CS276675B6 - Process for image exposure of material sensitive to radiation and apparatus for making same - Google Patents

Process for image exposure of material sensitive to radiation and apparatus for making same Download PDF

Info

Publication number
CS276675B6
CS276675B6 CS90693A CS69390A CS276675B6 CS 276675 B6 CS276675 B6 CS 276675B6 CS 90693 A CS90693 A CS 90693A CS 69390 A CS69390 A CS 69390A CS 276675 B6 CS276675 B6 CS 276675B6
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
radiation
plate
vacuum
sensitive material
original
Prior art date
Application number
CS90693A
Other languages
English (en)
Other versions
CS69390A3 (en
Inventor
Tanel Tuulse
Original Assignee
Std Eng Ab
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Std Eng Ab filed Critical Std Eng Ab
Publication of CS69390A3 publication Critical patent/CS69390A3/cs
Publication of CS276675B6 publication Critical patent/CS276675B6/cs

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/02Exposure apparatus for contact printing
    • G03B27/14Details
    • G03B27/18Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
    • G03B27/20Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

• Zařízení pro kopírování transparentních a případně maskovacích filmů (19, 20) na desku (12) citlivou na záření obsahuje deskový nosič (2), na němž může být uložena jedna nebo více desek (12) citlivých na záření a jeden nebo více transparentních filmů (20) a případně maskovacích filmů (19) v předem určených vzájemných polohách. Zařízení obsahuje kontaktní rám (3) mající prostředek (18) pro vakuové připojení kontaktního rámu (3) k deskovému nosiči (2) a prostředek (VI, V2) pro vakuové připojení transparentního filmu nebo filmů (20) a maskovacího filmu nebo filmů (19) ke kontaktnímu sklu (16) kontaktního rámu (3). Zařízení obsahuje expoziční světlo (4) pro usměrňování záření přes transparentní film nebo filmy (20) a maskovací film nebo filmy (19) pro jejich kopírování na desku (12) citlivou na záření. Deskový nosič (2) obsahuje poddajnou podpůrnou desku (8), která je připojena ke kostře (1) zařízení pouze podél jejích vnějších okrajů, a která nese poddajný pryžový kryt (10), který je připojen k podpůrné desce (8) pouze podél jejích . vnějších okrajů.
OBR. L r
Vynález se týká obrazového exponování materiálů citlivých na záření, jako filmů nebo desek citlivých na světlo. Týká se exponování takových materiálů originálu ve formě transparentního filmu při použití kopírovacího rámu při výrobě například tiskařské desky, jako je ofsetová litografická tiskařská deska nebo hlubotisková tiskařská deska.
Při současně používaných způsobech se jeden nebo více takových transparentních filmů umístuje na desku citlivou na záření a sestava tvořená deskou a filmem nebo filmy se vkládá do kopírovacího rámu majícího tuhou podporu, obvykle krytou pryžovým krytem pro vyrovnání tlaku, pro nesení desky citlivé na záření, a nad ni se přitlačuje skleněná deska.
Mezi uvedenou podporu a skleněnou desku se přivádí vakuum pro zajištění dobrého dotyku mezi filmem nebo filmy a deskou citlivou na záření. Transparentní film obsahuje transparentní a neprůhledné plochy a záření se usměrňuje na desku citlivou na záření přes transparentní části, takže tyto části záření dopadají na desku. Výsledná deska exponovaného obrazu se potom vyvíjí a dále zpracovává pro získáni tiskařské desky pro tisk.
Problémem je zajištění co možná nejlepšího kontaktu mezi deskou citlivou na záření a tranparentním filmem nebo filmy. I velmi malá mezera mezi nimi bude mít za následek rozptyl světla a neostrý obraz na desce. Protože jak v tuhé podpoře, tak i v desce citlivé na záření mohou být malé nerovnosti,· dochází často k místním neúplným dotykům během exponování, takže výsledná tiskařská deska je špatné kvality a vyrábí také kopie nízké kvality.
Bylo navrženo několik různých způsobů pro odstraněni tohoto problému, avšak s proměnlivým úspěchem. Podle jednoho navrženého způsobu je pryžový kryt upevněn k tuhé podpoře pouze po jeho okrajích. Tímto způsobem je možné, aby se pryžový kryt lehce zdvíhal z tuhé podpory během vakuového sáni. Toto umožnilo vyloučit přítomnost výše uvedených místních neúplných dotyků vyplývajících z nerovnosti tuhé podpory, desky citlivé na záření, transparentního filmu nebo filmů nebo skla kopírovacího rámu. Naproti tomu však může dojít k tomu, že se mezi pryžovým krytem a deskou citlivou na záření uzavřou vzduchové bubliny, takže místní neúplné dotyky vzniknou z tohoto důvodu. Také může dojít k tomu, že se pryžový kryt lehce pohybuje během sání vyvolaného vakuem a toto může vést k posunutí filmu vzhledem k desce citlivé na záření. To potom vede k nedokonalému vyřízení obou sobě odpovídajících ploch a nakonec ke špatně tištěným kopiím. To je ovšem obzvláště nevýhodné v těch případech, kde je požadováno mít přesné plošné vyřízení mezi filmem nebo filmy a deskou citlivou na záření, jako je tomu při vícebarevném tisku.
