DE10014348A1 - Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner SchichtenInfo
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Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten mit einer Sonde (11), welche eine erste Spulenvorrichtung (14) auf einem Innenkern aufweist, deren geometrische Mitte (22) und die geometrische Mitte zumindest einer zweiten Spulenvorrichtung (31) sich decken, wobei die zumindest zweite Spulenvorrichtung (31) die erste Spulenvorrichtung (24) teilweise umgibt, mit einer Auswerteeinheit, an welche Signale der Spulenvorrichtungen (24, 31) während einer Messung zur Ermittlung der Schichtdicke abgegeben werden, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schaltung (50) vorgesehen ist, durch welche die erste und die zumindest zweite Spulenvorrichtung (24, 31) sequentiell während einer Messung erregt werden.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dün
ner Schichten mit einer Sonde gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie
einer Vorrichtung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 10.
Gekrümmte und beschichtete Oberflächen sind vor allem im Flugzeugbau, bei
Automobilen, bei Formteilen, im Bereich von Haushaltsgegenständen, im Rohrlei
tungsbau, auf Jalousetten und bei vielen anderen beschichteten Meßgegenstän
den anzutreffen. Auch im Kernkraftbereich sind auf Zirkon-Wärmeaustauschrohren
Oxidschichten im Bereich von 20 µm auf Rohren von ca. 12 mm Durchmesser zu
messen.
Bekannte taktile Meßverfahren, welche z. B. auf dem Wirbelstromprinzip beruhen,
werden sehr stark von der Form des Meßgegenstandes beeinflußt. Aus diesem
Grunde muß eine Kalibrierung bei unterschiedlichen Krümmungen erfolgen, wel
che zeitaufwendig ist und zu Fehlern führen kann, insbesondere deshalb, weil
Krümmungsänderungen nicht berücksichtigt werden.
Aus der DE 41 19 903 A1 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Messung
dünner Schichten bekannt geworden, welches ermöglicht, daß die unerwünschte
Abhängigkeit des Meßwertes von der geometrischen Form des Meßgegenstandes
in einem weiten Bereich eliminiert werden kann. Dies bedeutet, daß es ermöglicht
ist, dünne Schichten auch auf gekrümmten Oberflächen von Meßgegenständen zu
messen. Hierbei handelt es sich um Schichtdicken von wenigen µm bis einigen
100 µm. Bei dieser zerstörungsfreien Schichtdickenmessung wird auf das Wirbel
stromverfahren zurückgegriffen, welches auf Änderungen eines nieder- bezie
hungsweise hochfrequenten elektromagnetischen Feldes in Abhängigkeit einer auf
den Meßgegenstand aufgebrachten Schicht beruht. Dabei ist eine Vorrichtung
vorgesehen, welche auf einem Ferritkern eine erste Spulenvorrichtung aufweist.
Eine Außenhülse, welche die erste Spulenvorrichtung umgibt, nimmt eine außer
halb liegende zweite Spulenvorrichtung auf. Der die erste Spulenvorrichtung auf
nehmende Kern weist an seinem unteren Ende eine Aufsetzkalotte aus abriebfe
stem Material auf.
Zur Ermittlung der Schicht wird die Sonde auf dem Meßgegenstand aufgesetzt.
Die beiden Spulenvorrichtungen werden mit gleichzeitig unterschiedlichen Fre
quenzen erregt und geben somit während der Messung zwei Signale unterschied
licher Frequenzen ab, welche mit einer geeigneten Schaltung ausgewertet wer
den, um die Schichtdicke zu errechnen. Die Schichtdicke wird gemäß den in der
DE 41 19 903 A1 angegebenen Gleichungen ermittelt.
Der Erfindung liegt nunmehr die Aufgabe zugrunde, die Qualität der ermittelten
Werte der Schichtdicke bei der zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner
Schichten zu verbessern.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Durch die se
quentielle Erregung von zumindest zwei Spulenvorrichtungen kann eine störungs
freie Abgabe der Meßsignale von den Spulenvorrichtungen zu einer Auswerteein
heit erfolgen. Durch das aufeinanderfolgende Erregen der Spulenvorrichtungen
mit der jeweiligen Frequenz kann von der Auswerteeinheit ein von der jeweils be
nachbart angeordneten weiteren Spulenvorrichtung unbeeinflußtes Signal wäh
rend der Messung erfaßt und auch eindeutig jeder Spulenvorrichtung zugeordnet
werden. Dadurch kann eine Überschwingung oder Miterregung der benachbarten
Spulenvorrichtung eliminiert werden, wodurch die Signalabgabe frei von Störpa
rametern erfolgen kann.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen,
daß die Spulen mit Hochfrequenz erregt werden. Dadurch können Änderungen
des elektromagnetischen Wechselfeldes bei Annäherung eines Sondenkopfes an
einen Meßgegenstand als Meßeffekt zur Messung ausgenützt werden. Bei der
Anwendung von hochfrequenten Feldern sind die zu messenden Schichten elek
trisch nicht leitend, wie beispielsweise Farbe, oder schwach leitend, wie beispiels
weise Chrom oder dergleichen.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen,
daß die von der ersten und zumindest zweiten Spulenvorrichtung kommenden
Frequenzsignale, die zeitlich getrennt voneinander abgegeben werden, durch
Feldeffekttransistoren in der Zeitdauer der Abgabe der Signale begrenzt werden.
