FI59680C - Foerbaettringar i eller angaoende klicheer - Google Patents
Foerbaettringar i eller angaoende klicheer Download PDFInfo
- Publication number
- FI59680C FI59680C FI751976A FI751976A FI59680C FI 59680 C FI59680 C FI 59680C FI 751976 A FI751976 A FI 751976A FI 751976 A FI751976 A FI 751976A FI 59680 C FI59680 C FI 59680C
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- radiation
- layer
- plate
- salt
- areas
- Prior art date
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 38
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 8
- DLTISZOGPVEGJT-UHFFFAOYSA-L disodium;4-dodecyl-3-phenoxybenzene-1,2-disulfonate Chemical group [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C(S([O-])(=O)=O)=C1OC1=CC=CC=C1 DLTISZOGPVEGJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 2
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical class [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 2
- LVAOBEYIJJPYNL-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-sulfonaphthalen-2-yl)methyl]naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=C1CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1S(O)(=O)=O LVAOBEYIJJPYNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 claims 1
- HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 8
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 5
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 4
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 3
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 3
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 3
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 3
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- -1 sulfonated alkyl diphenyloxide Chemical compound 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 1,2-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC=CC1=O WOAHJDHKFWSLKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOVAOFAFMFWSKC-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-sulfonaphthalen-1-yl)methyl]naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C12=CC=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=C1CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C2=CC=CC=C12 LOVAOFAFMFWSKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N Aesculin Natural products OC[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H]1Oc2cc3C=CC(=O)Oc3cc2O PLXMOAALOJOTIY-FPTXNFDTSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000165918 Eucalyptus papuana Species 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000385654 Gymnothorax tile Species 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P ammonium dichromate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O JOSWYUNQBRPBDN-UHFFFAOYSA-P 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000000834 fixative Substances 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N lithium nitrate Chemical class [Li+].[O-][N+]([O-])=O IIPYXGDZVMZOAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dione;diazide Chemical class [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 QVEIBLDXZNGPHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Polishing Bodies And Polishing Tools (AREA)
- Diaphragms For Electromechanical Transducers (AREA)
Description
Rär^l [e] (11)KUU,LUTUSJULKA,SU CQ^on
fgflA lJ UTLÄCGNI NCSSKRIFT ^O O U
C /m Paten Iti syynne Ity 10 C? 1 .'Jl Patent cedceiat ^ (51) Kv.ik.Wa.3 G 03 F 7/00 SUOMI—FINLAND (21) PK«.ttiiWk«nu.-PK«H«nrtMminl 751976 (22) H*k*ml*pUvi—Ana&fcnlnpdtf 07·07-75 (23) Alkuptlvt—GittlghtCadag 07-07-75 (41) Tullut JulkMcil — MMt affumllg 09 - 01.76 r^rtarihamtm N·***—, μ w»Mi on nc
Patanfe- och rtgistarstyralaan * AnaMan utkgd odi utl.*krfftMt puMieurad 29-05-81 (32)(33)(31) Fyydtty utuollwut-l«gtrd prlortt* 08-07-71*
Englanti-England(GB) 3026U/7U
(71) Vickers Limited, Vickers House, Millbank Tower, Millbank, London SW1, Englanti-England(GB) (72) Hans Wielinga, Hilversum, Hollanti-Holland(NL) (7^) Oy Kolster Ab (5I+) Kuvalaattoja koskevia parannuksia - Förbättringar i eller ang&ende klicheer
Keksintö liittyy säteilyherkkien kappaleiden esim. laattojen valmistukseen, jotka laatat sopivat käytettäviksi valmistettaessa kivipainolaattoja.
Tällaiset säteilyherkät laatat käsittävät alustan, joka tavallisesti on alumiinia ja joka voi olla juovitettu ja/tai oksidi-kalvolla peitetty, tai sinkkiä, magnesiumia, kuparia tai terästä tai tällaisten yhdistelmä kuten kaksoismetalli tai laminaatti, sekä kerroksen säteilyherkkää ainetta saostettuna alustalle.
Säteilyherkän kerroksen saattaminen kuvan mukaisesti alttiiksi valokemialliselle säteilylle aiheuttaa säteilyn läpäisyn vaikutuksesta säteilytettyjen alueiden liukoisuuden muuttumisen verrattuna pintoihin, joihin säteily ei ole vaikuttanut. Käsittelemällä kuvan mukaisesti säteilytettyä levyä sopivalla kehittimellä voidaan liu-koisemmat alueet poistaa alla olevan alustan paljastamiseksi ja jättämään kuvan alustalle, joka muodostuu vähemmän liukoisista alueista. Alustan alueet, jotka paljastuvat kehitettäessä, muodostavat ei-kuva-alueet.
2 59680
Ne säteilyherkät aineet, jotka tunnetaan nimellä valopolymee-riaineet, tulevat vähemmän liukoisiksi oltuaan alttiina säteilylle ja sentähden käytetään negatiivista läpäisevyyttä säteilytyksessä. Tässä tapauksessa säteilyä saamattomat alueet poistetaan kehittämällä ja alueet, joihin säteily on vaikuttanut, jäävät alustalle muodostamaan kuvan. Muut aineet, jotka käyttäytyvät samalla tavalla, ovat hyvin tunnettuja, esim. diatsohartsit, kromiherkistety kolloidit, diatsonium- tai atsidi-herkistetyt hartsit tai polymeerit, joissa on tällaisia ryhmiä. Levyt, joissa on tällaisille aineille pohjautuva säteilyherkkä kerros, tunnetaan negatiivisesti toimivina laattoina.