Aby se vyloučil problém místních neúplných kontaktů, působených vzduchovými bublinami mezi deskou citlivou na záření a transparentním filmem nebo filmy, bylo navrženo válečkovat pryžový kryt a v důsledku toho také válečkovat desku citlivou na záření před pochodem vakuového sání a v jeho průběhu, čímž se vytlačuje veškerý vzduch přítomný mezi deskou citlivou na záření a filmem a jakýmkoli případným použitým maskovacím filmem nebo filmy přes okraje zařízeni. To je úkon, který je náročný na čas a komplikovanýa vyžaduje zručnost a pečlivost od pracovníků obsluhy. Přes takovou zručnost a pečlivost však stále může vést k určitým problémům, jako je vzájemné posunutí mezi filmem nebo filmy a deskou citlivou na zářeni a tedy i k nepřesnostem ve vzájemném krytí. Tento způsob je také nevýhodný v tom, že neumožňuje používat vyřizovací trny procházející pryžovým krytem pro ustavování desky a filmu nebo filmů v přesně předem určených polohách vzájemně vůči sobě. Důvodem pro to je, že by vyřizovací trny překážely válečkovacímu nebo hnětacímu prostředku. Dále zde není opěra pro pryžový kryt a tento systém vyžaduje různé strojní části a je komplikovaný a drahý z hlediska výroby.
Při invertovaném kopírovacím způsobu,(tj. systému, kdy se expoziční světlo vysílá zespodu, se transparentní film nebo každý z transparentních filmů ukládá dolů a deska citlivá na záření se klade nad film nebo filmy),bylo navrženo ze stejného důvodu používat válečkovací roušku jako pryžový kryt, která se válečkuje postupně z jedné strany vakuového rámu ke druhé, čímž je vzduch mezi deskou a filmem nebo filmy postupně vytlačován a riziko výskytu vzduchových kapes je sníženo. Tento způsob je však taktéž náročný na čas a je sloCS 276675 B6 žitý. Dále dochází u tohoto způsobu k riziku, že film nebo filmy a deska mohou vzájemně vůči sobě sklouznout, čímž se způsobí nepřesné krytí. V tomto případě je taktéž nemožné použít průchozích vyřizovacích trnů pro ustavování desky a filmu v přesně předem určených vzájemných polohách. Jelikož krycí skleněná deska je obrácená směrem dolů, je dále též obtížné nebo nemožné kontrolovat vizuální kontrolou, zda existuje dobrý dotyk mezi filmem nebo filmy a deskou citlivou na záření. Tento systém také vyžaduje několik různých strojních částí a je technicky složitý a výrobně drahý.
Vynález si klade za úkol vytvořit způsob a zařízeni pro obrazové exponování desky citlivé na záření přes transparentní film bez výše uvedených nevýhod.
Uvedeného cíle je dosaženo způsobem obrazového exponování materiálu citlivého na záření, jehož podstatou je, že se na sebe ukládá materiál citlivý na záření a originál ve formě transparentního filmu nesoucího neprůhledné plochy, materiál citlivý na záření a originál se tlačí na sebe tím, že se nejprve vyvíjí tlak v jejích středových oblastech a potom se postupně rozšiřuje oblast vyvíjeni tlaku směrem ze středových oblastí k okrajům materiálu citlivého na zářeni a originálu, čímž se vypuzují z uvedených okrajů veškeré vzduchové bubliny přítomné mezi materiálem citlivým na záření a originálem, takže se materiál citlivý na záření a originál uvedou do plného dotyku, načež se zaměřuje záření na materiál citlivý na zářeni přes uvedený originál.
Vynález se dále vztahuje na zařízeni pro obrazové exponování materiálu citlivého na záření přes originál ve formě transparentního filmu obsahujícího neprůhledné plochy, při provádění výše uvedeného způsobu, přičemž podle vynálezu obsahuje deskový nosič, podporu na uvedeném deskovém nosiči pro podporování materiálu citlivého na záření a originálu, přičemž tato podpora obsahuje pružný kryt upevněný na svých okrajích k poddajné nosné desce, která je upevněna na svých okrajích k deskovému nosiči, a dále obsahuje kontaktní rám zahrnující tuhou transparentní desku, schopný těsného dotyku deskového nosiče pro vymezování uzavřené komory obsahující uvnitř materiál citlivý na záření a uvedený originál, uzavřené transparentní deskou, a dále prostředek pro vyvíjení vakua na uvedenou komoru pro působení, že uvedený nosič zaujme vyklenutý tvar, který nejprve tlačí středové oblasti materiálu citlivého na záření a originálu proti transparentní desce a poté postupně vyvíjí tlak na širší oblasti materiálu citlivého na záření a originálu, až dojde k úplnému dotyku mezi materiálem citlivým na záření a originálem, a konečně obsahuje zdroj záření, umístěný pro orientování záření uvedenou transparentní deskou a uvedeným originálem a na materiál citlivý na záření.