Dadurch kann eine Trennung zwischen dem abgegebenen Frequenzsignal der
ersten und der zumindest zweiten Spulenvorrichtung sichergestellt sein, wodurch
eine genaue Erfassung und Zuordnung der Meßsignale erzielt werden kann. Da
durch kann auch während der Übertragung der Signale zur Auswerteeinheit eine
gegenseitige Beeinflussung oder Überlagerung verhindert sein. Die Ansteuerung
der Spulenvorrichtungen und der Feldeffekttransistoren, über welche die Meßsi
gnale an eine Auswerteeinheit weitergeleitet werden, kann in einem definierten
Zeitfenster erfolgen, wodurch auch das Zuordnen der Meßsignale ermöglicht ist.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen,
daß die durch die Spulenvorrichtung abgegebenen Signale unabhängig voneinan
der ausgewertet werden. Beispielsweise kann von einer ersten Spulenvorrichtung
ein im wesentlichen die Schichtdicke bestimmendes Signal erfaßt werden, wobei
beispielsweise durch die weitere Spulenvorrichtung ein die Krümmung der Meßo
berfläche bestimmendes Signal erfaßt werden kann. Durch die getrennte Aus
wertung kann eine exakte Berechnung der beiden Meßgrößen gegeben sein, wo
durch die anschließende Ermittlung des Meßwertes durch die Formeln - wie aus
der DE 41 19 903 A1 hervorgeht - mit einer höheren Genauigkeit erfolgen kann.
Durch die Trennung der Signale der Spulenvorrichtungen kann vorteilhafterweise
die Erregung der Spulenvorrichtungen mit gleicher Frequenz erfolgen, wodurch
eine weitere Vereinfachung des Aufbaus der Steuerung erzielt werden kann.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen,
daß durch eine Flip-Flop-Schaltung nacheinander eine erste Spulenvorrichtung mit
einem ersten Schaltkreis und eine zweite Spulenvorrichtung in einem zweiten
Schaltkreis zur Durchführung einer Messung angeregt wird. Durch die vorteilhaf
terweise vorgesehenen Feldeffekttransistoren kann schaltungstechnisch sicherge
stellt sein, daß eine sequentielle Ansteuerung der Spulenvorrichtung zur Abgabe
von Frequenzsignalen ermöglicht ist. Vorteilhafterweise ist vorgesehen, daß die
Schaltkreise der Spulenvorrichtungen identisch ausgebildet sind. Dadurch kann
der Aufbau der Schaltung einfach gestaltet sein.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des Verfahrens ist vorgesehen,
daß die Frequenzsignale über einen Kompensator zur Auswerteeinheit geführt
werden. Dadurch ist ermöglicht, daß sich die Phasenlage der Frequenzsignale so
einstellen lassen, daß die unerwünscht Abhängigkeit der Meßsignale von der
elektrischen Leitfähigkeit des Grundwerkstoffes weitgehend eliminiert wird.
Somit kann durch das erfindungsgemäße Verfahren zur zerstörungsfreien Mes
sung der Dicke dünner Schichten erzielt werden, daß die Meßwerte zumindest von
den Störparametern wie die Krümmung der Oberflächen und die Leitfähigkeit des
Meßgegenstandes, die sich besonders kritisch bei der Messung dünner Schichten
im Bereich weniger µm auswirken, nahezu vollständig eliminiert werden.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung, die insbesondere zur Durchführung des Ver
fahrens vorgesehen ist, weist in einem Gehäuse einen ferritischen Topfkern auf,
der eine erste Spulenvorrichtung aufnimmt und an einem der ersten Spulenvor
richtung liegenden Zapfen eine Aufsetzkalotte aufweist und außerhalb des Topf
kernes konzentrisch zur ersten Spulenvorrichtung eine weitere Spulenvorrichtung
aufnimmt. Durch die fest zueinander angeordneten Spulenvorrichtungen, die vor
teilhafterweise eine gemeinsame Mittelachse aufweisen, kann eine exakte Ermitt
lung gegeben sein, da aufgrund des gemeinsamen Aufsitzpunktes der Aufsetzka
lotte der Wirkungsbereich der ersten und zweiten Spulenvorrichtung von der ge
meinsamen geometrischen Achse ausgeht. Die erste oder innere Spulenvorrich
tung ist dabei schichtdickensensitiv und die äußere beziehungsweise zweite Spu
lenvorrichtung ist dabei krümmungssensitiv ausgebildet.
Weitere vorteilhafte Ausbildungen sind in den weiteren Ansprüchen angegeben.
Eine bevorzugte Ausführungsform der Meßsonde sowie einer Schaltung zur
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens sind in der nachfolgenden Be
schreibung näher erläutert. Es zeigen
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer Meßsonde,
Fig. 2 ein schematischer Querschnitt eines Sondenkopfes der Meß
sonde,
Fig. 3 eine Ansicht von unten auf den Meßkopf gemäß Fig. 2,
Fig. 4 eine schematische Darstellung von ineinandersetzbaren Kom
ponenten der Meßsonde,
Fig. 5 eine schematische Darstellung der Meßsonde bei der Mes
sung an einer gekrümmten Oberfläche,
Fig. 6 eine schematische Darstellung der Schaltung zur Durchfüh
rung des Meßverfahrens und
Fig. 7 ein Kennliniendiagramm, welches ein Vergleich von Meßwer
ten zeigt, die gemäß dem Stand der Technik und gemäß der
Erfindung erfaßt sind.
