JPH06501655A - 印刷版保護剤 - Google Patents

印刷版保護剤

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JPH06501655A
JPH06501655A JP3515687A JP51568791A JPH06501655A JP H06501655 A JPH06501655 A JP H06501655A JP 3515687 A JP3515687 A JP 3515687A JP 51568791 A JP51568791 A JP 51568791A JP H06501655 A JPH06501655 A JP H06501655A
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ドゥーリー、トーマス・ジェイ
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ポリクロム・コーポレイション
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、有効量のヒドロキシェチリデンジホスホン酸のジカリウム塩を水に溶 解したことから成る印刷版保護剤組成物に関係する。かかる組成物は、化学線光 照射で予め感光した平版印刷版の面を保護するのに有用で、平版印刷版の露出支 持体面に対し、平版印刷版の現像後で且つ加熱処理の前に塗布することにより、 加熱処理によって生じる表面汚染を防止することができる。
背景技術 平版印刷に好適な放射線感受性板はよく知られている。かかる板は一般に、研磨 および/または陽極酸化しつるアルミニウム、または亜鉛、マグネシウム、銅も しくはスチールあるいはバイメタルもしくはラミネートといった組合せなどの支 持体、並びに該支持体に沈着した放射線感受性物質の層から成る。
透明画を介して、放射線感受性層に化学線放射線を画像照射すると、放射線照射 領域の溶解性が未照射領域のそれに比して変化する。照射した板を適当な現像液 で処理すると、溶解性の大きい領域は容易に除去され、下の支持体は露出し、そ して支持体上に溶解性の小さい領域で構成される画像を形成することができる。
支持体の現像で露出した領域は、非画像領域を構成する。
たとえば感光性ポリマーとして公知の放射線感受性物質は、放射線照射後に溶解 性が小さくなるため、照射に際してネガ透明画を用いる。この場合、現像で除去 されるのは放射線非照射領域であり、そして支持体上に残る放射線照射領域が画 像を形成する。適当な感光性ポリマーの具体例としては、ジアゾ樹脂、クロム感 光コロイド類、ジアゾニウムもしくはアジド感光樹脂、またはかかる基を有する ポリマーが包含される。かかる物質をベースとする放射線感受性層を有する板は 、ネガ作用板として知られている。
オルソキノンジアジド類をベースとするような放射線感受性物質は、放射線照射 後に溶解性が大きくなるため、照射に際してポジ透明画を用いる。この場合、現 像で除去されるのは放射線照射領域であり、そして支持体上に残る放射線非照射 領域が画像を形成する。かかる放射線感受性層を有する板は、ボン作用板として 知られている。
印刷版の寿命は、印刷版が生産しうるコピ一枚数の観点から、画像領域の“焼き 入れ(burning−in)”によって増大できることが多い。但し、画像領 域の物質が適切であることを条件とすることは云うまでもない。“焼き入れ”は 、放射線感受性板から平版印刷版を製造する分野において、十分に確立された慣 例手段である。
”焼き入れ“は、画像領域を構成する物質のポリマー構造に広範囲の架橋を引き 起こす。”焼き入れ”の限定的温度および時間でアルミニウムが焼きなましする と、印刷版に要求される強度の損失が生じる。
U、 K、特許669412に、ナフトキノンジアジド類をベースとする画像の 焼き入れが開示されている。この特許の技術によれば、ジアジド層を有する放射 線感受性板を画像照射し、アルカリ溶液で現像し、放射線に照射された層領域を 選択的に除去し、次いでオーブンに入れ、放射線に照射されなかった層領域の画 像を加熱している。その後、印刷版から汚染残留物を除去し、かつ該印刷版の印 刷の用意をするため、印刷版を再度アルカリ溶液で処理することが必要である。