Výhodným provedením vynálezu je způsob kopírování transparentního filmu na materiál citlivý na záření, obzvláště při výrobě ofsetových tiskařských desek nebo hlubotiskových tiskařských desek, při použiti zařízení obsahujícího deskový nosič pro materiál citlivý na zářeni a jeden nebo více transparentních filmů (obsahujících text nebo obrázek) a případně jeden nebo více maskovacích filmů, dále obsahujícího kontaktní rám s kontaktním sklem, který může být zdvíhán a spouštěn, dále prostředek pro vyvíjení jak vakua pro vakuové spojení kontaktního rámu s deskovým nosičem, tak i vakua pro vakuové spojeni transparentního a maskovacích filmů s kontaktním sklem, přičemž tento způsob zahrnuje ukládání jednoho nebo více materiálů citlivých na záření na deskový nosič, přiložení jednoho nebo více transparentních a případně maskovacích filmů do předem určené polohy na materiálu nebo materiálech citlivých na záření, načež se spustí kontaktní rám do dotyku s deskovým nosičem nesoucím materiál citlivý na záření a transparentní a maskovací filmy, přičemž se materiál nebo materiály citlivé na záření vakuově spojí s deskovým nosičem předem určenou vakuovou silou, transparentní a maskovací filmy se vakuově spojí s. kontaktním sklem kontaktního rámu, materiál citlivý na záření se uvede do kontaktu s kontaktním rámem spolu s transparentními a maskovacími filmy pomocí vakua, v důsledku čehož zaujme materiál citlivý na záření tvar konvexně vyklenutý směrem vzhůru a uvede se do dotyku nejprve se střední částí kontaktního rámu a poté postupně směrem ven od středu kontaktního rámu, až dojde k úplnému dotyku mezi kontaktním rámem a materiálem citlivým na záření, načež se rozsvítí expoziční světlo a transparentní a maskovací filmy se okopírují na materiál citlivý na záření.
Podle jiného výhodného provedení vynálezu obsahuje zařízení pro kopírování transparentních a případně maskovacích filmů na materiál citlivý na záření, obzvláště pro výrobu ofsetových tiskařských desek nebo hlubotiskových tiskařských desek, deskový nosič, na němž je možno ukládat jeden nebo více materiálů citlivých na záření a jeden nebo více transparentních filmů a případně maskovacích filmů do předem určených vzájemných poloh, kontaktní rám s kontaktním sklem a prostředkem pro vakuové připojování kontaktního rámu k deskovému nosiči a prostředek pro vakuové připojování transparentních a maskovacích filmů ke kontaktnímu sklu a kontaktnímu rámu, a expoziční světlo pro exponování transparentních a maskovacích filmů a jejich kopírování na materiál nebo materiály citlivé na záření, přičemž deskový nosič obsahuje poddajnou podpůrnou desku, která je připojena k rámu zařízení pouze po vnějších okrajích a která nese poddajný pružný kryt, který je připojen k podpůrné desce pouze podél jejích vnějších okrajů a na němž je uložen materiál nebo materiály citlivé na záření, v důsledku čehož podpůrná deska spolu s pružným krytem a s materiálem nebo materiály citlivými na záření mají možnost se konvexně vyklenout směrem vzhůru v závislosti na silách na ně působících, a do dotyku s dotykovým rámem pro vyvíjeni středového tlačného účinku, začínajícího ve středu kontaktního rámu, načež se pokračuje ve vyvíjení tlaku směrem ven do všech směrů k okrajům kontaktního rámu, až dojde k úplnému dotyku.
Vynález umožňuje, aby materiál citlivý na záření a transparentní film byly rychle a přesně uloženy do přesně určených vzájemných poloh s minimálním rizikem přítomnosti vzduchových kapes mezi materiálem citlivým na záření a transparentním filmem a s minimálním rizikem toho, že mezi transparentním filmem a materiálem citlivým na zářeni dojde ke vzájemnému posunu.
Podstata vynálezu je založena na zjištění,, že je možné zajistit tlačný-účinek na materiál citlivý na záření a na transparentní film, který se vyznačuje tím, že tlak je vyvíjen zpočátku ve středu a oblast vyvíjení tlaku se poté postupně rozšiřuje;ve všech směrech ven od středu ke krajům, čímž je jakýkoli přítomný vzduch vytlačován optimálním způsobem pro dosažení úplného dotyku.
Uspořádání je s výhodou takové, že pružný kryt a materiál citlivý na záření jsou vakuově připojeny k poddajné podpůrné desce pomocí podtlaků. S výhodou je síla vyvíjená podtlakem připojujícím pružný kryt k poddajné podpůrné desce, dále označovaná jako krytové, vakuum, menší, než je síla vyvíjená konečným tlakem pro vakuové připojení transparentního filmu k materiálu citlivému na záření označovanému dále jako kontaktní vakuum. Tímto způsobem budou během počátečních stadií vakuového spojení (sání) pružný kryt a materiál citlivý na záření spolu upevněny k poddajné podpůrné desce, přičemž pružný kryt a materiál citlivý na záření jsou vystaveny výše uvedenému konvexnímu vyklenutí, takže středové oblasti materiálu citlivého na záření a transparentní film se dostanou do vzájemného dotyku a poté, když se kontaktní vakuum stane větší, než krytové vakuum, pružný kryt se zvedne od podpůrné desky, v důsledku čehož společně vejde do styku se zbývajícími plochami materiálu citlivého na záření a s transparentním filmem. Tímto způsobem jsou veškeré přítomné nerovnosti vyrovnány pro zajištění optimálního kontaktu mezi transparentním filmem a materiálem citlivým na záření.
Vynález je blíže vysvětlen v následujícím popise na příkladě provedení s odvoláním na připojený výkres, ve kterém obr. 1 znázorňuje perspektivní pohled na zařízení podle vynálezu a obr. 2 řez částí zařízení z obr. 1.
