CS212748B2 - Method of treating developed photosensitive plates - Google Patents

Method of treating developed photosensitive plates Download PDF

Info

Publication number
CS212748B2
CS212748B2 CS754848A CS484875A CS212748B2 CS 212748 B2 CS212748 B2 CS 212748B2 CS 754848 A CS754848 A CS 754848A CS 484875 A CS484875 A CS 484875A CS 212748 B2 CS212748 B2 CS 212748B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
plate
layer
resin
salt
image
Prior art date
Application number
CS754848A
Other languages
English (en)
Inventor
Hans Wielinga
Original Assignee
Vickers Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=10304895&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=CS212748(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Vickers Ltd filed Critical Vickers Ltd
Publication of CS212748B2 publication Critical patent/CS212748B2/cs

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)

Description

Vynález se týká způsobu zpracování vyvolané světlocitlivé desky.
Světlocitlivé desky sestávají z podložky, vytvořené obvykle z hliníku, který může být zrněný a/nebo anodizovaný, zinku, hořčíku mědi nebo oceli a/nebo z několika vrstev alespoň dvou z výše uvedených kovů, a ze světlocitlivé vrstvy, která je nanesena na uvedené podložce.
Pod pojmem světlocitlivé vrstva a světlocitlivá deska se zde rozumí všechny vrstvy a desky, které tyto vrstvy obsahují, ve kterých dojde při obrazové expozici aktinickým zářením k vytvoření rozdílu v rozpustnosti osvětlených a neosvětlených ploch.
V případě, že se světloeltlivá vrstva obrazově exponuje aktinickým zářením, změní se relativně rozpustnost oblastí, které byly zářením zasaženy vzhledem k oblastem, které zasaženy zářením nebyly. Při dalším zpracování takto exponované desky vhodnou vývojkou je možné odstranit rozpustnější osvětlené oblasti vrstvy, čímž se dosáhne v těchto oblastech obnažení podložky. Oblasti podložky obnažené při vyvolání tvoří pak při použití takto získané desky jako tiskové desky neobrazové oblasti, tj. oblasti, které nepřijímají tiskařskou barvu.
Jako materiálu světlocitlivé vrstvy se obvykle užívá fotopolymerů, jejichž rozpustnost se po expozici aktinickým zářením zhoršuje. V . tomto případě se tedy při vyvolání odstraňují oblasti, které nebyly zasaženy zářením a oblasti zářením zasažené zůstávají na podložce a tvoří obraz. Je známá celá řada dalších materiálů s podobnými vlastnostmi, například diazopryskyřice, koloidy senzibilované chromém, pryskyřice nebo polymery senzibilované diazoniovou skupinou nebo azidem. Světlocitlivé desky, které obsahují světlocitlivou vrstvu, sestávající z výše uvedených materiálů, jsou známy jako negativně pracující světlocitlivé desky.
Světlocitlivými materiály, které se stávají rozpustnějšími po expozici aktinickým zářením, jsou například látky na bázi orthochinondiazldů. V tomto případě se při vyvolání desky odstraňují oblasti zasažené zářením a na desce zůstávají oblasti záření nezasažené, které potom tvoří obraz. Světlocltlivé desky, které ve světlocitlivé vrstvě obsahují tento typ materiálů, jsou známé jako pozitivně pracující světlocitlivé desky.
Životnost desky, a tím i počet kopií je často možné zvýšit zahřátím oblastí tvořících obraz (tzv. vpalováním), ovšem pouze za předpokladu, že materiál oblastí vytvářejících obraz je pro toto zpracování vhodný. Tyto. postupy jsou dobře známé z výroby litografických tiskařských desek. Jedna z prvních zpráv o tomto zpracování při použití naftochinondiazidů je obsažena v britském patentovém spise č. 699 412. Při způsobu podle tohoto patentu se obrazově exponuje deska, která jako světlocitlivou vrstvu obsahuje vrstvu naftochinondiazidinu; deska se potom vyvolá alkalickým roztokem, čímž se selektivně odstraní ty části vrstvy, které byly při expozici zasaženy zářením, načež se deska uloží do pece a zahřívá se. Pak se na desku opětovně působí alkalickým roztokem, aby byly odstraněny kontaminující zbytky a deska byla připravena pro tisk.
