CZ29194A3

CZ29194A3 - Transparent substrate, particularly glass substrate being provided with a set of thin layers

Info

Publication number: CZ29194A3
Application number: CZ94291A
Authority: CZ
Inventors: Stephanie Ing Koch; Veronique Rondeau; Jean-Pierre Brochot; Olivier Ing Guiselin
Original assignee: Saint Gobain Vitrage
Priority date: 1993-02-11
Filing date: 1994-02-10
Publication date: 1995-06-14
Also published as: FI940619A0; EP0611213B1; BR9400492A; FR2701475B1; NO940395D0; PL302208A1; CN1093346A; AU673564B2; US5718980A; CA2115320A1; ATE156464T1; FR2701475A1; DE69404690D1; DE69404690T2; NO940395L; AU5482094A; ES2107759T3; DK0611213T3; TW255879B; FI940619A

Description

Oblast techniky

Vynález se týká transparentních substrátů, zejména skla, opatřených povlakem souvrství tenkých vrstev obsahujících nejméně jednu kovovou vrstvu, která může působit na sluneční záření na na infračervené záření o dlouhé vlnové délce.

Vynález se rovněž vztahuje na použití takových substrátů «·*·· pro výrobu tepelně izolačních skel a/nebo skel s protisluneční ochranou. Tato skla jsou určena k vybavení jak budov, tak i vozidel za účelem zejména zmenšení míry klimatizace a/nebo zmenšení nadměrného přetápění, které je vyvoláváno stále vzrůstající velikostní zasklených ploch obytných prostorů.

Dosavadní stav techniky

Jeden typ souvrství tenkých vrstev určených pro udělování substrátu zejména vlastnosti nízké emisivity, je tvořen nejméně jednou kovovou vrstvou, jako je vrstva stříbra, uložená mezi dvě vrstvy oxidu kovu. Toto souvrství se zpravidla získává sledem ukládání vrstev při technologii používající vakua, jako je katodové rozprašování, kterému je eventuelně napomáháno magnetickým polem.

Jestliže vrstva stříbra určuje v podstatě tepelné vlastnosti, zejména pokud jde o emisivitu zasklení s povlakem, vrstvy dielektrického kovu vyplňují více rolí-., poné- __ vadž působí především interferenčně na optický vzhled substrátu. Mimo to dovolují chránit vrstvu stříbra proti chemickému a/nebo mechanickému napadení.

Je tak známo z evropské patentově přihlášky EP-A-0

226 993 souvrství obsahující vrstvu stříbra, ležící mezi dvěma vrstvami dielektrického materiálu tvořeného směsným

-2oxidem cínu a zinku. Toto souvrství obsahuje kromě toho velmi tenké, tak zvané zachycovací vrstvy z kovu, zejména mědi, uložené na rozhraní mezi vrstvou stříbra a každou z vrstev oxidu, aby se zvýšila jejich vzájemná přilnavost, což vede ke zvýšení celkové trvanlivosti souvrství.

Stále s cílem zlepšit odolnost vrstvy stříbra proti korozi popisuje francouzský patent FR-B-2 641 271 souvrství, kde vrstva stříbra leží mezi dvěma povlaky z dielektrického materiálu, přičemž každý z povlaků je tvořen souborem vrstev oxidu kovu. Povlak ležící pod vrstvou stříbra se ‘ skládá ze tří vrstev oxidu ležících na sobě, z nichž jedna je vrstva cínu, vrstva přilehlá k vrstvě stříbra je z oxidu zinku a má podle tohoto dokumentu ochranný účinek na stříbro, zejména tím, že je činí méně zranitelné napadením kyslíkem. Naproti tomu vrstva zinku je tenká, nebot oxid zinku, ostatně mále odolný, by přinášel riziko ve větším množství činit sestavu souvrství křehkou. Francouzský patentový spis FR-B-2-2 641 272, odpovídající patentovému spisu USA č.5 153 054 a jehož návrh je velmi blízký výše uvedenému francouzskému patentovému spisu, ., uvádí dále, že přítomnost vrstvy oxidu zinku na obětované kovové vrstvě kryjící vrstvu stříbra rovněž přispívá k její ochraně proti oxidaci.