In Fig. 1 ist eine als Meßsonde 11 ausgebildete Vorrichtung perspektivisch dar
gestellt. Die Meßsonde 11 ist über ein Kabel 12 und einen Anschlußstecker 13 an
einer nicht näher dargestellten Auswerteeinheit anschließbar. Die Meßsonde 11
weist einen Sondenkopf 14 auf, der von einer Hülse 16 umgeben ist. Der Sonden
kopf 14 ist axial bewegbar zur Führungshülse 17 angeordnet. Dies wird nachfol
gend in Fig. 4 näher beschrieben.
In Fig. 2 ist stark vergrößert ein schematischer Querschnitt des Sondenkopfes 14
dargestellt. In Fig. 3 ist eine entsprechende Ansicht von unten dargestellt. Der
Sondenkopf 14 weist ein Gehäuse 18 auf, in welchem ein Meßsystem in einer
vorzugsweise nicht magnetischen Masse 19 eingebettet ist. Das Meßsystem be
steht aus einem Topfkern 21, der in einer geometrischen Achse 22 einen Mittel
zapfen 23 aufweist. Konzentrisch zu dem Mittelzapfen 23 ist eine erste oder innere
Spulenvorrichtung 24 vorgesehen. Stirnseitig zum Topfkern 21 ist beispielsweise
eine Isolierscheibe 26 vorgesehen. Der Topfkern 21 weist an der Stirnseite des
Mittelzapfens 23 eine Aufsetzkalotte 27 auf, welche aus abriebfestem Material, wie
beispielsweise einem Rubin, und zumeist aus nicht magnetischem Werkstoff aus
gebildet ist. Die Aufsetzfläche der Aufsetzkalotte 27 ist gekrümmt ausgebildet, wo
bei deren tiefster Punkt in der geometrischen Achse 22 liegt. Der Topfkern 21
weist vorzugsweise diametral einander gegenüberliegende Schlitze 28 auf, durch
welche Anschlußleitungen der inneren Spulenvorrichtung 24 in einen hinteren Be
reich des Sondenkopfes 14 geführt werden, die wiederum mit einer elektronischen
Schaltung 50 verbunden sind. Auf einem Außenmantel 29 des Topfkernes 21 ist
eine zweite oder äußere Spulenvorrichtung 31 angeordnet. Die Spulenvorrichtun
gen 24, 31 sind auf dem Topfkern 21 unverrückbar, beispielsweise fest eingegos
sen, so daß der Sondenkopf 14 als eine feste Einheit ausgebildet ist. Vorteilhaf
terweise sind die zu einem Meßgegenstand weisenden Stirnseiten der Spulenvor
richtungen 24, 31 auf einer gemeinsamen Ebene angeordnet. Ebenso liegt die
Stirnfläche des Gehäuses 18 vorteilhafterweise in dieser Ebene. Die Meßsonde 11
hat beispielsweise als Dimension einen typischen Durchmesser eines Füllfeder
halters, in welchem das eigentliche Meßsystem mit etwa 2 mm Durchmesser be
weglich eingebaut ist.
Die interessierenden Schichtdicken liegen schwerpunktmäßig im Bereich von eini
gen µm um bis zu 100 µm. Es können aber auch dickere Beschichtungen, die in
den mm Bereich reichen, erfaßt werden.
In Fig. 4 ist in einer Art Explosionsdarstellung ein Aufbau der Meßsonde 11 dar
gestellt. Der Sondenkopf 14 weist einen ersten zylindrischen Abschnitt 33 auf, der
in einen zweiten, im Durchmesser kleineren Abschnitt 34 übergeht. Der zylindri
sche Abschnitt 34 weist vorteilhafterweise ein Gewinde auf, so daß eine leichte
Einbaumöglichkeit zur Zwischenhülse 36 gegeben ist. An diesem ist eine Leiter
platte befestigt, auf welcher die in Fig. 6 dargestellte erfindungsgemäße Schal
tung 50 vorgesehen ist. Diese Baueinheit wird von einer Zwischenhülse 36 aufge
nommen, welche ihrerseits von einer Führungshülse 17 federnd nachgiebig durch
eine vorzugsweise Spiralfeder 37 aufgenommen wird. Die Führungshülse 17 weist
einen Aufnahmeabschnitt 38 auf, an dem die Hülse 16 aufsteckbar ist. Durch die
federnde Lagerung der Zwischenhülse 36 in der Führungshülse 17 kann während
einer Messung der Sondenkopf 14, welcher in einer Ausgangsposition gegenüber
der Stirnseite der Hülse 16 herausragt, in die Hülse bewegt werden. Dies dient
ferner dazu, daß die Aufsetzkalotte 27 in Verlängerung der geometrischen Achse
22 aufsitzt, wie nachfolgend in Fig. 5 beschrieben wird.
Die Zwischenhülse 36 ist axial bewegbar in der Führungshülse 17 geführt. Des
weiteren ist eine Verdrehsicherung vorgesehen, wie beispielsweise eine Nut- und
Federverbindung oder ein an der Zwischenhülse 36 angeordnetes und einge
spanntes Federelement 37, welches in einer Nut der Führungshülse 17 läuft. über
ein Zwischenstück 39 werden die Anschlußleitungen zur Führungshülse 17 fixiert.