V mnoha, případech je možné před zahříváním obrazové části desky zvýšit pevnost obrazové části tím, že se do této obrazové části inkorporuje materiál, zvyšující pevnost světlocitlivé vrstvy a/nebo tím, že se obrazová část po vyvolání ovrství zesilujícím lakem. Pro tento účel je známo použití novolakových pryskyřic a/nebo. resolových pryskyřic. Jak bylo uvedeno v britském patentu č. 1 154 749, dochází při zahřátí dostatečném k vytvrzení použité ' pryskyřice na obrazové části desky k tomu, že se obrazová část desky pokryje kontaminující vrstvou, která přijímá tiskařskou barvu a která z tohoto důvodu vedla ke tvoření stěru a ke znečištěnému pozadí v průběhu tisku. Tuto kontaminující vrstvu je tedy nutno před tiskem odstranit. Provádí se to většinou podle výše uvedeného britského patentu tak, že se na desku působí vodným roztokem zásady.
Zahříváním vytvořená kontaminující vrstva obvykle není rozeznatelná pouhým okem a je tedy velmi nesnadné ověřit si, zda tato vrstva byla úplně odstraněna. Mimoto v případě, že se použije porézní podložky, například v případě použití anodizovaného hliníku, může dojít ke . kontaminaci i uvnitř pórů hliníku. I když by tato kontaminace nevedla okamžitě ke tvoření stěru, mohlo by ke tvorbě stěru dojít později při abrazi. podložky. Znamená to, že by bylo nezbytné desky po zahřátí znovu vyvolat za účelem. bezpečného odstranění kontaminující vrstvy, což působí velké časové ztráty, protože deska se musí vracet zpět do výrobny po zahřátí v peci.
Vzhledem k těmto nevýhodám, které jsou spojeny s běžnými zahřívacími postupy, byla prováděna řada pokusů, jejichž účelem bylo zjistit zdroj kontaminace s výhledem na možnou zábranu tohoto typu znečištění. Bylo zjištěno, že ke kontaminaci dochází zcela zjevně v důsledku některé ze složek materiálu, která sublimuje v průběhu zahřívání z obrazové části desky a pak se opětovně usazuje na podložce, která byla obnažena při vyvíjení desky. V některých případech však i desky, které neobsahují takovýto sublimovatelný materiál, byly kontaminovány a to tak, že se na ně ukládal kontaminující materiál, který byl předtím deponován na vnitřním povrchu pece během zahřívání desek jiného typu. Složka, . která je příčinou kontaminace, může. sublimovat ze světlocitlivého materiálu nebo· z novolaku anebo jiné pryskyřice nebo může jít o. nečistotu, například fenol, která je přítomna ve světlocitlivém materiálu světlocitlivé vrstvy.
Cílem vynálezu je takové zpracování desky, které znemožní kontaminaci neobrazo212748 vých částí desky v průběhu zahřívání, přičemž již není nutné následující čistění desky* , ,
Předmětem vynálezu je způsob zpracování vyvolané světlocitlivé desky, sestávající z podložky, nesoucí světlocitlivou vrstvu, obsahující pryskyřici, například novoíakovou pryskyřici nebo· chinondiazid, zahřátím . uvedené desky, vyznačený tím, že se před zahřátím vytvoří na desce ochranná vrstva nanesením na desku vodného roztoku soli, například vodného roztoku dodecylfenoxybenzendisulfonátu sodného, sodné soli alkylované naftalensulfonové kyseliny, dvojsodné soli methylendinaftalensulfo-nové kyseliny, dodecylbenzensulfonátu sodného, sodné soli sulfonovaného alkyldifenyloxidu nebo· dusičanu lithného, k vytvoření vrstvy uvedené soli na desce, která je odstranitelná vodou nebo vodným roztokem a chrání desku během zahřívání před kontaktem s nečistotami.
Při způsobu podle vynálezu se s výhodou na exponovanou a vyvolanou světlocitlivou desku před vytvořením ochranné vrstvy nanese zesilující vrstva laku na bázi pryskyřice.
Jako zesilující vrstvy se výhodně použije novolakové pryskyřice nebo směsi novolakové pryskyřice a epoxydové pryskyřice.
Výhodou způsobu podle vynálezu je, že se jíní znemožní znečištění neodrazových částí podložky v průběhu zahřívání desky za účelem zpevnění obrazové části desky.
Při praktickém provádění způsobu podle vynálezu se postupuje tak, že se
