wobei beispielsweise durch die weitere Spulenvorrichtung ein die Krümmung der Meßo­ berfläche bestimmendes Signal erfaßt werden kann. Durch die getrennte Aus­ wertung kann eine exakte Berechnung der beiden Meßgrößen gegeben sein, wo­ durch die anschließende Ermittlung des Meßwertes durch die Formeln - wie aus der DE 41 19 903 A1 hervorgeht - mit einer höheren Genauigkeit erfolgen kann.
Durch die Trennung der Signale der Spulenvorrichtungen kann vorteilhafterweise die Erregung der Spulenvorrichtungen mit gleicher Frequenz erfolgen, wodurch eine weitere Vereinfachung des Aufbaus der Steuerung erzielt werden kann.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, daß durch eine Flip-Flop-Schaltung nacheinander eine erste Spulenvorrichtung mit einem ersten Schaltkreis und eine zweite Spulenvorrichtung in einem zweiten Schaltkreis zur Durchführung einer Messung angeregt wird. Durch die vorteilhaf­ terweise vorgesehenen Feldeffekttransistoren kann schaltungstechnisch sicherge­ stellt sein, daß eine sequentielle Ansteuerung der Spulenvorrichtung zur Abgabe von Frequenzsignalen ermöglicht ist. Vorteilhafterweise ist vorgesehen, daß die Schaltkreise der Spulenvorrichtungen identisch ausgebildet sind. Dadurch kann der Aufbau der Schaltung einfach gestaltet sein.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen, daß die Frequenzsignale über einen Kompensator zur Auswerteeinheit geführt werden. Dadurch ist ermöglicht, daß sich die Phasenlage der Frequenzsignale so einstellen lassen, daß die unerwünscht Abhängigkeit der Meßsignale von der elektrischen Leitfähigkeit des Grundwerkstoffes weitgehend eliminiert wird.
Somit kann durch das erfindungsgemäße Verfahren zur zerstörungsfreien Mes­ sung der Dicke dünner Schichten erzielt werden, daß die Meßwerte zumindest von den Störparametern wie die Krümmung der Oberflächen und die Leitfähigkeit des Meßgegenstandes, die sich besonders kritisch bei der Messung dünner Schichten im Bereich weniger µm auswirken, nahezu vollständig eliminiert werden.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung, die insbesondere zur Durchführung des Ver­ fahrens vorgesehen ist, weist in einem Gehäuse einen ferritischen Topfkern auf, der eine erste Spulenvorrichtung aufnimmt und an einem der ersten Spulenvor­ richtung liegenden Zapfen eine Aufsetzkalotte aufweist und außerhalb des Topf­ kernes konzentrisch zur ersten Spulenvorrichtung eine weitere Spulenvorrichtung aufnimmt. Durch die fest zueinander angeordneten Spulenvorrichtungen, die vor­ teilhafterweise eine gemeinsame Mittelachse aufweisen, kann eine exakte Ermitt­ lung gegeben sein, da aufgrund des gemeinsamen Aufsitzpunktes der Aufsetzka­ lotte der Wirkungsbereich der ersten und zweiten Spulenvorrichtung von der ge­ meinsamen geometrischen Achse ausgeht. Die erste oder innere Spulenvorrich­ tung ist dabei schichtdickensensitiv und die äußere beziehungsweise zweite Spu­ lenvorrichtung ist dabei krümmungssensitiv ausgebildet.
Weitere vorteilhafte Ausbildungen sind in den weiteren Ansprüchen angegeben.
Eine bevorzugte Ausführungsform der Meßsonde sowie einer Schaltung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in der nachfolgenden Be­ schreibung näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer Meßsonde,
Fig. 2 ein schematischer Querschnitt eines Sondenkopfes der Meß­ sonde,
Fig. 3 eine Ansicht von unten auf den Meßkopf gemäß Fig. 2,
Fig. 4 eine schematische Darstellung von ineinandersetzbaren Kom­ ponenten der Meßsonde,
Fig. 5 eine schematische Darstellung der Meßsonde bei der Mes­ sung an einer gekrümmten Oberfläche,
Fig. 6 eine schematische Darstellung der Schaltung zur Durchfüh­ rung des Meßverfahrens und
Fig. 7 ein Kennliniendiagramm, welches ein Vergleich von Meßwer­ ten zeigt, die gemäß dem Stand der Technik und gemäß der Erfindung erfaßt sind.
In Fig. 1 ist eine als Meßsonde 11 ausgebildete Vorrichtung perspektivisch dar­ gestellt. Die Meßsonde 11 ist über ein Kabel 12 und einen Anschlußstecker 13 an einer nicht näher dargestellten Auswerteeinheit anschließbar. Die Meßsonde 11 weist einen Sondenkopf 14 auf, der von einer Hülse 16 umgeben ist. Der Sonden­ kopf 14 ist axial bewegbar zur Führungshülse 17 angeordnet. Dies wird nachfol­ gend in Fig. 4 näher beschrieben.