Säteilyherkät aineet, kuten ne, jotka pohjautuvat ortokinoni-diatsideihin, tulevat liukoisemmiksi oltuaan alttiina säteilytyksel-le ja sentähden käytetään säteilytyksessä positiivista läpäisevyyttä. Tässä tapauksessa alueet, joihin säteily on vaikuttanut, poistetaan kehittämällä ja säteilyttämättömät alueet jäävät alustaan muodostamaan kuvan. Laatat, joissa on tällaisia säteilyherkkiä kerroksia, tunnetaan positiivisesti toimivina laattoina. Kuvalaatan ikää, ilmaistuna jäljennösten lukumäärällä, jonka se voi tuottaa, voidaan usein lisätä kuumentamalla ("polttamalla sisään") kuva-alueet, edellyttäen tietenkin, että kuva-alueiden aine on sopiva, ja "sisäänpoltta-minen" on vakiintunut käytäntö kivipainolaattojen valmistamiseksi säteilyherkistä laatoista. Aikaisempi kuvaus kuvien sisäänpolttami-sesta, joka perustuu naftokinonidiatsideihin, sisältyy brittiläiseen patenttiin 699412. Tämän patenttiselityksen oppien mukaisesti saatetaan säteilyherkkä laatta, jossa on kerros naftokinonidiatsidia, kuvan mukaisesti alttiiksi säteilylle, kehitetään alkalisella liuoksella kerroksen niiden alueiden selektiiviseksi poistamiseksi, joihin säteily pääsi vaikuttamaan säteilytyksen aikana, ja pantiin sitten uuniin kuvan kuumentamiseksi, joka muodostui kerroksen niistä alueista, joihin säteily ei ollut vaikuttanut. Jälkeenpäin on välttämätöntä käsitellä laattaa uudelleen alkalisella liuoksella saastutus-jätteiden poistamiseksi laatasta ja laatan tekemiseksi valmiiksi painatusta varten.
Monissa tapauksissa kuumennettavat kuva-alueet voidaan vahvistaa lisäämällä vahvisteainetta säteilyherkkään kerrokseen ja/tai \ V' 3 59680 levittämällä vahvisteainetta kuva-alueelle kehittämisen jälkeen vahvistavana lakkana. Novolakkahartseja ja/tai resolihartseja käytetään tavallisesti vahvisteaineena. Kuten brittiläisessä patentissa no. 1.154.7U9 on esitetty, aiheuttaa kuitenkin kuumentaminen lämpötilassa, joka on riittävä kovettamaan hartsilla vahvistetut kuva-alueet, sen, että ne alustan alueet, jotka paljastuvat kehitettäessä, ainakin osittain peittyvät saastuttavalla kerroksella, joka hyväksyy musteen ja voisi sentähden saada aikaan vaahtoamista ja antaa tahraantuneen taustan painatuksen aikana. Tämä kerros täytyy sentähden poistaa ennen painamisen aloittamista ja tämä voidaan suorittaa brittiläisen patentin no. 1.154.749 mukaisesti käsittelemällä laattaa vesipitoisella alkaliliuoksella.
Kuumennettaessa syntynyt saastuttava kerros ei yleensä ole paljain silmin eroitettavissa ja on vaikeata varmistua siitä, että kaikki saaste on poistettu. Lisäksi, kun alustan pinta on huokoinen, kuten asia on alustan ollessa oksidikalvolla peitettyä alumiinia, saastetta voi esiintyä huokoisissa. Vaikka tällainen saastuminen todennäköisesti ei aiheuttaisi vaahtoamista välittömästi, se voi aiheuttaa vaahtoamista pitkän painatuksen aikana, kun alustan pinta kuluu pois. Lisäksi se, että on välttämätöntä tehokkaasti uudelleen kehittää levyt kuumentamisen jälkeen saastuttavan kerroksen poistamiseksi, on hankalaa sikäli, että laatat on palautettava laatan val-mistushuoneeseen sen jälkeen kun ne on poistettu uunista.
Näiden tavanomaisten "sisäänpoltto”-menetelmien haitoista johtuen on nyt suoritettu tutkimuksia saastumisen lähteistä, tarkoituksena estää näiden ilmaantuminen. On havaittu, että saastuminen todennäköisesti saa alkunsa tuloksena kuva-aineen jonkun aineosan sublimoitumisesta kuva-alueilta kuumentamisen aikana ja senjälkeisestä kerrostumisesta kehittämisen jälkeen paljastuneille alustan alueille. Jopa laattojen, jotka eivät sisällä mitään ainetta, joka voisi synnyttää saastuttavaa ainetta, on havaittu saastuvan siitä, että niille kerrostuu saastuttavaa ainetta, joka jo on kerrostunut sisäänpolttouunin sisäpinnoille tuloksena uunin aikaisemmasta käytöstä sisäänpolttoa varten. Aineosaa, joka voi aiheuttaa saastumista, voi höyrystyä kerroksen säteilyherkästä aineesta tai novolakka- tai muusta hartsista kerroksessa tai se voi olla kerroksessa mukana oleva epäpuhtaus, esim. fenoli.