1) obrazově exponuje světl-ocitlivá vrstva desky, přičemž vzniknou oblasti zasažené zářením a oblasti zářením nezasažené a . tyto oblasti mají odlišnou rozpustnost;
2) selektivně se vyvolá exponovaná světlocitiivá vrstva, přičemž se odstraní rozpustnější oblasti, čímž se odhalí částí podložky ležící pod těmito rozpustnějšími oblastmi;
3) na obnažené podložce se vytvoří ochranná vrstva na ochranu proti kontaminaci během následujícího zahřívání;
4) zahřejí se méně rozpustilé oblasti, zbylé na podložce po vyvolání a ] odstraní se ochranná vrstva.
Způsob podle vynálezu je možné s výhodou použít k výrobě litografických tiskařských desek; je však možné jej použít také k výrobě tištěných obvodů a integrovaných obvodů i všech podobných výrobků, v nichž se užívá materiálu, který je citlivý na záření, a který je nutno po vyvolání a před leptáním zahřívat a kde přítomnost kontaminace by mohla rušit zdárný průběh leptání.
Ochrannou vrstvu tvoří ve vodě rozpustná sůl, která se nanáší na desku ve formě roztoku, takže na celé desce vzniká film roztoku této soli. Použitou solí může· být například dodecylfenoxybenzendisulfxjnát sodný, sodná sůl alkylované kyseliny naftalensulfonové, dvojsodná sůl kyseliny methylendinaftalensulfonové, dodecylbenzensulfonát sodný nebo sodná sůl sulfonovaného alkyldifenyloxidu nebo dusičnan lithný.
Sůl vytvářející ochrannou vrstvu .nesmí být těkavá při teplotě, na níž se deska potom zahřívá a je nutno· jí volit s ohledem na charakter podložky a světlocitlivé vrstvy a s přihlédnutím k zamýšlenému použití desky. Například v případě, kdy jde o litografickou tiskařskou desku, musí ochranná vrstva tvořit účinnou fyzikální zábranu proti kontaminujícímu materiálu, avšak současně nesmí poškodit obrazové oblasti světlocitlivé vrstvy, například rozpuštěním nebo tak, že by obrazové oblasti již nepřijímaly tiskařskou barvu. Nesmí dojít ani k poškození neobrazové části desky. Po zahřívání musí být ochranná vrstva snadno odstranitelná bez poškození desky. Výše uvedené soli jsou zvláště vhodné pro výrobu litografických desek. Ochranné vrstvy z těchto solí neovlivňují nepříznivé litografické vlastnosti ani obrazových ani neobrazových oblastí desky.
Takovou ochrannou vrstvu je možné snadno odstranit opláchnutím desky vodou, což je možné provést až při upevnění desky do tiskařského lisu. To znamená, že je možné po zahřátí desky tuto desku upevnit na tiskařský lis. Opláchnutí desky vodou k odstranění ochranné vrstvy a desenzibilizace například arabskou gumou, je vše, co je nutné provést k přípravě tiskařské desky pro tisk.
V následující části popisu bude způsob podle vynálezu objasněn na několika příkladech konkrétního provedení způsobu podle vynálezu.
Příklad 1
Čtyři pozitivně pracující předem senzibilované desky, označené písmeny A, B, C a D, se světlocitlivými vrstvami, tvořenými orthochinondiazidem a novoíakovou pryskyřicí, byly pozitivně obrazově exponovány a vyvolány alkalickou vývojkou. Deska A byla desenzibilována arabskou gumou běžným způsobem a pak již byla zařazena do tiskařského procesu při použití příslušné tiskařské barvy za účelem zjištění její životnosti. Z této desky bylo· získáno 70 000 dobrých kopií.
Deska B byla po vyvolání zahřáta na teplotu 250· °C po dobu 10 minut, pak byla. zchlazena a dále zpracována stejně jako deska A. Neobrazové části této- desky snadno přijímaly tiskařskou barvu vzhledem ke kontaminaci obnažené podložky v průběhu zahřívání.
Deska C byla zpracována jako deska B, avšak po zahřívání byla znovu vyvolána alkalickou vývojkou za účelem očištění neobrazových oblastí způsobem podle britského· patentu č. 1 154 749. S použitím· této desky zpracované dříve známým způsobem, bylo možné získat 150 000 dobrých kopií.
V případě desky D bylo použito neprůhledné předlohy se středovou kruhovou průhlednou částí. To· znamená, že vyvolaná deska měla kruhovou neobrazovou část. Tato deska byla zahřáta stejně jako desky B a C s tím rozdílem, že do středu neobrazové části byl uložen kovový kotouč o menším průměru. Při pokrytí desky tiskařskou barvou bylo zjištěno, že kruhová neobrazová část přijímala do značné míry tiskařskou barvu až na tu oblast, ve které byla pokryta kovovým kotoučem. Z pokusu s deskou D je zřejmé, že kontaminaci neobrazové oblasti je možné eliminovat jejím stíněním během zahřívání desky.