.. i Znázorněné zařízení je uzpůsobeno pro kontaktní potiskování desky 12 citlivé na svět-: lo (pro použití například při výrobě ofsetové desky nebo hlubotiskové desky) nebo filmu ; nebo jiného materiálu citlivého na záření tím, že se exponuje přes originál ve formě transparentního filmu. Zařízení je vytvořeno jako celistvá jednotka, obsahující kostru £, v níž je uložen deskový nosič 2, kontaktní rám _3, expoziční světlo £, kazeta 5 na film a dopravník j6 pro odvádění exponovaných desek k vyvolávacímu stroji.
Jak je lépe patrné na obr. 2, obsahuje deskový nosič 2 tuhý rám, například vytvořený z rámových tyčí 7_, probíhajících okolo obvodu rámu, a z příčných tyčí. Na tuhém rámu je uložena poddajná a pohyblivá podpůrná deska 8.. Podpůrná deska 2 je s výhodou vyrobena z kovu a je například připojena k rámovým tyčím 7_, avšak pouze volně leží na příčných tyčích. Příčné tyče slouží pouze pro podpírání podpůrné desky 8., takže se neprohne. Podpůrná deska 2 je opatřena vakuovými průchody a na jejím horním povrchu je umístěna soustava vakuových kanálů pro přidržování poddajného pryžového krytu 10 (například ofsetového pryžového potahu) u desky 2 vakuem. Pryžový kryt 10 je připojen k poddajné podpůrné desce 2 na svých vnějších okrajích přerušovaně nebo souvislým spojem. Pryžový kryt 10 je rovněž opatřen vakuovými průchody 11 a na jeho horní straně je umístěna soustava vakuových kanálů pro přidržování desky 12 citlivé na světlo (například při použití při výrobě ofsetové tiskací desky) u krytu 10 vakuem.
Podpůrnou deskou 2 a pryžovým krytem 10 prochází několik vyřizovacích trnů 13.
Deska 12 a jeden nebo několik originálů (ve formě transparentních filmů 20 nesoucích neprůhledné plochy představující text nebo obrázek) jsou opatřeny odpovídajícími vyřizovacími otvory pro trny a mohou tak být uloženy na sobě přesně v předem určeném vzájemném vztahu, tj. že zaujímají přesně vyřízenou vzájemnou polohu. Vyřizovací trny 13 mohou být zdvihány a spouštěny podél svých podélných os ve směrech vyznačených šipkami. V důsledku toho jsou odtahovány a vysouvány ze sestavy, když je deska 12 citlivá na světlo uváděna do styku s transparentním filmem nebo filmy. Pryžový kryt 10 a poddajná podpůrná deska 2 mohou být spolu vzájemně těsně spojeny pomocí těsnicího a spojovacího pásku 14, obíhajícího okolo jejich okrajů, jak ukazuje obr. 2.
Kontaktní rám 2 obsahuje tuhou rámovou tyč 15, obíhající okolo obvodu rámu a na níž je osazeno kontaktní sklo 16. Kontaktní rám má směrem dolů orientovanou těsnicí obrubu 17 z pryže nebo z ekvivalentního těsnicího materiálu, obíhající okolo jeho obvodu, která je určena k zajištění dobrého těsnění vzhledem k desce 12. Obrubou 17 procházejí vakuové otvory 18, ležící za konci skleněné desky 16. Spodní povrch skleněné desky 16, tj. strana skla obrácená k desce 12, je opatřena jednou nebo s výhodou dvěma soupravami vakuových kanálů Vl a V2. Vnitřní vakuové kanály VI slouží pro přidržování maskovacího filmu 19 ke skleněné desce 16 vakuem a druhé vakuové kanály V2 jsou určeny k přidržování originálu (tj. transparentního filmu 20 obvykle nesoucího text a/nebo obrázek) ke skleněné desce 16 (a k maskovacímu filmu 19) vakuem. Maskovací film 19 má menší vnější rozměry než transparentní film 20 a má také menší vnější rozměry než vnější vakuové kanály V2 skleněné desky 16. Neznázorněný prostředek pro vyvíjení vakua je pracovně připojen k průchodům 9_, 11, a ke kanálům VI a V2.
Jak je patrné z obr. 1, může být kontaktní rám 2 zdvíhán a spouštěn pomocí hydraulických nebo pneumatických válců 21 umístěných na dvou nebo více stranách. Kontaktní rám 2 je nesen a veden na dvou nebo více stranách svislými vodícími tyčemi 22. Je zapotřebí, aby kontaktní rám 2 byl zdvíhán do první polohy alespoň mírně nad úrovní filmové kazety 5 a může být spouštěn do druhé polohy, v níž vymezuje komoru s deskovým nosičem 2/ přičemž v této komoře je možné vytvořit vakuum mezi kontaktním rámem 2 a poddajným pryžovým krytem 10 s deskou 12 citlivou na světlo umístěnou na něm, takže transparentní a maskovací filmy 20, 19 jsou umístěny do těsného kontaktu s deskou citlivou na světlo.
Expoziční světlo 4. je známého typu, vyvíjejícího krátkovlnné světelné záření, například halogenové světlo, a je uloženo v horní části kostry stroje, a to středově nad kontaktním rámem 2 a deskovým nosičem 2.