>-4 * 59680 Tämän keksinnön yhtenä tavoitteena on välttää ei-kuva-alueiden saastuminen sisäänpolton aikana ja siten päästä puhdistuspakosta.
Tämän keksinnön kohteena siis täsmällisesti· sanottuna on menetelmä säteilyherkän kappaleen käsittelemiseksi, joka kappale käsittää säteilyherkällä kerroksella päällystetyn alustan, jolloin menetelmä käsittää: - kerroksen kuvan mukaisen säteilyttämisen siten, että kerroksessa on säteilytettyjä alueita ja ei-säteilytettyjä alueita, jolla on eri liukoisuus, - säteilytetyn kerroksen kehittämisen, jolloin valikoidusti poistetaan liukoisemmat alueet ja paljastetaan näiden alueiden alapuolella olevat alustan alueet, ja - alustalle kehityksen jälkeen jääneiden vähemmän liukoisten alueiden kuumentamisen.
Keksinnölle on pääasiallisesti tunnusomaista, että ennen kuu-mentamisvaihetta paljastettu alusta varustetaan suojalla, joka voidaan poistaa vedellä tai vesipitoisella liuoksella kuumennusvaiheen jälkeen ja joka estää epäpuhtauksien koskettamisen kappaleeseen kuumennusvaiheen aikana.
Muita keksinnölle edullisia ominaispiirteitä on esitetty patenttivaatimuksissa 2-4.
Peiteaineen tulisi olla sellainen, että se ei haihdu kuumennus-lämpötilassa ja se valitaan alustan luonteen, säteilyherkän kerroksen luonteen ja tarkoituksen mukaan, mihin säteilyherkkää laattaa tullaan käyttämään. Esimerkiksi tapauksessa, jolloin valmistetaan kivipaino-laatta, täytyy peiteaineen samalla kun se on tehokas fysikaalinen estäjä saastuttavalle aineelle, olla myös sellainen, että se ei vaikuta vahingoittavasti kuvaan (esim. liuottamalla se tai tekemällä se painoväriä vastaanottamattomaksi) tai ei-kuva-alueisiin (esim. tekemällä ne painoväriä vastaanottavaksi). Sen täytyy myös olla helposti poistettavissa "sisäänpolton" jälkeen, ilman että kuvaja ei-kuva-alueisiin vaikutetaan vahingoittavasti. Edellä mainitut esimerkit suoloista ovat erityisen käyttökelpoisia käytettäväksi valmistettaessa kivipainolaat-toja.
Tällaisista suoloista muodostuneet suojat eivät vaikuta vahingollisesti kuva- ja ei-kuva-alueiden kivipainatusaminaisuuksiin. Täi.luiset suojat voidaan todella poistaa helposti laatasta pelkästään lauttaa vedellä puhdistaen. Tämä voidaan tehdä samalla kun laattaa asennetaan painopuristimeen. Niinpä sen jälkeen kun laatta on ollut sisään-polttovaiheessa, se voidaan asentaa suoraan painopuristimeen palauttamatta laatanvalmistushuoneeseen. Huuhtelu vedellä suojan poistamiseksi 5 59680 ja säteilyherkkyyden vähentäminen esim. arabikumilla, on kaikki, mikä silloin vaaditaan, levyn tekemiseksi valmiiksi painamista varten.
Seuraavat esimerkit kuvaavat keksintöä.
Esimerkki 1 _ -
Neljää ’’Alympic positiivisesti toimivaa, ennalta sateilyher-kistettyä laattaa (merkitty viitteinä A-D), jollaisia tuottaa Howsori-Algraphy Group of Vickers Limited ja joissa on säteilyherkkiä kerroksia, jotka käsittävät ortokinonidiatsidin ja novolakkahartsia, säteily-tettiin positiivisilla säteiden läpäisevyyksillä ja kehitettiin alka-lisella kehittimellä. Laatan A säteilyherkkyyttä vähennettiin arabikumilla tavalliseen tapaan, sille siveltiin painoväriä ja sitä käytettiin nopeutetussa kulutustestissä antamaan arvoilta 70000 hyvää jäljennöstä. Laattaa B kuumennettiin kehittämisen jälkeen uunissa 250°C:ssa 10 minuuttia. Se jäähdvtettiin sitten ja käsiteltiin kuten laattaa A. Laatan ei-kuva-alueiden havaittiin ottavan vastaan painoväriä helposti tuloksena saastumisesta kuumennusvaiheen aikana. Laattaa C käsiteltiin kuten laattaa B, mutta kuumennuksen jälkeen se pestiin perusteellisesti al-kalisella kehittimellä ei-kuva-alueiden puhdistamiseksi tavalla, joka on esitetty brittiläisessä patentissa no. 1.154·.749. Tämä laatta, joka on valaiseva esimerkki alan aikaisemmista laatoista, antoi arviolta 150000 hyvää jäljennöstä. Laatan D tapauksessa positiivinen säteiden läpäisevyys oli ei-läpäisevän alueen muodossa, jonka sisällä oli pyöreä läpäisevä alue. Täten kehitetty laatta sisälsi pyöreän ei-kuva-alueen. Tätä laattaa kuumennettiin samalla tavalla kuin laattoja B ja C, paitsi että metallikiekko, jonka läpimitta oli pienempi kuin ei-kuva-alueen läpimitta, sijoitettiin ei-kuva-alueen keskelle. Kun laatalle siveltiin painoväriä, havaittiin, että pyöreä ei-kuva-alue otti vastaan painoväriä tiettyyn rajaan asti, paitsi alueella, joka oli peitetty metalli-kiekolla. Laatalla D suoritetun testin perusteella oli selvää, että saastuttavaa ainetta oli kerrostunut ei-kuva-alueille kuumentamisen aikana ja että tämä saastuminen voidaan estää suojaamalla ei-kuva-alueet
Vaikka kiinteitä ennalta muodostettuja suojia voidaan käyttää tapauksissa, joissa ei-kuva-alueet ovat muodoltaan yksinkertaisia, täytyisi suojienvolla erittäin monimutkaisia muissa tapauksissa.
