CN212597620U - 等离子清洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种等离子清洗装置。等离子清洗装置用于清洗钣金件。钣金件具有底板和与底板相连接的侧板。等离子清洗装置包括支承平台和等离子清洗组件。支承平台用于承载钣金件。等离子清洗组件与支承平台间隔设置。等离子清洗组件包括侧板清洗头以及侧板限位部件。侧板清洗头被配置为清洗侧板的内侧。侧板限位部件被配置为限位侧板，以使侧板和侧板清洗头之间保持预定距离。本实用新型的等离子清洗装置，能够有效提高清洗效果均匀性，提高清洗品质和清洗效率。

Description

等离子清洗装置

技术领域

本实用新型涉及清洗设备技术领域，特别是涉及一种等离子清洗装置。

背景技术

等离子清洗装置采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗对象带来的二次污染。等离子清洗装置又称为等离子表面处理机或等离子表面改性设备。等离子体技术主要作用为清洗材料表面，以提高材料表面的附着能力及粘接能力。等离子技术具有极为广泛的应用领域，通过使用这种创新的表面处理工艺，可以实现现代制造工艺所追求的高品质、高可靠性、高效率、低成本和环保等目标。目前，在使用等离子清洗装置对具有底板和侧板的钣金件进行清洗时，在清洗过程中存在效果不佳的情况，使得钣金件的侧板清洗效果均匀性较差。

实用新型内容

本实用新型提供一种等离子清洗装置，能够有效提高清洗效果均匀性，提高清洗品质和清洗效率。

一方面，本实用新型提出了一种等离子清洗装置。等离子清洗装置用于清洗钣金件。钣金件具有底板和与底板相连接的侧板。等离子清洗装置包括支承平台和等离子清洗组件。支承平台用于承载钣金件。等离子清洗组件与支承平台间隔设置。等离子清洗组件包括侧板清洗头以及侧板限位部件。侧板清洗头被配置为清洗侧板的内侧。侧板限位部件被配置为限位侧板，以使侧板和侧板清洗头之间保持预定距离。

根据本实用新型的一个方面，侧板限位部件包括两排限位件，两排限位件间隔设置以形成用于侧板穿过的让位间隙，两排限位件分别用于从侧板的内侧和外侧抵压侧板。

根据本实用新型的一个方面，等离子清洗组件还包括机架，两排限位件中的一排限位件固定连接于机架，另一排限位件可移动连接于机架；或者，两排限位件均可移动连接于机架。

根据本实用新型的一个方面，限位件包括基座以及滚轮，基座连接于机架，滚轮可转动连接于基座，限位件通过滚轮抵压侧板。

根据本实用新型的一个方面，等离子清洗组件还包括旋转部件，旋转部件连接于机架，侧板清洗头连接于旋转部件。

根据本实用新型的一个方面，旋转部件为旋转气缸。

根据本实用新型的一个方面，机架包括横梁和升降部件，侧板限位部件用于连接于升降部件，升降部件可带动侧板限位部件靠近或远离底板移动。

根据本实用新型的一个方面，侧板清洗头被配置为相对侧板限位部件更靠近支承平台。

根据本实用新型的一个方面，侧板清洗头和侧板限位部件的数量均为两个，两个侧板清洗头对称设置并且两个侧板限位部件对称设置。

根据本实用新型的一个方面，等离子清洗组件还包括底板清洗头，底板清洗头被配置为清洗底板。

根据本实用新型实施例的等离子清洗装置，在钣金件固定于支承平台之后，侧板限位部件可以对钣金件的侧板形成限位，以对侧板施加抵压力，有效抵消侧板自身的回弹应力，使得侧板不易在自身回弹应力的作用下发生变形。受到限位的侧板可以与侧板清洗头之间保持预定距离，从而侧板清洗头对侧板内侧的不同区域进行清洗时可以保证侧板各个区域的清洗均匀性和一致性，有效提高钣金件的清洗品质。