多(の場合、加熱される画像領域は、放射線感受性層に補強物質を添加するか、 および/または補強物質を補強ラッカーの形状で現像後の現像領域に塗布するこ とにより、補強することができる。一般に使用される補強物質の具体例は、ノボ ラック樹脂および/またはレゾール樹脂である。しかしながら、U、 K、特許 1154749に開示の如く、樹脂補強画像領域を硬化させるのに十分な温度で 加熱すると、現像で露出した支持体領域は少なくとも部分的に、インキを受け入 れ且つこのためスカムを形成して印刷中に汚れ地(soiled backgr ound)をもたらす汚染層で、おおわれることになる。従って、この汚染層は 、印刷を開始する前に除去しなければならず、そして上記特許の技術によれば、 印刷版をアルカリ水溶液で処理することにより、汚染層の除去を行っている。
U、S、特許4294910に、焼き入れ法によって生じる問題を回避する”ゴ ム引(gumming)”または“プレベーク(pre−bake)”用溶液と して公知の、各種水性組成物の使用が開示されている。かかる溶液は、ドデシル フェノキシベンゼンジスルホン酸ナトリウム、アルキル化ナフタレンスルホン酸 、スルホン化アルキルジフェニルオキシド、メチレンジナフタレンスルホン酸な どの物質を含有する。
U、S、特許4786581に、焼き入れ中に印刷版を保護する“ゴム引“用溶 液の使用が開示され、これらの水溶液は親水性ポリマー成分と有機酸成分を含有 する。有機酸成分(またはその水溶性塩)は、ジもしくはそれ以上の酸性官能価 を含有し、ベンゼンカルボン酸類、スルホン酸類およびアルカンホスホン酸類を 含むホスホン酸類が含まれる。U、S、特許4786581に記載の物質と対比 して、本発明は親水性ポリマーの使用を要しない。さらに、本発明で使用するジ ホスホン酸化合物(ジカリウム塩で存在)は、焼き入れするアルミニウム板の表 面の保護に優れた結果をもたらす。かかる優れた保護剤特性は、ヒドロキシェチ リデンジホスホン酸のジカリウム塩が印刷版の酸化アルミニウム表面に暗合する 能力に関係するが、U、S、特許4786581に開示のアルカンホスホン酸類 はこのような特性は有しない。
焼き入れによって生じる汚染層は概して、裸眼では識別できず、また全ての汚染 が除かれたことを確かめることは難かしい。さらに、多孔性の支持体面の場合、 たとえば陽極酸化したアルミニウム板の場合、たとえば陽極酸化したアルミニウ ム板の場合、孔の中に汚染が存在しつる。かかる汚染は、支持体面が徐々に摩耗 するので、長い印刷工程中にスカムを形成すると思われる。汚染層を除去するた め、別法として焼き入れ後に印刷版を再現像する方法があるが、この方法は、印 刷版をオーブンから取出した後に印刷版を印刷版二次加工設備へ戻さなければな らないため、費用が高く且つ不便である。
焼き入れ操作によって生じる汚染の除去に付随する困難さに鑑み、最初の場合に おいて、汚染が発生するのを防止することが望まれる。画像物質の幾つかの成分 が加熱中に画像領域から昇華した後、現像で露出した支持体領域に再沈着する結 果、明らかに汚染が発生することがわかった。しかしながら、加熱中に汚染を発 生しつる物質を全く含有しない板でも、前の焼き入れ使用の結果、焼き入れオー ブンの内部面に予め付着した汚染物質の沈着によって汚れが生じてくる。
発明の開示 本発明は、焼き入れ前の現像した印刷版の表面に塗布される水性組成物の使用に 関係する。かかる組成物は、焼き入れ中に起る汚染の防止において保護剤として 作用することにより、印刷版を再現像する必要性を取除く。ヒドロキシェチリデ ンジホスホン酸のカリウム塩が使用されるが、鎖酸の他のカチオン体(たとえば ナトリウム塩)では、溶解性が十分でなく水中での所望濃度を得ることができな いからである。一般に、ヒドロキシェチリデンジホスホン酸のジカリウム塩は、 水溶液中1〜20重量%、好ましくは2〜10重量%の濃度で存在する。
かかるジカリウム塩を含有する水性組成物のpHは一般に、4〜7、好ましくは 5〜6の範囲にある。水溶液中、pH約5.5で、上記酸のトリカリウム塩が形 成しはじめ、pHの上昇につれて、トリカリウム塩の濃度は最大限まで上昇する 。本発明の目的のため、トリカリウム塩は0〜15重量%、好ましくは0〜5重 量%の量で存在しつる。
また、かかる組成物は、錫塩、亜鉛塩およびこれらの混合物の群から選ばれる塩 を含有することが好ましい。好ましい塩は、クロリドなどのハライドであり、錫 および亜鉛塩の混合物が特に好ましい。これらの塩の含有量は、1〜7重量%、 1〜3重量%であってよい。かかる塩混合物を用いるとき、錫塩と亜鉛塩の割合 (重量部単位)は、12:1〜0.2:1、好ましくは3:1〜1:1の範囲に あってよい。