Kazeta 2 na filmy je vytvořena jako krabice 23 s jednou nebo více přihrádkami. V případě, kdy je krabice 23 jednopřihrádkového typu, jsou maskovací film 19 a transparentní film nebo filmy 20 ukládány ručně přímo na desku 12 citlivou na světlo na deskovém nosiči 2. Je také možno vytvořit krabici se dvěma nebo několika přihrádkami pro automatické ukládáni transparentního a maskovacího filmu 19, 20 na. desku 22.' například první přihrádku, do níž se ukládá souprava transparentního a maskovacího filmu 20, 19 (s výhodou upevněné na vyřizovacích trnech, které jsou uloženy a rozmístěny tak, že odpovídají vyřizovacím trnům 13 deskového nosiče 2) a druhou přihrádku 25, do níž mohou být umístěny použité transparentní filmy 20 a použité maskovací filmy 19. Krabice 23 je vodorovně posuvná pomocí axiálního válce 26 mezi plně odtaženou vnější polohou znázorněnou na obr. 1 a vnitřními polohami, v nichž je umístěna mezi deskovým nosičem 2 a dotykovým rámem 3, když je dotykový rám 2 ve své první poloze, v níž leží s odstupem od deskového nosiče 2. V první z těchto vnitřních poloh je první přihrádka 24 (s nepoužitými filmy a maskovacími filmy 20, 19) v poloze, v níž mohou být tyto filmy sbírány kontaktním rámem 2 a ve druhé z těchto vnitřních poloh je vratná přihrádka 25 v poloze pro přijímání použitých transparentních a maskovacích filmů 20./ 19
Na dně krabice 23 na filmy je několik sacích nožek (ve znázorněném příkladě sací nožky 27) pro sbírání desky nebo desek 12 exponovaných obrázkem, když je krabice 23 na filmy v poloze uvnitř kostry 2 stroje a nad deskovým nosičem 2, a pro spouštění této desky nebo desek 12 dolů na dopravník 2/ když se krabice 23 na filmy vrátila do své počáteční vnější polohy, načež uvedený dopravník 2 přesouvá desku nebo desky 12 do neznázorněného vyvolávacího stroje.
Každý z vakuových průchodů 9. deskového nosiče 2 v kontaktním rámu 3 je připojen ke zdroji podtlaku. Pro vynález je důležité, aby kontaktní vakuum, které je aplikováno přes průchody 18 pro přitlačování desky 12 a masky z transparentních filmů 19, 20 k sobě, nebylo slabší a bylo s výhodou silnější, než je potahové vakuum, používané pro přidržování poddajného pryžového krytu 10 na poddajné podpůrné desce 2· Tímto způsobem se pryžový kryt 10 spolu s deskou 12 mohou zdvíhat z podpůrné desky 2 (obzvláště v oblasti mezi středovou plochou a okraji) a přizpůsobovat se možným nerovnostem kontaktního rámu 2 a maskovacích a transparentních filmů 29, 20, držených v kontaktním rámu, čímž dochází k těsnému dotyku mezi deskou 12 a filmy 19 a 20 po jejich celých površích.
Prvním z hlavních znaků zařízení je to, že protože je podpůrná deska 2 poddajná, zaujme kombinovaná sestava podpůrné desky 2 a poddajného pryžového krytu 10 a desky 12 a filmů 29./ 20 směrem vzhůru orientovaný klenbovitý tvar, a to po počátečním dotyku s kontaktním rámem 2 jako důsledek počátečního kontaktního vakua vyvíjeného průchody 18.
Tak přichází nejprve střed sestavy do dotyku se skleněnou deskou 16 kontaktního rámu 2Protože podtlak uváděný jako potahové vakuum, který drží poddajný pryžový kryt 22. v dotyku s poddajnou podpůrnou deskou 2/ 3e stejný nebo je s výhodou slabší než je podtlak označovaný jako kontaktní vakuum, který přisává pryžový kryt 10 ke kontaktnímu rámu 2 a tím drží masku a filmy 22/ 22 v dotyku se skleněnou deskou 22/ kontaktní vakuum přemůže krytové vakuum, takže poddajný pryžový kryt 10 nesoucí desku 12 může stoupat z podpůrné desky 2» takže kryt 22/ deska 12 a filmy 22' 20 sestavy jsou postupně tlačeny do dotyku se skleněnou deskou 16 ve všech směrech směrem ven od středu. V důsledku toho veškerý vzduch, který je přítomný, je postupně vytlačován od středu k okrajům a tedy je možné vyloučit riziko vzduchových bublin uzavřených mezi deskou 12 a filmy 22' 22» drženými mezi deskovým nosičem 2 a kontaktním rámem 2· Kryt 10 se přizpůsobuje jakýmkoli nerovnostem kontaktního rámu 2 nesoucího filmy 22' 22· v důsledku toho se dosahuje optimálního kontaktu mezi filmy 20 a deskou 12 a tím i tedy co možná nejlepší ostrosti a vzájemně seřízeného plošného krytí pro exponovanou desku citlivou na světlo.
Vzhledem k přítomnosti poddajné podpůrné desky 2 v kombinaci s poddajným pryžovým krytem 10 je možné vyloučit riziko, že pryžový kryt 10 nesoucí desku 12 sklouzne nebo se posune vzhledem k filmům 22' 22· Je tedy možné minimalizovat riziko nedokonalého vzájemného vyřízení jako důsledek vzájemného posunu.
Zařízení pracuje následovně. Přes průchody 2 se vyvine krytové vakuum pro přidržování krytu 10 u podpůrné desky 2· Kontaktní rám 2 se v případě potřeby přesune do jeho
CS 275675 B6 první polohy s určitým odstupem nad deskovým nosičem 2. a vyřizovací trny 13 se vysunou.
