PL109957B1 - Method of photosensitive plate treatment - Google Patents

Method of photosensitive plate treatment Download PDF

Info

Publication number
PL109957B1
PL109957B1 PL1975181926A PL18192675A PL109957B1 PL 109957 B1 PL109957 B1 PL 109957B1 PL 1975181926 A PL1975181926 A PL 1975181926A PL 18192675 A PL18192675 A PL 18192675A PL 109957 B1 PL109957 B1 PL 109957B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
plate
layer
areas
photosensitive
plates
Prior art date
Application number
PL1975181926A
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=10304895&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=PL109957(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed filed Critical
Publication of PL109957B1 publication Critical patent/PL109957B1/pl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/40Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
  • Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)

Description

Przedmiotem wynalazku jest sposób obróbki plyt swiatloczulych, stosowanych zwlaszcza przy pro¬ dukcji litograficznych plyt drukarskich.Znany sposób obróbki plyt swiatloczulych, po¬ lega na naswietlaniu aktywnym promieniowaniem warstwy swiatloczulej, co powoduje zróznicowanie rozpuszczalnosci obszarów napromieniowanych wzgledem obszarów nienapromieniowanych, na¬ stepnie na wywolywaniu naniesionego obrazu po¬ przez selektywne usuwanie obszaru bardziej roz¬ puszczalnego, przez co odslania sie podloze pod tym obszarem i wreszcie na wygrzewaniu tak ob¬ robionej plyty w celu utwardzenia naniesionego obrazu. Plyty swiatloczule sa zbudowane z podlo¬ za, stanowiacego zwykle ziarniste i/lub anodyzo- wane aluminium, lub cynk, magnez, miedz, stal, bimetal lub laminat, które to podloze jest pokryte warstwa materialu swiatloczulego.Materialy swiatloczule znane jako materialy fo- topolimerowe, staja sie mniej rozpuszczalne po ich napromieniowaniu. Po ekspozycji powstaja obsza¬ ry nie poddane dzialaniu promieniowania, które to obszary usuwa sie przez wywolanie, i obszary - napromieniowane, Wtóre pozostaja na podlozu tworzac obraz. Znane sa takze irme materialy które zachowuja sie podobnie, na przyklad zywice dwuazowe, koloidy uczulone chromem, zywice uczu- -lone grupa dwaiiazoiniowa luib azydtkowa, lub poli- -mery z tymi grupami. Plyty majace swiatloczula 10 15 20 warstwe na bazie tych materialów sa znane jako plyty negatywowe.Materialy swiatloczule na bazie dwuazydku or- tochinonu staja sie po napromieniowaniu bardziej rozpuszczalne i dlatego podczas ekspozycji stosuje sie pozytywowy transparent. W tym przypadku obszary napromieniowane usuwa sie przy wywoly¬ waniu, a obszary nie poddane dzialaniu promienio¬ wania pozostaja na podlozu, tworzac obraz. Plyty majace tego rodzaju warstwy swiatloczule sa zna¬ ne jako plyty pozytywowe.Zywotnosc plyty drukarskiej, mierzona iloscia kopii, które mozna z niej wykonac, zwieksza sie przez wygrzewanie („wypalanie") obszarów z na¬ niesionym obrazem, oczywiscie pod warunkiem, ze material obszarów z obrazem ^est odpowiedni.„Wypalanie" jest dobrze znane w dziedzinie wy¬ twarzania litograficznych plyt drukarskich z plyt swiatloczulych. Opis sposobu wypalania obrazów na bazie dwuazydku naftochinonu jest zawarty w brytyjskim opisie patentowym nr 699412.Wedlug tego opisu, swiatloczula plyte zawiera¬ jaca warstwe dwuazydku naftochinonu naswietla sie, nastepnie wywoluje alkalicznym roztworem dla selektywnego usuwania tych obszarów war¬ stwy, które podczas ekspozycji zostaly naswietlo¬ ne, po czym umieszcza sie ja w piecu dla wygrza¬ nia obrazu utworzonego przez te obszary warstwy, które nie zostaly naswietlone. Nastepnie ponownie plyte traktuje sie alkalicznym roztworem w celu 109 9573 lftt*57 4 usuniecia z niej zanieczyszczajacych pozostalosci dla przygotowania plyty do drukowania.Obszary z naniesionym obrazem, przeznaczone do wygrzewania^., czesto wzmacnia sie przez wpro¬ wadzenie do warstwy swiatloczulej materialu wzmacniajacego i/lub przez nakladanie materialu wzmacniajacego w postaci wzmacniajacego lakieru na obszary z obrazem po wywolaniu. Jako mate¬ rialy wzmacniajace stosuje sie zywice nowolakowe