また、かかる組成物は、強有機酸の塩および弱有機酸の塩の官能価を有するアニ オン界面活性剤を含有することが望ましい。アニオン界面活性剤は、3〜11重 量%、好ましくは5〜9重量%の量で存在しつる。適当なアニオン界面活性剤お よび他の種類の具体例としては、N−(1,2−ジカルボキシエチル)−N−オ クタデシルスルホスクシンアミド酸テトラナトリウム(これらが好ましい)、同 テトラカリウム塩、ココアムホ(cocoa+opho)カルボキシプロピオン 酸ジナトリウム、ココアムホブロビルスルホン酸ナトリウム、ココアムホグリシ ン・ナトリウム、アルキル(CI4 50%、CI2 40%、C+a 10% )ジメチルベンジルアンモニウムクロリド、ナトリウム・N−メチル−N−コツ イルタウレート、変性大豆ジメチルエチルアンモニウムエトスルフェート、コカ ミド(cocamido)プロピルヒドロキシルスルティン(sultaine )、ジナトリウムジカルボキシエチルホスホエチルイミダゾリン等が包含される 。
また、水性組成物にクエン酸塩、たとえばクエン酸ジカリウムおよび/またはク エン酸トリカリウムを1〜9重量%、好ましくは2〜6重量%の量で含ませるこ とが望ましい。
また水性組成物は、炭素数3〜10のポリヒドロキシ化合物の1種以上を含有す ることが望ましく、該ポリヒドロキシ化合物の好ましい具体例は、ソルビトール 、グリセロールおよびこれらの混合物である。ソルビトールは1〜15重量%、 好ましくは3〜7重量%で存在し、一方、グリセロールは約3重量%以下、好ま しくは0.1〜1.0重量%の量で存在してよく、またソルビトールとグリセロ ールの両方が存在する場合、ソルビトールとグリセロールの割合は、0.3:1 〜150:1、好ましくは3.5:1〜70:1の範囲にある。ポリヒドロキン 化合物の使用によって、界面活性剤の量を徹底的に低下、すなわち0.04〜8 .0重量%、好ましくは0.08〜0.8重量%の量にすることができる。
水性組成物の成分は、焼き入れ温度で揮発しないものでなければならず、かつ支 持体や放射線感受性層の性賀、並びに印刷版の使用目的に応じて選定される。
たとえば、平版印刷版の製造を行っている場合には、選定される成分は、有効な 物理的バリヤーであるばかりではなく、たとえば画像を溶解したりあるいは非イ ンキ受容性とすることによる画像への悪影響を与えないものでなければならない 。
さらに、かかる成分は、画像領域および非画像領域に悪影響を及ぼすことなく、 焼き入れ後簡単に除去しうるものでなければならない。
前記具体例の成分は特に、焼き入れによって起る汚染から平版印刷版を保護する のに有用である。本発明の組成物は、現像した印刷版の表面に対し、通常の方法 (たとえばスプレー、浸漬、刷毛塗り等)で容易に塗布され、所望の保護シール ドを付与する。焼き入れが終了した後、印刷版を単に水でぬぐうことにより、印 刷版から保護シールドを容易に除去することができる。この除去工程は、印刷版 を実際に印刷機へ取付ける間に行うことができ、このため、焼き入れの終了後に 、印刷版を印刷版作成設備へ戻す必要がない。次いで印刷版の印刷への用意をす るのに必要なのは、水でリンスしてシールドを除去することと、たとえばアラビ アゴムで不感脂化することである。
また本発明の水性組成物は、焼き入れの必要がない場合に、準備用(prepa ration)および貯蔵用(storage)ゴム溶液としても使用しつる点 で、極めて用途が広い。
水性組成物は、準備用ゴム溶液として使用するとき、現像後に印刷版に塗布され て、酸化アルミニウム被覆支持体の親水性を改善する機能を果す。また水性組成 物は、貯蔵用ゴム溶液として使用するとき、現像した印刷版に被覆され、そして このように被覆された印刷版は、吸着性酸化アルミニウム面が汚染から保護され るので、長期間にわたって貯蔵することができる。長期の貯蔵後でも、印刷版は そのまま印刷機に供してよく、そして他の準備を要することなく良好なコピーを 生産する。
次に挙げる実施例は、本発明を説明するためのものである。なお、特別な指示が ない限り、総ての%は重量%である。
実施例1 脱イオン水3kgに撹拌下、87.1%水酸化カリウム527gを溶解する。