Esimerkki 2 (Ri "Alympic ^'-laattaa säteilytettiin ja kehitettiin samalla tavalla kuin laattoja esimerkissä 1. Laattaa huuhdottiin ja pyyhittiin tasaisesti 45 %:lla natriumdodekyylifenoksibentseenidisulfonaatin liuoksella suolakerroksen muodostamiseksi levylle. Levyä kuumennettiin 10 minuuttia 250°C:ssa, jäähdytettiin, pestiin vedellä suolakerroksen poistamiseksi, vähennettiin säteilyherkkyyttä ja siveltiin painovärillä, laatan ei-kuva-alueet eivät vastaanottaneet painoväriä ja laatta antoi 6 59680 arviolta 150000 hyvää jäljennöstä.
Esimerkki 3
Esimerkki 2 toistettiin, paitsi että laattaa pyyhittiin alky-loidun naftaleenisulfonihapon natriumsuolan liuoksella ja kuumennettiin 200°C:ssa 15 minuuttia. Laatan ei-kuva-alueet eivät vastaanottaneet painoväriä ja laatta antoi arviolta 100 000 hyvää jäljennöstä.
Esimerkki H
"Alympic Goldf^" positiivisesti toimivaa erinalta säteilyher-kistettyä kuvalaattaa (Vickers Limited, Howson-Algraphy Group) säteilytettiin positiivisilla säteiden läpäisevyyksillä ja kehitettiin voimakkaasti alkalisella kehittimellä, huuhdeltiin vedellä ja saatettiin kosketukseen sulfonoidun alkyylidifenyylioksidin natrium-suolan 4-5 %:sen liuoksen kanssa tämän suolan ohuen kerroksen muodostamiseksi sille. Laattaa kuumennettiin sitten sähköuunissa 230°C:ssa 8 minuuttia, jäähdytettiin, pestiin vedellä kerroksen poistamiseksi, vähennettiin säteilyherkkyyttä ja siveltiin painovärillä. Ei-kuva-alueet eivät vastaanottaneet painoväriä ja laattaa antoi arviolta 100000 hyvää jäljennöstä "heat-set"-raina-offset-painokoneella. Sa-manlainen levy, jota ei oltu käsitelty suolaliuoksella, kuohui pahasti kun painaminen aloitettiin. Voimakas puhdistaminen ennen painamista oli tarpeen tämän kuohumisen estämiseksi.
Esimerkki 5
Mekaanisesti juovitettua ennalta säteilyherkistettyä posi tiivisesti toimivaa laattaa, jollaisia toimittaa Kalle AG, säteilytettiin positiivisella säteiden läpäisevyydellä ja kehitettiin alkalisella kehittimellä. Huuhtelun jälkeen sitä pyyhkäistiin metyleeni-dinaftaleenisulfonihapon dinatriumsuolan 25 %:lla liuoksella ja pyyhittiin kuivaksi muodostaen siten tämän suolan kerros laatalle.
Laattaa kuumennettiin sitten 180°C:ssa 20 minuuttia, huuhdeltiin, vähennettiin säteilyherkkyyttä ja siveltiin painovärillä. Ei-kuva-alueet eivät ottaneet vastaan painoväriä ja laatta antoi arviolta 50000 hyvää jäljennöstä.
Esimerkki 6
Esimerkki 2 toistettiin, paitsi että laatta pyyhittiin nat-riumdodekyylibentseenisulfonaatin 25 %:lla vesiliuoksella. Kuumentaminen suoritettiin 23Q°C:ssa 10 minuutin aikana. Huomattavia vai- Λ J «' . y. ·' i ν' 7 59680 keuksia kohdattiin yritettäessä saada kuva-alueet vastaanottamaan painoväriä, mutta lopulta laatta antoi arviolta 150000 hyvää jäljennöstä.
Esimerkki 7
Esimerkki 2 toistettiin, paitsi että laatta pyyhittiin hydratun litiumnitraatin 20 %:lla liuoksella ja sitä kuumennettiin 200°C:ssa 10 minuuttia. Ei-kuva-alueet eivät vastaanottaneet painoväriä ja laatta antoi arviolta 100 000 hyvää jäljennöstä.