i/lub zywice rezolowe. Jednakze, jak opisano w brytyjskim opisie patentowym nr 1154749, wy¬ grzewanie w temperaturze dostatecznej do utwar¬ dzenia obszarów z naniesionym obrazem, wzmoc¬ nionych zywica powoduje, ze obszary odsloniete wskutek wywolywania zostaja co najmniej czes¬ ciowo pokryte warstwa zanieczyszczen, które wchlaniaja tusz, co powoduje powstawanie zasza- rzen oraz zabrudzonego tla podczas drukowania.Dlaitego tez te zanieczyszczenia trzeba usunac przed rozpoczeciem drukowania sposobem wedlug brytyjskiego opisu patentowego nr 1154749 przez potraktowanie plyty wodnym roztworem alkalicz¬ nym.Warstwa zanieczyszczen, powstala podczas wy¬ grzewania, nie jest widoczna golym okiem i trud¬ no jest miec pewnosc, ze wszystkie zanieczyszcze- mia zostaly usuniete. Ponadto gdy powierzchnia podloza jest porowata, co ma miejsce w przy¬ padku podloza z anodyzcwanego aluminium, zanie¬ czyszczenia moga osiadac w porach. Takie zanie¬ czyszczenia!, chociaz nie powoduja natychmiasto¬ wego powstania zaszarzen, ale moga powodowac powstawanie zaszerzen podczas dlugotrwalego drukowania po starciu, sie powierzchni podloza.Ponadto niewygodna jest koniecznosc powtórnego wywolywania plyt po wygrzaniu dla usuniecia warstwy zanieczyszczen, gdyz oznacza to, ze plyty musza byc zawracane do pomieszczenia, w którym sie je wytwarza juz po wyjeciu ich z pieca.Ze wzgledu na wady toiwarzyszace operacji „wy¬ palania", zbadano zródlo powstawania tych zanie¬ czyszczen. Zostalo stwierdzone, ze zanieczyszczenia powstaja w wyniku sublimowania skladnika ma¬ terialu obrazu z obszarów z naniesionym obra¬ zem podczas wygrzewania oraz nastepnego osia¬ dania na tych obszarach podloza, które sa odsla¬ niane podczas wywolywania. Nowe plyty, które nie zawieraja materialu powodujacego powstawanie zanieczyszczen, moga byc zanieczyszczane przez osiadanie na nich materialu zanieczyszczajacego, uprzednio osadzonego na wewnetrznych powierzch¬ niach pieca wygrzewajacego w wyniku przeprowa¬ dzonych poprzednio operacji wygrzewania. Sklad¬ nik powodujacy powstawanie zanieczyszczen moze pochodzic ze swiatloczulego materialu warstwy, z zywicy nowolakowej lub innej zywicy w war¬ stwie lub tez moze stanowic w warstwie zanie¬ czyszczenia takie jak na przyklad fenol.Celem wynalazku jest unikniecie zanieczyszcze¬ nia obszarów bez naniesionego obrazu podczas wy¬ grzewania i stad unikniecie koniecznosci oczysz¬ czania plyt, po wygrzewaniu.Sposób obróbki plyt swiatloczulych, zawieraja¬ cych podloze pokryte warstwa swiatloczula, zwla¬ szcza zawierajaca dwuazydek chinonu i zywice, korzystnie zywice nowolafcowa, który polega na nanoszeniu obrazu poprzez naswietlanie warstwy swiatloczulej tak, ze tworza sie na niej obszary naswietlone i nienaswietlone o róznej rozpuszczal- 5 nosci, nastepnie na wywolaniu naniesionego obrazu z naswietlanej warstwy poprzez selektywne usu¬ wanie obszaru o lepszej rozpuszczalnosci, przez co odslania sie podloze pod tym Obszarem, przy czym na naswietlona i wywolana plyte korzystnie nanosi '' 1§ sie zywiczny lakier wzmacniajacy, zwlaszcza lakier zawierajacy zywice nowolakowa wzglednie miesza¬ nine zywicy rezolowej i zywicy epoksydowej, i wreszcie na wygrzewaniu tak obrobionej plyty, wejdlug wynalazku charakteryzuje sie "tym, ze po 15 wywolaniu a przed wygnzewainiem na plyite nanosi sie suibis&ancje plynna dla otr^yimania na odslonie¬ tym podlozu rozpuszczalnej w wodzie warstwy, za¬ pobiegajacej kontaktowi zanieczyszczen z odslonie¬ tym podlozem podczas nastepnego etapu wygrze- M wania, zas po izakónczen1F& wygrzewania warstwe te splukuje sie z plyty za pomoca wody.Jako substancje plynna korzystnie stosuje sie wodny roztwór soli, przez co warstwe rozpuszczal¬ na w wodzie stanowi warstwa soli.Jako sól korzystnie stosuje sie dodecylofenoksy- benzenodwusulfonian sodu, sodowa sól alkilowa- nego kwasu naftalenosulfonowego, dwusodowa sól kwasu metylenodwunaftalenosulfonowego, dodecy- lobenzenosulfonian sodu, sodowa sól sulfonowane- go tlenku alkilodwufenylu lub azotan litu. • <: Sjplukiwanie warstwy soli mozna przeprowadzac, gdy plyta jest zamontowana na prasie drukar¬ skiej. Tak wiec po