冷却後、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸の60%溶液1.3 01kgを加え、脱イオン水192gでリンスする。その後、無水塩化錫76g を加え、溶解後、無水塩化亜鉛45gを加える。溶液を冷却した後、脱イオン水 250g中の87.1%水酸化カリウム95gの溶液を加え、脱イオン水25g でリンスする。次いで、脱イオン水775g中の87.1%水酸化カリウム23 9gの溶液を加え、冷却しながら、クエン酸モノ水和物310gを加える。その 後、N−(1,2−ジカルボキシエチル)−N−オクタデシルスクシンアミド酸 テトラナトリウムの35%溶液2.233kgを加え、脱イオン水500gでリ ンスする。最後に、脱イオン水2kgを加えて、濃度を調整し、溶液を濾過する 。得られる溶液は固形分22.2%およびpH5,9であった。
実施例2 脱イオン水3kgに撹拌下、87.1%水酸化カリウム527gを溶解する。
冷却後、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(60%溶液)1. 301kgを加え、脱イオン水192gでリンスする。この溶液に、無水塩化錫 76gを加え、溶解後、無水塩化亜鉛45gを加える。溶液を冷却した後、脱イ オン水250g中の87.1%水酸化カリウム95gの溶液を加え、脱イオン水 25gでリンスする。溶液に、脱イオン水25gでリンスしながら、30%過酸 化水素44gを加える。次いで、実施例1のスクシンアミド酸化合物1.485 kgを加え、脱イオン水245gでリンスする。脱イオン水1.430kgで濃 度を調整し、溶液を濾過することにより、固形分21,4%およびpH5゜8の 最終溶液を得る。
実施例3 脱イオン水30kgに撹拌下、87.1%水性水酸化カリウム4.047kgを 溶解する。冷却後、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸の60% 溶液9.949kgを加え、脱イオン水1.0kgでリンスする。その後、無水 塩化錫1.159kgを加え、完全な溶解後、脱イオン水2.753kg中の8 7゜1%水酸化カリウム821gを加え、脱イオン水50gでリンスする。この 溶液に、70%ソルビトール5.973kgおよびリンス液として脱イオン水5 00gを加える。さらに、脱イオン水500g中の99%グリセロール335g を脱イオン水500gでリンスする。次いで、脱イオン水300gに溶解したC I4〜CI6アルキルジメチルベンジルアンモニウムクロリドの80%溶液70 gを加え、脱イオン水200gでリンスする。最後に、脱イオン水1.24kg で濃度を調整して、固形分21.3%およびpH5,6の溶液を得る。
脱イオン水5kgに撹拌下、87.1%水性水酸化カリウム628gを溶解する 。この溶液に、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(60%溶液 )1.558kgを加え、さらにリンスのため脱イオン水160gを加える。溶 液を冷却し、70%ソルビトール532gを加えた後、脱イオン水58g中のグ リセロール56gの溶液を加え、トータル200gの脱イオン水を用いて、成分 のリンスを行う。その後、脱イオン水100g中のC+4−C+aアルキルジメ チルベンジルアンモニウムクロリドの80%溶液を加え、脱イオン水90gでリ ンスする。最後に、溶液を脱イオン水355gに希釈し、固形分20,3%およ びpH5,4の溶液を得る。
実施例5 ボジチブ作用板を通常の方法に従い、手で現像する。現像の後、ぬれたままで、 各実施例1〜4の溶液の数mlを現像版の表面に塗布し、次いで布でこすりつけ て、該現像を処理する(但し、対照版については処理しない)。次いで、ぬれた 版をパフでほぼ乾燥するまで磨き、そして風乾する。重量増加に基づき、版に塗 布した溶液量を測定したところ、4.0±0.5 g/m”であった。次いで、 塗布板を、コンベアベルト、対流熱および強制空気を有するオーブン(ライスコ ンシン、5PC−430型)にて、下記表1に示す温度および時間にて焼きつけ る。次いで焼きつけ版を水で洗い、状態を調べる。この最初の調査は、鎖板の支 持体に、ピンホールを生成する焼き穴もしくは貫通穴があるかどうかを調べるこ とを目的とし、そしてまた、残留物が残っているかも調べた。次いで、版表面に インキおよび水含有布をこすりつけてインキを塗り、再び状態を調べる。この第 2の調整は、版の照射領域における支持体によるインキ吸収があるかどうか、画 像のインキングの精度(すなわち、インキの非付着または微細部の損失)および テストパターンの未照射領域のインキングの正確性(すなわち、版表面の親油性 は焼き入れ工程によって影響されるべきでないこと)を調べるために行った。な お、表1中、Oは合格、×は不合格を示す。