Esimerkki 8
Ennalta säteilyherkistetty negatiivisesti toimiva laatta, joka käsitti juovitetun rikkihapon oksidikalvolla peitetyn alumii-nialustan, päällystettiin polyvinyylisinnamaattiin DOhjautuvalla
D
aineella, joka tunnetaan nimellä "Kodak Photo Resist", muodostamaan 2 0,5 g/m :n kerros. Laattaa säteilytettiin negatiivin alla 3a se kehitettiin 2-metoksietyyliasetaatilla, joka sisälsi pienen prosenttimäärän säteilyherkkyyttä vähentävää happoa yhdessä 15 %:n kanssa pinta-aktiivista ainetta. Kehittämisen jälkeen laatta huuhdeltiin puhtaaksi ja sitä käsiteltiin sen vielä ollessa kostea emulsio-vah-vistelakalla, joka sisälsi novolakkahratsia. Laatta pestiin ja sitä käsiteltiin natriumdodekyylifenoksibentseenidisulfonaatin 45 %:lla vesiliuoksella tämän suolan ohuen kerroksen saamiseksi laatalle. Laattaa kuumennettiin sitten 10 minuuttia 250°C:ssa, jäähdytettiin, pestiin vedellä kerroksen poistamiseksi, vähennettiin säteily-herkkyyttä arabikumilla ja pantiin painopuristimeen. Mitään vaikeuksia ei ilmennyt hyvien puhtaiden jäljennösten saamiseksi.
Esimerkki 9
Laatta valokaiverretusta magnesiumlevystä puhdistettiin ja päällystettiin vesipitoisella poly(vinyylialkoholilla), jonka valon-herkkyyttä oli vähennetty lisäämällä 10 % ammoniumdikromaattia. Syntynyttä säteilyherkkää laattaa säteilytettiin negatiivin alla, kehitettiin vedellä ja käsiteltiin laimealla kromihapolla kuva-aineen edelleen silloittamiseksi. Ennen tavanomaista kuumennustoimi-tusta levitettiin laatalle sulfonoidun alkyylidifenyylioksidin nat-riumsuolan 45 %:sta vesiliuosta ja kuivattiin siihen. Vaahtoamisen estäminen happamia hartseja sisältävillä nesteillä ei ollut tarpeen •M- · - 8 59680 ennenkuin laatta voitiin tyydyttävästi syövyttää jauheettomassa syö-vytyskoneessa.
Esimerkki 10
Valmistettiin laattaa päällystämällä juovitettu, oksidikalvol-la peitetty alumiinialusta yhdistelmällä, joka sisälsi kaksi osaa 4,4'-diatsididifenyyliamiinia ja 10 osaa novolakkahartsia liuotettuna 88 osaan butanonia. Saatua säteilyherkkää laattaa säteilytettiin sitten negatiivin läpi ja kehitettiin alkalisella liuoksella. Laatan huuhtomisen jälkeen se pyyhittiin sulfonoidun alkyylidifenyylioksidin natriumsuolan 2,5 %:lla vesiliuoksella ja pyyhittiin kuivaksi muodostamaan tämän suolan kerros laatalle. Laattaa kuumennettiin sitten 10 minuuttia 250°C:ssa. Jäähdyttämisen jälkeen laatta huuhdeltiin kerroksen poistamiseksi, vähennettiin säteilyherkkyyttä ja siveltiin painovärillä. Ei-kuva-alueet eivät vastaanottaneet painoväriä.
Esimerkki 11
Juovitettu ja oksidikalvolla peitetty alumiinisubstraatti päällystettiin sopivalla dikromatun polyvinyylialkoholin valoherkällä liuoksella ja kuivattiin. Saatua säteilyherkkää laattaa säteily-tettiin positiivikuvan alla. Säteilytetty laatta kehitettiin vedellä ja kuivattiin. Painokuva muodostui levittämällä ohut kerros resoli/ epoksihartsilakkaa. Lakan kuivaamisen jälkeen laattaa pyyhkäistiin natriumdodekyylifenoksibentseenidisulfonaatin 45 %:lla vesiliuoksella tämän suolan kerroksen muodostamiseksi laatalle. Laattaa kuumennettiin sitten 200°C:ssa 2 minuuttia. Jäähdytettyä laattaa huuhdeltiin kerroksen poistamiseksi, vähennettiin sen säteilyherkkyyttä ja siveltiin painoväriä. Ei-kuva-alueet eivät vastaanottaneet painoväriä painatuksen aikana. Samanlaista lattaa, jota ei oltu käsitelty suolaliuoksella ennen sisäänpolttoa, oli voimallisesti puhdistettava ei-kuva-alueiden painovärin vastaanottamisen estämiseksi.
Esimerkki 12
Valoherkkää hopeakloridikerrosta bariumoksidilla päällystetyllä paperilla valotettiin kamerassa ja valotettu negatiivi sekä sopiva alumiinilevy syötettiin sitten tavanomaisen laitteen läpi, jota käytetään hopeansiirtoprosessiin. Alumiini erotettiin negatiivista ja sen pinnan säteilyherkkyyttä vähennettiin tavallisella kiinnitys- ·;·<* v.tf 9 59680 liuoksella. Sen jälkeen kuva-alueet alumiinin pinnalla peitettiin tasaisesti resoli/epoksihartsivahvistelakalla. laatta viimeisteli iin pesemällä, kuivaamalla, pyyhkäisemällä natriumdodekyylifenoksibent-seenidisulfonaatin 4 5 %:lla vesiliuoksella muodostamaan sille tämän suolan kerros, kuumentamalla 200°C:ssa 2 minuuttia ja pesemällä kerroksen poistamiseksi. Ei-kuva-alueet eivät ottaneet vastaan painoväriä painatuksen aikana. Samanlaista laattaa, jota ei oltu käsitelty suolaliuoksella, oli puhdistettava kuumentamisen jälkeen ei-kuva-alueiden painovärin vastaanottamisen estämiseksi.