poddaniu plyty wygrzewaniu mozna ja zamontowac bezposrednio na prasie dru- u karskiej bez zawracania jej do pomieszczenia, w którym wytwarza sie plyty. Dla przygotowania plyty do drukowania wystarczy jedynie oplukac ja woda dla usuniecia tej warstwy i odczulic, na przyklad za pomoca gumy arabskiej.Sposób wedlug wynalazku przedstawiony jest na podstawie ponizszych przykladów.Przyklad I. Cztery pozytywowe, wstepnie uczulone plyty Olympic oznaczone literami od A do D dostarczone przez firme Howson-Algraphy Group of Vickers Limited, które mialy swiatloczu¬ le warstwy, zawierajace dwuazydek ortochinonu i zywice nowolakow^, naswietlono pod pozytywo¬ wymi transparentami i wywolano wywolywaczem alkalicznym.Plyte A odczulono guma arabska w zwykly 90 sposób, powleczono tuszem i zastosowano test przy¬ spieszonego zuzywania, w wyniku czego wykonano nia 70 000 dobrych kopii. Plyte B po wywolaniu podgrzewano w piecu w temperaturze 250°C w ciagu 10 minut. Wówczas ochlodzono ja i trakto¬ wano tak jak plyte A. Stwierdzono, ze obszary bez naniesionego obrazu bardzo latwo przyjmuja tusz w wyniku zanieczyszczenia powstalego pod¬ czas operacji wygrzewania. / •^ Plyte C traktowano taik jak plyte B, lecz po wy¬ grzewaniu znowu starannie ja pocierano alkalicz¬ nym wywolywaczem dla oczyszczenia obszarów bez naniesionego obrazu w spos6b opasany w brytyj¬ skim opisie patentowym nr 1154749. Sposób ten 65 ilustrujacy stan techniki, zapewnil wykonanie109 957 6 150 000 dobrych kopii. W przypadku plyty D sto¬ sowano pozytywowy transparent w postaci nie¬ przezroczystego obszaru z umieszczonym wewnaftrz niego kolowym obszarem przezroczystym. Tak wiec wywolana plyta zawierala kolowy obszar bez naniesionego obrazu. Plyte te wygrzewano w ten sam sposób co plyty B i C z tym, ze w srodku obszaru naniesionego obrazu umieszczono metalo¬ wy krazek o mniejszej srednicy od tego obszaru.Gdy plyte powleczono tuszem, wówczas stwierdzo¬ no, ze kolowy obszar bez naniesionego obrazu przyjal farbe w znacznym stoprzlu z wyjatkiem re¬ jonu, gdzie byl pokryty metalowym krazkiem. Z tego testu dla plyty D wynika, ze podczas wygrze¬ wania na obszarze bez naniesionego obrazu osiadl zanieczyszczajacy material i ze przed zanieczy¬ szczeniem tym mozna zabezpieczyc plyte przez osloniecie obszaru bez naniesionego obrazu.Podczas gdy w przypadku obszarów bez nanie¬ sionego obrazu o prostych ksztaltach mozna sto¬ sowac wstepnie uksztaltowane oslony z ciala sta¬ lego, to w innych przypadkach oslony te musialy¬ by byc wyjatkowo skomplikowane.Przyklad II. Plyte Olympic naswietlono i wywolano w ten sam sposób jak plyty w przy¬ kladzie I. Wówczas plyte wyplukano i jednolicie potarto 45% roztworem dodecylofenoksybenzeno- dwusulfonianiu sodu tworzac warstwe tej soli na plycie. Flyite wygrzewano w temperaturze 250°C w ciagu dziesieciu minut, odchlodzono, wymyto woda dla usuniecia warstwy soli, odczulono i po¬ kryto tuszem. Obszary na plycie bez naniesionego obrazu nie przyjmowaly zupelnie tuszu a plyta umozliwila wytkonanie 150 000 dobrych koipii.Przyklad III. Przyklad II powtórzono z tym, ze plyte potarto roztworem sodowej soli alkilowa- nego kwasu naftaleno-sulfonowego i wygrzewano w temperaturze 20fl°C w ciagu 15 minut. Obszary bez naniesionego obrazu w ogóle nie przyjmowaly tuszu a plyta umozliwila wykonanie 100 000 do¬ brych kopii.Przyklad IV. Pozytywowa, wstepnie uczulo¬ na plyte drukarska Olympic Gold (Vickers Limi¬ ted, Hewson-Algraphy Group) naswietlono pod pozytywowym transparentem i wywolywano silnie alkalicznym wywolywaczem, plukano woda i na¬ niesiono 45% roztwór sodowej soli sulfonowanego tlenku alkilodwufenylu twonzac na niej cienka war¬ stwe tej soli. Nastepnie plyte wygrzewano w elek¬ trycznym piecu w temperaturze 230°C w ciagu 8 minut, chlodzono, przemywa/no woda dla usuniecia tej warstwy, odczulano i powlekano tuszem. Nie stwierdzono przyjmowania tuszu na obszarach bez naniesionego obrazu, a plyta zapewnila wykonanie okolo 100 000 dobrych kopii, na ofsetowej maszynie drukarskiej. Identyczna plyta nie potraktowana roztworem soli powodowala zaszarzenia zaraz na poczatku drukowania. W celu przeciwdzialania