附图说明

下面将参考附图来描述本实用新型示例性实施例的特征、优点和技术效果。

图1是本实用新型一实施例公开的一种等离子清洗装置的结构示意图；

图2是本实用新型一实施例公开的等离子清洗装置和钣金件配合状态示意图；

图3是图1中A处放大图；

图4是本实用新型一实施例公开的等离子清洗装置和钣金件配合状态的侧视示意图。

在附图中，附图未必按照实际的比例绘制。

标记说明：

1、等离子清洗装置；

2、支承平台；21、导轨；22、载物台；

3、等离子清洗组件；31、侧板清洗头；32、侧板限位部件；321、限位件；3211、基座；3212、滚轮；33、机架；331、立柱；332、横梁；34、旋转部件；35、底板清洗头；

99、钣金件；991、底板；992、侧板。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型的实施方式作进一步详细描述。以下实施例的详细描述和附图用于示例性地说明本实用新型的原理，但不能用来限制本实用新型的范围，即本实用新型不限于所描述的实施例。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有说明，“多个”的含义是两个以上；术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可视具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

申请人注意到在使用等离子清洗装置对具有底板和侧板的钣金件进行清洗时，在清洗过程中存在效果不佳的情况，使得钣金件的侧板清洗效果均匀性较差的问题之后，对钣金件、等离子清洗装置以及清洗工序进行研究分析。申请人发现待清洗的钣金件采用板材冲压或辊压等方式加工制造，制成的钣金件的侧板存在内应力，从而侧板会发生回弹变形。等离子清洗装置距离侧板的距离越大，清洗效果越差，距离越小，清洗效果越好。由于侧板的不同区域，变形程度不同，因此导致等离子清洗装置与侧板的不同区域之间的距离不同，从而导致钣金件的侧板清洗效果均匀性较差。

基于申请人发现的上述问题，申请人对等离子清洗装置的结构进行改进，下面对本实用新型实施例进行进一步描述。

为了更好地理解本实用新型，下面结合图1至图4对本实用新型进行描述。

参见图1和图2所示，本实用新型实施例提供一种等离子清洗装置1。等离子清洗装置1用于清洗钣金件99。等离子清洗装置1包括支承平台2和等离子清洗组件3。支承平台2用于承载钣金件99。等离子清洗组件3与支承平台2间隔设置。等离子清洗组件3包括侧板清洗头31以及侧板限位部件32。在需要对钣金件99进行清洗时，预先将钣金件99固定于支承平台2上，然后使用等离子清洗组件3对钣金件99进行清洗。参见图2所示，钣金件99具有底板991以及与底板991相连接的侧板992。底板991和侧板992相交设置，优选底板991和侧板992是垂直设置。钣金件99可以通过底板991固定于支承平台2。侧板清洗头31被配置为用于清洗侧板992的内侧。侧板限位部件32被配置为用于限位钣金件99的侧板992，以使侧板992和侧板清洗头31之间保持预定距离。

本实用新型实施例的等离子清洗装置1，在钣金件99固定于支承平台2之后，侧板限位部件32可以对钣金件99的侧板992形成限位，以对侧板992施加抵压力，有效抵消侧板992自身的回弹应力，使得侧板992不易在自身回弹应力的作用下发生变形。受到限位的侧板992可以与侧板清洗头31之间保持预定距离，从而侧板清洗头31对侧板992内侧的不同区域进行清洗时可以保证侧板992各个区域的清洗均匀性和一致性，有效提高钣金件99的清洗品质。

在一个实施例中，参见图1和图3所示，支承平台2包括底座、导轨21、载物台22和驱动电机。导轨21设置于底座。载物台22可移动连接于导轨21，以使载物台22可以在驱动电机的驱动下沿导轨21移动。钣金件99可以使用夹具或螺钉固定于载物台22上。载物台22带动钣金件99移动，以使侧板清洗头31对整个侧板992的内侧进行清洗。