Na tyto vyřizovací trny 13 se nasadí deska 12, transparentní film 20 a v některých případech maskovací film 19, a to postupně za sebou. Kontaktní rám 3 se potom spustí dolů do druhé polohy, v níž jeho těsnicí obruba 17 přijde do dotyku s pryžovým krytem 10 na deskovém nosiči 2, čímž se vymezí mezi deskovým nosičem 2 a kontaktním rámem 2 komora.
Mezi skleněnou desku 16 a těsnicí obrubu 17 se přes vakuové průchody 18 přivede kontaktní vakuum, čímž se vyprázdní komora, takže kontaktní rám 2 zůstává pevně přichycený k pryžovému krytu 10 nesoucímu desku 12 a sestava obsahující podpůrnou desku -8, kryt 10, desku 12 a filmy 22' 22. zaujme klenbovitý tvar se středovou oblastí v dotyku se skleněnou deskou 22· Když kontaktní vakuum vzrůstá a překonává krytové vakuum, pryžový kryt 22» deska 12 a filmy 22' 22 se zdvíhají z poddajné podpůrné desky 2 v oblasti mezi středovou oblastí a okraji sestavy, takže se přizpůsobí přesně kontaktnímu rámu 2 a tlačí desku 12 do těsného dotyku s filmy 22' 22 P° jejich celých površích.
Nyní se zapne expoziční světlo £ a deska 12 se exponuje světlu procházejícímu přes filmy 22' 22· Poté se kontaktní vakuum vyvinuté mezi skleněnou deskou 16 a těsnicí obrubou 17 odpojí. Místo působení vakua průchody 18 se do těchto průchodů začne foukat vzduch, takže kontaktní rám 2 se uvolní z pryžového krytu 10 a desky 22· Přes průchody Vl a V2 se začne působit filmovým vakuem pro přidržování filmů 22' 22 u skleněné desky 16 a dále se vyvine deskové vakuum přes průchody 11 pro přidržování desky 12 u krytu 10.
Poté se kontaktní rám 2 zdvihne do jeho první polohy znázorněné na obr. 1 a kazeta 2 se posune mezi kontaktní rám 2 a deskový nosič 2. Nyní je možno provádět různé alternativní postupy v závislosti na konkrétních okolnostech.
První možný případ je ten, když se použije jeden film 20 a jedna deska 22· Vakuum pro přidržování transparentního filmu 20 a maskovacího filmu 19 u skledněné desky 16 se odpojí a místo toho se fouká vzduch do vakuových kanálů VI a V2, takže se filmy 22' 22 uvolní od kontaktního rámu 2 a spadnou do přihrádky 24 nebo 25 krabice 23 na filmy. Současně se odtáhnou vyřizovací trny 22' deskové vakuum přidržující desku 12 u krytu 10 se odpojí a vakuum se přivede na sací nožky 27 kazety, čímž tyto nožky 27 zdvíhají desku 12 exponovanou obrázkem vzhůru s krytu 22· Kazeta 2 se potom vysune opět do její vnější polohy, přičemž nese desku 22· Vakuum přivedené na sací nožky 27 se nyní odpojí a deska 12 se spustí na dopravník a je odnášena, aby mohla být vyvolána.
Druhým případem je, že se použije dvou desek 12. Když se mají připravit dvě desky při použití stejného maskovacího filmu 19 a transparentního filmu 22' vyřizovací trny 12 jsou taženy směrem dolů. Deskové vakuum se odpojí, vakuum se přivede na sací nožky 27, desky 12 exponované obrázkem se zdvihnou, kazeta 2 se vysune ven spolu s deskami 22' vyřizovací trny 13 se vysunou, dvě nové desky 12 se osadí do potřebné polohy, kontaktní rám 2 se posune směrem dolů a provede se nové exponování jako v prvním případě.
Ve třetím případě se použijí dva rozdílné transparentní filmy se stejnou deskou.
Dva transparentní filmy 20 (s maskovacími filmy 19 nebo bez nich) se v tomto případě mají použít s jednou a toutéž deskou (dvojí expozice), deska 12 se exponuje jednomu z filmů 20 a nechá se potom ve své poloze při přidržování deskovým vakuem vyvíjeným přes průchody 11. Poté se kontaktní rám 2 zdvihne do jeho první polohy. Kazeta 5 na filmy se pohybuje do polohy pod kontaktním rámem 2· Filmové vakuum se odpojí jak pro transparentní film 20 tak i pro maskovací film 22' je-li tento použit. Místo toho se vzduch přivádí vakuovými kanály VI a V2 tak, že filmy 22' 20 jsou uvolněny z kontaktního rámu 2 a spadají do přihrádky 24 nebo 25 krabice 23 na filmy. Kazeta 2 se vysouvá a nová souprava maskovacího filmu nebo filmů 19 a transparentních filmů 20 se uloží na již exponovanou desku 12 a provede se další expozice podle výše uvedeného postupu, popsaného pro první případ.

Claims (11)

  1. PATENTOVÉ NÁROKY
    1. Způsob obrazového exponování materiálu citlivého na záření, vyznačený tím, že se na sebe ukládá materiál citlivý na záření a originál ve formě transparentního filmu nesoucího neprůhledné plochy, materiál citlivý na záření a originál se tlačí na sebe tím, že se nejprve vyvíjí tlak v jejich středových oblastech a potom se postupně rozšiřuje oblast vyvíjeni tlaku směrem ze středových oblastí k okrajům materiálu citlivého na zářeni a originálu, čímž se vypuzují z uvedených okrajů veškeré vzduchové bubliny přítomné mezi materiálem citlivým na záření a originálem, takže se materiál citlivý na záření a originál uvedou do plného dotyku, načež se zaměřuje záření na materiál citlivý na záření přes uvedený originál.