temu zaszarzeniu potrzebne bylo intensywne czy¬ szczenie plyty przed rozpoczeciem drukowania.Przyklad V. Pozytywowa, wstepnie uczulona plyte z mechanicznie mielonego P4 x firmy Kalla AG naswietlano poprzez pozytywny transparent i wywolano alkalicznym wywolywaczem. Po wy¬ plukaniu potarto ja 25% roztworem dwusodowej soli kwasu metylenodwunaftalenosulf onowego i wytarto na sucho tworzac w ten sposób na plycie warstwe tej soli. nastepnie plyte te wygrzewano w temperaturze'l€0°C w ciagu 20 minut, przeplu- 5 kano, odczulono i pokryto tuszem. Nie stwierdzono przyjmowania tuszu przez obszary bez naniesio¬ nego obrazu, a plyta zapewnila wykonanie okolo 50 000 dobrych kopii.Przyklad VI. Powtórzono przyklad II.z tym, 10 ze plyte potarto 25% wodnym roztworem dodecy- lobenzonosulfonianu sodu. Wygrzewanie prowa¬ dzono w temperaturze 240°C w ciagu 10 minut.Wystapily znaczne trudnosci w przyjmowaniu tu¬ szu przez obszary z naniesionym obrazem, lecz 15 plyta zapewnila wykonanie okolo 150 000 dobrych kopii.Przyklad VII. Powtórzono przyklad II z tyim, ze plyte potarto 20% roztworem uwodnionego azo¬ tanu litu i wygrzewano ja w temperaturze 200°C 20 w ciagu dziesieciu miiimuit. Nie wystapilo przyj¬ mowanie tuszu przez obszary bez naniesionego obrazu, a plyta zapewnila wykonanie okolo 100 000 dobrych kopii.Przyklad VIII. Wstepnie uczulona negatywo- 25 wa plyte, zawierajaca ziarniste aluminiowe podlo¬ ze anodyzowane w kwasie siarkowym, powleczono materialem na bazie policynamonianu winylu zna¬ nego jako Kodak Photo Resist, tworzac warstwe o masie 0,5 kg/m2. Plyte naswietlono pod negaty- 30 wem i wywolano octanem dwumetoksyetylu, za¬ wierajacym niewielka ilosc odczulajacego kwasu oraz 15% srodka powierzchniowo-czynnego. Po wywolaniu plyte wyplukano, a nastepnie jeszcze mokra potraktowano emulsyjnm lakierem zawiera- 35 jacym zywice nowolakowa. Plyte przemyto i po¬ traktowano 45% wodnym roztworem dodecylofe- noksybenzenodwusulfonianu sodu, tworzac na niej cienka warstwe tej soli. Nastepnie plyte wygrze¬ wano w temperaturze 250°C w ciagu dziesieciu ^ minut, ochlodzono, przemyto woda dla usuniecia tej wastwy, odczulono guma arabska i umieszczo¬ no w prasie drukarskiej. Nie stwierdzono trudnosci w uzyskiwaniu dobrych, czystych kopii.Przyklad IX. Magnezowa plyte chemdgraficz- 45 na oczyszczono i powleczono wodnym roztworem polialkoholu winylowego, który uczulono przez do¬ datek 10% dwuchromianu amonu. Powstala foto- czula plyte naswietlono pod negatywem, wywolana woda i potratkowano rozcienczonym kwasem chro- mowym dla dalszego usieciowania materialu two¬ rzacego obraz. Przed zwykla operacja wygrzewania plyte potraktowano 45% wodnym roztworem sodo¬ wej soli sufonowanego tlenku alkilodwufenylu oraz wysuszono ja. Nie bylo potrzeby odszarzenia. Ply- te mozna bylo zadowalajaco wytrawic w bezprosz- kowym urzadzeniu trawiacym.Przyklad X. Przygotowano plyte przez po¬ wleczenie ziarnistego anodyzowanego aluminiowego podloza kompozycja, zawierajaca 2 czesci 4,4-dwu- g, azydodwufenyloaminy i 10 czesci zywicy nowola- kowej, rozpuszczonymi w 88 czesciach butanolu.WófWdzas .pozostala swiatloczula pftyte naswietlano poprzez negatyw i wywolano alkalicznymi roztwo¬ rem. Po splukaniu pJylte przetarto 2,5% wodnym 35 roztworem sodowej soli sulfonowanego tlenku alki-109 957 7 lodwufenylu oraz.wytarto ja do sucha, tworzac na plycie warstwe tej soli. Nastepnie plyte wygrze¬ wano w temperaturze 250°C w ciagu 10 minut.Po ochlodzeniu plyte oplukano, usuwajac warstwe, odczulono i pokryto tuszem. Obszary bez nanie¬ sionego obrazu w ogóle nie przyjmowaly tuszu.Przyklad XI. Ziarniste i anodyzowane alu¬ miniowe podloze powleczono swiatloczulym roz¬ tworem dwuchromianowanego alkoholu poliwinylu oraz wysuszono. Powstala swiatloczula plyte na¬ swietlono pod pozytywem. Naswietlona plyte wy¬ wolano woda i wysuszono. Drukarski obraz ufor¬ mowano nakladajac cienka warstwe lakieru zawie¬ rajacego zywice rezolowa lub epoksydowa. Po wyschnieciu lakieru, plyte potarto 45% wodnym roztworem dodecylofenoksybenzenodwusulfonianu sodu, tworzac na plycie warstwe tej soli. Wówczas plyte wygrzewano w temperaturze 200°C w ciagu 2 