在一个实施例中，参见图2和图3所示，侧板限位部件32包括两排限位件321。两排限位件321间隔设置以形成让位间隙。清洗钣金件99时，钣金件99的侧板992可以从让位间隙穿过以受到两排限位件321的限位。两排限位件321分别用于从侧板992的内侧和外侧抵压侧板992，从而可以从侧板992的相对两侧同时对侧板992形成限位约束，进一步提高侧板992位置稳定性，降低侧板992向其中一侧发生变形而导致清洗出现均匀性较差的可能性。在一个示例中，每排限位件321的数量可以根据需要选择一个或两个以上。在侧板992厚度较厚或尺寸较短时，可以设置一个限位件321，而在侧板992厚度较薄或尺寸较长时，可以设置两个以上的限位件321。

在一个实施例中，参见图3所示，等离子清洗组件3还包括机架33。侧板清洗头31和侧板限位部件32均连接于机架33。在另一个示例中，两排限位件321中的一排限位件321固定连接于机架33，另一排限位件321可移动连接于机架33。在清洗钣金件99的侧板992时，侧板992固定于支承平台2后，预先抵压于固定连接于机架33的限位件321以受到限位件321的限位约束。然后，将可移动连接于机架33的限位件321朝侧板992移动以从侧板992的另一侧压紧侧板992。在另一个示例中，两排限位件321均可移动连接于机架33。在清洗钣金件99的侧板992时，侧板992预先穿过让位间隙，然后将其中一排限位件321朝侧板992移动以从侧板992的一侧抵压侧板992，再将另一排限位件321朝侧板992移动以从侧板992的另一侧压紧侧板992。这样，一方面，两排限位件321可以灵活调整让位间隙的大小以适应不同厚度的侧板992，同时也便于侧板992从让位间隙中穿过而降低侧板992与限位件321发生碰撞的可能性；另一方面，由于钣金件99的底板991的宽度可以不同，使得侧板992的位置并不固定，因此两排限位件321可以根据侧板992的位置灵活调整自身相对于机架33的位置，以适应不同尺寸的钣金件99。在一个示例中，机架33包括间隔设置的两排立柱331和连接于立柱331的横梁332。支承平台2从两排立柱331之间穿过。侧板清洗头31和侧板限位部件32均连接于横梁332。在一个示例中，限位件321包括基座3211以及滚轮3212。滚轮3212可转动连接于基座3211。基座3211连接于机架33。限位件321通过滚轮3212抵压侧板992。在清洗过程中，侧板992移动进给时，滚轮3212会在侧板992推动下转动，有效降低侧板992和限位件321之间的摩擦阻力，降低侧板992和限位件321之间因摩擦阻力过大而导致侧板992发生振动而与等离子清洗头之间的距离发生变化，从而导致清洗效果出现不均匀的可能性。可选地，滚轮3212的材料为塑料或橡胶。

在一个实施例中，等离子清洗组件3还包括旋转部件34。旋转部件34连接于机架33。侧板清洗头31连接于旋转部件34。旋转部件34可以带动侧板清洗头31旋转。在钣金件99包括底板991和两个侧板992的实施例中，在侧板清洗头31清洗完其中一个侧板992后，旋转部件34可以带动侧板清洗头31旋转180°，以使侧板清洗头31可以清洗另一个侧板992，从而不需要停机并通过人工变换钣金件99位置，有效提高清洗效率。在一个示例中，旋转部件34为旋转气缸。

在一个实施例中，机架33包括与横梁332相连接的升降部件(图中未示出)。侧板限位部件32用于连接于升降部件。升降部件可带动侧板限位部件32靠近或远离钣金件99的底板991移动，从而可以根据侧板992的高度大小不同来灵活调整侧板限位部件32的位置，以使侧板限位部件32通过侧板992的上边缘对侧板992形成限位。

在一个实施例中，参见图4所示，侧板清洗头31被配置为相对侧板限位部件32更靠近支承平台2。钣金件99的侧板992具有远离底板991的上边缘。侧板992上距离底板991越远的地方越容易发生回弹变形，因此相比于侧板992上靠近底板991的区域，侧板992的上边缘的变形会较大。本实施例中，侧板限位部件32用于夹持侧板992的上边缘，以对侧板992进行有效限位约束，有利于降低侧板992发生变形的可能性。同时，侧板限位部件32和侧板清洗头31彼此不存在位置干涉，从而侧板限位部件32通过夹持侧板992的上边缘对侧板992进行限位约束时，也可以为侧板清洗头31预留出清洗位置。