Gleichzeitig kann dies eine Zugentlastung bilden.
Die zwischen der Zwischenhülse 36 und der Führungshülse 17 angeordnete Fe
der 37 ist zumindest geringfügig vorgespannt, so daß während der Messung der
gekrümmten Oberfläche der Sondenkopf 14 mit einer zumindest geringfügigen
Anpreßkraft auf der Oberfläche beziehungsweise der zu messenden Schicht an
liegt. Diese ist jedoch im Verhältnis zur Härte der Schicht gering, so daß keine
Eindruckstellen oder Beschädigungen nach der Messung der Schichtdicke vorlie
gen.
Beispielsweise ist die Messung einer Schichtdicke an einer gekrümmten Oberflä
che in Fig. 5 dargestellt. Die Hülse 16 weist an ihrem stirnseitigen Ende eine vor
zugsweise prismatische Ausnehmung 41 auf, durch welche erzielt werden kann,
daß beim Aufsetzen der Meßsonde 11 auf die gekrümmte Oberfläche eine gesi
cherte und definierte Anlage der Meßsonde 11 zur Oberfläche geschaffen werden
kann. Die Größe und Art der Ausnehmung 41 kann an verschiedene Meßgegen
stände angepaßt werden. Dadurch kann auch die Meßsonde 11 auf der zylindri
schen oder gekrümmten Oberfläche zentriert werden, wodurch eine kontrollierte
Messung durchgeführt werden kann. Der Sondenkopf 14 wird dabei gegenüber
seiner Ausgangsposition, wie beispielsweise in Fig. 1 dargestellt, entlang der
geometrischen Achse 22 in die Hülse 16 eingetaucht. Durch die Spiralfeder 37
wird die Aufsetzkalotte 27 zumindest unter einem geringen Druck auf der Oberflä
che 42 des Meßgegenstandes gehalten. Unmittelbar nach Aufsetzen der Meßson
de 11 auf dem Meßgegenstand kann die Messung der Dicke dünner Schichten
durchgeführt werden.
Eine derartige Messung wird nachfolgend anhand der Schaltung 50 gemäß Fig.
6 beschrieben.
Die Schaltung 50 umfaßt zwei nahezu identische Schwingkreise 51 und 52. Die
Wirkungsweise wird beispielhaft am Schaltkreis 51, welcher der Innenwicklung
bzw. der Spulenvorrichtung 24 zugeordnet ist, beschrieben. Der Serienschwing
kreis, bestehend aus einem Kondensator 53 dieser Spulenvorrichtung 24, bildet in
Verbindung mit einem Dualgate-Feldeffekttransistor 54 einen aktiven Serienreso
nanzkreis. Dies ist möglich, weil im Falle der Serienresonanz an der Spulenvor
richtung 24 eine deutliche Spannungsüberhöhung auftritt gegenüber der Hochfre
quenzspannung, die an einem Widerstand 56 entsteht. Die Resonanzbedingung
wird dadurch erfüllt. Die Spulenvorrichtung 24 liegt einseitig auf einem Massepo
tential. Die an der Spulenvorrichtung 24 entstehende Spannung wird über einen
Widerstand 57 und einen regelbaren Widerstand 58 dem Gate 2 des Transistors
54 zugeführt. Mit dem regelbaren Widerstand 58 kann in Verbindung mit dem
Kondensator eine Phasendrehung dergestalt vorgenommen werden, daß die un
erwünschte Abhängigkeit des Meßwertes von der Leitfähigkeit des Grundwerk
stoffes fast vollständig unterdrückt wird. Ein Kondensator 59 bestimmt die Rück
kopplung und wird so gewählt, daß eine quasi sinusförmige Spannung mit sehr
geringem Oberwellenanteil an dem Widerstand 56 entsteht. Dadurch wird eine
weitgehende Unterdrückung einer Störstrahlung möglich. Wird das Gate 1 des
Transistors 54 auf low geschaltet, ist die Resonanzbedingung nicht mehr erfüllt
und die Oszillation klingt sehr schnell ab. Nähert man den Sondenkopf 14 an ei
nen metallischen Grundwerkstoff an, dann werden in diesem Wirbelströme er
zeugt, welche den Schwingkreis 51 verstimmen. Die Annäherung der Spulenvor
richtung 24 entspricht dem Meßeffekt der Schichtdicke. Der Meßeffekt ist mit der
Schichtdicke durch eine nichtlineare Funktion verknüpft. In der Regel ist die
Schicht elektrisch isolierend, so daß nur im Grundwerkstoff Wirbelströme erzeugt
werden. Eine Messung ist aber mit dieser Schaltung 50 erfindungsgemäß auch
dann möglich, wenn eine schlecht leitende, nicht magnetische Schicht, z. B. Chrom
auf nicht magnetischem Grundwerkstoff, z. B. Aluminium, welches eine deutlich
besser Leitfähigkeit besitzt, galvanisch niedergeschlagen wird.