上記表1の結果から、実施例1〜4の溶液は焼き入れの影響に対し優れた保護を 付与することが認められる。特に注目すべき点は、対照(焼きっけ前に溶液処理 せず)は、表示温度および時間で焼つけた後の第2調査に不合格である。これに 対し、実施例1〜3の溶液で処理した版は、すべての表示温度および時間で焼き つけた後の第2調査に不合格である。これに対し、実施例1〜3の溶液で処理し た版は、全ての表示温度および時間で焼きつけた後の両調査共に合格である。実 施例4の溶液で処理した版は、より高い温度でのみ不合格であったが、このこと は錫塩(実施例3)または錫塩と亜鉛塩の混合物(実施例1および2)の添加が 望ましいことを示すものである。
補正書の翻訳文提出書 (特許法第184条の8)

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.化学線光照射で予め感光した平版印刷版の保護用水性組成物であって、有効 量のヒドロキシエチリデンジホスホン酸のジカリウム塩を水に溶解したことから 成り、平板印刷版の露出支持体面に対し、平版印刷版の現像後で且つ加熱処理の 前に塗布して、加熱処理による表面汚染を防止することを特徴とする平版印刷版 の保護用水性組成物。
  2. 2.ヒドロキシエチリデンジホスホン酸のジカリウム塩が1〜20重量%の量で 存在する請求の範囲第1項記載の組成物。
  3. 3.上記酸のトリカリウム塩を含有する請求の範囲第1項記載の組成物。
  4. 4.トリカリウム塩が0〜5重量%の量で存在する請求の範囲第3項記載の組成 物。
  5. 5.錫塩、亜鉛塩およびこれらの混合物の群から選ばれる塩を含有する請求の範 囲第1項記載の組成物。
  6. 6.塩が1〜7重量%の量で存在する請求の範囲第5項記載の組成物。
  7. 7.塩が錫ハラ〜ドおよび亜鉛ハライドからなる請求の範囲第5項記載の組成物 。
  8. 8.錫ハライドと亜鉛ハライドの割合が、12:1〜0.2:1の範囲にある請 求の範囲第7項記載の組成物。
  9. 9.強有機酸の塩および弱有機酸の塩の官能価を有するアニオン界面活性剤を含 有する請求の範囲第1項記載の組成物。
  10. 10.アニオン界面活性剤が3〜11重量%の量で存在する請求の範囲第9項記 載の組成物。
  11. 11.アニオン界面活性剤が、N−(1,2−ジカルボキシエチル)−N−オク タデシルスルホスクシンアミド酸テトラナトリウムである請求の範囲第9項記載 の組成物。
  12. 12.クエン酸の塩を含有する請求の範囲第1項記載の組成物。
  13. 13.クエン酸の塩が1〜9重量%の量で存在する請求の範囲第12項記載の組 成物。
  14. 14.クエン酸の塩が、クエン酸ジカリウムおよび/またはクエン酸トリカリウ ムからなる請求の範囲第12項記載の組成物。
  15. 15.炭素数3〜10のポリヒドロキシ化合物を含有する請求の範囲第1項記載 の組成物。
  16. 16.ポリヒドロキシ化合物が、ソルビトール、グリセロールおよびこれらの混 合物の群から選ばれる請求の範囲第15項記載の組成物。
  17. 17.ソルビトールが3〜7重量%の量で存在し、グリセロールが0〜3重量% の量で存在し、ソルビトールとグリセロールの割合が0.3:1〜150:1の 範囲にある請求の範囲第16項記載の組成物。
  18. 18.強有機酸の塩および弱有機酸の塩の官能価を有するアニオン界面活性剤を 含有する請求の範囲第15項記載の組成物。
  19. 19.アニオン界面活性剤が0.04〜8重量%の量で存在する請求の範囲第1 8項記載の組成物。
  20. 20.アニオン界面活性剤が、N−(1,2−ジカルボキシエチル)−N−オク タデシルスルホスクシンアミド酸テトラナトリウムである請求の範囲第18項記 載の組成物。
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