Vynález si klade za úkol najít nový typ sestavy funkčních vrstev, který by nejen vykazoval uspokojivou trvanlivost, ale který by kromě toho měl zlepšené tepelné vlastnosti, zejména slabší hodnoty emisivity, aniž by toto bylo na újmu optickým vlastnostem.

__ Dá.le s i vynále.z_k.lade_ z a -úkol·-,—ev-e-n-t-ue-l-ně—v —kombi-na-— — ------ci s předchozím, dosáhnout téhož typu souvrství vykazujícího zlepšené optické vlastnosti, ‘zejména zvýšené hodnoty propustnosti světla, při zachování dobrých tepelných vlastností.

-3Podstata vynálezu

Podstatou vynálezu je transparentní substrát, zejména ze skla, opatřený souvrstvím tenkých vrstev obsahujících nejméně jednu'kovovou vrstvu s vlastnostmi v oblasti slunečního záření a zejména v oblasti infračerveného záření, zejména nízkou emisivitouy uloženou-mezi dvěma povlaky na bázi dielektrického materiálu. Toto souvrství je podle vynálezu řešeno tak, že povlak ležící pod touto kovovou vrstvou obsahuje nejméně jeden smáčecí povlak obsahující buď vrstvu na bázi oxidu tantalu nebo vrstvu na bázi oxidu niobu, na níž eventuelně leží tenká vrstva na bázi kovu nebo kovové slitiny, jako je nikl-chrom nebo cín.

Kovová vrstva, která vykazuje vlastnosti v oblasti slunečního záření a/nebo v infračervené oblasti je v rámci vynálezu s výhodou s nízkou emisivitou a na bázi stříbra. V dalším popise je označována jako funkční vrstva.

Srovnájí-li se vlastnosti, pokud jde optické a tepelné vlastnosti, takto definovaného souvrství se souvrstvím, majícím tutéž funkční vrstvu, ale prostým smáčecí vrstvy na bázi ox'idu tantalu nebo oxidu niobu, je možné zcela překvapivě pozorovat, že souvrství podle vynálezu má slabší emisivitu a dokonce vyšší světelnou propustnost. Autoři vynálezu tak objevili, že volba povahy povlaků z dielektrického materiálu a konkrétně povlaku ležícího pod funkční vrstvou, má vliv nejen na chemickou a/nebo fyzikální trvanlivost’- souvrství chránícího - funkční vrstvu, ale rovněž její vnitřní vlastnosti, jako je její hodnota emisivity.

Pro vysvětlení tohoto jevu je možné poskytnout hypotézu, že oxid tantalu a oxid niobu jsou obzvláště vhodné pro přiměřenou nukleaci vrstvy kov$u jako je stříbro a pod/* pouje lepší smáčení, tedy růst souvislejší vrstvy vykazuji-4cí méně ostrůvků vzdálených od sebe na povrchu. To. vede k výjimečné stejnorodosti a lepší souvislosti této vrstvy, mající tak za následek zlepšení jejích vlastností.

Je tak možné podle vynálezu vytvořit všechny účelné . druhy. kompromisů,,, v~. záv is lo s t i - na- tlouštce- použité funkční· vrstvy a/nebo požadovaných vlastnostech, protože vynález dovoluje zejména dosažení hodnot slabších hodnot emisivity při stejné tlouštce funkční vrstvy nebo nezměněné úrovně emisivity pro menší tlouštku.

Velká výhoda vynálezu spočívá v tom, že tento typ kompromisu je možné učinit bez újmy na optických vlastnostech, zejména v úrovni prostupu světla, což je rozhodující jak v oblasti budov, tak i například u automobilů. Až dosud totiž se získávaly nižší hodnoty emisivity zvyšováním tlouštky funkční vrstvy, čímž se zmenšovala propustnost světla.