minut. Po ostudzeniu plyte oplukano usuwajac te warstwe, od czulono ja i nalozono na nia tusz.Podczas drukowania obszary bez naniesionego ob¬ razu nie przyjmowaly tuszu. Identyczna plyte nie potraktowana roztworem soli przed wypaleniem trzeba bylo energicznie czyscic w celu zabezpie¬ czenia obszarów bez naniesionego obrazu przed przyjmowaniem tuszu.Przyklad XII. Swiatloczula warstwe chlorku srebra na papierze barytowanym naswietlono w aparacie fotograficznym, a naswietlony negatyw i odpowiednia plyte aluminiowa przepuszczono przez znane urzadzenie stosowane do posrebrzania.Plyte aluminiowa oddzielono od negatywu a jej powierzchnie odczulono za pomoca zwyklego roz¬ tworu utrwalajacego. Nastepnie obszary na plycie z naniesionym obrazem zostaly równo pokryte la¬ kierem zawierajacymi zywice rezolowa lub epoksy¬ dowa. Obróbke plyty zakonczono myjac ja, suszac i pocierajac 45% wodnym roztworem dodecylofe- noksybenzenodwusulfonianu sodu formujac war¬ stwe tej soli, wygrzewajac ,pfyte w temiperafturze 200°C w ciagu 2 minut oraz myjac ja dla usunie¬ cia lakieru. Podczas drukowania obszary bez na¬ niesionego obrazu nie przyjmowaly tuszu. Iden¬ tyczna plyte nie potraktowana roztworem soli trze¬ ba bylo czyscic po wygrzewaniu dla zabezpieczenia przed przyjmowaniem tuszu przez obszary z na¬ niesionym obrazem.Przyklad XIII. Rózne firmowe plyty, zawie¬ rajace swiatloczule warstwy z zywica nowolakowa naswietlono, wywolywano i wygrzewano zgodnie z instrukcjami wytwórców. Wybierajac po jednej próbnej plycie, kazda z nich przed wygrzewaniem potraktowano 45% wodnym roztworem dodecylofe- noksybenzonodwusulfonianu sodu, tworzac na ply- PZGraf. 8 cie warstwe tej soli, a takze kazda z nich oczy¬ szczono po wygrzewaniu wedlug instrukcji wy¬ twórców lub wedlug wskazówek zawartych w bry¬ tyjskim opisie patentowym nr 1154749. Stwierdzo- 5 no, ze nie bylo róznic we wlasciwosciach plyt.Frzebadano nastepujace plyty: Polychrorne GAP; Enco P200; Rogers Posilith; Nicholson Instalith; Kalle P3, P4, P6 i P7; Ferrania FI i Fuji SGP.Sposób wedlug wynalazku dotyczy glównie 1(J obróbki plyt swiatloczulych, przeznaczonych do wytwarzania litograficznych plyt drukarskich, ale nadaje sie takze do stosowania przy obróbce swia¬ tloczulych plyt przeznaczonych na obwody druko¬ wane oraz obwody zintegrowane i podobne, w któ- 15 rych material swiatloczuly jest stosowany jako maska fotolitograficzna, która trzeba wygrzewac przed operacja trawienia, zas obecnosc zanieczy¬ szczen moglaby przeszkadzac w trawieniu. 20 Zastrzezenia patentowe 1. Sposób obróbki plyt swiatloczulych, których warstwa swiatloczula zawiera dwuazydek chinonu i ewentualnie zywice, korzystnie zywice nowola- 25 kowa, polegajacy na nanoszeniu obrazu poprzez naswietlanie warstwy swiatloczulej tak, ze tworza sie na niej obszary naswietlone i nienaswietlone o róznej rozpuszczalnosci, nastepnie na wywoly¬ waniu naniesionego obrazu popnzez selektywne usu- 30 wanie obszaru o lepszej rozpuszczalnosci, przez co odslania sie podloze pod tym obszarem, i ewen¬ tualnym naniesieniu zywicznego lakieru wzmacnia¬ jacego, zawierajacego zywice nowolakowa wzgled¬ nie mieszanine zywicy rezolowej i zywicy epoksy- 35 dowej, a nastepnie na wygrzewaniu plyty, zna¬ mienny tym, ze przed wygrzewaniem na plyte na¬ nosi sie plyn tworzacy na odslonietym podlozu plyty rozpuszczalna w wodzie warstwe, zapobie¬ gajaca kontaktowaniu sie zanieczyszczen z odslo- 40 nietym podlozem plyty podczas wygrzewania, zas po zakonczeniu wygrzewania warstwe te splukuje sie z plyty za pomoca wody. 2. Sposób wedlug zastrz. 1, znamienny tym, ze jako plyn tworzacy na plycie rozpuszczalna w wo- 45 dzie warstwe stosuje sie wodny roztwór soli. 3. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako sól stosuje sie dodecylofenoksybenzenodwu- sulfonian sodu, sodowa sól alkilowanego kwasu naftalenosulfonowego, dwusodowa sól kwasu me- 50 tylenodwunaftalenosulfonowego, dodecylobenzeno- sulfonianu sodu wzglednie azotan litu. 4. Sposób wedlug zastrz. 2, znamienny tym, ze jako sól stosuje sie sodowa sól sulfonowanego tlenku alkilodwufenylu.D-3234, 105 egz., A-4 Cena 45 zl PL PL PL PL PL PL PL