In Fig. 2 ist stark vergrößert ein schematischer Querschnitt des Sondenkopfes 14 dargestellt. In Fig. 3 ist eine entsprechende Ansicht von unten dargestellt. Der Sondenkopf 14 weist ein Gehäuse 18 auf, in welchem ein Meßsystem in einer vorzugsweise nicht magnetischen Masse 19 eingebettet ist. Das Meßsystem be­ steht aus einem Topfkern 21, der in einer geometrischen Achse 22 einen Mittel­ zapfen 23 aufweist. Konzentrisch zu dem Mittelzapfen 23 ist eine erste oder innere Spulenvorrichtung 24 vorgesehen. Stirnseitig zum Topfkern 21 ist beispielsweise eine Isolierscheibe 26 vorgesehen. Der Topfkern 21 weist an der Stirnseite des Mittelzapfens 23 eine Aufsetzkalotte 27 auf, welche aus abriebfestem Material, wie beispielsweise einem Rubin, und zumeist aus nicht magnetischem Werkstoff aus­ gebildet ist. Die Aufsetzfläche der Aufsetzkalotte 27 ist gekrümmt ausgebildet, wo­ bei deren tiefster Punkt in der geometrischen Achse 22 liegt. Der Topfkern 21 weist vorzugsweise diametral einander gegenüberliegende Schlitze 28 auf, durch welche Anschlußleitungen der inneren Spulenvorrichtung 24 in einen hinteren Be­ reich des Sondenkopfes 14 geführt werden, die wiederum mit einer elektronischen Schaltung 50 verbunden sind. Auf einem Außenmantel 29 des Topfkernes 21 ist eine zweite oder äußere Spulenvorrichtung 31 angeordnet. Die Spulenvorrichtun­ gen 24, 31 sind auf dem Topfkern 21 unverrückbar, beispielsweise fest eingegos­ sen, so daß der Sondenkopf 14 als eine feste Einheit ausgebildet ist. Vorteilhaf­ terweise sind die zu einem Meßgegenstand weisenden Stirnseiten der Spulenvor­ richtungen 24, 31 auf einer gemeinsamen Ebene angeordnet. Ebenso liegt die Stirnfläche des Gehäuses 18 vorteilhafterweise in dieser Ebene. Die Meßsonde 11 hat beispielsweise als Dimension einen typischen Durchmesser eines Füllfeder­ halters, in welchem das eigentliche Meßsystem mit etwa 2 mm Durchmesser be­ weglich eingebaut ist.
Die interessierenden Schichtdicken liegen schwerpunktmäßig im Bereich von eini­ gen µm um bis zu 100 µm. Es können aber auch dickere Beschichtungen, die in den mm Bereich reichen, erfaßt werden.
In Fig. 4 ist in einer Art Explosionsdarstellung ein Aufbau der Meßsonde 11 dar­ gestellt. Der Sondenkopf 14 weist einen ersten zylindrischen Abschnitt 33 auf, der in einen zweiten, im Durchmesser kleineren Abschnitt 34 übergeht. Der zylindri­ sche Abschnitt 34 weist vorteilhafterweise ein Gewinde auf, so daß eine leichte Einbaumöglichkeit zur Zwischenhülse 36 gegeben ist. An diesem ist eine Leiter­ platte befestigt, auf welcher die in Fig. 6 dargestellte erfindungsgemäße Schal­ tung 50 vorgesehen ist. Diese Baueinheit wird von einer Zwischenhülse 36 aufge­ nommen, welche ihrerseits von einer Führungshülse 17 federnd nachgiebig durch eine vorzugsweise Spiralfeder 37 aufgenommen wird. Die Führungshülse 17 weist einen Aufnahmeabschnitt 38 auf, an dem die Hülse 16 aufsteckbar ist. Durch die federnde Lagerung der Zwischenhülse 36 in der Führungshülse 17 kann während einer Messung der Sondenkopf 14, welcher in einer Ausgangsposition gegenüber der Stirnseite der Hülse 16 herausragt, in die Hülse bewegt werden. Dies dient ferner dazu, daß die Aufsetzkalotte 27 in Verlängerung der geometrischen Achse 22 aufsitzt, wie nachfolgend in Fig. 5 beschrieben wird.
Die Zwischenhülse 36 ist axial bewegbar in der Führungshülse 17 geführt. Des weiteren ist eine Verdrehsicherung vorgesehen, wie beispielsweise eine Nut- und Federverbindung oder ein an der Zwischenhülse 36 angeordnetes und einge­ spanntes Federelement 37, welches in einer Nut der Führungshülse 17 läuft. über ein Zwischenstück 39 werden die Anschlußleitungen zur Führungshülse 17 fixiert. Gleichzeitig kann dies eine Zugentlastung bilden.