S výhodou povlak ležící pod funkční vrstvou obsahuje kromě výše zmíněného smáčecího povlaku tenkóýou vrstvu na bázi oxidu kovu, jako je oxid cínu nebo oxid titanu, nebo nitrid křemíku, výhoda tohoto provedení spočívá v tom, že podle vynálezu je možné dosáhnout požadovaného smáčecího účinku s tlouštkou oxidu tantalu nebo oxidu niobu, která může být relativně tenká.' Kromě toho je zapotřebí zachovat pro celkový spodní povlak určitou tlouštku, aby se zachovaly interferenční účinky a ochrana funkční vrstvy. Jelikož rychlost ukládání oxidu tantalu nebo niobu není mimořádně vysoká, zejména když se ukládání provádí postupem typu ka_to.dového_rozprašo-vá-n-í-, —j e -tedy- úěe-l-né- -u-klád-a-t—pod- smáčee-ím— povlakem dielektrickou vrstvu, která má rychlost ukládání výrazně vyšší, jako například vrstvu oxidu cínu. Je tak možné realizovat vynález, aniž by bylo nutné zpomalovat rychlosti výroby citelným způsobem. Kromě toho to dovoluje zisky z hledika nákladů na surovinu, niobu a tantalu, je-5jichž terče pro katodové rozprašování jsou nákladnější než například cínové terče.

S výhodou se kromě toho ukládá na funkční vrstvě vrstva kovu na bázi kovové slitiny jako je nikl-chrom a která je nazývaná obětovaná, neboť její role je chránit funkční vrstvu proti oxidaci při následném ukládání díelektrického materiálu nad ní, které se obvykle provádí reaktivním katodovým rozprašováním, t.j. v přítomnosti kyslíku. V konečné produktu je tedy tato povrchová vrstva podle své tlouštky a podmínek ukládání částečné nebo zcela oxidována.

Povlak dielektrického materiálu, který se nachází nad funkční vrstvou, obsahujes výhodou nejméně jednu vrst' vu na bázi oxidu cínu a/nebo vrstvu na bázi oxidu tantalu a/nebo vrstvu na bázi nitridu křemíku. Účelnost kombinace, tvořené vrstvou oxidu cínu, na níž leží další vrstva zejména oxidu tantalu nebo jiná vrstva, spočívá v tom, že jak bylo výše uvedeno, je rychlost ukládání oxidu cínu dosti vysoká. Kromě toho je oxid tantalu oxid, který je dosti tvrdý a kompaktní, který účelně chrání souvrství proti korozi. Takovýmto zdvojením povlaku je tak možné kumulovat uspokojivou rychlost výroby a mimořádnou trvanlivost konečného výrobku.

Pokud jde o tlouštky vrstev souvrství podle vynálezu, je dávána přednost volbě tlouštky funkční vrstvy od 7 do 12 nanometrů, přičemž celková tlouštka spodního povlaku je v rozmezí od 30 do 60¹ nanometrů a celková tlouštka povlaku nad funkční vrstvou je rovněž v rozmezí od 30 do 60 nanometrů.

S výhodou je základní vrstva oxidu tantalu nebo oxidu niobu, tvořící část smáčecího povlaku, má tlouštku od do 30 nanometrů, s výhodou od 5 do 20 nanometrů, a zejména okolo 10 nanometrů. Tato škála tlouštěk je skutečně do-6stačující pro dosažení požadovaného účinku pokud jde o vlastnosti funkční vrstvy. Dokonce je tlouštka obětované vrstvy s výhodou zvolena v rozmezí od 0,3 do 8 nanometrů, zejména od 1 do 3 nanometrů nebo dokonce okolo ^x6 nanometrů. S výhodou se volí toto rozpětí tlouštěk (podobná) pro fakultativní. kovovou vrstvu,...která může ležet na vrstvě oxidu tantalu nebo vrstvě smáčecího povlaku z oxidu niobu, zejména tlouštkové rozmezí od 0,3 do 4 nanometrů.

Všechny tyto vlastnosti dovoluj í dospět k výrobě zasklení, zejména násobných izolačních skel, jejichž emisivita je nižší nebo rovná 0,08 a jejichž světelná propustnost může zůstat vysoká a může být zejména vyšší nebo rovná 75%,-když se jedná o dvouskla.

Je samozřejmé, že výhody vynálezu jsou ještě zvýrazněny tím, když se aplikuje na substráty opatřené nikoliv jednou, ale více funkčními vrstvami, například dvěma funkčními vrstvami vloženými mezi tři povlaky na bázi dielektrického materiálu. Každá z těchto funkčních vrstev je tedy s výhodou opatřena smáčecím povlakem podle vynálezu.

Přehled obrázků na výkresech

Vynález je blíže vysvětlen v následujícím popisu na příkladech provedení s odvoláním na připojený výkres, ukazující na jediném obr. schematicky skladbu vrstev povlakového souvrství na skleněném substrátu.