Pevného stínění je možné užít v případech, kde neobrazová část má jednoduchý tvar; v jiných případech by to bylo· velmi komplikované. . .
Příklad 2
Jiná deska byla exponována a vyvolána stejným způsobem jako v příkladě 1. Pak byla deska opláchnuta 45%ním roztokem dodecylfenoxy benzendísulfonátu sodného, takže vznikla na desce vrstva roztoku této soli. Pak byla deska zahřáta po dobu 10· minut na teplotu 250 °C, zchlazena, opláA.nuta vodou k odstranění vrstvy solného roztoku, desenzibilována a pokryta tiskařskou barvou. Neobrazová část nepřijímala tiskařskou barvu a při použití této desky bylo· možné získat 150 000 dobrých kopií.
Příklad 3
Byl opakován postup podle příkladu 2 s tím rozdílem, že deska byla opláchnuta roztokem sodné soli alkylované kyseliny naftalensulfonové, a pak byla zahřáta na teplotu 200 °C po dobu 15 minut. Neobrazová část nepřijímala tiskařskou barvu a při použití této desky bylo možné získat 100· 000· dobrých kopií.
P ř í k · 1 a d 4
Předem senzibilovaná pouzitivně pracující deska byla exponována a vyvolána silně alkalickou vývojkou, opláchnuta vodou a pak uvedena ve styk se 45%ním roztokem sodné soli sulfonovaného alkyldifenyloxidu, čímž vznikla na desce tenká vrstva solného roztoku. Pak byla deska zahřáta v elektrické peci na teplotu 230· °C po· dobu 8 minut, zchlazena, omyta vodou k odstranění vrstvy soli, desenzibilována a pokryta tiskařskou barvou. Neobrazová část nepřijímala tiskařskou barvu a při použití desky bylo možné získat na ofsetovém tiskařském stroji 100 000 dobrých kopií. V případě, že bylo užito stejné desky, která však nebyla ošetřena solným roztokem, docházelo· ke vzni ku steru od začátku tisku. Bylo· tedy nutné energetické čištění desky před použitím tlaku.
P i í k 1 a d 5
Mechanicky zrněná, předem senzibilovaná pozitivně pracující deska byla exponována a vyvolána alkalickou vývojkou. Po opláchnutí byl na desku aplikován 25%ní roztok dvojsodné soli kyseliny methylendinaftalensulfonové a deska byla otřena do sucha, čímž vznikla na desce vrstva soli. Pak byla deska zahřáta na teplotu 180· °C po dobu 20 minut, opláchnuta vodou, desenzibilizována a pokryta tiskařskou barvou. Neodrazová část nepřijímala tiskařskou barvu a při použití této desky bylo možné získat 50 000 dobrých kopií.
P ř í k 1 · a d 6
Byl opakován postup podle příkladu 2 s tím rozdílem, že na desku byla nanesena vrstva 25%ního vodného roztoku dodecylbenzensulfonátu sodného. Deska byla zahřáta na teplotu 230· °C po dobu 10 minut. Zpočátku bylo velmi obtížné přizpůsobit obrazovou část desky tak, aby přijímala tiskařskou barvu; potom však bylo možné pomocí této desky získat 150 000 dobrých kopií.
Příklad 7
Byl zopakován způsob podle příkladu 2 s tím rozdílem, že na desku byla nanesena vrstva 20%ního roztoku hydratovaného dusičnanu lithného a deska byla zahřáta · po dobu 10 minut na teplotu 200 °C. Neobrazová část desky nepřijímala tiskařskou barvu a při použití této· desky bylo možné získat 100 000 dobrých kopií.
Příklad 8
Předem senzibilovaná negativně pracující deska, sestávající ze zrněné hliníkové desky, anodizované kyselinou sírovou, byla pokryta materiálem na bázi polyvinylcinnamátu při tloušťce vrstvy 0,5 g/m2. Pak byla deska exponována a vyvolána; jako vývojky bylo použito· s obsahém malého množství desenzibilizující kyseliny a 15 · % povrchově aktivního činidla. Po· vyvolání byla deska opláchnuta a ještě za vlhka pokryta emulzí zesilujícího laku na bázi novolakové pryskyřice. Po dalším omytí byla na desku nanesena vrstva 45%ního vodného roztoku dodecylfenoxybenzendisulfonátu sodného, takže na desce vznikla tenká vrstva uvedené soli. Pak byla deska zahřáta po dobu 10' minut na teplotu 250 °C, zchlazena, omyta vodou k odstranění vrstvy soli, desenzibilizována arabskou gumou a okamžitě uložena do· tiskařského lisu. Pomocí této desky byly získány velmi čisté kopie.