Der Schaltkreis 52 arbeitet analog dem Schaltkreis 51. Die Spulenvorrichtung 31,
die vorzugsweise mit gleicher Frequenz wie die Spulenvorrichtung 24 erregt wird,
reagiert jedoch im wesentlichen nur auf Krümmung, wobei die krümmungsbe
dingte Frequenzänderung zur Kompensation des Krümmungseinflusses gemäß
DE 41 19 903 A1 dient. Die Erregungsfrequenz der Spulenvorrichtungen 24, 31
liegen beispielsweise im Bereich von 5 bis 30 MHz. In einer Signaleingangsleitung
61 sind zwei Inverter 62, 63 vorgesehen, die gewährleisten, daß nur ein Transistor
54 eines Schalkreises 51, 52 zur Schwingung freigegeben ist. Wenn der Schalt
punkt 64 auf high (1) liegt, dann wird nur der Schaltkreis 51 zur Schwingung frei
gegeben. Liegt der Schaltpunkt 64 auf low (0), dann wird nur der Schaltkreis 52
freigegeben. Die beiden Dualgate-Feldeffekttransistoren 54 liegen über eine Lei
tung 60 an einer gleichen Versorgungsgleichspannung von beispielsweise 5 V,
welche über eine kleine Induktivität 66 zugeführt wird, um diese zu aktivieren. Al
ternativ kann auf das Gate 1 der Feldeffekttransistoren 54 verzichtet werden und
die Transistoren 54 können abwechselnd mit zwei intermittierend geschaltenen
Leitungen ein- bzw. ausgeschalten werden. Diese Art der Schaltung ist über
schnelle Halbleiterschalter möglich.
Die Resonanz der beiden sequentiell geschalteten Transistoren 54 bewirkt, daß
über die Induktivität 66, welche einen Serienschwingkreis 65 mit einem Konden
sator 67 bildet, an dem Widerstand 68 die jeweilige Resonanzfrequenz von dem
Schaltkreis 51 und 52 abgegriffen werden kann. Dadurch können Signale der je
weiligen Spulenvorrichtung 24, 31 erkannt und über einen Schaltpunkt 70 durch
die nachfolgende Serienschaltung 65 abgegriffen, erfaßt und ausgewertet werden.
Die Hochfrequenzsignale werden der Gleichspannungsversorgungsleitung 61
überlagert. Zur Auswertung erfolgt beispielsweise 10-mal in der Sekunde ein
Wechsel zwischen den Spulenvorrichtungen 24, 31, so daß zumindest 100.000
Schwingungen zur Meßwertbildung zur Verfügung stehen. Es würde auch eine
geringere Anzahl genügen.
In Verbindung mit dem Schaltzustand an dem Schaltpunkt 64 ist eindeutig die Re
sonanz von dem Schaltkreis 51 und 52 definiert, so daß in einer nachfolgenden
Schaltung die beiden Signale der Schaltkreise 51, 52, wie in DE 41 19 903 A1 be
schrieben, zusammengeführt werden können. Die gezeigte Schaltung kann in
SMD-Technik aufgebaut und direkt in der Sonde 11, wie in Fig. 4 gezeigt, inte
griert werden.
In Fig. 7 ist ein Kennenliniendiagramm dargestellt, welches den prozentualen
Anteil des Krümmungsfehlers in Abhängigkeit des Durchmessers der gekrümmten
Oberfläche darstellt, auf der eine Messung der Schichtdicke erfolgt ist. Eine Kenn
linie 81 stellt die Meßwerte dar, welche bislang mit aus dem Stand der Technik
bekannten Meßsonden und Schaltungen ermittelt wurden. Daraus ist zu entneh
men, daß der prozentuale Krümmungsfehler bisher in einem erheblichen Maße,
insbesondere bei sehr kleinen Durchmessern, gegeben war. Durch die erfin
dungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren werden Meß
werte gemäß einer Kennlinie 82 ermittelt, deren prozentualer Krümmungsfehler
um ein erhebliches Maß reduziert ist. Dadurch wird deutlich, in welchem Maße
eine Verbesserung gegenüber dem Stand der Technik erzielt wurde. Dies ist für
den Anwender von wesentlicher Bedeutung. Dadurch kann beispielsweise eine
wesentliche Erhöhung der Meßgenauigkeit in der Qualitätskontrolle erzielt werden.
Claims (20)
1. Verfahren zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten mit ei
ner Sonde (11), welche eine erste Spulenvorrichtung (14) auf einem Innenkern
aufweist, deren geometrische Mitte (22) und die geometrische Mitte zumindest
einer zweiten Spulenvorrichtung (31) sich decken, wobei die zumindest zweite
Spulenvorrichtung (31) die erste Spulenvorrichtung (24) teilweise umgibt, mit
einer Auswerteeinheit, an welche Signale der Spulenvorrichtungen (24, 31)
während einer Messung zur Ermittlung der Schichtdicke abgegeben werden,
dadurch gekennzeichnet, daß eine Schaltung 50 vorgesehen ist, durch welche
die erste und die zumindest zweite Spulenvorrichtung (24, 31) sequentiell
während einer Messung erregt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Spulenvorrich
tungen (24, 31) mit Hochfrequenz erregt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die von der
ersten und zumindest zweiten Spulenvorrichtung (24, 31) kommenden Fre
quenzsignale, welche zeitlich getrennt voneinander abgegeben werden, durch
die Periode zur Abgabe der Frequenzsignale jeder Spulenvorrichtung (24, 31)
mittels Transistoren (54), welche vorzugsweise von der Schaltung (50), in
Analogie zu den Spulenvorrichtungen (24, 31) angesteuert werden, begrenzt
wird.
4. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die durch die Spulenvorrichtungen (24, 31) abgegebenen Signale durch
einen Serienschwingkreis (65) eindeutig der jeweiligen Spulenvorrichtung (24,
31) zugeordnet und unabhängig voneinander ausgewertet wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich
net, daß die Spulenvorrichtungen (24, 31) mit gleicher Frequenz erregt werden.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die erste Spulenvorrichtung (24) mit einer Frequenz zwischen 8 und 20 MHz
erregt, und daß die weitere Spulenvorrichtung (31) mit einer Frequenz zwi
schen 4 und 12 MHz erregt wird.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich
net, daß im Wechsel von wenigstens zweimal pro Sekunde die Schwingungen
der Spulenvorrichtungen (24, 31) des sich während der Messung ändernden
Meßfeldes abgefragt werden.
8. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Spulenvorrichtung (24) einen Schaltkreis (51) aufweist und die
zweite Spulenvorrichtung (31) einen Schaltkreis (52) aufweist, die parallel zu
einander geschalten sind und eine Flip-Flopschaltung (62, 63) vorgesehen ist,
durch welche zeitabhängig vorteilhafterweise der jeweils den Spulenvorrich
tungen (24, 31) zugeordnete Transistor (54) geschalten wird.
9. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß das von der Spulenvorrichtung (24, 31) gegebene Frequenzsignal über
einen Kompensator (58) zur Auswerteeinheit geführt wird.
10. Vorrichtung, insbesondere zur Durchführung des Verfahrens nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, mit einem Gehäuse (18), mit einer ersten Spu
lenvorrichtung (24) und einer zweiten Spulenvorrichtung (31) und mit einer
Aufsetzkalotte (27) dadurch gekennzeichnet, daß ein Sondenkopf (14) mit ei
nem ferritischen Topfkern (21) vorgesehen ist, welcher die erste Spulenvor
richtung (24) nahe einer gemeinsamen geometrischen Achse (22) aufnimmt,
und daß der Topfkern (21) in der gemeinsamen Achse (22) einen Zapfen (23)
aufweist, der innerhalb der ersten Spulenvorrichtung (24) liegt und an dessen
Stirnseite die Aufsetzkalotte (27) vorgesehen ist, die zumindest teilweise ge
genüber der Stirnseite der Spulenvorrichtung (14) hervorspringt und daß au
ßerhalb des Topfkerns (21) konzentrisch eine zweite Spulenvorrichtung (31)
vorgesehen ist.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Anzahl der
Wicklungen der ersten Spulenvorrichtung (24) gleich oder geringer als die der
zweiten Spulenvorrichtung (31) ist.
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 und 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste und zweite Spulenvorrichtung (24, 31) fest zueinander angeord
net, vorzugsweise in einer Gußmasse eingebettet sind.
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 11, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste und zweite Spulenvorrichtung (24, 31) zur Stirnseite des Son
denkopfes (14) in einer Ebene angeordnet sind.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 13, dadurch gekennzeichnet,
daß der Topfkern (21) wenigstens einen seitlichen Schlitz (28) zur Durchfüh
rung von Anschlußleitungen aufweist.
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet,
daß der Sondenkopf (14) axial verschiebbar in einer Führungshülse (17) und
gegenüber einer fest zu der Führungshülse (17) angeordneten Schutzhülse
(16) eintauchbar gelagert ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Schutzhülse
(16) an einer zum Sondenkopf (14) weisenden Stirnseite eine Ausnehmung
(41), die vorzugsweise primatisch ausgebildet ist, aufweist.
17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß der
Sondenkopf (14) entgegen einer Federkraft in die Schutzhülse (16) eintauch
bar ist, und daß ein Federelement (37) unter zumindest geringer Vorspannung
zur Führungshülse (17) angeordnet ist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 17, dadurch gekennzeichnet,
daß die erste Spulenvorrichtung (24) schichtdickensensitiv und die zumindest
weitere Spulenvorrichtung (31) krümmungssensitiv ausgebildet ist.
19. Schaltung zur getrennten Auswertung von zwei Meßsignalen, insbesondere
zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Verstimmung jeweils einer Induktivität (24, 31) in ei
ner Frequenzänderung resultiert, wobei eine Induktivität (24) in erster Linie
von der Schichtdicke und die andere Induktivität (31) in erster Linie von der
Krümmung des Meßgegenstandes beeinflußt wird.