Příklady provedení vynálezu

Je třeba poznamenat, že v popisovaných příkladech se postupné_nanášení_tenkých_vrs-tev._děje. -pos-tupem—ka-todo-v-é-ho— rozprašování, jemuž napomáhá magnetické pole, ale že postupy mohou být také prováděny jakoukoli technikou využívající vakuum a dovolující dobré zvládnutí tlouštěk získané vrstvy.

-7Substráty, na niž se se sestavy vrstev nanášejí, jsou substráty ze sodnovápenatého skla tlouštky 4 mm.

Na obr.l je na skleněném substrátu uložena vrstva 3 oxidu tantalu nebo oxidu niobu, která může být popřípadě ukládána na vrstvu 2 oxidu činu a pod tenkou ckrom-niklovou nebo cínovou vrstvu 4. Následuje funkční vrstva 5 na bázi stříbra, na níž leží obětovaná vrstva na bázi chrom-niklu, nad kterou jsou uloženy vrstvy oxidu cínu 7 a/nebo vrstva £3 oxidu tantalu.

Nanášecí zařízení obsahuje nejméně jednu rozprašovací komoru s katodami vybavenými terči z vhodných materiálů, pod nimiž postupně prochází substrát. Podmínky ukládání každé z vrstev jsou následující:

- vrstva 5 na bázi stříbra se nanáší pomocí terče ze stříbra pod tlakem 8.10^_3mbar (0,8 Pa) v atmosféře argonu,

- vrstva nebo vrstvy 2, 7 na bázi oxidu ciničitého Sn0₂jsou nanášeny reaktivním rozprašováním pomocí cínového terče pod tlakem 8.10^-3mbar (0,8 Pa) a v argon-kyslíkové atmosféře s 36 objemových % kyslíku,

- vrstva nebo vrstvy 3_, 8 na bázi oxidu titaničného Ta₂0₅nebo oxidu niobičného Nb₂0₅ se nanášejí rozprašováním pomocí tantalového nebo niobového terče pod tlakem 8.10^-3mbar (0,8 Pa) a v argon-kyslíkové atmosféře s okolo 10 objemových % kyslíku,

- vrstva nebo vrstvy 4, 6 na bázi chrom-niklu NiCr nebo cínu Sn se ukládají pomocí terče z chromniklové slitiny nebo cínu, při stále stejném tlaku„a„V-_-atmo.sféře argonu. _ _

Hustoty výkonu a rychlosti posunu substrátu jsou seřízeny známým způsobem tak, aby se získaly požadované tlouštky vrstev.

První série příkladů se týká se používání smáčecího povlaku podle vynálezu, obsahujícího oxid tantaličný:

-8PŘÍKLADY 1 až 6

Tyto příklady dovolují prokázat zlepšení ve formě vlastností projevujících se nízkou emisivitou, které přináší vynález.

_ _ ______Příklad 1 je srovnávací příklad, protože neobsahuje smáčecí povlak oxidu tantaličného.

Dále uváděná tabulka 1 shrnuje strukturu každé z vrstvových sestav a udává v nanometrech tlouštku každé z přítomných vrstev.

TABULKA 1

		Př.l	Př.2	Př.3	Př. 4	Př.5	Př.
SnC>2	(2) .	40		-	—	30	3 0
Τ^&2θ5	(3)	-	38	33 ^:	38	10	10
Ni-Cr	(4) .	1	1	1	1	1	1
Ag	(5)	9	9	7,9	9	9	9
Ni-Cr	(6)	3	3	3	3	3	3
SnO₂	(7)	4 0		-	40	-	30
Ta ₂θ s	(8) .	-	- 38	38	-	38	10

Každý ze šesti takto povlečených substrátů se potom osadí do dvouskla pomocí jiného substrátu z podobného skla (sodnovápenatého skla tl.4 mm), oddělovaného od prvního vzduchovou mezerou, zde tl.12 mm.