Die zwischen der Zwischenhülse 36 und der Führungshülse 17 angeordnete Fe­ der 37 ist zumindest geringfügig vorgespannt, so daß während der Messung der gekrümmten Oberfläche der Sondenkopf 14 mit einer zumindest geringfügigen Anpreßkraft auf der Oberfläche beziehungsweise der zu messenden Schicht an­ liegt. Diese ist jedoch im Verhältnis zur Härte der Schicht gering, so daß keine Eindruckstellen oder Beschädigungen nach der Messung der Schichtdicke vorlie­ gen.
Beispielsweise ist die Messung einer Schichtdicke an einer gekrümmten Oberflä­ che in Fig. 5 dargestellt. Die Hülse 16 weist an ihrem stirnseitigen Ende eine vor­ zugsweise prismatische Ausnehmung 41 auf, durch welche erzielt werden kann, daß beim Aufsetzen der Meßsonde 11 auf die gekrümmte Oberfläche eine gesi­ cherte und definierte Anlage der Meßsonde 11 zur Oberfläche geschaffen werden kann. Die Größe und Art der Ausnehmung 41 kann an verschiedene Meßgegen­ stände angepaßt werden. Dadurch kann auch die Meßsonde 11 auf der zylindri­ schen oder gekrümmten Oberfläche zentriert werden, wodurch eine kontrollierte Messung durchgeführt werden kann. Der Sondenkopf 14 wird dabei gegenüber seiner Ausgangsposition, wie beispielsweise in Fig. 1 dargestellt, entlang der geometrischen Achse 22 in die Hülse 16 eingetaucht. Durch die Spiralfeder 37 wird die Aufsetzkalotte 27 zumindest unter einem geringen Druck auf der Oberflä­ che 42 des Meßgegenstandes gehalten. Unmittelbar nach Aufsetzen der Meßson­ de 11 auf dem Meßgegenstand kann die Messung der Dicke dünner Schichten durchgeführt werden.
Eine derartige Messung wird nachfolgend anhand der Schaltung 50 gemäß Fig. 6 beschrieben.
Die Schaltung 50 umfaßt zwei nahezu identische Schwingkreise 51 und 52. Die Wirkungsweise wird beispielhaft am Schaltkreis 51, welcher der Innenwicklung bzw. der Spulenvorrichtung 24 zugeordnet ist, beschrieben. Der Serienschwing­ kreis, bestehend aus einem Kondensator 53 dieser Spulenvorrichtung 24, bildet in Verbindung mit einem Dualgate-Feldeffekttransistor 54 einen aktiven Serienreso­ nanzkreis. Dies ist möglich, weil im Falle der Serienresonanz an der Spulenvor­ richtung 24 eine deutliche Spannungsüberhöhung auftritt gegenüber der Hochfre­ quenzspannung, die an einem Widerstand 56 entsteht. Die Resonanzbedingung wird dadurch erfüllt. Die Spulenvorrichtung 24 liegt einseitig auf einem Massepo­ tential. Die an der Spulenvorrichtung 24 entstehende Spannung wird über einen Widerstand 57 und einen regelbaren Widerstand 58 dem Gate 2 des Transistors 54 zugeführt. Mit dem regelbaren Widerstand 58 kann in Verbindung mit dem Kondensator eine Phasendrehung dergestalt vorgenommen werden, daß die un­ erwünschte Abhängigkeit des Meßwertes von der Leitfähigkeit des Grundwerk­ stoffes fast vollständig unterdrückt wird. Ein Kondensator 59 bestimmt die Rück­ kopplung und wird so gewählt, daß eine quasi sinusförmige Spannung mit sehr geringem Oberwellenanteil an dem Widerstand 56 entsteht. Dadurch wird eine weitgehende Unterdrückung einer Störstrahlung möglich. Wird das Gate 1 des Transistors 54 auf low geschaltet, ist die Resonanzbedingung nicht mehr erfüllt und die Oszillation klingt sehr schnell ab. Nähert man den Sondenkopf 14 an ei­ nen metallischen Grundwerkstoff an, dann werden in diesem Wirbelströme er­ zeugt, welche den Schwingkreis 51 verstimmen. Die Annäherung der Spulenvor­ richtung 24 entspricht dem Meßeffekt der Schichtdicke. Der Meßeffekt ist mit der Schichtdicke durch eine nichtlineare Funktion verknüpft. In der Regel ist die Schicht elektrisch isolierend, so daß nur im Grundwerkstoff Wirbelströme erzeugt werden. Eine Messung ist aber mit dieser Schaltung 50 erfindungsgemäß auch dann möglich, wenn eine schlecht leitende, nicht magnetische Schicht, z. B. Chrom auf nicht magnetischem Grundwerkstoff, z. B. Aluminium, welches eine deutlich besser Leitfähigkeit besitzt, galvanisch niedergeschlagen wird.