  2. 2. Způsob podle nároku 1, vyznačený tím, že se tlak vyvíjí pomocí vakua.
  3. 3. Způsob podle nároku 2, vyznačený tím, že vakuum působí přes prostřednictví pružného krytu, který je upevněn na svých okrajích, takže může zaujmout klenutý tvar pod vlivem uvedeného vakua a vyvíjet uvedený tlak.
  4. 4. Způsob podle nároku 3, vyznačený tím, že pružný kryt je upevněn na svých okrajích k poddajné podpůrné desce, která také zaujímá klenutý tvar pod vlivem uvedeného vakua.
  5. 5. Způsob podle nároku 4, vyznačený tím, že kryt je udržován v dotyku s poddajnou podpůrnou deskou pomocí dalšího vakua, které vyvíjí sílu, která je slabší, než je síla vyvíjená uvedeným vakuem.
  6. 6. Zařízení pro obrazové exponováni materiálu citlivého na záření přes originál ve formě transparentního filmu obsahujícího neprůhledné plochy, při prováděni způsobu podle kteréhokoli z nároků 1 až 5, vyznačené tím, že obsahuje deskový nosič (2), podporu v uvedeném deskovém nosiči (2) pro podporování materiálu (12) citlivého na záření a originálu (20), přičemž tato podpora obsahuje pružný kryt (10) upevněný na svých okrajích k poddajné podpůrné desce (8), která je upevněna na svých okrajích k deskovému nosiči (2), a dále obsahuje kontaktní rám (3) zahrnující tuhou transparentní desku (16), schopný těsného dotyku deskového nosiče (2) pro vymezování uzavřené komory obsahující uvnitř materiál (12) citlivý na zářeni a uvedený originál (20), uzavřené transparentní deskou (16), a dále prostředek (18) pro vyvíjení vakua na uvedenou komoru způsobující vyklenutý tvar uvedeného nosiče a zdroj (4) záření, umístěný pro orientování záření uvedenou transparentní deskou (16) a uvedeným originálem (20) na materiál (12) citlivý na záření.
  7. 7. Zařízeni podle nároku 6, vyznačené tím, že obsahuje prostředek (9) pro vyvíjení vakua na kryt (10) pro jeho přidržování u poddajné podpůrné desky (8), přičemž tento prostředek (9) je takový, aby vyvíjel menší sílu, než uvedený prostředek (18) pro vyvíjení vakua na uvedenou komoru.
  8. 8. Zařízení podle nároku 6 nebo 7, vyznačené tím, že. dále obsahuje axiálně posuvné vyřizovací trny (13), které jsou vysunutelné přes podpůrnou desku (8) a kryt (10) pro spolupůsobení s otvory pro vyřizovací trny v materiálu (12) citlivém na záření a v originálu (20).
  9. 9. Zařízení podle kteréhokoli z nároků 6 až 8, vyznačené tím, že kontaktní rám (3) je kolmo pohyblivý vzhledem k deskovému nosiči (2) mezi první polohou, v níž je v odstupu od deskového nosiče (2) a druhou polohou, v níž vymezuje uvedenou komoru, a dále obsahuje kazetu (5) na film, pohyblivou do polohy pod kontaktním rámem (3), když je kontaktní rám (3) ve své první poloze, pro přijímání originálu (20) z kontaktního rámu (3) po obrazové expozici materiálu (12) citlivého na zářeni.
  10. 10. Zařízení podle nároku 9, vyznačené tím, že kazeta (5) na film je opatřena sacími nožkami (27) pro zdvíhání materiálu (12) citlivého na záření s krytu (10), když byla kazeta (5) posunuta do uvedené polohy po obrazové expozici.