Dále uváděná tab.2 udává pro každý z příkladů hodnoty světelné propustnosti T_L v procentech, energetický přenos Tg v procentech (měřené po jeho osvícení Dg₅), hodnoty slunečního faktoru FS (bezrozměrné, odpovídající poměru celkové energie procházející sklem k dopadající energii),

hodnoty součinitele vedené tepla k ve	W/m².K a hodnoty	emi-
sivity	bez jednotky.
	TABULKA 2
Příklad	^TL	^TE	FS	K
1	74,4	52,6	0,64	1,77	0,09
2	77,9	55,2	0,64	1,72	0,06
3	77,5	58,2	0,68	1,76	0,08
4	76,9	54,1	0,64	1,75	0,07
5	76,9	54,6	0,64	1,74	0,07
6	75,6	52,9	0,64	1,76	0,08

Všechny příklady mají, s výjimkou příkladu 3, stejnou tloušťku vrstvy 5 stříbra, .stejnou tloušťku celkové pod ní ležícího povlaku z vrstev 2.,3./4. okolo 40 nm a stejnou tloušťku celkového povlaku z vrstev 6,7,8 ^na vrstvě 5 stříbra tloušťku rovněž řádově 40 nanometrů.

Srovnáme-li příklad 1 a příklad 4, jehoý jediný rozdíl ve srovnání s příkladem 1 spočívá v použití vrstvy oxidu tantaličného Ta₂05 (příklad 4) dovoluje snížit emisivitu z 0.09 na 0,07, což je značné zlepšení. Tento pokles emisivity je kromě toho doprovázen zvýšením T_L ze 74,4 na 76,9%, což je zvýšení, které rovněž není zanedbatelné a je velmi výhodné.

Příklady 5 a 6 tvoří kompromis, poněvadž spodní povlak obsahuje kromě vrstvy oxidu tantaličného Ta₂0₅ podle vynálezu první vrstvu Sn0₂.

Nejpřekvapivějším bodem je to, že i při malé tloušťce vrstva oxidu tantaličného Ta₂05 nadále působí velmi příznivým vlivem na vrstvu stříbra, jelikož její emisivita

-10zůstává menší nebo rovná 0,08. Přenos L_T obou těchto příkladů je stále vyšší, než u srovnávacího příkladu 1. Dalším, avšak nikoliv zanedbatelným jevem takového zdvojnásobění spodního povlaku je, že je možné snížit výrobní náklady, nebot tantalové terče jsou nákladnější než cínové terče, a zvýšit, výrobní, rychlost. (bylo - ověřeno průmyslově, že · · rychlost nanášení oxidu tantaličného byla menší, než rychlost nanášení oxidu ciničitého).

Vše tedy skutečně závisí na požadovaných vlastnostech. Příklady 2 a 3 tak prokazují, že je ještě možné zlepšit vlastnosti sestavy vrstev přítomností relativně tlusté vrstvy oxidu tantaličšného Ta₅0₅ na vrstvě 5 stříbra: příklad 2, opatřený současně vrstvou oxidu tantaličného Ta₂C>5 pod stříbrem o tlouštce 38 nm a vrstvou oxidu tantaličného Ta₂05 na stříbře o tlouštce 40 nm může dosáhnout výjimečně nízké emisivity 9,96 při T_L, která je blízká 78%.

Jiná volba může spočívat , v tom, že je usilováno o zmenšení tlouštky vrstvy 5 stříbra, aniž by se poškodily vlastnosti souvrství. Příklad 3 tak ukazuje, že při zmenšení tlouštky vrstvy stříbra okolo 12% dovoluje přítomnost obou vrstev oxidu tantaličného Ta₂05 zachovat slabou emisivitu 0,08 a vysokou hodnotu T_E blízkou 78%. Kromě toho je hodnota T_E z příkladu 3 výrazně vyšší, než v příkladě 1, a to i když jsou hodnoty emisivit vzájemně blízké, což je velmi výhodné z hlediska celkového tepelného zisku obytného prostoru, který by byl vybaven takovým typem zasklení.

Je třeba poznamenat, že kromě toho přítomnost vrstvy oxi_du„ Jtantaličného—Ta.₂0-5 —na—v-rstvě—stří bra ,—spoj ená—nebo------ - nespojená s vrstvou cínu, přispívá k velmi výraznému zlepšení chemické a fyzikální trvanlivosti souvrství.

PŘÍKLADY 7 až 12

Pro lepší analyzování odpovídajícího vlivu vrstvy 2 oxidu tantaličného Ta₂05 a vrstvy 4 chromniklové slitiny Ni-Cr pod vrstvou 5 stříbra byla vytvořena druhá řada příkladů 7 až 12, přičemž tato souvrství jsou tentokrát prostá vrstev 7, 8 oxidu na vrstvě 5 stříbra.