Esimerkki 13
Erilaisia sopivia laattoja, joiden kaikkien uskotaan sisältävän säteilyherkkiä kerroksia, jotka sisältävät novolakkahartsia, säteilytettiin, kehitettiin ja kuumennettiin valmistajan ohjeiden mukaisesti. Yhtä näytettä kustakin käsiteltiin ennen kuumentamista natriumdodekyylifenoksibentseenidisulfonaatin 45 %:lla vesiliuoksella tämän suolan kerroksen muodostamiseksi sille ja yksi näyte kustakin puhdistettiin kuumentamisen jälkeen kuten valmistajat olivat neuvoneet tai brittiläisen patentin n:o 1.154.749 mukaisesti. Havaittiin, että laattojen suoritusominaisuuksissa ei ollut eroja.
Testatut laatat olivat: "Polychrome GAF®'; "EndoP200®"; "Rogers Posilith®" > "Nicholson Instalittf^'; "Kalle P^', "P4®', "P^" ja "Ferrania Fl®" ja "Fuji SGE®'.
Claims (4)
1. Menetelmä säteilyherkän kappaleen käsittelemiseksi, joka kappale käsittää säteilyherkällä kerroksella päällystetyn alustan, jolloin menetelmä käsittää: - kerroksen kuvan mukaisen säteilyttämisen siten, että kerroksessa on säteilytettyjä alueita ja ei-säteilytettyjä alueita, joilla on eri liukoisuus, - säteilytetyn kerroksen kehittämisen, jolloin valikoidusti poistetaan liukoisemmat alueet ja paljastetaan näiden alueiden alapuolella olevat alustan alueet, ja - alustalle kehityksen jälkeen jääneiden vähemmän liukoisten alueiden kuumentamisen, tunnettu siitä, että ennen kuumentamisvaihetta paljastettu alusta varustetaan suojalla, joka voidaan poistaa vedellä tai vesipitoisella liuoksella kuumennusvaiheen jälkeen ja joka estää epäpuhtauksien koskettamisen kappaleeseen kuumennusvaiheen aikana.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että laatta varustetaan suojalla käsittelemällä laattaa nestemäisessä muodossa olevalla peiteaineella.
3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että peiteaine on suola ja suoja valmistetaan levittämällä laatalle suolan vesiliuos muodostamaan laatalle suolakerros.
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että suola on natriumdodekyylifenoksibentseenidisulfonaatti, alkyloidun naftaleenisulfonihapon natriumsuola, metyleenidinafta-leenisulfonihapon dinatriumsuola, natriumdodekyylibentseenisulfo-naatti, sulfonoidun alkyylidifenyylioksidin natriumsuola tai litium-nitraatti .
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB3026474 | 1974-07-08 | ||
| GB30264/74A GB1513368A (en) | 1974-07-08 | 1974-07-08 | Processing of radiation-sensitive members |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FI751976A7 FI751976A7 (fi) | 1976-01-09 |
| FI59680B FI59680B (fi) | 1981-05-29 |
| FI59680C true FI59680C (fi) | 1981-09-10 |
Family
ID=10304895
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FI751976A FI59680C (fi) | 1974-07-08 | 1975-07-07 | Foerbaettringar i eller angaoende klicheer |
Country Status (26)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4294910A (fi) |
| JP (1) | JPS612518B2 (fi) |
| AT (1) | AT356147B (fi) |
| BE (1) | BE831075A (fi) |
| BR (1) | BR7504303A (fi) |
| CA (1) | CA1061160A (fi) |
| CH (1) | CH600394A5 (fi) |
| CS (1) | CS212748B2 (fi) |
| DD (1) | DD120088A5 (fi) |
| DE (1) | DE2530422C2 (fi) |
| DK (1) | DK144956C (fi) |
| ES (1) | ES439238A1 (fi) |
| FI (1) | FI59680C (fi) |
| FR (1) | FR2277682A1 (fi) |
| GB (1) | GB1513368A (fi) |
| HK (1) | HK74778A (fi) |
| IE (1) | IE41395B1 (fi) |
| IT (1) | IT1039749B (fi) |
| KE (1) | KE2908A (fi) |
| LU (1) | LU72927A1 (fi) |
| NL (1) | NL187283C (fi) |
| NO (1) | NO151765C (fi) |
| PL (1) | PL109957B1 (fi) |
| SE (1) | SE415612B (fi) |
| SU (1) | SU569272A3 (fi) |
| ZA (1) | ZA754248B (fi) |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1534424A (en) * | 1975-06-04 | 1978-12-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Process for the production of planographic printing plate |
| CH613059A5 (en) * | 1975-06-30 | 1979-08-31 | Hoechst Ag | Method for producing a flat-bed printing forme |
| US4191570A (en) * | 1978-10-10 | 1980-03-04 | Polychrome Corporation | Process for heat treating lithographic printing plates |
| DE2855393A1 (de) * | 1978-12-21 | 1980-07-03 | Hoechst Ag | Verfahren zum herstellen von flachdruckformen |
| US4259369A (en) * | 1979-12-13 | 1981-03-31 | International Business Machines Corporation | Image hardening process |
| US4355096A (en) | 1980-07-11 | 1982-10-19 | American Hoechst Corporation | Process for heating exposed and developed light-sensitive lithographic printing plates with carboxylic acid and amine moiety containing compounds on surface thereof |
| GB2099371B (en) * | 1981-06-01 | 1984-12-19 | Polychrome Corp | Finisher for lithographic printing plates |
| GB8314918D0 (en) * | 1983-05-31 | 1983-07-06 | Vickers Plc | Radiation sensitive compositions |