Der Schaltkreis 52 arbeitet analog dem Schaltkreis 51. Die Spulenvorrichtung 31, die vorzugsweise mit gleicher Frequenz wie die Spulenvorrichtung 24 erregt wird, reagiert jedoch im wesentlichen nur auf Krümmung, wobei die krümmungsbe­ dingte Frequenzänderung zur Kompensation des Krümmungseinflusses gemäß DE 41 19 903 A1 dient. Die Erregungsfrequenz der Spulenvorrichtungen 24, 31 liegen beispielsweise im Bereich von 5 bis 30 MHz. In einer Signaleingangsleitung 61 sind zwei Inverter 62, 63 vorgesehen, die gewährleisten, daß nur ein Transistor 54 eines Schalkreises 51, 52 zur Schwingung freigegeben ist. Wenn der Schalt­ punkt 64 auf high (1) liegt, dann wird nur der Schaltkreis 51 zur Schwingung frei­ gegeben. Liegt der Schaltpunkt 64 auf low (0), dann wird nur der Schaltkreis 52 freigegeben. Die beiden Dualgate-Feldeffekttransistoren 54 liegen über eine Lei­ tung 60 an einer gleichen Versorgungsgleichspannung von beispielsweise 5 V, welche über eine kleine Induktivität 66 zugeführt wird, um diese zu aktivieren. Al­ ternativ kann auf das Gate 1 der Feldeffekttransistoren 54 verzichtet werden und die Transistoren 54 können abwechselnd mit zwei intermittierend geschaltenen Leitungen ein- bzw. ausgeschalten werden. Diese Art der Schaltung ist über schnelle Halbleiterschalter möglich.
Die Resonanz der beiden sequentiell geschalteten Transistoren 54 bewirkt, daß über die Induktivität 66, welche einen Serienschwingkreis 65 mit einem Konden­ sator 67 bildet, an dem Widerstand 68 die jeweilige Resonanzfrequenz von dem Schaltkreis 51 und 52 abgegriffen werden kann. Dadurch können Signale der je­ weiligen Spulenvorrichtung 24, 31 erkannt und über einen Schaltpunkt 70 durch die nachfolgende Serienschaltung 65 abgegriffen, erfaßt und ausgewertet werden. Die Hochfrequenzsignale werden der Gleichspannungsversorgungsleitung 61 überlagert. Zur Auswertung erfolgt beispielsweise 10-mal in der Sekunde ein Wechsel zwischen den Spulenvorrichtungen 24, 31, so daß zumindest 100.000 Schwingungen zur Meßwertbildung zur Verfügung stehen. Es würde auch eine geringere Anzahl genügen.
In Verbindung mit dem Schaltzustand an dem Schaltpunkt 64 ist eindeutig die Re­ sonanz von dem Schaltkreis 51 und 52 definiert, so daß in einer nachfolgenden Schaltung die beiden Signale der Schaltkreise 51, 52, wie in DE 41 19 903 A1 be­ schrieben, zusammengeführt werden können. Die gezeigte Schaltung kann in SMD-Technik aufgebaut und direkt in der Sonde 11, wie in Fig. 4 gezeigt, inte­ griert werden.
In Fig. 7 ist ein Kennenliniendiagramm dargestellt, welches den prozentualen Anteil des Krümmungsfehlers in Abhängigkeit des Durchmessers der gekrümmten Oberfläche darstellt, auf der eine Messung der Schichtdicke erfolgt ist. Eine Kenn­ linie 81 stellt die Meßwerte dar, welche bislang mit aus dem Stand der Technik bekannten Meßsonden und Schaltungen ermittelt wurden. Daraus ist zu entneh­ men, daß der prozentuale Krümmungsfehler bisher in einem erheblichen Maße, insbesondere bei sehr kleinen Durchmessern, gegeben war. Durch die erfin­ dungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren werden Meß­ werte gemäß einer Kennlinie 82 ermittelt, deren prozentualer Krümmungsfehler um ein erhebliches Maß reduziert ist. Dadurch wird deutlich, in welchem Maße eine Verbesserung gegenüber dem Stand der Technik erzielt wurde. Dies ist für den Anwender von wesentlicher Bedeutung. Dadurch kann beispielsweise eine wesentliche Erhöhung der Meßgenauigkeit in der Qualitätskontrolle erzielt werden.