  11. 11. Zařízení podle kteréhokoli z nároků 6 až 10, vyznačené tím, že obsahuje prostředek (V2) pro vyvíjení vakua na originál (20) pro jeho přidržování u transparentní desky (16) po obra-
CS90693A 1989-02-14 1990-02-13 Process for image exposure of material sensitive to radiation and apparatus for making same CS276675B6 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SE8900501A SE465593B (sv) 1989-02-14 1989-02-14 Foerfarande och anordning vid kopiering av ljuskaensliga plaatar

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS69390A3 CS69390A3 (en) 1992-02-19
CS276675B6 true CS276675B6 (en) 1992-07-15

Family

ID=20375043

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS90693A CS276675B6 (en) 1989-02-14 1990-02-13 Process for image exposure of material sensitive to radiation and apparatus for making same

Country Status (13)

Country Link
US (1) US5017960A (cs)
EP (1) EP0383502A3 (cs)
JP (1) JPH02297554A (cs)
AU (1) AU630152B2 (cs)
BR (1) BR9000678A (cs)
CA (1) CA2009959A1 (cs)
CS (1) CS276675B6 (cs)
FI (1) FI900608A7 (cs)
HU (1) HUT56455A (cs)
NO (1) NO900691L (cs)
NZ (1) NZ232492A (cs)
SE (1) SE465593B (cs)
ZA (1) ZA901124B (cs)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE465898B (sv) * 1990-01-29 1991-11-11 Misomex Ab Kontaktkopieringsram med dubbelt glas
US5272502A (en) * 1991-07-31 1993-12-21 Minoru Saiki Double-surface concurrent exposure device
US5410385A (en) * 1993-03-09 1995-04-25 Ohlig; Ernest Vacuum registry exposure system and method
SE9302595L (sv) * 1993-08-10 1994-12-12 Misomex Ab Förfarande och anordning vid kopiering av flera olika filmformat
US5394220A (en) * 1993-10-28 1995-02-28 Nuarc Company, Inc. Vacuum blanket for pin registration
US5854672A (en) * 1995-03-07 1998-12-29 R. R. Donnelley & Sons Company Vacuum exposure frame with unworked glass insert/plate exposer and optionally having separate ID viewing area
US5642184A (en) * 1995-10-24 1997-06-24 Ohlig; Ernest Method and apparatus for vacuum contact printing
US5951881A (en) * 1996-07-22 1999-09-14 President And Fellows Of Harvard College Fabrication of small-scale cylindrical articles
US6753131B1 (en) 1996-07-22 2004-06-22 President And Fellows Of Harvard College Transparent elastomeric, contact-mode photolithography mask, sensor, and wavefront engineering element
US5875023A (en) * 1997-01-31 1999-02-23 International Business Machines Corporation Dual-sided expose mechanism for web product
JP2004029063A (ja) * 2002-06-21 2004-01-29 Adtec Engineeng Co Ltd 密着型露光装置
US8263314B2 (en) * 2009-08-14 2012-09-11 E I Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a composite printing form

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB530084A (en) * 1939-06-16 1940-12-04 Leonard Hughes Improvements in the art of photogravure, rotogravure and the like
US2951430A (en) * 1957-09-26 1960-09-06 Roloc Inc Photographic printing machine
US3119318A (en) * 1960-09-16 1964-01-28 Ditto Inc Vacuum blanket and focusing means for exposure device
GB1222299A (en) * 1969-10-20 1971-02-10 Charles Game An improved apparatus for use in the reproduction of sheet originals
SE367257B (cs) * 1972-10-06 1974-05-20 Misomex Ab
US4080068A (en) * 1976-04-27 1978-03-21 Itek Corporation Extremely high speed halftone screen positioning assembly
JPS58173727A (ja) * 1982-04-05 1983-10-12 Canon Inc 密着焼付けにおける密着方法
DE3313707C2 (de) * 1983-04-15 1985-02-07 B. Bacher GmbH, 7204 Wurmlingen Kopierrahmen
GB8526880D0 (en) * 1985-10-31 1985-12-04 Parker Graphics Ltd Vacuum contact system
AU6554486A (en) * 1985-11-20 1987-05-28 Payne, W.D. Pty. Ltd. Vacuum printing frame
US4704028A (en) * 1986-01-24 1987-11-03 Richards Sr Chester L Vacuum printing frame
US4636067A (en) * 1986-01-30 1987-01-13 Richards Sr Chester L Photography pin board system
US4754309A (en) * 1986-07-25 1988-06-28 Amergraph Corporation Vacuum frame
US4812883A (en) * 1987-12-10 1989-03-14 Ernest Ohlig Graphic material registration apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
CA2009959A1 (en) 1990-08-14
HUT56455A (en) 1991-08-28
AU630152B2 (en) 1992-10-22
SE8900501D0 (sv) 1989-02-14
FI900608A7 (fi) 1990-08-15
NO900691L (no) 1990-08-15
NZ232492A (en) 1992-11-25
HU900783D0 (en) 1990-04-28
EP0383502A3 (en) 1992-03-04
ZA901124B (en) 1990-12-28
EP0383502A2 (en) 1990-08-22
JPH02297554A (ja) 1990-12-10
FI900608A0 (fi) 1990-02-07
SE8900501L (sv) 1990-08-15
AU4970590A (en) 1990-08-23
US5017960A (en) 1991-05-21
SE465593B (sv) 1991-09-30
NO900691D0 (no) 1990-02-13
BR9000678A (pt) 1991-01-15
CS69390A3 (en) 1992-02-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS276675B6 (en) Process for image exposure of material sensitive to radiation and apparatus for making same
GB1579817A (en) Preparation of printing plates by joining edges of photohardenable layers
KR20040070243A (ko) 화상의 전사를 위한 장치 및 방법
US2836099A (en) Copying device for photographic work
US5550574A (en) Method and apparatus for exposing light sensitive material by means of a copying machine having a vertically movable laser unit
JPS5827148A (ja) 印刷版を製版加工位置に保持するための吸引装置
US4619526A (en) Suction film holder
US5410385A (en) Vacuum registry exposure system and method
JPS58208748A (ja) 写真製版焼付方法
JPS636746Y2 (cs)
JPS637382B2 (cs)
US5642184A (en) Method and apparatus for vacuum contact printing
GB2224136A (en) Auxiliary sheet for use with film holder of step-and-repeat machine
EP0109634B1 (de) Belichtungsvorrichtung
US2741963A (en) Photomechanical cameras
US4239386A (en) Printing transparencies
JP3571472B2 (ja) 原稿シート保持方法及び版材焼付装置
US1729176A (en) Photographing machine
JPS5829458Y2 (ja) 複写カメラ
JPH07191409A (ja) 真空密着焼付装置
JPH05289361A (ja) 原稿フィルムの真空密着方法
JPH01103843U (cs)
JPH09244151A (ja) シート状部材の支持構造
JP2000321779A (ja) 露光装置
JPH0651536A (ja) 感光性平版印刷版焼付装置用位置決め装置