20. Schaltung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß beide Induktivitä
ten (24, 31) eine gemeinsame Masse aufweisen und die Frequenz an einem
Schaltpunkt (70) in eindeutiger Zuordnung das entsprechende Frequenzsignal
ausgekoppelbar ist.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10014348A DE10014348B4 (de) | 2000-03-24 | 2000-03-24 | Vorrichtung zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten |
GB0106252A GB2361999B (en) | 2000-03-24 | 2001-03-13 | Method and apparatus for the nondestructive measurement of the thickness of thin layers |
FR0104048A FR2806790B1 (fr) | 2000-03-24 | 2001-03-22 | Procede et dispositif de mesure non destructive de l'epaisseur de couches fines |
CNB011117567A CN1278097C (zh) | 2000-03-24 | 2001-03-23 | 用于无损测量薄层厚度的方法和仪器 |
BRPI0103696-3A BR0103696B1 (pt) | 2000-03-24 | 2001-03-23 | Aparelho para medição da espessura de camadas finas |
US09/818,036 US6777930B2 (en) | 2000-03-24 | 2001-03-26 | Sequentially non-destructive thickness measurement |
JP2001087159A JP4676080B2 (ja) | 2000-03-24 | 2001-03-26 | 薄層の厚さの非破壊測定方法およびその装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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GB (1) | GB2361999B (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014106242A1 (de) * | 2014-05-05 | 2015-11-05 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Vorrichtung zum Positionieren und Ausrichten eines rotationssymmetrischen Körpers |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB0208298D0 (en) * | 2002-04-10 | 2002-05-22 | Rhopoint Instrumentation Ltd | A paint monitoring device |
GB2397652B (en) * | 2002-11-15 | 2005-12-21 | Immobilienges Helmut Fischer | Measurement probe for measurement of the thickness of thin layers |
DE10313766B4 (de) * | 2003-03-22 | 2021-04-29 | Hilti Aktiengesellschaft | Handgeführtes Arbeitsgerät |
US7148712B1 (en) * | 2005-06-24 | 2006-12-12 | Oxford Instruments Measurement Systems Llc | Probe for use in determining an attribute of a coating on a substrate |
DE102005054593B4 (de) * | 2005-11-14 | 2018-04-26 | Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg | Messonde zur Messung der Dicke dünner Schichten |
FR2900471B1 (fr) * | 2006-04-26 | 2008-12-26 | Snecma Sa | Mesure des epaisseurs de paroi, notamment d'aube, par courants de foucault |
JP4825084B2 (ja) * | 2006-08-28 | 2011-11-30 | 財団法人電力中央研究所 | 治具、膜厚計測装置及び方法 |
US20100307221A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Benjamin Morgan Smith | Belt measurement device |
AR077219A1 (es) * | 2009-06-25 | 2011-08-10 | Ca Atomic Energy Ltd | Aparato y metodo para medir depositos dentro de un tubo |
CN102549588A (zh) | 2009-08-10 | 2012-07-04 | 糖尿病工具瑞典股份公司 | 用于产生状态指示的装置和方法 |
US9194687B1 (en) | 2010-02-04 | 2015-11-24 | Textron Innovations Inc. | System and method for measuring non-conductive coating thickness using eddy currents |
DE202010006062U1 (de) * | 2010-04-23 | 2010-07-22 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Messsonde zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten |
DE202010006061U1 (de) * | 2010-04-23 | 2010-07-22 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Messsonde zur zerstörungsfreien Messung der Dicke dünner Schichten |
DE102010020116A1 (de) * | 2010-05-10 | 2011-11-10 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Dicke dünner Schichten an großflächigen Messoberflächen |
DE102011103122A1 (de) * | 2011-05-25 | 2012-11-29 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Aufsetzkalotte für eine Messsonde sowie Messsonde zur Messung der Dicke dünner Schichten |
EP2715335B1 (de) * | 2011-05-25 | 2019-10-16 | Helmut Fischer GmbH | Messsonde zur messung der dicke dünner schichten sowie verfahren zur herstellung eines sensorelementes für die messsonde |
JP5648663B2 (ja) * | 2012-09-20 | 2015-01-07 | センサ・システム株式会社 | 焼入れ硬化層厚さの検査装置及びニッケルめっき皮膜厚さの検査装置 |
US9335296B2 (en) | 2012-10-10 | 2016-05-10 | Westinghouse Electric Company Llc | Systems and methods for steam generator tube analysis for detection of tube degradation |
DE102013104251A1 (de) | 2013-04-26 | 2014-10-30 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Messsonde zur Messung der Dicke dünner Schichten |
JP7087529B2 (ja) * | 2018-03-23 | 2022-06-21 | 中国電力株式会社 | 膜厚計の位置合わせ治具 |
US11935662B2 (en) | 2019-07-02 | 2024-03-19 | Westinghouse Electric Company Llc | Elongate SiC fuel elements |
ES2955292T3 (es) | 2019-09-19 | 2023-11-29 | Westinghouse Electric Co Llc | Aparato para realizar pruebas de adherencia in situ de depósitos de pulverización en frío y procedimiento de empleo |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB425586A (en) * | 1934-11-21 | 1935-03-18 | Alfred Loewenstein | Improvements relating to systems for electrically measuring the thickness of metallic walls, sheets and the like |
DE1984325U (de) * | 1965-06-22 | 1968-04-25 | Schneider Co Optische Werke | Lesegeraet zum abtasten optischer informationen. |
US4420667A (en) * | 1982-06-21 | 1983-12-13 | Park-Ohio Industries, Inc. | Induction heating method and apparatus for elongated workpieces |
DE3437253A1 (de) * | 1983-08-31 | 1986-04-17 | Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen | Elektromagnetische mess-sonde |