Příklad 9
Hlubotisková hořčíková deska byla očištěna a byla na ní nanesena vrstva vodného roztoku polyvinylalkoholu, který byl předem senzibilován přidáním 10 % dvojchromanu amonného. Výsledná světlotisková deska byla negative enxponována, vyvolána vodou, a potom ošetřena zředěnou kyselinou chromovou k vyvolání tvorby příčných můstků v obrazovém materiálu. Před zahříváním byla na desku nanesena vrstva 45°/oního vodného roztoku sodné soli sulfonovaného alkyldifenyloxidu a deska byla zahřívána až do zaschnutí této vrstvy. Takto zpracovanou desku bylo možné uspokojivým způsobem leptat při použití běžného zařízení, aniž by bylo nutné ještě desku předem ošetřit vodným roztokem k odstranění kontaminující vrstvy.
Příklad 10
Jiná deska byla připravena tak, že podložka, tvořená zrněným anodizovaným hliníkem, byla potažena vrstvou, sestávající ze dvou dílů 4,4‘-diazodifenylaminu a 10 dílů novolakové pryskyřice v 88 dílech butanonu. Výsledná světlocitlivá deska byla exponována alkalickou vývojkou. Po opláchnutí desky byl na desku aplikován 2%ní vodný roztok sodné soli sulfonovaného alkyldifenyloxidu a deska byla osušena. Pak byla deska zahřáta po· dobu 10 minut na teplotu 250 °C. Po zchlazení byla deska opláchnuta vodou k odstranění vrstvy soli, desenzibilizována a pokryta tiskařskou barvou. Neobrazová část desky nepřijímala tiskařskou barvu.
Příklad 11
Podložka ze zrněného anodizovaného hliníku byla potažena světlocitlivým roztokem polyvinylalkoholu senzibilizovaným dvojchromanem a tato vrstva byla usušena. ’ Výsledná deska byla exponována, vyvolána vodou a usušena. Obrazové oblasti desky byly zesíleny nanesením tenké vrstvy laku resolové a epoxidové pryskyřice. Po usušení laku byla deska opláchnuta 45°/oním vodným roztokem dodecylfenoxybenzensulfonátu sodného, čímž byla vytvořena na desce vrstva uvedené soli. Pak byla deska zahřáta po dobu dvou minut na teplotu 200 °C. Po zchlazení byla deska opláchnuta vodou k odstranění vrstvy soli, desenzibilizována a pokryta tiskařskou barvou. Neo-brazová část nepřijímala v průběhu tisku tiskařskou barvu. Obdobná deska, která však nebyla ošetřena roztokem soli před zahříváním, musela být energicky čištěna, protože neobrazová část jinak přijímala tiskařskou barvu.
Příklad 12
Ve fotografickém přístroji byla exponována světlocitlivá vrstva chloridu stříbrného, uložená na papírové podložce, pokryté kysličníkem barnatým, a exponovaný negativ byl po-tom spojen s hliníkovou fólií za účelem přenosu stříbra. Pak byla hliníková fólie od negativu oddělena a její povrch byl desenzibilován běžným roztokem ustalovače. Obrazová vrstva na hliníkové podložce byla potom stejnoměrně pokryta zesilujícím lakem resolové a epoxidové pryskyřice. ’ Deska byla omyta, usušena, pokryta, vrstvou 45 procentního roztoku sodné soli dodecylfenoxybenzendisulfonátu, čímž na ní byla vytvořena vrstva soli; hliníková fólie byla potom zahřáta po dobu dvou minut na teplotu 200 stupňů Celsia a pak byla omyta, vodou k odstranění vrstvy soli. V průběhu tisku nepřijímala neobrazová část tohoto, materiálu tiskařskou barvu.
Obdobná deska, která však nebyla ošetřena roztokem soli, musela být po zahřátí důkladně vyčištěna, aby její obrazová část nepřijímala tiskařskou barvu.
Příklad 13
Různé desky, které obsahovaly světlocitlivé vrstvy s obsahem novolakové pryskyřice, byly exponovány a zahřívány podle pokynů výrobce. Vzorky těchto desek byly vždy před zahříváním zpracovány nanesením 45 procentního vodného roztoku dodecylfenoxybenzendisulfonátu sodného, čímž vznikla vrstva této soli na deskách. Další vzorky těchto desek byly po zahřátí čištěny podle pokynů výrobce způsobem, uvedeným v britském patentu č. 1 154 749, přičemž bylo zjištěno, že při používání nebyl mezi oběma vzorky uvedených desek žádný rozdíl.