Claims (20)

1. Verfahren zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten mit ei­ ner Sonde (11), welche eine erste Spulenvorrichtung (14) auf einem Innenkern aufweist, deren geometrische Mitte (22) und die geometrische Mitte zumindest einer zweiten Spulenvorrichtung (31) sich decken, wobei die zumindest zweite Spulenvorrichtung (31) die erste Spulenvorrichtung (24) teilweise umgibt, mit einer Auswerteeinheit, an welche Signale der Spulenvorrichtungen (24, 31) während einer Messung zur Ermittlung der Schichtdicke abgegeben werden, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schaltung 50 vorgesehen ist, durch welche die erste und die zumindest zweite Spulenvorrichtung (24, 31) sequentiell während einer Messung erregt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Spulenvorrich­ tungen (24, 31) mit Hochfrequenz erregt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die von der ersten und zumindest zweiten Spulenvorrichtung (24, 31) kommenden Fre­ quenzsignale, welche zeitlich getrennt voneinander abgegeben werden, durch die Periode zur Abgabe der Frequenzsignale jeder Spulenvorrichtung (24, 31) mittels Transistoren (54), welche vorzugsweise von der Schaltung (50), in Analogie zu den Spulenvorrichtungen (24, 31) angesteuert werden, begrenzt wird.
4. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die durch die Spulenvorrichtungen (24, 31) abgegebenen Signale durch einen Serienschwingkreis (65) eindeutig der jeweiligen Spulenvorrichtung (24, 31) zugeordnet und unabhängig voneinander ausgewertet wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß die Spulenvorrichtungen (24, 31) mit gleicher Frequenz erregt werden.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spulenvorrichtung (24) mit einer Frequenz zwischen 8 und 20 MHz erregt, und daß die weitere Spulenvorrichtung (31) mit einer Frequenz zwi­ schen 4 und 12 MHz erregt wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich­ net, daß im Wechsel von wenigstens zweimal pro Sekunde die Schwingungen der Spulenvorrichtungen (24, 31) des sich während der Messung ändernden Meßfeldes abgefragt werden.
8. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spulenvorrichtung (24) einen Schaltkreis (51) aufweist und die zweite Spulenvorrichtung (31) einen Schaltkreis (52) aufweist, die parallel zu­ einander geschalten sind und eine Flip-Flopschaltung (62, 63) vorgesehen ist, durch welche zeitabhängig vorteilhafterweise der jeweils den Spulenvorrich­ tungen (24, 31) zugeordnete Transistor (54) geschalten wird.
9. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das von der Spulenvorrichtung (24, 31) gegebene Frequenzsignal über einen Kompensator (58) zur Auswerteeinheit geführt wird.
10. Vorrichtung, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, mit einem Gehäuse (18), mit einer ersten Spu­ lenvorrichtung (24) und einer zweiten Spulenvorrichtung (31) und mit einer Aufsetzkalotte (27) dadurch gekennzeichnet, daß ein Sondenkopf (14) mit ei­ nem ferritischen Topfkern (21) vorgesehen ist, welcher die erste Spulenvor­ richtung (24) nahe einer gemeinsamen geometrischen Achse (22) aufnimmt, und daß der Topfkern (21) in der gemeinsamen Achse (22) einen Zapfen (23) aufweist, der innerhalb der ersten Spulenvorrichtung (24) liegt und an dessen Stirnseite die Aufsetzkalotte (27) vorgesehen ist, die zumindest teilweise ge­ genüber der Stirnseite der Spulenvorrichtung (14) hervorspringt und daß au­ ßerhalb des Topfkerns (21) konzentrisch eine zweite Spulenvorrichtung (31) vorgesehen ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Anzahl der Wicklungen der ersten Spulenvorrichtung (24) gleich oder geringer als die der zweiten Spulenvorrichtung (31) ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 und 11, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und zweite Spulenvorrichtung (24, 31) fest zueinander angeord­ net, vorzugsweise in einer Gußmasse eingebettet sind.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und zweite Spulenvorrichtung (24, 31) zur Stirnseite des Son­ denkopfes (14) in einer Ebene angeordnet sind.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Topfkern (21) wenigstens einen seitlichen Schlitz (28) zur Durchfüh­ rung von Anschlußleitungen aufweist.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Sondenkopf (14) axial verschiebbar in einer Führungshülse (17) und gegenüber einer fest zu der Führungshülse (17) angeordneten Schutzhülse (16) eintauchbar gelagert ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzhülse (16) an einer zum Sondenkopf (14) weisenden Stirnseite eine Ausnehmung (41), die vorzugsweise primatisch ausgebildet ist, aufweist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der Sondenkopf (14) entgegen einer Federkraft in die Schutzhülse (16) eintauch­ bar ist, und daß ein Federelement (37) unter zumindest geringer Vorspannung zur Führungshülse (17) angeordnet ist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Spulenvorrichtung (24) schichtdickensensitiv und die zumindest weitere Spulenvorrichtung (31) krümmungssensitiv ausgebildet ist.