| DE3410522A1 (de) * | 1984-03-22 | 1985-10-03 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Einbrenngummierung fuer offsetdruckplatten und verfahren zur herstellung einer offsetdruckform |
| JPS6231859A (ja) * | 1985-08-01 | 1987-02-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 製版方法 |
| US5066568A (en) * | 1985-08-05 | 1991-11-19 | Hoehst Celanese Corporation | Method of developing negative working photographic elements |
| US4980271A (en) * | 1985-08-05 | 1990-12-25 | Hoechst Celanese Corporation | Developer compositions for lithographic printing plates with benzyl alcohol, potassium toluene sulfonate and sodium (xylene or cumene) sulfonate |
| WO1987003387A1 (en) * | 1985-11-27 | 1987-06-04 | Macdermid, Incorporated | Thermally stabilized photoresist images |
| CA1329719C (en) * | 1987-07-31 | 1994-05-24 | Tadao Toyama | Lithographic printing plate and method of treating the same |
| GB8822956D0 (en) * | 1988-09-30 | 1988-11-09 | Cookson Graphics Plc | Baking treatment of lithographic printing plate |
| US5180654A (en) * | 1988-11-29 | 1993-01-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Processing radiation sensitive members with aqueous ethyl hexyl sulphate treatment prior to burn-in step |
| GB8918161D0 (en) * | 1989-08-09 | 1989-09-20 | Du Pont | Improvements in or relating to radiation sensitive compounds |
| US5213950A (en) * | 1991-01-30 | 1993-05-25 | Sun Chemical Corporation | Pre-bake printing plate composition |
| JP2944296B2 (ja) | 1992-04-06 | 1999-08-30 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版の製造方法 |
| EP1872943B1 (en) | 1999-05-21 | 2009-08-12 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition and planographic printing plate base using same |
| ATE420767T1 (de) | 2000-11-30 | 2009-01-15 | Fujifilm Corp | Lithographische druckplattenvorläufer |
| US20040067435A1 (en) | 2002-09-17 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming material |
| JP4150261B2 (ja) | 2003-01-14 | 2008-09-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版の製版方法 |
| JP4471101B2 (ja) | 2004-07-30 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP2006058430A (ja) | 2004-08-18 | 2006-03-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
| JP4404734B2 (ja) | 2004-09-27 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP4474296B2 (ja) | 2005-02-09 | 2010-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP4404792B2 (ja) | 2005-03-22 | 2010-01-27 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP4890403B2 (ja) | 2007-09-27 | 2012-03-07 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP2009085984A (ja) | 2007-09-27 | 2009-04-23 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版 |
| JP4790682B2 (ja) | 2007-09-28 | 2011-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP5164640B2 (ja) | 2008-04-02 | 2013-03-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
| JP5183380B2 (ja) | 2008-09-09 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線レーザ用感光性平版印刷版原版 |
| US8883401B2 (en) | 2009-09-24 | 2014-11-11 | Fujifilm Corporation | Lithographic printing original plate |
| US8828648B2 (en) | 2010-02-17 | 2014-09-09 | Fujifilm Corporation | Method for producing a planographic printing plate |
| JP5490168B2 (ja) | 2012-03-23 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法 |
| JP5512730B2 (ja) | 2012-03-30 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL76414C (fi) * | 1949-07-23 | |||
| US2958599A (en) * | 1958-02-14 | 1960-11-01 | Azoplate Corp | Diazo compounds and printing plates manufactured therefrom |
| GB1059623A (en) * | 1962-09-06 | 1967-02-22 | Sumner Williams Inc | Light-sensitive plates for use in the production of positive printing plates |
| DE1447963B2 (de) * | 1965-11-24 | 1972-09-07 | KaIIe AG, 6202 Wiesbaden Biebnch | Verfahren zur herstellung einer offsetdruckform aus einem vorsensibilisierten druckplattenmaterial |
| US3482977A (en) * | 1966-02-11 | 1969-12-09 | Sylvania Electric Prod | Method of forming adherent masks on oxide coated semiconductor bodies |
| US3652273A (en) * | 1967-09-11 | 1972-03-28 | Ibm | Process using polyvinyl butral topcoat on photoresist layer |
| US3615937A (en) * | 1968-06-17 | 1971-10-26 | Ibm | Plasticizer additive to photoresist for the reduction of pin holes |
| US3573975A (en) * | 1968-07-10 | 1971-04-06 | Ibm | Photochemical fabrication process |
| US3586554A (en) * | 1969-01-15 | 1971-06-22 | Ibm | Process for increasing photoresist adhesion to a semiconductor by treating the semiconductor with a disilylamide |
| US3637384A (en) * | 1969-02-17 | 1972-01-25 | Gaf Corp | Positive-working diazo-oxide terpolymer photoresists |