Claims (3)

1. Způsob zpracování vyvolané světlocitlivé desky, sestávající z podložky, nesoucí světlocitlivou vrstvu, obsahující pryskyřici, například novolakovou pryskyřici nebo chinondiazid, zahřátím uvedené desky, vyznačený tím, že se před zahřátím vytvoří na desce ochranná vrstva nanesením na desku vodného roztoku soli, například vodného roztoku dodecylfenoxybenzendisulfonátu sodného, sodné soli alkylované naftalensulfonové kyseliny, dvojsodné soli methylendinaftalensulfonové kyseliny, dodecylbenzensulfonátu sodného, sodné soli sulfonovaného alkyldifenyloxidu nebo dusičnanu lithného, к vytvoření vrstvy uvedené soli na desce, která je odstranitelná vodou nebo vodným roztokem a chrání desku během zahřívání před kontaktem s nečistotami.
2. Způsob podle bodu 1, vyznačený tím, že se na exponovanou a vyvolanou světlocitlivou desku před vytvořením ochranné vrstvy nanese zesilující vrstva laku na bázi pryskyřice.
3. Způsob podle bodu 2, vyznačený tím, že se jako zesilující vrstvy použije novolakové pryskyřice nebo směsi resolové pryskyřice a epoxidové pryskyřice.
CS754848A 1974-07-08 1975-07-08 Method of treating developed photosensitive plates CS212748B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB30264/74A GB1513368A (en) 1974-07-08 1974-07-08 Processing of radiation-sensitive members