Claims (1)

1.
PL1975181926A 1974-07-08 1975-07-08 Method of photosensitive plate treatment PL109957B1 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB30264/74A GB1513368A (en) 1974-07-08 1974-07-08 Processing of radiation-sensitive members

Publications (1)

Publication Number Publication Date
PL109957B1 true PL109957B1 (en) 1980-06-30

Family

ID=10304895

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL1975181926A PL109957B1 (en) 1974-07-08 1975-07-08 Method of photosensitive plate treatment

Country Status (26)

Country Link
US (1) US4294910A (pl)
JP (1) JPS612518B2 (pl)
AT (1) AT356147B (pl)
BE (1) BE831075A (pl)
BR (1) BR7504303A (pl)
CA (1) CA1061160A (pl)
CH (1) CH600394A5 (pl)
CS (1) CS212748B2 (pl)
DD (1) DD120088A5 (pl)
DE (1) DE2530422C2 (pl)
DK (1) DK144956C (pl)
ES (1) ES439238A1 (pl)
FI (1) FI59680C (pl)
FR (1) FR2277682A1 (pl)
GB (1) GB1513368A (pl)
HK (1) HK74778A (pl)
IE (1) IE41395B1 (pl)
IT (1) IT1039749B (pl)
KE (1) KE2908A (pl)
LU (1) LU72927A1 (pl)
NL (1) NL187283C (pl)
NO (1) NO151765C (pl)
PL (1) PL109957B1 (pl)
SE (1) SE415612B (pl)
SU (1) SU569272A3 (pl)
ZA (1) ZA754248B (pl)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1534424A (en) * 1975-06-04 1978-12-06 Fuji Photo Film Co Ltd Process for the production of planographic printing plate
CH613059A5 (en) * 1975-06-30 1979-08-31 Hoechst Ag Method for producing a flat-bed printing forme
US4191570A (en) * 1978-10-10 1980-03-04 Polychrome Corporation Process for heat treating lithographic printing plates
DE2855393A1 (de) * 1978-12-21 1980-07-03 Hoechst Ag Verfahren zum herstellen von flachdruckformen
US4259369A (en) * 1979-12-13 1981-03-31 International Business Machines Corporation Image hardening process
US4355096A (en) 1980-07-11 1982-10-19 American Hoechst Corporation Process for heating exposed and developed light-sensitive lithographic printing plates with carboxylic acid and amine moiety containing compounds on surface thereof
GB2099371B (en) * 1981-06-01 1984-12-19 Polychrome Corp Finisher for lithographic printing plates
GB8314918D0 (en) * 1983-05-31 1983-07-06 Vickers Plc Radiation sensitive compositions
DE3410522A1 (de) * 1984-03-22 1985-10-03 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform
JPS6231859A (ja) * 1985-08-01 1987-02-10 Fuji Photo Film Co Ltd 製版方法
US5066568A (en) * 1985-08-05 1991-11-19 Hoehst Celanese Corporation Method of developing negative working photographic elements
US4980271A (en) * 1985-08-05 1990-12-25 Hoechst Celanese Corporation Developer compositions for lithographic printing plates with benzyl alcohol, potassium toluene sulfonate and sodium (xylene or cumene) sulfonate
WO1987003387A1 (en) * 1985-11-27 1987-06-04 Macdermid, Incorporated Thermally stabilized photoresist images
CA1329719C (en) * 1987-07-31 1994-05-24 Tadao Toyama Lithographic printing plate and method of treating the same
GB8822956D0 (en) * 1988-09-30 1988-11-09 Cookson Graphics Plc Baking treatment of lithographic printing plate
US5180654A (en) * 1988-11-29 1993-01-19 E. I. Du Pont De Nemours And Company Processing radiation sensitive members with aqueous ethyl hexyl sulphate treatment prior to burn-in step
GB8918161D0 (en) * 1989-08-09 1989-09-20 Du Pont Improvements in or relating to radiation sensitive compounds
US5213950A (en) * 1991-01-30 1993-05-25 Sun Chemical Corporation Pre-bake printing plate composition
JP2944296B2 (ja) 1992-04-06 1999-08-30 富士写真フイルム株式会社 感光性平版印刷版の製造方法