| US3707373A (en) * | 1969-03-17 | 1972-12-26 | Eastman Kodak Co | Lithographic plate developers |
| US3705055A (en) * | 1970-09-18 | 1972-12-05 | Western Electric Co | Method of descumming photoresist patterns |
| JPS5031486B2 (fi) * | 1971-12-28 | 1975-10-11 | ||
| JPS5031485B2 (fi) * | 1971-12-28 | 1975-10-11 | ||
| US3860426A (en) * | 1972-12-22 | 1975-01-14 | Eastman Kodak Co | Subbed lithographic printing plate |
| GB1534424A (en) | 1975-06-04 | 1978-12-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | Process for the production of planographic printing plate |
| CH613059A5 (en) | 1975-06-30 | 1979-08-31 | Hoechst Ag | Method for producing a flat-bed printing forme |
-
1974
- 1974-07-08 GB GB30264/74A patent/GB1513368A/en not_active Expired
-
1975
- 1975-06-30 IE IE1444/75A patent/IE41395B1/xx unknown
- 1975-07-02 ZA ZA00754248A patent/ZA754248B/xx unknown
- 1975-07-07 NO NO752440A patent/NO151765C/no unknown
- 1975-07-07 FI FI751976A patent/FI59680C/fi not_active IP Right Cessation
- 1975-07-07 SE SE7507761A patent/SE415612B/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-07-07 DK DK306475A patent/DK144956C/da not_active IP Right Cessation
- 1975-07-07 CA CA230,902A patent/CA1061160A/en not_active Expired
- 1975-07-07 BE BE158045A patent/BE831075A/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-07-08 CH CH890375A patent/CH600394A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-07-08 CS CS754848A patent/CS212748B2/cs unknown
- 1975-07-08 AT AT523675A patent/AT356147B/de not_active IP Right Cessation
- 1975-07-08 PL PL1975181926A patent/PL109957B1/pl unknown
- 1975-07-08 NL NLAANVRAGE7508115,A patent/NL187283C/xx not_active IP Right Cessation
- 1975-07-08 DE DE2530422A patent/DE2530422C2/de not_active Expired
- 1975-07-08 DD DD187162A patent/DD120088A5/xx unknown
- 1975-07-08 LU LU72927A patent/LU72927A1/xx unknown
- 1975-07-08 IT IT25182/75A patent/IT1039749B/it active
- 1975-07-08 JP JP50083199A patent/JPS612518B2/ja not_active Expired
- 1975-07-08 SU SU7502151540A patent/SU569272A3/ru active
- 1975-07-08 FR FR7521335A patent/FR2277682A1/fr active Granted
- 1975-07-08 BR BR5515/75D patent/BR7504303A/pt unknown
- 1975-07-08 ES ES439238A patent/ES439238A1/es not_active Expired
-
1978
- 1978-12-07 KE KE2908A patent/KE2908A/xx unknown
- 1978-12-20 HK HK747/78A patent/HK74778A/xx unknown
-
1980
- 1980-08-11 US US06/177,283 patent/US4294910A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| FI59680C (fi) | Foerbaettringar i eller angaoende klicheer | |
| CA1195869A (en) | Process for preparing relief images | |
| US4762771A (en) | Method of treating photosensitive printing plate | |
| US3201239A (en) | Etchable reproduction coatings on metal supports | |
| US3385703A (en) | Recording process | |
| US4063507A (en) | Process for burning in planographic printing plates | |
| US4191570A (en) | Process for heat treating lithographic printing plates | |
| JPH05221178A (ja) | 平版印刷版の製造方法およびその方法により製造された平版印刷版 | |
| US3567445A (en) | Presensitized lithographic plate with two differentially spectrally sensitized layers separated by a novolak resin | |
| DE3022473A1 (de) | Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung | |
| JPS59113435A (ja) | 感光性組成物 | |
| US4355096A (en) | Process for heating exposed and developed light-sensitive lithographic printing plates with carboxylic acid and amine moiety containing compounds on surface thereof | |
| KR19990071532A (ko) | 킬레이트 이온 교환 수지로 포토레지스트 조성물 중의 금속이온을 감소시키는 방법 | |
| US5102756A (en) | Camera speed printing plate with in situ mask | |
| US3554751A (en) | Presensitized positive-working lithographic plate and method for making same | |
| US3406065A (en) | Process for the reversal development of reproduction coatings containing o-naphthoquinone diazide compounds | |
| US3634086A (en) | Solvent development of light-sensitive diazo layers | |
| CA1298510C (en) | Light-sensitive material and a process for producing negative copies utilizing the material | |
| JPS5929248A (ja) | 酸中間層を有する平版印刷板 | |
| KR860001559B1 (ko) | 고 (高)콘트라스트 포토레지스트 현상제 | |
| DE1522515C2 (de) | Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen | |
| US3890148A (en) | Exposure of light-sensitive materials | |
| SU448657A3 (ru) | Способ изготовлени офсетной печатной формы | |
| US3737314A (en) | Manufacture of printing elements by a photoresist chemical etching system | |
| EP0066990B1 (en) | Process for production of presensitized lithographic printing plates |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| MA | Patent expired | ||
| MA | Patent expired |
Owner name: E.I. DU PONT DE NEMOURS & COMPANY |