19. Schaltung zur getrennten Auswertung von zwei Meßsignalen, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Verstimmung jeweils einer Induktivität (24, 31) in ei­ ner Frequenzänderung resultiert, wobei eine Induktivität (24) in erster Linie von der Schichtdicke und die andere Induktivität (31) in erster Linie von der Krümmung des Meßgegenstandes beeinflußt wird.
20. Schaltung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß beide Induktivitä­ ten (24, 31) eine gemeinsame Masse aufweisen und die Frequenz an einem Schaltpunkt (70) in eindeutiger Zuordnung das entsprechende Frequenzsignal ausgekoppelbar ist.
DE10014348A 2000-03-24 2000-03-24 Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten Expired - Lifetime DE10014348B4 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10014348A DE10014348B4 (de) 2000-03-24 2000-03-24 Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten
GB0106252A GB2361999B (en) 2000-03-24 2001-03-13 Method and apparatus for the nondestructive measurement of the thickness of thin layers
FR0104048A FR2806790B1 (fr) 2000-03-24 2001-03-22 Procede et dispositif de mesure non destructive de l'epaisseur de couches fines
CNB011117567A CN1278097C (zh) 2000-03-24 2001-03-23 用于无损测量薄层厚度的方法和仪器
BRPI0103696-3A BR0103696B1 (pt) 2000-03-24 2001-03-23 Aparelho para medição da espessura de camadas finas
US09/818,036 US6777930B2 (en) 2000-03-24 2001-03-26 Sequentially non-destructive thickness measurement
JP2001087159A JP4676080B2 (ja) 2000-03-24 2001-03-26 薄層の厚さの非破壊測定方法およびその装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10014348A DE10014348B4 (de) 2000-03-24 2000-03-24 Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE10014348A1 true DE10014348A1 (de) 2001-09-27
DE10014348B4 DE10014348B4 (de) 2009-03-12

Family

ID=7635990

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10014348A Expired - Lifetime DE10014348B4 (de) 2000-03-24 2000-03-24 Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6777930B2 (de)
JP (1) JP4676080B2 (de)
CN (1) CN1278097C (de)
BR (1) BR0103696B1 (de)
DE (1) DE10014348B4 (de)
FR (1) FR2806790B1 (de)
GB (1) GB2361999B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014106242A1 (de) * 2014-05-05 2015-11-05 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Vorrichtung zum Positionieren und Ausrichten eines rotationssymmetrischen Körpers

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0208298D0 (en) * 2002-04-10 2002-05-22 Rhopoint Instrumentation Ltd A paint monitoring device
GB2397652B (en) * 2002-11-15 2005-12-21 Immobilienges Helmut Fischer Measurement probe for measurement of the thickness of thin layers
DE10313766B4 (de) * 2003-03-22 2021-04-29 Hilti Aktiengesellschaft Handgeführtes Arbeitsgerät
US7148712B1 (en) * 2005-06-24 2006-12-12 Oxford Instruments Measurement Systems Llc Probe for use in determining an attribute of a coating on a substrate
DE102005054593B4 (de) * 2005-11-14 2018-04-26 Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg Messonde zur Messung der Dicke dünner Schichten
FR2900471B1 (fr) * 2006-04-26 2008-12-26 Snecma Sa Mesure des epaisseurs de paroi, notamment d'aube, par courants de foucault
JP4825084B2 (ja) * 2006-08-28 2011-11-30 財団法人電力中央研究所 治具、膜厚計測装置及び方法
US20100307221A1 (en) * 2009-06-05 2010-12-09 Benjamin Morgan Smith Belt measurement device
AR077219A1 (es) * 2009-06-25 2011-08-10 Ca Atomic Energy Ltd Aparato y metodo para medir depositos dentro de un tubo
CN102549588A (zh) 2009-08-10 2012-07-04 糖尿病工具瑞典股份公司 用于产生状态指示的装置和方法