EP1872943B1 (en) 1999-05-21 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition and planographic printing plate base using same
ATE420767T1 (de) 2000-11-30 2009-01-15 Fujifilm Corp Lithographische druckplattenvorläufer
US20040067435A1 (en) 2002-09-17 2004-04-08 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image forming material
JP4150261B2 (ja) 2003-01-14 2008-09-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版の製版方法
JP4471101B2 (ja) 2004-07-30 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2006058430A (ja) 2004-08-18 2006-03-02 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版
JP4404734B2 (ja) 2004-09-27 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4474296B2 (ja) 2005-02-09 2010-06-02 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4404792B2 (ja) 2005-03-22 2010-01-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP4890403B2 (ja) 2007-09-27 2012-03-07 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2009085984A (ja) 2007-09-27 2009-04-23 Fujifilm Corp 平版印刷版原版
JP4790682B2 (ja) 2007-09-28 2011-10-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5164640B2 (ja) 2008-04-02 2013-03-21 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP5183380B2 (ja) 2008-09-09 2013-04-17 富士フイルム株式会社 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版
US8883401B2 (en) 2009-09-24 2014-11-11 Fujifilm Corporation Lithographic printing original plate
US8828648B2 (en) 2010-02-17 2014-09-09 Fujifilm Corporation Method for producing a planographic printing plate
JP5490168B2 (ja) 2012-03-23 2014-05-14 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5512730B2 (ja) 2012-03-30 2014-06-04 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL76414C (pl) * 1949-07-23
US2958599A (en) * 1958-02-14 1960-11-01 Azoplate Corp Diazo compounds and printing plates manufactured therefrom
GB1059623A (en) * 1962-09-06 1967-02-22 Sumner Williams Inc Light-sensitive plates for use in the production of positive printing plates
DE1447963B2 (de) * 1965-11-24 1972-09-07 KaIIe AG, 6202 Wiesbaden Biebnch Verfahren zur herstellung einer offsetdruckform aus einem vorsensibilisierten druckplattenmaterial
US3482977A (en) * 1966-02-11 1969-12-09 Sylvania Electric Prod Method of forming adherent masks on oxide coated semiconductor bodies
US3652273A (en) * 1967-09-11 1972-03-28 Ibm Process using polyvinyl butral topcoat on photoresist layer
US3615937A (en) * 1968-06-17 1971-10-26 Ibm Plasticizer additive to photoresist for the reduction of pin holes
US3573975A (en) * 1968-07-10 1971-04-06 Ibm Photochemical fabrication process
US3586554A (en) * 1969-01-15 1971-06-22 Ibm Process for increasing photoresist adhesion to a semiconductor by treating the semiconductor with a disilylamide
US3637384A (en) * 1969-02-17 1972-01-25 Gaf Corp Positive-working diazo-oxide terpolymer photoresists
US3707373A (en) * 1969-03-17 1972-12-26 Eastman Kodak Co Lithographic plate developers
US3705055A (en) * 1970-09-18 1972-12-05 Western Electric Co Method of descumming photoresist patterns
JPS5031486B2 (pl) * 1971-12-28 1975-10-11
JPS5031485B2 (pl) * 1971-12-28 1975-10-11
US3860426A (en) * 1972-12-22 1975-01-14 Eastman Kodak Co Subbed lithographic printing plate
GB1534424A (en) 1975-06-04 1978-12-06 Fuji Photo Film Co Ltd Process for the production of planographic printing plate
CH613059A5 (en) 1975-06-30 1979-08-31 Hoechst Ag Method for producing a flat-bed printing forme