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CS212748B2 true CS212748B2 (en) 1982-03-26

Family

ID=10304895

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS754848A CS212748B2 (en) 1974-07-08 1975-07-08 Method of treating developed photosensitive plates

Country Status (26)

Country Link
US (1) US4294910A (cs)
JP (1) JPS612518B2 (cs)
AT (1) AT356147B (cs)
BE (1) BE831075A (cs)
BR (1) BR7504303A (cs)
CA (1) CA1061160A (cs)
CH (1) CH600394A5 (cs)
CS (1) CS212748B2 (cs)
DD (1) DD120088A5 (cs)
DE (1) DE2530422C2 (cs)
DK (1) DK144956C (cs)
ES (1) ES439238A1 (cs)
FI (1) FI59680C (cs)
FR (1) FR2277682A1 (cs)
GB (1) GB1513368A (cs)
HK (1) HK74778A (cs)
IE (1) IE41395B1 (cs)
IT (1) IT1039749B (cs)
KE (1) KE2908A (cs)
LU (1) LU72927A1 (cs)
NL (1) NL187283C (cs)
NO (1) NO151765C (cs)
PL (1) PL109957B1 (cs)
SE (1) SE415612B (cs)
SU (1) SU569272A3 (cs)
ZA (1) ZA754248B (cs)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1534424A (en) * 1975-06-04 1978-12-06 Fuji Photo Film Co Ltd Process for the production of planographic printing plate
CH613059A5 (en) * 1975-06-30 1979-08-31 Hoechst Ag Method for producing a flat-bed printing forme
US4191570A (en) * 1978-10-10 1980-03-04 Polychrome Corporation Process for heat treating lithographic printing plates
DE2855393A1 (de) * 1978-12-21 1980-07-03 Hoechst Ag Verfahren zum herstellen von flachdruckformen
US4259369A (en) * 1979-12-13 1981-03-31 International Business Machines Corporation Image hardening process
US4355096A (en) 1980-07-11 1982-10-19 American Hoechst Corporation Process for heating exposed and developed light-sensitive lithographic printing plates with carboxylic acid and amine moiety containing compounds on surface thereof
GB2099371B (en) * 1981-06-01 1984-12-19 Polychrome Corp Finisher for lithographic printing plates
GB8314918D0 (en) * 1983-05-31 1983-07-06 Vickers Plc Radiation sensitive compositions
DE3410522A1 (de) * 1984-03-22 1985-10-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform
JPS6231859A (ja) * 1985-08-01 1987-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 製版方法
US4980271A (en) * 1985-08-05 1990-12-25 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for lithographic printing plates with benzyl alcohol, potassium toluene sulfonate and sodium (xylene or cumene) sulfonate
US5066568A (en) * 1985-08-05 1991-11-19 Hoehst Celanese Corporation Method of developing negative working photographic elements
EP0247153A4 (en) * 1985-11-27 1988-05-19 Macdermid Inc THERMALLY STABILIZED, LIGHT-RESISTANT IMAGES.
CA1329719C (en) * 1987-07-31 1994-05-24 Tadao Toyama Lithographic printing plate and method of treating the same
GB8822956D0 (en) * 1988-09-30 1988-11-09 Cookson Graphics Plc Baking treatment of lithographic printing plate
US5180654A (en) * 1988-11-29 1993-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Processing radiation sensitive members with aqueous ethyl hexyl sulphate treatment prior to burn-in step
GB8918161D0 (en) * 1989-08-09 1989-09-20 Du Pont Improvements in or relating to radiation sensitive compounds
US5213950A (en) * 1991-01-30 1993-05-25 Sun Chemical Corporation Pre-bake printing plate composition
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
EP1872943B1 (en) 1999-05-21 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition and planographic printing plate base using same
ATE497882T1 (de) 2000-11-30 2011-02-15 Fujifilm Corp Flachdruckplattenvorläufer
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP4150261B2 (ja) 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
JP4471101B2 (ja) 2004-07-30 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006058430A (ja) 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5183380B2 (ja) 2008-09-09 2013-04-17 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
CN105082725B (zh) 2009-09-24 2018-05-04 富士胶片株式会社 平版印刷版原版
US8828648B2 (en) 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE907739C (de) * 1949-07-23 1954-02-18 Kalle & Co Ag Verfahren zur Herstellung von Kopien, besonders Druckformen, mit Hilfe von Diazoverbindungen und dafuer verwendbares lichtempfindliches Material
US2958599A (en) * 1958-02-14 1960-11-01 Azoplate Corp Diazo compounds and printing plates manufactured therefrom
GB1059623A (en) * 1962-09-06 1967-02-22 Sumner Williams Inc Light-sensitive plates for use in the production of positive printing plates
DE1447963B2 (de) * 1965-11-24 1972-09-07 KaIIe AG, 6202 Wiesbaden Biebnch Verfahren zur herstellung einer offsetdruckform aus einem vorsensibilisierten druckplattenmaterial
US3482977A (en) * 1966-02-11 1969-12-09 Sylvania Electric Prod Method of forming adherent masks on oxide coated semiconductor bodies
US3652273A (en) * 1967-09-11 1972-03-28 Ibm Process using polyvinyl butral topcoat on photoresist layer
US3615937A (en) * 1968-06-17 1971-10-26 Ibm Plasticizer additive to photoresist for the reduction of pin holes
US3573975A (en) * 1968-07-10 1971-04-06 Ibm Photochemical fabrication process
US3586554A (en) * 1969-01-15 1971-06-22 Ibm Process for increasing photoresist adhesion to a semiconductor by treating the semiconductor with a disilylamide
US3637384A (en) * 1969-02-17 1972-01-25 Gaf Corp Positive-working diazo-oxide terpolymer photoresists
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3705055A (en) * 1970-09-18 1972-12-05 Western Electric Co Method of descumming photoresist patterns
JPS5031486B2 (cs) * 1971-12-28 1975-10-11
JPS5031485B2 (cs) * 1971-12-28 1975-10-11
US3860426A (en) * 1972-12-22 1975-01-14 Eastman Kodak Co Subbed lithographic printing plate
GB1534424A (en) 1975-06-04 1978-12-06 Fuji Photo Film Co Ltd Process for the production of planographic printing plate
CH613059A5 (en) 1975-06-30 1979-08-31 Hoechst Ag Method for producing a flat-bed printing forme