在一个实施例中，参见图3和图4所示，侧板清洗头31和侧板限位部件32的数量均为两个。两个侧板清洗头31对称设置并且两个侧板限位部件32对称设置。在钣金件99包括底板991和两个侧板992的实施例中，两个侧板限位部件32可以分别同时夹持两个侧板992，而两个侧板清洗头31可以分别同时清洗两个侧板992，从而有效提高清洗工序效率。

在一个实施例中，参见图4所示，等离子清洗组件3还包括底板清洗头35。底板清洗头35被配置为用于清洗钣金件99的底板991。等离子清洗组件3可以通过侧板清洗头31和底板清洗头35同时清洗钣金件99的侧板992和底板991，从而钣金件99在移动过程中，等离子清洗组件3可以对钣金件99的内侧进行清洗。在其他一些可选实施例中，侧板清洗头31与底板清洗头35各自独立设置，并且底板清洗头35连接于机架33。

本实用新型实施例的等离子清洗装置1，通过侧板限位部件32可以对钣金件99的侧板992进行限位约束，可以使得侧板992与侧板清洗头31之间的距离保持预定距离，降低侧板992因自身回弹应力作用而发生回弹形变，从而导致清洗过程中侧板992的不同区域与侧板清洗头31之间的距离不同的可能性，进而降低因侧板992的不同区域与侧板清洗头31之间的距离不同而导致清洗不均匀的可能性，有效提高清洗效率和清洗品质。

虽然已经参考优选实施例对本实用新型进行了描述，但在不脱离本实用新型的范围的情况下，可以对其进行各种改进并且可以用等效物替换其中的部件，尤其是，只要不存在结构冲突，各个实施例中所提到的各项技术特征均可以任意方式组合起来。本实用新型并不局限于文中公开的特定实施例，而是包括落入权利要求的范围内的所有技术方案。

Claims (10)

1.一种等离子清洗装置，用于清洗钣金件，所述钣金件具有底板和与所述底板相连接的侧板，其特征在于，所述等离子清洗装置包括：

支承平台，用于承载所述钣金件；

等离子清洗组件，与所述支承平台间隔设置，所述等离子清洗组件包括侧板清洗头以及侧板限位部件，所述侧板清洗头被配置为清洗所述侧板的内侧，所述侧板限位部件被配置为限位所述侧板，以使所述侧板和所述侧板清洗头之间保持预定距离。

2.根据权利要求1所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述侧板限位部件包括两排限位件，两排所述限位件间隔设置以形成用于所述侧板穿过的让位间隙，两排所述限位件分别用于从所述侧板的内侧和外侧抵压所述侧板。

3.根据权利要求2所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述等离子清洗组件还包括机架，两排所述限位件中的一排所述限位件固定连接于所述机架，另一排所述限位件可移动连接于所述机架；或者，两排所述限位件均可移动连接于所述机架。

4.根据权利要求3所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述限位件包括基座以及滚轮，所述基座连接于所述机架，所述滚轮可转动连接于所述基座，所述限位件通过所述滚轮抵压所述侧板。

5.根据权利要求3或4所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述等离子清洗组件还包括旋转部件，所述旋转部件连接于所述机架，所述侧板清洗头连接于所述旋转部件。

6.根据权利要求5所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述旋转部件为旋转气缸。

7.根据权利要求3所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述机架包括横梁和升降部件，所述侧板限位部件用于连接于所述升降部件，所述升降部件可带动所述侧板限位部件靠近或远离所述底板移动。

8.根据权利要求1至4任一项所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述侧板清洗头被配置为相对所述侧板限位部件更靠近所述支承平台。

9.根据权利要求1至4任一项所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述侧板清洗头和所述侧板限位部件的数量均为两个，两个所述侧板清洗头对称设置并且两个所述侧板限位部件对称设置。

10.根据权利要求1至4任一项所述的等离子清洗装置，其特征在于，所述等离子清洗组件还包括底板清洗头，所述底板清洗头被配置为清洗所述底板。

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