DE3404720A1 (de) * | 1984-02-10 | 1985-08-14 | Karl Deutsch Prüf- und Meßgerätebau GmbH + Co KG, 5600 Wuppertal | Verfahren und vorrichtung zur schichtdickenmessung |
JPS6284750U (de) * | 1985-11-18 | 1987-05-29 | ||
NO162537C (no) * | 1986-02-17 | 1990-01-10 | Dam Patent A S | Fremgangsmaate og anordning for ikke-destruktiv materialproevning. |
US4747310A (en) * | 1986-08-12 | 1988-05-31 | Grumman Aerospace Corporation | Probe for composite analyzer tester |
JPS63212804A (ja) * | 1987-02-28 | 1988-09-05 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 膜厚測定方法 |
JPH0748842B2 (ja) * | 1987-03-25 | 1995-05-24 | 三菱電機株式会社 | 磁気記録再生装置 |
DE3902095C2 (de) * | 1989-01-25 | 1997-01-16 | Helmut Fischer Gmbh & Co | Meßsonde zur Messung dünner Schichten |
EP0435232B1 (de) * | 1989-12-29 | 1995-05-17 | Ebara Corporation | Verschiebungssensor vom Induktionstyp mit Unempfindlichkeit gegenüber externen magnetischen Feldern |
US5120908A (en) * | 1990-11-01 | 1992-06-09 | Gazelle Graphic Systems Inc. | Electromagnetic position transducer |
DE4119903C5 (de) * | 1991-06-17 | 2005-06-30 | Immobiliengesellschaft Helmut Fischer Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zur Messung dünner Schichten |
FR2678061A1 (fr) * | 1991-06-25 | 1992-12-24 | Fischer Gmbh Co Inst Elektro | Procede et dispositif pour la mesure de couches minces. |
JP2952727B2 (ja) * | 1991-06-25 | 1999-09-27 | ヘルムート フィッシャー ゲーエムベーハー ウント コンパニー インスティテュート フュア エレクトローニク ウント メステヒニク | 薄い層の厚さを測定するための方法および装置 |
US5343146A (en) * | 1992-10-05 | 1994-08-30 | De Felsko Corporation | Combination coating thickness gauge using a magnetic flux density sensor and an eddy current search coil |
JPH06186207A (ja) * | 1992-12-17 | 1994-07-08 | Nuclear Fuel Ind Ltd | 渦電流探傷プローブ |
US5416411A (en) * | 1993-01-08 | 1995-05-16 | Lockheed Fort Worth Company | System and method for measuring the thickness of a ferromagnetic layer |
JPH06313762A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-08 | Toshiba Corp | 多重周波数型渦流探傷装置 |
DE4325767A1 (de) * | 1993-07-31 | 1995-02-02 | Karl Deutsch Pruef Und Mesgera | Schichtdickenmeßvorrichtung |
JP3136032B2 (ja) * | 1993-09-20 | 2001-02-19 | 株式会社ケット科学研究所 | 膜厚計測センサーおよび計測回路 |
JP3445018B2 (ja) * | 1995-03-28 | 2003-09-08 | 新日本無線株式会社 | Rfモジュレータic |
US5660672A (en) * | 1995-04-10 | 1997-08-26 | International Business Machines Corporation | In-situ monitoring of conductive films on semiconductor wafers |
JP2717778B2 (ja) * | 1995-04-27 | 1998-02-25 | 京都樹脂精工株式会社 | 移動中の金属板上に形成された絶縁性被膜の厚さ測定装置、およびその測定方法 |
BR9504681A (pt) * | 1995-09-18 | 1997-10-07 | Brasilia Telecom | Medição de espessura de camadas metálicas sobre lâminas isolantes |
GB2306009B (en) * | 1995-10-05 | 1999-06-16 | Elcometer Instr Ltd | A coating thickness measuring probe |
JP2000502189A (ja) * | 1995-12-22 | 2000-02-22 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | 導電性被膜の厚さ決定方法及び装置 |
DE19841325A1 (de) * | 1997-09-26 | 1999-04-08 | Nix Steingroeve Elektro Physik | Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Bestimmung des Abstandes zu einem metallischen Gegenstand in nichtmetallischer und unmagnetischer Umgebung und/oder zur Bestimmung seiner geometrischen Dimension |
FR2783910B1 (fr) * | 1998-09-28 | 2000-12-15 | Minh Quang Le | Capteur inductif et procede pour mesurer la distance capteur-cible |
-
2000
- 2000-03-24 DE DE10014348A patent/DE10014348B4/de not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-03-13 GB GB0106252A patent/GB2361999B/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-22 FR FR0104048A patent/FR2806790B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-23 BR BRPI0103696-3A patent/BR0103696B1/pt not_active IP Right Cessation
- 2001-03-23 CN CNB011117567A patent/CN1278097C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-26 JP JP2001087159A patent/JP4676080B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-26 US US09/818,036 patent/US6777930B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014106242A1 (de) * | 2014-05-05 | 2015-11-05 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Vorrichtung zum Positionieren und Ausrichten eines rotationssymmetrischen Körpers |
US9976943B2 (en) | 2014-05-05 | 2018-05-22 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Device to position and align a rotationally-symmetrical body |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BR0103696B1 (pt) | 2014-07-22 |
GB2361999A (en) | 2001-11-07 |
GB2361999B (en) | 2005-02-23 |
US20020021125A1 (en) | 2002-02-21 |
JP4676080B2 (ja) | 2011-04-27 |
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GB0106252D0 (en) | 2001-05-02 |
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US6777930B2 (en) | 2004-08-17 |
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DE10014348B4 (de) | 2009-03-12 |
FR2806790A1 (fr) | 2001-09-28 |
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DE4119903C5 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Messung dünner Schichten | |
DE3704049C2 (de) | ||
DE3910297C2 (de) | ||
DE3840532C2 (de) | ||
WO2006034911A1 (de) | Detektor zur ortung metallischer objekte | |
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