Příklad 7 je srovnávací příklad prostý oxidu tantaličného Ta₂0₆ pod vrstvou .5 stříbra.

Složení a tlouštky v nanometrech vrstev těchto příkladů jsou v dále uváděné tabulce 3.

TAB. 3

	Sn0₂(2)	Ta₂O₅(3)	Nicr(4)	Ag(5)	NiCr(6)
Př.7	40	—	1	9	3
Př.8	-	38	-	9	3
Př. 9	35	5	-	9	3
Př.10	32,5	7,5	-	9	3
Př.ll	40	10	-	9	3
Př.12	25	15	—	9	3

Pro vyhodnocení vlastností	těchto souvrství	byl ten-
tokrát měřen metodou čtyř bodů povrchový odpor R ,	vyjádře-
ný v ohmech na čtverec, těchto shrnuty v níže uváděné tabulce 4.	souvrství. Výsledky jsou
... _ . _ ™ — „ , _ . TAB. 4	— - —- - - -	.. ... ,
Příklad	R
7	8,0
8	6,5
9	7,8
10	7,5
11	7,2
12	7,2

-12Vycházíme-li. z toho, že čtvercový odpor je přibližně úměrný emisivitě, je možné opět konstatovat, že spodní vrstva oxidu tantaličněho Ta₂0₅ přináší znatelné zlepšení a to i tehdy, jako je tomu v příkladech 9 a 10, kdy má pouze malou'; 11 ouštku. ~

Tyto příklady rovněž ukazují, že vrstva 4. NiCr je pouze fakultativní a že vrstva oxidu tantaličněho Ta₂05 samotná stačí pro vyvolání značných zlepšení optických vlastností vrstvy stříbra.

Kromě toho mikroskopická analýza atomovou silou umožnila poskytnout údaje o stavu povrchu vrstvev stříbra. Tato analýza byla provedena na plochách dvou čtverečních mikrometrů. Byla především provedena na vrstvě stříbra (5) souvrství 7' totožného s příkladem 7 až na to, že je prostý vrstvy NiCr (4) , a po té na vrstvě stříbra (5) souvrství podle příkladu 8.

Tabulka 5 udává výsledky analýzy ve formě hodnot výšek mezi vrcholky a prohlubněmi (peak-to-valley) v nanometrech, jakož i střední boční rozměr shluků, rovněž v nanometrech (d.l.m), přítomných na povrchu vrstvy.

TAB. 5

Příklad peak-to-valley d.l.m

7' 11,3 30

10,0 70 —— Tyto úd a je je mozTie' interpretova t tak, že ukládán i vrstvy stříbra na vrstvu - oxidu tantaličněho Ta₂0₅ (příklad 8) spíše než na vrstvu oxidu ciničitého Sn0₂ dovoluje lehce zmenšit drsnost stavu povrchu.stříbra při poněkud' menší výšce mezi vrcholký a prohlubněmi. Naopak se zvyšuje souběžně velmi výrazné šířka shluků. Toto zvýšení prozrazuje

13účinek smáčení projevující se podle vynálezu tak, že širší shluky udělují vrstvě lepší kontinuitu povrchu a mají za následek zlepšené vlastností, zejména elektrické vodivosti.

Následující příklad se týká použití smáčivého po- -vlaku podle vynálezu, obsahující tentokrát oxid niobičný.

PŘÍKLAD 13

Níže uvedená tabulka 6 shrnuje strukturu souvrství podle tohoto příkladu a uvádí tlouštku každé z vrstev, stále v nanometrech:

TAB. 6

Příklad 13
Sn0₂	(2)	35
Nb₂0₅	(3)	10
Sn	(4)	1
Ag	(5)	10
Ni-Cr	(6)	6
Sn0₂	(7)	45

V tomto typu souvrství je vrstva 6. z Ni-Cr ležící na ( vrstvě .5 stříbra tlustší, než v předchozích případech, což

K· má za následek určitý pokles prostupu světla celé sestavy ‘' nosného substrátuopatřeného souvrstvím na hodnotu pod 70% * a zejména do oblastí okolo 60-65%. Určité případy použití v praxi mohou skutečně potřebovat zasklení s nižší propustností světlá. Účinek oxidu niobičného ve spodní vrstvě vrstvě 2 má na krycí vlastnosti vrstvy 5 stříbra účinek podobný oxidu tantaličného a je nejméně stejně účinný a má vůči oxidu tantaličnému určitou malou výhodu z hlediska ceny surovin.