US9194687B1 (en) 2010-02-04 2015-11-24 Textron Innovations Inc. System and method for measuring non-conductive coating thickness using eddy currents
DE202010006062U1 (de) * 2010-04-23 2010-07-22 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Messsonde zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten
DE202010006061U1 (de) * 2010-04-23 2010-07-22 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Messsonde zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten
DE102010020116A1 (de) * 2010-05-10 2011-11-10 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Dicke dünner Schichten an großflächigen Messoberflächen
DE102011103122A1 (de) * 2011-05-25 2012-11-29 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Aufsetzkalotte für eine Messsonde sowie Messsonde zur Messung der Dicke dünner Schichten
EP2715335B1 (de) * 2011-05-25 2019-10-16 Helmut Fischer GmbH Messsonde zur messung der dicke dünner schichten sowie verfahren zur herstellung eines sensorelementes für die messsonde
JP5648663B2 (ja) * 2012-09-20 2015-01-07 センサ・システム株式会社 焼入れ硬化層厚さの検査装置及びニッケルめっき皮膜厚さの検査装置
US9335296B2 (en) 2012-10-10 2016-05-10 Westinghouse Electric Company Llc Systems and methods for steam generator tube analysis for detection of tube degradation
DE102013104251A1 (de) 2013-04-26 2014-10-30 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Messsonde zur Messung der Dicke dünner Schichten
JP7087529B2 (ja) * 2018-03-23 2022-06-21 中国電力株式会社 膜厚計の位置合わせ治具
US11935662B2 (en) 2019-07-02 2024-03-19 Westinghouse Electric Company Llc Elongate SiC fuel elements
ES2955292T3 (es) 2019-09-19 2023-11-29 Westinghouse Electric Co Llc Aparato para realizar pruebas de adherencia in situ de depósitos de pulverización en frío y procedimiento de empleo

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB425586A (en) * 1934-11-21 1935-03-18 Alfred Loewenstein Improvements relating to systems for electrically measuring the thickness of metallic walls, sheets and the like
DE1984325U (de) * 1965-06-22 1968-04-25 Schneider Co Optische Werke Lesegeraet zum abtasten optischer informationen.
US4420667A (en) * 1982-06-21 1983-12-13 Park-Ohio Industries, Inc. Induction heating method and apparatus for elongated workpieces
DE3437253A1 (de) * 1983-08-31 1986-04-17 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Elektromagnetische mess-sonde
DE3404720A1 (de) * 1984-02-10 1985-08-14 Karl Deutsch Prüf- und Meßgerätebau GmbH + Co KG, 5600 Wuppertal Verfahren und vorrichtung zur schichtdickenmessung
JPS6284750U (de) * 1985-11-18 1987-05-29
NO162537C (no) * 1986-02-17 1990-01-10 Dam Patent A S Fremgangsmaate og anordning for ikke-destruktiv materialproevning.
US4747310A (en) * 1986-08-12 1988-05-31 Grumman Aerospace Corporation Probe for composite analyzer tester
JPS63212804A (ja) * 1987-02-28 1988-09-05 Sumitomo Metal Ind Ltd 膜厚測定方法
JPH0748842B2 (ja) * 1987-03-25 1995-05-24 三菱電機株式会社 磁気記録再生装置
DE3902095C2 (de) * 1989-01-25 1997-01-16 Helmut Fischer Gmbh & Co Meßsonde zur Messung dünner Schichten
EP0435232B1 (de) * 1989-12-29 1995-05-17 Ebara Corporation Verschiebungssensor vom Induktionstyp mit Unempfindlichkeit gegenüber externen magnetischen Feldern
US5120908A (en) * 1990-11-01 1992-06-09 Gazelle Graphic Systems Inc. Electromagnetic position transducer
DE4119903C5 (de) * 1991-06-17 2005-06-30 Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur Messung dünner Schichten
FR2678061A1 (fr) * 1991-06-25 1992-12-24 Fischer Gmbh Co Inst Elektro Procede et dispositif pour la mesure de couches minces.