Also Published As

Publication number Publication date
CS212748B2 (en) 1982-03-26
AU8272775A (en) 1977-03-10
DK306475A (da) 1976-01-09
JPS612518B2 (pl) 1986-01-25
CA1061160A (en) 1979-08-28
ATA523675A (de) 1977-08-15
NO752440L (pl) 1976-01-09
HK74778A (en) 1978-12-29
NL187283C (nl) 1991-08-01
SE415612B (sv) 1980-10-13
FI751976A7 (pl) 1976-01-09
NO151765B (no) 1985-02-18
ES439238A1 (es) 1977-02-16
BR7504303A (pt) 1976-07-06
FI59680C (fi) 1981-09-10
DD120088A5 (pl) 1976-05-20
FR2277682A1 (fr) 1976-02-06
JPS5134001A (pl) 1976-03-23
KE2908A (en) 1979-01-19
IE41395B1 (en) 1979-12-19
US4294910A (en) 1981-10-13
FI59680B (fi) 1981-05-29
NO151765C (no) 1985-05-29
DK144956B (da) 1982-07-12
LU72927A1 (pl) 1976-02-04
GB1513368A (en) 1978-06-07
SU569272A3 (ru) 1977-08-15
SE7507761L (sv) 1976-01-09
ZA754248B (en) 1976-06-30
FR2277682B1 (pl) 1982-04-16
IT1039749B (it) 1979-12-10
DK144956C (da) 1982-11-29
CH600394A5 (pl) 1978-06-15
DE2530422C2 (de) 1982-08-19
NL7508115A (nl) 1976-01-12
AT356147B (de) 1980-04-10
BE831075A (fr) 1975-11-03
IE41395L (en) 1976-01-08
DE2530422A1 (de) 1976-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL109957B1 (en) Method of photosensitive plate treatment
US4762771A (en) Method of treating photosensitive printing plate
US3201239A (en) Etchable reproduction coatings on metal supports
US4063507A (en) Process for burning in planographic printing plates
US5314787A (en) Process for treating lithographic printing forms and lithographic printing forms produced thereby
US3567445A (en) Presensitized lithographic plate with two differentially spectrally sensitized layers separated by a novolak resin
GB2034909A (en) Process for heat treating lithographic printing plates
US3287128A (en) Lithographic plates and coatings
US2459129A (en) Production of photographic stencils
GB2098627A (en) Anodized supports for production of lithographic printing plates
DE3134054A1 (de) Elektrochemisches entwicklungsverfahren fuer reproduktionsschichten
US3532055A (en) Production of plates for offset lithography
US3899332A (en) Printing plate and method of making the same
US4142892A (en) Method of reducing the defect density in a positive-working photoresist layer using a salt of imidazolinium
US1961927A (en) Lithographic process
US3737314A (en) Manufacture of printing elements by a photoresist chemical etching system
US3350206A (en) Lithographic plates, gluconate solutions therefor and process for producing the same
JPH06501655A (ja) 印刷版保護剤
US3562119A (en) Presensitized aluminum photolithographic etched plate and elements and method used in the preparation of same
US5213950A (en) Pre-bake printing plate composition
US3264220A (en) Photoengraving
US755225A (en) Process of making printing-plates.
US2411108A (en) Developing colloid resists with substantive dyes
JPS6154212B2 (pl)
JP3138350B2 (ja) 製版方法