-14 —

Závěrem lze shrnout, že vynález přináší dva nové typy dielektrických povlaků ležících pod funkční vrstvou, které působí příznivě na vlastnosti této vrstvy a jsou velmi flexibilní z hlediska realizace.

Claims

PATENTOVÉ

1. Transparentní substrát, zejména ze skla .“opatřený— souvrstvím tenkých vrstev obsahujících nejméně jednu kovovou vrstvu '⁼s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření, zejména nízkou emisivitou, uloženou mezi dvěma povlaky na bázi dielektrického materiálu,-vyznačený tím, že povlak ležící pod vrstvou (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření obsahuje nejméně jeden smáčecí povlak, který je přilehlý k uvedené vrstvě (5) a který obsahuje vrstvu (3) na bázi oxidu tantalu nebo na bázi oxidu niobu.
2. Substrát podle nároku 1 vyznačený tím, že smáčecí povlak obsahuje vrstvu (3) na bázi oxidu tantalu nebo na bázi oxidu niobu, na nichž leží vrstva (4) na bázi kovu nebo kovové slitiny.
3. Substrát podle nároku 2 vyznačený tím, že vrstva (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření je na bázi stříbra.
4. Substrát podle kteréhokoli z nároků 2 nebo 3 vyznačená tím, že vrstva (4) na bázi kovu nebo kovové slitiny smáčecího povlaku je slitina niklu a chrómu nebo cín, zejména tlouštky v rozmezí od 0,3 do 4 nanometrů.
5. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až 4 vyznačený tím, že povlak ležící pod kovovou vrstvou (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného»- záření obsahuje pod,smáčecím povlakem nejméně jednu tenkou vrstvu (2) na bázi oxidu kovu, zejména vrstvu na bázi oxidu cínu nebo oxidu titanu nebo na bázi nitridu, jako je nitrid křemíku.
6. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až-5 vyznačený trim, že vrstva (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření je pokryta obětovanou vrstvou (6) na bázi ko-16vu nebo kovové slitiny, jako je slitina niklu a chrómu, zejména tlouštky v rozmezí od 0,3 do 8 nanometrů, zejména od 1 do 3 nanometrů nebo okolo 6 nanometrů.

fc
7. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až 6 vyzná- f čený^tín,ž_e povlak na _r .bázi dielektrického materiálu nad , kovovou vrstvou (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření obsahuje nejméně jednu tenkou vrstvu oxidu kovu, zejména vrstvu (7) na bázi oxidu cínu a/nebo vrstvu (8) na bázi oxidu tantalu a/nebo vrstvu nitridu křemíku.
8. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až 7 vyznačený tím, že vrstva (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření má tlouštku od od 7 do 12 nanometrů.
9. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až 8 vyznačený tím, že povlak ležící pod vrstvou (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření má tlouštku od 30 do 60 nanometrů .
10. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až 9 vyznačený tím, že vrstva na bázi oxidu tantalu nebo oxidu niobu náležející do smáčecího povlaku má tlouštku od 5 do 3 0 nanometrů, s výhodou od 5 do 20 nanometrů a zejména okolo 10 nanometrů ,
11. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až 10 vyznačený tím, že povlak (6, 7) z dielektrického materiálu

I* nad kovovou vrstvou (5) s vlastnostmi v oblasti infračerve- ?

*>

ného záření má celkovou tlouštku od 30 do 60 nanometrů. / »11
12. Substrát podle kteréhokoli z nároků 1 až 12 vyznačený tím, že je opatřen souvrstvím tenkých vrstev obsahujících dvě kovové vrstvy (5) s vlastnostmi v oblasti infračerveného záření.

-1713. Použití substrátu podle kteréhokoli z nároků 1 až 12 na násobné zasklení s nízkou emisivitou, zejména emisivitou menší nebo rovnou 0,08, a vykazující vysokou světelnou propustnost Tjj, zejména větší nebo rovnou 7 5%, nebo mající propustnost menší nebo rovnou 70%, zejména okolo 60 až 65%.