Also Published As

Publication number Publication date
BR7504303A (pt) 1976-07-06
ES439238A1 (es) 1977-02-16
KE2908A (en) 1979-01-19
DE2530422A1 (de) 1976-01-29
FI59680C (fi) 1981-09-10
FI751976A7 (cs) 1976-01-09
ZA754248B (en) 1976-06-30
SE415612B (sv) 1980-10-13
FR2277682B1 (cs) 1982-04-16
NO151765C (no) 1985-05-29
DK144956B (da) 1982-07-12
AT356147B (de) 1980-04-10
US4294910A (en) 1981-10-13
NO151765B (no) 1985-02-18
NL7508115A (nl) 1976-01-12
GB1513368A (en) 1978-06-07
PL109957B1 (en) 1980-06-30
NL187283C (nl) 1991-08-01
IT1039749B (it) 1979-12-10
ATA523675A (de) 1977-08-15
CH600394A5 (cs) 1978-06-15
DK306475A (da) 1976-01-09
JPS612518B2 (cs) 1986-01-25
JPS5134001A (cs) 1976-03-23
DK144956C (da) 1982-11-29
IE41395L (en) 1976-01-08
LU72927A1 (cs) 1976-02-04
FR2277682A1 (fr) 1976-02-06
DE2530422C2 (de) 1982-08-19
AU8272775A (en) 1977-03-10
IE41395B1 (en) 1979-12-19
HK74778A (en) 1978-12-29
DD120088A5 (cs) 1976-05-20
FI59680B (fi) 1981-05-29
BE831075A (fr) 1975-11-03
SE7507761L (sv) 1976-01-09
SU569272A3 (ru) 1977-08-15
CA1061160A (en) 1979-08-28
NO752440L (cs) 1976-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS212748B2 (en) Method of treating developed photosensitive plates
US4762771A (en) Method of treating photosensitive printing plate
US3136636A (en) Planographic printing plate comprising a polyacid organic intermediate layer
EP0009031B1 (en) Desensitizing solution and process for treating a diazo photosensitive printing plate
US4063507A (en) Process for burning in planographic printing plates
US3567445A (en) Presensitized lithographic plate with two differentially spectrally sensitized layers separated by a novolak resin
US2946683A (en) Presensitized printing plate and method for preparing same
GB2034909A (en) Process for heat treating lithographic printing plates
US3479182A (en) Lithographic plates
US4355096A (en) Process for heating exposed and developed light-sensitive lithographic printing plates with carboxylic acid and amine moiety containing compounds on surface thereof
US3287128A (en) Lithographic plates and coatings
US4391897A (en) Diazo lithographic printing plate developing process
GB1575200A (en) Printing plates
US3634086A (en) Solvent development of light-sensitive diazo layers
US3148984A (en) Presensitized diazo lithographic printing plates comprising a hydrophilic phosphate glass and fluoride layer
US5021324A (en) Printing plate protectant
EP0051081A1 (en) Lithographic developing process and apparatus
US3737314A (en) Manufacture of printing elements by a photoresist chemical etching system
US2220252A (en) Method of preparing planographic plates
US3350206A (en) Lithographic plates, gluconate solutions therefor and process for producing the same
US3264220A (en) Photoengraving
CA1155707A (en) Lithographic printing plate and process
US2411108A (en) Developing colloid resists with substantive dyes
US755225A (en) Process of making printing-plates.
GB2099371A (en) Finisher and lithographic printing plates