JP2952727B2 (ja) * 1991-06-25 1999-09-27 ヘルムート フィッシャー ゲーエムベーハー ウント コンパニー インスティテュート フュア エレクトローニク ウント メステヒニク 薄い層の厚さを測定するための方法および装置
US5343146A (en) * 1992-10-05 1994-08-30 De Felsko Corporation Combination coating thickness gauge using a magnetic flux density sensor and an eddy current search coil
JPH06186207A (ja) * 1992-12-17 1994-07-08 Nuclear Fuel Ind Ltd 渦電流探傷プローブ
US5416411A (en) * 1993-01-08 1995-05-16 Lockheed Fort Worth Company System and method for measuring the thickness of a ferromagnetic layer
JPH06313762A (ja) * 1993-04-30 1994-11-08 Toshiba Corp 多重周波数型渦流探傷装置
DE4325767A1 (de) * 1993-07-31 1995-02-02 Karl Deutsch Pruef Und Mesgera Schichtdickenmeßvorrichtung
JP3136032B2 (ja) * 1993-09-20 2001-02-19 株式会社ケット科学研究所 膜厚計測センサーおよび計測回路
JP3445018B2 (ja) * 1995-03-28 2003-09-08 新日本無線株式会社 Rfモジュレータic
US5660672A (en) * 1995-04-10 1997-08-26 International Business Machines Corporation In-situ monitoring of conductive films on semiconductor wafers
JP2717778B2 (ja) * 1995-04-27 1998-02-25 京都樹脂精工株式会社 移動中の金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さ測定装置、およびその測定方法
BR9504681A (pt) * 1995-09-18 1997-10-07 Brasilia Telecom Medição de espessura de camadas metálicas sobre lâminas isolantes
GB2306009B (en) * 1995-10-05 1999-06-16 Elcometer Instr Ltd A coating thickness measuring probe
JP2000502189A (ja) * 1995-12-22 2000-02-22 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト 導電性被膜の厚さ決定方法及び装置
DE19841325A1 (de) * 1997-09-26 1999-04-08 Nix Steingroeve Elektro Physik Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Bestimmung des Abstandes zu einem metallischen Gegenstand in nichtmetallischer und unmagnetischer Umgebung und/oder zur Bestimmung seiner geometrischen Dimension
FR2783910B1 (fr) * 1998-09-28 2000-12-15 Minh Quang Le Capteur inductif et procede pour mesurer la distance capteur-cible

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014106242A1 (de) * 2014-05-05 2015-11-05 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Vorrichtung zum Positionieren und Ausrichten eines rotationssymmetrischen Körpers
US9976943B2 (en) 2014-05-05 2018-05-22 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Device to position and align a rotationally-symmetrical body

Also Published As

Publication number Publication date
BR0103696B1 (pt) 2014-07-22
GB2361999A (en) 2001-11-07
GB2361999B (en) 2005-02-23
US20020021125A1 (en) 2002-02-21
JP4676080B2 (ja) 2011-04-27
CN1278097C (zh) 2006-10-04
CN1325015A (zh) 2001-12-05
GB0106252D0 (en) 2001-05-02
JP2001289606A (ja) 2001-10-19
US6777930B2 (en) 2004-08-17
BR0103696A (pt) 2002-08-06
FR2806790B1 (fr) 2005-06-17
DE10014348B4 (de) 2009-03-12
FR2806790A1 (fr) 2001-09-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10014348A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten
DE4119903C5 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Messung dünner Schichten
DE3704049C2 (de)
DE3910297C2 (de)
DE3840532C2 (de)
WO2006034911A1 (de) Detektor zur ortung metallischer objekte
DE10130572A1 (de) Induktiver Wegsensor zur Bestimmung der Position eines Beeinflussungselements und Verfahren zur Bestimmung der Position eines Beeinflussungselementes mit einem induktiven Wegsensor
DE19604004C1 (de) Magnetisch-induktiver Durchflußmesser
DE19538653A1 (de) Verfahren und Sensor zum Erfassen seitlich angeordneter Teile
EP2492641B1 (de) Induktive Wegmesseinrichtung
EP3495765B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur messung der dicke von nicht magnetisierbaren schichten auf einem magnetisierbaren grundwerkstoff
EP3824323B1 (de) Detektor zum detektieren von elektrisch leitfähigem material
EP2492642B1 (de) Induktive Wegmesseinrichtung
DE69911745T2 (de) Induktionssensor
DE20317771U1 (de) Vorrichtung zum Bestimmen einer Leitfähigkeit eines Mediums
EP4080232B1 (de) Messeinrichtung und verfahren zur bestimmung magnetischer eigenschaften eines magnetisierbaren prüfkörpers
EP2492640B1 (de) Induktive Wegmesseinrichtung
EP0495267B1 (de) Vorrichtung zur Prüfung von Münzen oder dergleichen metallischen Scheiben
DE4210689A1 (de) Meßsonde zur Schichtdickenmessung
EP0388595B1 (de) Messeinrichtung zur berührungsfreien Erfassung der Gestalt von Bauteilen
DE10227425A1 (de) Induktives Wegmessgerät
DE102020214569A1 (de) Prüfvorrichtung und Verfahren zur magnetischen Prüfung
DE3232770C2 (de) Vorrichtung zur Messung des Durchhangs eines mit einer Isolierschicht ummantelten Leiters in einem Vulkanisierrohr
DE102021121686A1 (de) Sensoreinrichtung zur Erfassung der Position eines Spannelements einer Spann- oder Greifvorrichtung und Spann- oder Greifvorrichtung
EP3569466A1 (de) Sensor zum erfassen von metallteilen, sowie verfahren zum abschwächen eines magnetischen feldes

Legal Events

Date Code Title Description
8127 New person/name/address of the applicant

Owner name: IMMOBILIENGESELLSCHAFT HELMUT FISCHER GMBH & CO. K

8110 Request for examination paragraph 44
8363 Opposition against the patent
8368 Opposition refused due to inadmissibility
R071 Expiry of right